KR101468388B1 - Gate valve and FPD manufacturing machine having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판의 반입/반출 시 기판의 운반거리를 단축할 수 있고, 또 플라즈마(plasma)를 이용한 기판의 처리 시 플라즈마가 게이트 슬릿(gate slit) 측으로 쏠리는 현상을 최소화할 수 있도록 한 게이트 밸브(gate valve) 및 이 게이트 밸브를 포함하는 평판표시소자 제조장비에 관한 것이다.The present invention can shorten the transportation distance of the substrate during the loading / unloading of the substrate, and can minimize the phenomenon that the plasma slips toward the gate slit during the processing of the substrate using the plasma. and a flat panel display device manufacturing equipment including the gate valve.

여기에서, 게이트 밸브는 챔버 바디(chamber body)의 벽 한쪽에 여기를 구성하도록 설치되고 챔버 바디 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 게이트 슬릿을 갖춘 밸브 바디(valve body)와, 이 밸브 바디의 게이트 슬릿을 밸브 바디 안에서 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치로 구성된 것을 특징으로 한다.Here, the gate valve is provided to constitute an excitation on one side of the wall of the chamber body and includes a valve body with a gate slit so as to allow the substrate to be carried into the chamber body and to be carried out of the carried substrate And a gate slit opening / closing device for opening and closing the gate slit of the valve body in the valve body.

게이트 밸브, 게이트 슬릿, 기판, 실 플레이트, 챔버, 평판표시소자 Gate valve, gate slit, substrate, seal plate, chamber, flat panel display element

Description

게이트 밸브 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비{Gate valve and FPD manufacturing machine having the same}The present invention relates to a gate valve and an FPD manufacturing machine having the same,

본 발명은 반도체(semiconductor), 평판표시소자(flat panel display ; FPD) 등을 만드는 장비 안에 기판을 반입하고 반입된 기판을 반출하는 데에 사용되는 기판 출입구, 즉 게이트 슬릿(gate slit)을 개폐하는 게이트 밸브(gate valve) 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비에 관한 것으로, 더 자세하게는 기판의 반입/반출 시 운반거리를 단축할 수 있고, 아울러 플라즈마(plasma)를 이용한 기판의 처리 시 플라즈마가 게이트 슬릿 측으로 쏠리는 현상을 최소화할 수 있도록 한 게이트 밸브 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a semiconductor device, a method of manufacturing the same, a method of manufacturing a semiconductor device, a method of manufacturing the same, The present invention relates to a gate valve and a flat panel display device manufacturing apparatus including the gate valve. More particularly, the present invention relates to a gate valve and a flat panel display device manufacturing apparatus using the gate valve. More particularly, To a slit side, and a flat panel display device manufacturing equipment including the gate valve.

일반적으로, 반도체 제조장비, 평판표시소자 제조장비 등은 웨이퍼(wafer)나 글라스(glass)와 같은 기판을 반입하고 반출하기 위한 게이트 슬릿을 가지는데, 이 게이트 슬릿은 게이트 밸브에 의하여 개폐된다. 이러한 게이트 슬릿과 게이트 밸브는 반도체 제조장비든지 평판표시소자 제조장비든지 모두 동일 또는 유사한 방식으 로 적용되는 것으로, 이하에서는 게이트 슬릿, 게이트 밸브 그리고 이 둘과 관련한 구성에 대하여 이것들이 평판표시소자 제조장비에 적용된 것을 예로 들어 종래기술을 살펴보기로 한다.2. Description of the Related Art Generally, semiconductor manufacturing equipment, flat panel display device manufacturing equipment, and the like have a gate slit for carrying in and carrying out a substrate such as a wafer or a glass. The gate slit is opened and closed by a gate valve. These gate slits and gate valves are applied in the same or similar manner to both semiconductor manufacturing equipment and flat panel display device manufacturing equipment. Hereinafter, with reference to the gate slit, gate valve, The prior art will be described as an example.

최근, 널리 보급되고 있는 평판표시소자로는 액정디스플레이(liquid crystal display ; LCD), 유기발광 다이오드(organic light emitting diodes ; OLED), 플라즈마 표시장치(plasma display panel ; PDP) 등이 있다. 그리고 이들 평판표시소자를 제조하는 장비는 진공 상태에서 작업하는 장비가 주로 사용되는 바, 일반적으로 공정챔버(process chamber), 로드 록 챔버(load lock chamber), 반송챔버(transfer chamber) 등이 사용된다.2. Description of the Related Art Recently, widely used flat panel display devices include liquid crystal displays (LCDs), organic light emitting diodes (OLEDs), and plasma display panels (PDPs). The apparatus for manufacturing these flat panel display devices is mainly used in a vacuum state. In general, a process chamber, a load lock chamber, a transfer chamber, etc. are used .

공정챔버는 진공 분위기 하에서 플라즈마나 열에너지를 이용, 기판을 식각하는 등 기판의 표면을 처리하는 역할을 한다. 로드 록 챔버는 대기압과 진공 상태를 번갈아 가면서 외부로부터 미처리된 기판을 받아 보관하거나 처리된 기판을 외부로 반출하는 역할을 한다. 반송챔버는 반송로봇(transfer robot)을 갖추고 있어 이 반송로봇에 의하여 처리할 기판을 로드 록 챔버로부터 공정챔버로 운반하거나 처리된 기판을 공정챔버로부터 로드 록 챔버로 운반하는 역할을 한다.The process chamber serves to process the surface of the substrate, such as etching the substrate using plasma or thermal energy under a vacuum atmosphere. The load lock chamber alternates between the atmospheric pressure and the vacuum state to receive the unprocessed substrate from the outside, and to take out the processed substrate to the outside. The transfer chamber is equipped with a transfer robot to transfer the substrate to be processed by the transfer robot from the load lock chamber to the process chamber or to transfer the processed substrate from the process chamber to the load lock chamber.

도 1은 위의 열거한 챔버들 중 공정챔버를 나타내는 구성도이다.1 is a schematic view showing a process chamber among the above-mentioned chambers.

도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버는 벽 한쪽에 게이트 슬릿(11s)이 형성된 챔버 바디(chamber body)(11), 챔버 바디(11)의 게이트 슬릿(11s)을 개폐하는 게이트 밸브(12), 챔버 바디(11) 안에 각각 배치된 상부전극 어셈블리(upper electrode assembly)(13) 및 하부전극 어셈블리(lower electrode assembly)(14), 하부전극 어셈블리(14)에 상하이동 가능하도록 설치된 복수 개의 리프트 핀(lift pin)(15), 리프트 핀(18)을 상하로 동시에 이동시키는 리프트 핀 승강장치(16) 등으로 이루어진다.1, the process chamber includes a chamber body 11 having a gate slit 11s formed on one side of the wall, a gate valve 12 for opening and closing the gate slit 11s of the chamber body 11, An upper electrode assembly 13 and a lower electrode assembly 14 disposed in the chamber body 11 and a plurality of lift pins a lift pin 15, and a lift pin lifting device 16 for simultaneously moving the lift pin 18 up and down.

여기에서, 게이트 밸브(12)는 도면에 자세히 도시되어 있지 않으나, 밸브 본체와 액추에이터(actuator)로 구성되는데, 밸브 본체는 챔버 바디(11)의 외측에 게이트 슬릿(11s)을 폐쇄하고 있도록 배치되고, 액추에이터는 게이트 슬릿(11s)이 개방되고 다시 폐쇄되도록 밸브 본체를 이동시킨다.Here, although the gate valve 12 is not shown in detail in the figure, it is composed of a valve body and an actuator, and the valve body is disposed outside the chamber body 11 so as to close the gate slit 11s , The actuator moves the valve body so that the gate slit 11s is opened and closed again.

리프트 핀(15)은 기판이 반송로봇에 의하여 챔버 바디(11) 안에 반입되어 상부전극 어셈블리(13)와 하부전극 어셈블리(14) 사이에 위치되면, 리프트 핀 승강장치(16)에 의하여 상승되어 기판을 받은 뒤 하강되어 하부전극 어셈블리(14)의 윗면에 기판을 내려놓는다. 물론, 기판을 반출하는 경우에는 기판을 들어 올린다.The lift pin 15 is lifted by the lift pin lifting device 16 so as to be lifted by the lift pin elevating device 16 when the substrate is carried into the chamber body 11 by the carrier robot and positioned between the upper electrode assembly 13 and the lower electrode assembly 14. [ And then the substrate is lowered on the upper surface of the lower electrode assembly 14. Of course, when the substrate is taken out, the substrate is lifted.

그러나 살펴본 바와 같은 공정챔버는 게이트 밸브(12)가 챔버 바디(11)의 외측에서 열리고 닫히면서 게이트 슬릿(11s)을 개폐하기 때문에, 챔버 바디(11) 안에 기판을 반입하거나 반입된 기판을 반출할 때 기판의 운반거리에 게이트 밸브(12)의 두께가 반영되어 이 게이트 밸브(12)의 두께에 상당하는 거리만큼 더 운반하여야만 하였고, 그만큼 기판의 운반거리가 길어질 수밖에 없었다.However, since the process chamber as described above opens and closes the gate slit 11s while the gate valve 12 is opened and closed from the outside of the chamber body 11, it is possible to bring the substrate into the chamber body 11, The thickness of the gate valve 12 must be reflected to the transport distance of the substrate and the substrate must be transported a distance corresponding to the thickness of the gate valve 12,

또한, 게이트 밸브(12)가 닫힌 때 마주 보고 있는 게이트 슬릿(11s)의 두 개구 중 외측 개구가 폐쇄되고, 이에 따라 챔버 바디(11)의 내부와 게이트 슬릿(11s)이 서로 공간적으로 통하게 되는 것 때문에, 기판을 처리할 때 챔버 바디(11) 안에 플라즈마가 불균일하게 분포되어 기판의 처리 또한 균일하지 않게 이루어지는 문제점이 있었다. 즉, 챔버 바디(11)의 내부공간에 게이트 슬릿(11s)의 공간을 더한 것이 실질적인 플라즈마 형성공간이기 때문에, 플라즈마 형성공간이 비대칭일 수밖에 없었고, 이에 따라 챔버 바디(11) 안의 게이트 슬릿(11s) 측과 그 반대 측 중 게이트 슬릿(11s) 측에 더 많은 플라즈마가 분포되는, 즉 플라즈마가 여기로 쏠리게 되는 현상이 발생되고는 하였던 것이다.The outer opening of the two openings of the gate slit 11s facing the gate valve 12 when the gate valve 12 is closed is closed so that the interior of the chamber body 11 and the gate slit 11s are spatially communicated with each other Therefore, there is a problem that plasma is unevenly distributed in the chamber body 11 when the substrate is processed, and the processing of the substrate is not uniformly performed. That is, since the inner space of the chamber body 11 plus the space of the gate slits 11s is a substantial plasma forming space, the plasma forming space has to be asymmetrical, and thus the gate slits 11s in the chamber body 11, And more plasma is distributed to the side of the gate slit 11s, that is, a phenomenon that the plasma is attracted to the excitation occurs.

참고로, 도 2는 도 1의 A-A선 단면도인데, 여기에 이점쇄선으로 표현된 도면부호 17은 플라즈마 형성공간을 나타낸다.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A in Fig. 1, in which reference numeral 17 shown by a chain double-dashed line represents a plasma forming space.

본 발명은 설명한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 목적은 챔버 바디의 벽 속에서 게이트 슬릿을 개폐하도록 구성함으로써, 기판을 반입하고 반출할 때 운반하여야 하는 거리를 줄일 수 있고, 또 플라즈마를 이용하여 기판을 처리할 때 플라즈마가 불균일하게 분포되는 현상을 최소화할 수 있는 게이트 밸브 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems as described above and it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for opening and closing a gate slit in a wall of a chamber body, Which can minimize the phenomenon that the plasma is unevenly distributed when the substrate is processed, and to provide a flat panel display device manufacturing equipment including the gate valve.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 게이트 밸브는 챔버 바디의 벽 한쪽에 이 벽의 한쪽을 구성하도록 설치되고 상기 챔버 바디의 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 게이트 슬릿을 갖춘 밸브 바디와; 이 밸브 바디의 게이트 슬릿을 상기 밸브 바디 안에서 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a gate valve, which is installed on one side of a wall of a chamber body to constitute one side of the wall, and is configured to carry a substrate in the chamber body, A valve body having a slit; And a gate slit opening / closing device for opening and closing the gate slit of the valve body in the valve body.

여기에서, 상기 밸브 바디는 상기 챔버 바디의 안쪽과 바깥쪽 벽면 중 적어도 안쪽 벽면과 동일평면을 이루도록 형성될 수 있다. 또, 상기 밸브 바디는 그 안에 상기 게이트 슬릿과 이어진 구조의 설치공간이 상하방향으로 형성될 수 있다.Here, the valve body may be flush with at least the inner wall surface of the inner and outer wall surfaces of the chamber body. In addition, the valve body may have an installation space in the vertical direction between the gate slits and the valve body.

상기 게이트 슬릿 개폐장치는 상기 밸브 바디의 설치공간에 상하이동 가능하도록 구비되어 이동방향에 따라 상기 밸브 바디의 게이트 슬릿을 개폐하는 실 플레이트 및 이 실 플레이트를 상하로 이동시키는 실 플레이트 승강수단으로 구성될 수 있다.The gate slit opening / closing device is composed of a seal plate provided so as to be movable up and down in an installation space of the valve body to open and close the gate slit of the valve body according to the movement direction, and a seal plate elevating and lowering means for moving the seal plate up and down .

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비는 챔버 바디와; 이 챔버 바디의 벽 한쪽에 이 벽의 한쪽을 구성하도록 설치되고 상기 챔버 바디의 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 게이트 슬릿을 갖춘 밸브 바디와; 이 밸브 바디의 게이트 슬릿을 상기 밸브 바디 안에서 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a flat panel display device, including: a chamber body; A valve body provided on one side of the wall of the chamber body for constituting one side of the wall and having a gate slit so as to allow the substrate to be carried in the chamber body and to be taken out of the carried substrate; And a gate slit opening / closing device for opening and closing the gate slit of the valve body in the valve body.

또는, 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비는 벽 한쪽에 게이트 슬릿이 형성된 챔버 바디와; 상기 챔버 바디의 벽 속에서 이 챔버 바디의 게이트 슬릿을 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이 때, 상기 챔버 바디는 그 벽에 상기 게이트 슬릿과 이어진 구조의 설치공간이 상하방향으로 형성될 수 있다. 그리고 상기 게이트 슬릿 개폐장치는 상기 챔버 바디의 설치공간에 상하이동 가능하도록 설치되어 상기 게이트 슬릿을 개폐하는 실 플레이트와; 상기 실 플레이트를 상하로 이동시키는 실 플레이트 승강수단으로 구성될 수 있다.Alternatively, the apparatus for manufacturing a flat panel display device according to the present invention comprises: a chamber body having a gate slit formed on one side of a wall; And a gate slit opening / closing device for opening and closing the gate slit of the chamber body in a wall of the chamber body. At this time, the chamber body may be formed in a vertical direction with an installation space having a structure in which the gate slit is connected to the wall. And the gate slit opening / closing device includes a seal plate which is vertically movable in an installation space of the chamber body and opens and closes the gate slit; And a seal plate elevating means for moving the seal plate up and down.

한편, 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비는 두 타입 모두 상기 챔버 바디 안에 배치되고 위에 상기 게이트 슬릿을 통하여 반입된 기판이 놓이는 스테이지와; 상기 스테이지에 상하이동 가능하게 설치되어 이 스테이지에 놓이는 기판을 들어 올리거나 내려놓는 복수 개의 리프트 핀과; 상기 복수 개의 리프트 핀을 상하로 이동시키는 리프트 핀 승강장치를 더 포함하여 구성될 수 있다.Meanwhile, the apparatus for manufacturing a flat panel display device according to the present invention includes a stage in which both types are disposed in the chamber body, and on which a substrate loaded through the gate slit is placed; A plurality of lift pins installed on the stage so as to be movable up and down and lifting or lowering a substrate placed on the stage; And a lift pin lift device for moving the plurality of lift pins up and down.

또한, 상기 챔버 바디의 안에는 기판의 처리에 필요한 공정가스를 분사하는 상부전극 어셈블리가 배치되고, 상기 스테이지는 상기 상부전극 어셈블리와 대향하도록 위치된 하부전극 어셈블리일 수 있다.In addition, an upper electrode assembly for injecting a process gas necessary for processing the substrate may be disposed in the chamber body, and the stage may be a lower electrode assembly positioned to face the upper electrode assembly.

본 발명은 벽의 한쪽에 묻혀 있는 밸브 바디에 의하여 형성된(또는, 벽의 한쪽에 직접 형성된) 챔버 바디의 게이트 슬릿이 실 플레이트에 의하여 밸브 바디 안에서(또는, 챔버 바디의 벽 속에서) 개폐되므로 게이트 밸브를 포함한 챔버 바디의 벽 두께를 줄일 수 있고, 또 이에 따라 챔버 바디 안에 기판을 반입하고 반출할 때 기판을 운반하여야 하는 거리를 단축할 수가 있어 기판을 보다 신속하게 운반할 수 있다.Since the gate slit of the chamber body formed by the valve body buried in one side of the wall (or formed directly on one side of the wall) is opened and closed in the valve body (or in the wall of the chamber body) by the seal plate, It is possible to reduce the wall thickness of the chamber body including the valve and thus to shorten the distance to transport the substrate when carrying the substrate into and out of the chamber body and thus to transport the substrate more quickly.

또한, 기판을 처리할 때 플라즈마 형성공간 중 게이트 슬릿이 차지하는 비중을 줄일 수 있기 때문에, 플라즈마가 게이트 슬릿 측으로 쏠리는 것을 최소화할 수 있고, 이로써 플라즈마의 분포를 균일하도록 유지할 수 있다는 이점이 있다.In addition, since the specific gravity of the gate slit in the plasma forming space can be reduced when the substrate is processed, it is possible to minimize the scattering of the plasma toward the gate slit side, thereby maintaining the uniform distribution of the plasma.

이하에서는, 본 발명에 따른 게이트 밸브 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비의 바람직한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, a gate valve according to the present invention and a flat panel display device manufacturing equipment including the same will be described.

참고로, 본 발명에 따른 게이트 밸브의 실시예는 반도체를 만드는 데 사용되는 장비에도 적용할 수 있는 것이기는 하나, 여기에서는 평판표시소자를 만드는 데 에 사용되는 장비 중 공정챔버에 적용된 것을 중심으로 살펴보기로 한다.For reference, the embodiment of the gate valve according to the present invention can be applied to the equipment used for making a semiconductor, but here, it is considered that the equipment used for making the flat panel display device is applied to the process chamber Let's look at it.

도 3은 본 발명에 따른 게이트 밸브가 적용된 공정챔버를 나타내는 구성도로서 이 도 3에 도시된 바와 같이, 공정챔버는 기판을 처리하는 데 필요한 공간을 제공하는 챔버 바디(20), 이 챔버 바디(20)의 벽(22) 한쪽에 게이트 슬릿(35)을 형성하는 한편 이 게이트 슬릿(35)의 개폐가 가능하도록 구성된 게이트 밸브(30), 챔버 바디(20) 안의 상부영역과 하부영역에 마주 보도록 각각 배치된 상부전극 어셈블리(40) 및 하부전극 어셈블리(50), 이 두 전극 어셈블리(40)(50) 중 하부전극 어셈블리(50)에 상하이동 가능하도록 설치된 복수 개의 리프트 핀(60), 이 복수의 리프트 핀(60) 모두를 상하로 동시에 이동시키는 리프트 핀 승강장치(70)를 포함한다.FIG. 3 is a view showing a process chamber to which a gate valve according to the present invention is applied. As shown in FIG. 3, the process chamber includes a chamber body 20 for providing a space necessary for processing a substrate, A gate valve 30 configured to open and close the gate slit 35 while forming a gate slit 35 on one side of the wall 22 of the chamber body 20; A plurality of lift pins 60 disposed on the lower electrode assembly 50 among the two electrode assemblies 40 and 50 so as to be movable up and down, And a lift pin lifting device 70 for simultaneously moving both of the lift pins 60 of the lift pins 60 upward and downward.

도 4 및 도 5는 도 3에서 B가 지시하는 부분을 확대한 단면도로서 게이트 밸브(30)의 구성 및 그 작동 상태를 나타낸다.Figs. 4 and 5 are enlarged cross-sectional views of the portion indicated by B in Fig. 3, showing the configuration of the gate valve 30 and its operation state.

게이트 밸브(30)는 도 4, 도 5에 도시된 바와 같이, 챔버 바디(20)의 벽(22) 한쪽에 이 벽(22)의 한쪽을 구성하도록 설치되고 언급한 게이트 슬릿(35)을 가지는 밸브 바디(valve body)(32)와, 이 밸브 바디(32)의 안에서 열리고 닫힘으로써 게이트 슬릿(35)을 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치로 구성된다.4 and 5, the gate valve 30 is provided on one side of the wall 22 of the chamber body 20 so as to constitute one side of the wall 22 and has a gate slit 35 A valve body 32 and a gate slit opening and closing device for opening and closing the gate slit 35 by opening and closing the valve body 32.

여기에서, 기판 출입구로서의 역할을 하는 게이트 슬릿(35)은 챔버 바디(20) 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 마련되는 바, 그 서로 마주하는 두 개구(35i)(35o)가 챔버 바디(20)의 내부 및 외부와 각각 연이어 통하도록 마련되고, 또 좌우로 길게 형성된다.Here, the gate slit 35 serving as a substrate entry / exit port is provided so as to allow the substrate to be carried in the chamber body 20 and the carried-out substrate to be taken out, and two openings 35i Are communicated with the inside and the outside of the chamber body 20, respectively, and are elongated to the left and right.

밸브 바디(32)는 설치된 때 챔버 바디(20)의 평평한 내벽과 동일평면을 이루도록 형성되는데, 이것은 챔버 바디(20) 안쪽을 향하고 있는 밸브 바디(32)의 내측이 챔버 바디(20)의 내벽과 함께 평평한 벽면을 이루도록 한다. 물론, 도시된 바와 같이, 챔버 바디(20)의 외벽과도 동일평면을 이루도록 형성될 수 있다.The valve body 32 is formed flush with the flat inner wall of the chamber body 20 when installed so that the inside of the valve body 32 facing the inside of the chamber body 20 faces the inner wall of the chamber body 20 Make a flat wall together. Of course, the outer wall of the chamber body 20 may be flush with the outer wall.

또한, 이와 같은 밸브 바디(32)는 그 안에 게이트 슬릿(35)과 연이어 통하는 구조의 설치공간(33)이 게이트 슬릿(35)의 하측에 위치하도록 상하방향으로 형성되는데, 이 설치공간(33)에는 게이트 슬릿 개폐장치가 설치된다.The valve body 32 is vertically formed in the valve body 32 such that an installation space 33 having a structure communicating with the gate slit 35 is positioned below the gate slit 35, A gate slit opening / closing device is provided.

게이트 슬릿 개폐장치는 챔버 바디(20) 안에 기판을 반입하거나 반입된 기판을 반출할 때는 열려서 기판이 게이트 슬릿(35)을 통과할 수 있게 하고, 기판의 반입이나 반출이 완료된 때는 반대로 닫혀서 챔버 바디(20) 안을 진공 분위기로 조성하는 것이 가능하도록 한다.The gate slit opening / closing device opens when the substrate is carried into the chamber body 20 or when the loaded substrate is taken out, allowing the substrate to pass through the gate slit 35. When the loading or unloading of the substrate is completed, 20) can be formed in a vacuum atmosphere.

이와 같은 게이트 슬릿 개폐장치는 밸브 바디(32) 안의 설치공간(33)에 상하이동 가능하도록 구비된 실 플레이트(seal plate)(37), 이 실 플레이트(37)를 상하로 이동시키는 적어도 하나의 실 플레이트 승강수단(38) 등으로 이루어지는 바, 바람직하게는 닫히도록 작동된 때 플라즈마 형성공간 중 게이트 슬릿(35)이 차지하는 비중이 최소화되도록 설치된다. 물론, 설치공간(33) 또한 이를 위한 구조를 가져야 할 것이다.Such a gate slit opening and closing apparatus includes a seal plate 37 which is vertically movable in an installation space 33 in the valve body 32 and at least one seal member 37 for vertically moving the seal plate 37 Plate lifting means 38 and the like, and is preferably provided so as to minimize the specific gravity occupied by the gate slits 35 in the plasma forming space when actuated to close. Of course, the installation space 33 should also have a structure for this.

이에 따르면, 실 플레이트(37)는 실 플레이트 승강수단(38)에 의하여 상승된 때 도 4처럼 게이트 슬릿(35)이 폐쇄되도록 위치한다. 그리고 이 반대로 실 플레이트 승강수단(38)에 의하여 하강된 때는 도 5처럼 게이트 슬릿(35)이 개방되도록 위치한다.According to this, the seal plate 37 is positioned such that when the seal plate 37 is lifted by the seal plate lifting means 38, the gate slit 35 is closed as shown in Fig. On the contrary, when the gate plate 35 is lowered by the seal plate lifting means 38, the gate slit 35 is positioned as shown in Fig.

실 플레이트 승강수단(38)은 일례로, 실 플레이트(37)의 하단 부분에 피스톤 로드(piston rod)의 끝이 연결된 에어 실린더(air cylinder)로 구성될 수 있다. 또는, 실 플레이트(37)의 하단 부분에 상단이 연결되어 이 실 플레이트(37)와 동시에 상하로 이동하는 래크(rack), 이 래크와 맞물려 있도록 정착된 피니언(pinion), 이 피니언을 정/역회전시키는 모터(motor)로 구성될 수 있다. 물론, 반드시 이 둘처럼 구성되어야만 할 이유는 없는 것이기 때문에, 실 플레이트(37)를 승강시킬 수 있는 것이라면 어떠한 타입의 것이라도 적용이 가능하겠으나, 닫히도록 작동될 때 실 플레이트(37)가 물러나면서 하강하도록(반대로, 열리도록 작동될 때는 다가가면서 상승하도록) 구성된 것이라면 게이트 슬릿(35)을 보다 효과적으로 개폐할 수 있겠다. 이러한 예로는 실 플레이트(37)가 타원의 궤적을 그리면서 승강하게 하는 방식, 수평(또는, 수직)으로 이동하게 한 후 수직(또는, 수평)으로 이동하게 하는 방식 등이 있겠다.The seal plate elevating means 38 may be constituted by an air cylinder having an end of a piston rod connected to the lower end portion of the seal plate 37. [ Or a rack whose upper end is connected to the lower end portion of the seal plate 37 so as to move up and down with the seal plate 37. A pinion fixed to engage with the rack, And a motor for rotating the motor. Of course, there is no reason for it to be constituted like the two. Of course, any type can be applied as long as the seal plate 37 can be lifted and lowered. However, when the seal plate 37 is operated to close, (On the contrary, when it is operated so as to be opened), the gate slit 35 can be more effectively opened and closed. Such an example may include a method in which the seal plate 37 moves up and down while drawing an ellipse trajectory, a method in which the seal plate 37 is moved horizontally (or vertically), and then moved vertically (or horizontally).

두 전극 어셈블리(40)(50) 중 상부전극 어셈블리(40)는 도시되어 있지는 않 으나, 기판을 처리할 때 필요한 공정가스를 분출하는 샤워 헤드(shower head)를 가진다.The upper electrode assembly 40 of the two electrode assemblies 40 and 50 is not shown but has a shower head that ejects the process gas required to process the substrate.

하부전극 어셈블리(50)는 이 하부전극 어셈블리(50)에 설치된 리프트 핀(60)의 상하이동을 위한 복수의 핀 홀(pin hole)(52)을 가지는데, 이 핀 홀(52)은 하부전극 어셈블리(50)를 상하방향으로 관통하고 있도록 형성된다. 이러한 하부전극 어셈블리(50)는 그 윗면에 챔버 바디(20) 안에 반입된 기판이 놓인다. 즉, 기판 탑재대로서의 역할도 하는 바, 이 같은 점 때문에 이를 스테이지(stage)라고도 한다.The lower electrode assembly 50 has a plurality of pin holes 52 for vertically moving the lift pins 60 provided on the lower electrode assembly 50, So as to penetrate the assembly 50 vertically. The lower electrode assembly 50 has a substrate placed on the upper surface thereof and brought into the chamber body 20. That is, it also serves as a substrate mounting table, which is also referred to as a stage.

리프트 핀(60)은 핀 홀(52)에 한 개씩 삽입되어 하부전극 어셈블리(54)를 관통한다. 그리고 이 상태로 챔버 바디(20)의 바닥(24)을 관통하여 챔버 바디(20) 밖에 그 하부가 노출된다. 물론, 챔버 바디(20)도 그 바닥(24)에 리프트 핀(60)의 관통을 위한 구멍이 마련된다.The lift pins 60 are inserted into the pin holes 52 one by one and pass through the lower electrode assembly 54. In this state, the bottom of the chamber body 20 is exposed through the bottom 24 of the chamber body 20. Of course, the chamber body 20 is also provided with an opening for penetrating the lift pin 60 to its bottom 24.

리프트 핀 승강장치(70)는 리프트 핀(60) 모두의 하단이 결합된 핀 플레이트(pin plate)(72)와, 이 핀 플레이트(72)를 상하로 이동시키는 적어도 하나의 핀 플레이트 구동수단으로 구성된다. 이 때, 핀 플레이트 구동수단은 핀 플레이트(72)에 세워져 있도록 장착된 일직선상의 볼 스크루(ball screw)(74), 이 볼 스크루(74)를 정/역회전시키는 모터(76) 등으로 이루어질 수 있다.The lift pin elevating device 70 includes a pin plate 72 to which the lower ends of all of the lift pins 60 are coupled and at least one pin plate driving means for moving the pin plate 72 up and down do. At this time, the pin plate driving means may be composed of a ball screw 74 which is mounted on the pin plate 72 so as to stand upright, a motor 76 for rotating the ball screw 74 in the forward / have.

이상, 도 4와 도 5에서 설명되지 않은 도면부호 35g는 게이트 슬릿(35)의 천 장 부분에 게이트 슬릿 개폐장치가 닫히도록 작동된 때 실 플레이트(37)의 상단 부분이 수용되도록 형성된 홈으로, 이 홈(35g)은 게이트 슬릿(35)의 개폐를 정확하게 이룰 수 있게끔 한다.4 and 5, a groove 35g is formed in the ceiling portion of the gate slit 35 to accommodate the upper portion of the seal plate 37 when the gate slit opening / closing device is operated to close, This groove 35g makes it possible to accurately open and close the gate slit 35. [

도 6 및 도 7은 본 발명의 다른 예 및 또 다른 예를 각각 나타내는 단면도로서 도 6에 도시된 본 발명의 다른 예(이하, 제2실시예라 한다)는 도 3 내지 도 5에 도시된 것(이하, 제1실시예라 한다)과 비교하여 볼 때 기타 구성은 모두 동일한 데 대하여, 밸브 바디(32)가 챔버 바디(20)의 벽(22) 한쪽에 일부만이 묻혀 있도록 설치된다는 점만이 상이하다. 즉, 제1실시예의 경우에는 그 밸브 바디(32)가 챔버 바디(20)의 벽(22) 한쪽에 이 벽(22)의 한쪽을 구성하도록 전체가 묻혀 있는 데 대하여, 제2실시예는 그러하지 않은 것이다.6 and 7 are cross-sectional views respectively showing another example and another example of the present invention, and another example (hereinafter referred to as a second example) of the present invention shown in Fig. 6 is the one shown in Figs. 3 to 5 Except that only the valve body 32 is partially buried on one side of the wall 22 of the chamber body 20, except that the valve body 32 is the same as the first embodiment. That is, in the case of the first embodiment, the valve body 32 is entirely buried on one side of the wall 22 of the chamber body 20 so as to constitute one side of the wall 22, but the second embodiment is the same .

도 7에 도시된 본 발명의 또 다른 예(이하, 제3실시예라 한다)는 위의 제1실시예와 비교하여 볼 때 기타 구성은 모두 동일한 것에 대하여, 게이트 슬릿(35A)이 챔버 바디(20)의 벽에 직접 형성되고, 게이트 슬릿 개폐장치가 밸브 바디(도 4, 도 5의 도면부호 32 참조) 없이 챔버 바디(20)의 벽(22) 속에 직접 설치된다는 점만이 상이하다. 물론, 챔버 바디(20)는 그 벽(22)에 이 같은 설치구조를 위하여 제1실시예와 마찬가지로 게이트 슬릿(35A)과 이어진 구조의 설치공간(33A)이 마련된다. 그리고 이 설치공간(33A)에는 게이트 슬릿 개폐장치가 설치된다.7 (hereinafter, referred to as a third embodiment) is the same as the first embodiment, except that the gate slit 35A is formed in the chamber body 20 Except that the gate slit switching device is installed directly into the wall 22 of the chamber body 20 without the valve body (see 32 in Figures 4 and 5). Of course, the chamber body 20 is provided with an installation space 33A having a structure which is connected to the gate slit 35A in the same manner as the first embodiment for such a mounting structure in the wall 22 thereof. A gate slit opening / closing device is provided in the installation space 33A.

이상, 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이 명세서에 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않는 바, 본 발명의 기술적 사상의 범위 안에서 당업자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다.While the present invention has been described in detail, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

예를 들어, 위에서는 게이트 슬릿 개폐장치가 설치공간(33)(33A)에 설치되는 것으로 설명하였으나, 구성요소 중 실 플레이트(37)는 설치공간(33)(33A)에 위치하도록 구비하되, 이 실 플레이트 승강수단(38)은 챔버 바디(20) 밖인 하측에 위치하도록 구비할 수 있겠다.For example, in the above description, the gate slit opening / closing device is installed in the installation spaces 33 and 33A. However, the seal plate 37 among the components is provided in the installation spaces 33 and 33A, The seal plate lifting means 38 may be provided on the lower side of the chamber body 20.

도 1은 일반적인 공정챔버를 나타내는 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a general process chamber. FIG.

도 2는 도 1의 A-A선 단면도로서 도 1에 도시된 공정챔버의 문제점을 나타낸다.Fig. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of Fig. 1, showing the problem of the process chamber shown in Fig.

도 3은 본 발명에 따른 게이트 밸브가 적용된 평판표시소자 제조장비의 일례를 나타내는 구성도이다.3 is a block diagram showing an example of a flat panel display device manufacturing equipment to which a gate valve according to the present invention is applied.

도 4 및 도 5는 도 3에서 B가 지시하는 부분을 확대한 단면도로서 본 발명에 따른 게이트 밸브를 나타낸다.Figs. 4 and 5 are enlarged cross-sectional views of the gate valve according to the present invention, which are enlarged in the portion indicated by B in Fig.

도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 평판표시소자 제조장비의 다른 예와 또 다른 예를 각각 타내는 단면도이다.6 and 7 are cross-sectional views illustrating another example of the apparatus for manufacturing a flat panel display device and another example of the apparatus according to the present invention, respectively.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

20 : 챔버 바디 30 : 게이트 밸브20: chamber body 30: gate valve

32 : 밸브 바디 33, 33A : 설치공간32: Valve body 33, 33A: Installation space

35, 35A : 게이트 슬릿 37 : 실 플레이트35, 35A: gate slit 37: seal plate

38 : 실 플레이트 승강수단 40 : 상부전극 어셈블리38: a seal plate lifting means 40: an upper electrode assembly

50 : 하부전극 어셈블리 60 : 리프트 핀50: lower electrode assembly 60: lift pin

70 : 리프트 핀 승강장치70: Lift pin lifting device

Claims (8)

챔버 바디의 벽 한쪽에 이 벽의 한쪽을 구성하도록 설치되며 상기 챔버 바디의 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 게이트 슬릿을 갖춘 밸브 바디와; 상기 게이트 슬릿을 상기 밸브 바디의 안에서 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하고,A valve body provided on one side of the wall of the chamber body to constitute one side of the wall, the valve body having a gate slit so as to allow the substrate to be carried in the chamber body and to be carried out of the loaded substrate; And a gate slit opening / closing device for opening / closing the gate slit in the valve body, 상기 밸브 바디의 안에는 상기 게이트 슬릿으로부터 하측으로 연장되어 상기 게이트 슬릿과 이어진 구조의 설치공간이 상하방향으로 형성되며,Wherein the valve body has an installation space extending vertically downward from the gate slit and connected to the gate slit, 상기 게이트 슬릿 개폐장치는, 상기 설치공간에 상하이동 가능하게 구비되어 이동방향에 따라 상기 게이트 슬릿을 개폐하는 실 플레이트와; 상기 실 플레이트를 상하로 이동시키는 실 플레이트 승강수단으로 구성되고,Wherein the gate slit opening / closing device comprises: a seal plate provided in the installation space so as to be movable up and down, and which opens and closes the gate slit in accordance with a moving direction; And a seal plate elevating means for moving the seal plate up and down, 상기 게이트 슬릿의 천장 측에는 상기 게이트 슬릿이 상기 실 플레이트에 의하여 폐쇄되면 상기 실 플레이트의 상단 부분을 수용하면서 상기 실 플레이트의 상단 부분과 접촉하는 홈이 형성된 게이트 밸브.Wherein a groove is formed in a ceiling side of the gate slit so as to receive an upper portion of the seal plate when the gate slit is closed by the seal plate and to contact an upper portion of the seal plate. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 밸브 바디는 상기 챔버 바디의 안쪽과 바깥쪽 벽면 중 적어도 안쪽 벽면과 동일평면을 이루도록 형성된 것을 특징으로 하는 게이트 밸브.Wherein the valve body is flush with at least one of the inner and outer wall surfaces of the chamber body. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 게이트 슬릿 개폐장치는 상기 설치공간에 상기 실 플레이트 승강수단이 수용되어 상기 밸브 바디와 모듈화된 것을 특징으로 하는 게이트 밸브.Wherein the gate slit opening / closing device is accommodated in the installation space and is modularized with the valve body. 챔버 바디와; 상기 챔버 바디의 벽 한쪽에 이 벽의 한쪽을 구성하도록 설치되며 상기 챔버 바디의 안에 기판을 반입하는 것과 반입된 기판을 반출하는 것이 가능하도록 게이트 슬릿을 갖춘 밸브 바디와; 상기 게이트 슬릿을 상기 밸브 바디의 안에서 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하고,A chamber body; A valve body provided on one side of the wall of the chamber body to constitute one side of the wall, the valve body having a gate slit so as to allow the substrate to be carried in the chamber body and to be taken out of the loaded substrate; And a gate slit opening / closing device for opening / closing the gate slit in the valve body, 상기 밸브 바디의 안에는 상기 게이트 슬릿으로부터 하측으로 연장되어 상기 게이트 슬릿과 이어진 구조의 설치공간이 상하방향으로 형성되며,Wherein the valve body has an installation space extending vertically downward from the gate slit and connected to the gate slit, 상기 게이트 슬릿 개폐장치는, 상기 설치공간에 상하이동 가능하게 구비되어 이동방향에 따라 상기 게이트 슬릿을 개폐하는 실 플레이트와; 상기 실 플레이트를 상하로 이동시키는 실 플레이트 승강수단으로 구성되고,Wherein the gate slit opening / closing device comprises: a seal plate provided in the installation space so as to be movable up and down, and which opens and closes the gate slit in accordance with a moving direction; And a seal plate elevating means for moving the seal plate up and down, 상기 게이트 슬릿의 천장 측에는 상기 게이트 슬릿이 상기 실 플레이트에 의하여 폐쇄되면 상기 실 플레이트의 상단 부분을 수용하면서 상기 실 플레이트의 상단 부분과 접촉하는 홈이 형성된 평판표시소자 제조장비.Wherein when the gate slit is closed by the seal plate, a groove is formed in the ceiling of the gate slit to receive the upper portion of the seal plate and to contact the upper portion of the seal plate. 벽 한쪽에 게이트 슬릿이 형성된 챔버 바디와; 상기 챔버 바디의 벽 속에서 상기 게이트 슬릿을 개폐하는 게이트 슬릿 개폐장치를 포함하고,A chamber body having a gate slit formed on one side of the wall; And a gate slit opening / closing device for opening and closing the gate slit in a wall of the chamber body, 상기 챔버 바디의 벽 속에는 상기 게이트 슬릿으로부터 하측으로 연장되어 상기 게이트 슬릿과 이어진 구조의 설치공간이 상하방향으로 형성되며,An installation space extending downward from the gate slit and connected to the gate slit is vertically formed in a wall of the chamber body, 상기 게이트 슬릿 개폐장치는, 상기 설치공간에 상하이동 가능하게 구비되어 이동방향에 따라 상기 게이트 슬릿을 개폐하는 실 플레이트와; 상기 실 플레이트를 상하로 이동시키는 실 플레이트 승강수단으로 구성되고,Wherein the gate slit opening / closing device comprises: a seal plate provided in the installation space so as to be movable up and down, and which opens and closes the gate slit in accordance with a moving direction; And a seal plate elevating means for moving the seal plate up and down, 상기 게이트 슬릿의 천장 측에는 상기 게이트 슬릿이 상기 실 플레이트에 의하여 폐쇄되면 상기 실 플레이트의 상단 부분을 수용하면서 상기 실 플레이트의 상단 부분과 접촉하는 홈이 형성된 평판표시소자 제조장비.Wherein when the gate slit is closed by the seal plate, a groove is formed in the ceiling of the gate slit to receive the upper portion of the seal plate and to contact the upper portion of the seal plate. 삭제delete 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,The method according to claim 4 or 5, 상기 챔버 바디 안에 배치되고 위에 상기 게이트 슬릿을 통하여 반입된 기판이 놓이는 스테이지와;A stage disposed in the chamber body and on which the substrate loaded through the gate slit is placed; 상기 스테이지에 상하이동 가능하게 설치되어 이 스테이지에 놓이는 기판을 들어 올리거나 내려놓는 복수 개의 리프트 핀과;A plurality of lift pins installed on the stage so as to be movable up and down and lifting or lowering a substrate placed on the stage; 상기 복수 개의 리프트 핀을 상하로 이동시키는 리프트 핀 승강장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비.And a lift pin lift device for moving the plurality of lift pins up and down. 청구항 7에 있어서,The method of claim 7, 상기 챔버 바디는 그 안에 기판의 처리에 필요한 공정 가스를 분사하는 상부전극 어셈블리가 배치되고,Wherein the chamber body is provided with an upper electrode assembly for injecting a process gas necessary for processing the substrate therein, 상기 스테이지는 상기 상부전극 어셈블리와 대향하도록 위치된 하부전극 어셈블리인 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장비.Wherein the stage is a lower electrode assembly positioned to face the upper electrode assembly.
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