KR101479933B1

KR101479933B1 - Gate Valve

Info

Publication number: KR101479933B1
Application number: KR20120155044A
Authority: KR
Inventors: 이은녕; 이진환; 유현석; 권상교
Original assignee: 주식회사 에스에프에이
Priority date: 2012-12-27
Filing date: 2012-12-27
Publication date: 2015-01-12
Also published as: KR20140084983A

Abstract

게이트 밸브가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브는, 진공 챔버에 형성되는 게이트 슬릿에 인접하게 배치되며 기판이 출입할 수 있는 기판 출입구가 형성되는 밸브 챔버와, 밸브 챔버 내부에 업/다운(up/down) 가능하게 마련되며, 기판 출입구를 개폐하는 밸브 도어와, 밸브 도어에 연결되며 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어의 수평을 유지시키는 수평 유지유닛과, 수평 유지유닛에 연결되며 밸브 도어를 업/다운(up/down)시키는 도어 업/다운(up/down) 구동유닛을 포함한다.A gate valve is disclosed. A gate valve according to an embodiment of the present invention includes a valve chamber disposed adjacent to a gate slit formed in a vacuum chamber and having a substrate entrance port through which a substrate can enter and exit, A horizontal holding unit connected to the valve door for maintaining the level of the valve door when the valve door is up / down, and a horizontal holding unit connected to the horizontal holding unit, And a door up / down driving unit for up / down the valve door.

Description

Gate Valve {Gate Valve}

본 발명은, 게이트 밸브에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치의 진공 챔버 사이에 마련되어 진공 챔버의 게이트 슬릿을 개폐하는 게이트 밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a gate valve, and more particularly, to a gate valve which is provided between vacuum chambers of a chemical vapor deposition apparatus for a flat display and opens and closes a gate slit of a vacuum chamber.

평면디스플레이는 개인 휴대단말기를 비롯하여 TV나 컴퓨터의 모니터 등으로 널리 채용된다. 이러한 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등으로 그 종류가 다양하다.Flat displays are widely used in personal computers, monitors for TVs and computers. Such a flat display is variously classified into an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel) and an OLED (Organic Light Emitting Diodes).

이러한 평면디스플레이 중에서 특히 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 평면디스플레이로서 주목받고 있다.Of these flat displays, in particular, an organic light emitting display (OLED) is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of an organic substance. In view of its simple structure and high optical efficiency, Has attracted attention as a display.

이러한 유기전계발광표시장치(OLED)는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있다. 여기서 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다.The organic light emitting display OLED includes an anode, a cathode, and organic layers interposed between the anode and the cathode. Here, the organic layers include at least a light emitting layer and may further include a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer in addition to the light emitting layer.

또한, 유기전계발광표시장치(OLED)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 평면디스플레이로서 주목받고 있다.In addition, an organic light emitting display (OLED) is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of organic materials, and has been attracting attention as a promising next-generation flat display because of its simple structure and high optical efficiency.

이러한 유기전계발광표시장치(OLED) 기판을 제조하기 위해서는 기판 상에 TFT(Thin Film Transistor)를 형성하기 위한 무기물 증착공정과 패터닝 공정이 반복적으로 이루어지고, 이후 발광 Cell을 구성하기 위한 유기물 증착이 이루어진다.In order to manufacture such an organic light emitting display (OLED) substrate, an inorganic material deposition process and a patterning process for forming a TFT (Thin Film Transistor) are repeatedly performed on a substrate, and then an organic material deposition for forming a light emitting cell is performed .

통상적으로 유기전계발광표시장치(OLED) 기판에 증착되는 무기물은 화학 기상 증착공정(CVD, Chemical Vapor Deposition Process)으로 증착한다. 이러한 화학 기상 증착공정이 다양한 박막을 형성하는데 유리하기 때문이다. Typically, an inorganic material deposited on an organic light emitting display (OLED) substrate is deposited by a chemical vapor deposition process (CVD). This is because such a chemical vapor deposition process is advantageous for forming various thin films.

유기전계발광표시장치(OLED) 기판을 제조하기 위한 증착공정 중에 하나인 화학 기상 증착공정(CVD, Chemical Vapor Deposition Process)을 간략히 설명하면, 화학 기상 증착공정은, 외부의 고주파 전원에 의해 플라즈마(Plasma)화 되어 높은 에너지를 갖는 실리콘계 화합물 이온(ion)이 전극을 통해 가스분배판에서 분출되어 기판 상에 증착되는 공정으로서, 이러한 공정은 화학 기상 증착공정을 수행하는 공정 챔버 내에서 이루어진다. A chemical vapor deposition process (CVD), which is one of the deposition processes for manufacturing an organic light emitting display (OLED) substrate, will be briefly described. In the chemical vapor deposition process, a plasma ) And a silicon compound ion having a high energy is sputtered from a gas distribution plate through an electrode and deposited on a substrate. This process is performed in a process chamber in which a chemical vapor deposition process is performed.

특히 최근에는 단시간에 많은 기판을 처리할 수 있도록, 일정한 간격으로 배치되는 복수개의 공정 챔버를 구비하는 화학 기상 증착 장치가 널리 사용되고 있다.In recent years, chemical vapor deposition apparatuses having a plurality of process chambers arranged at regular intervals are widely used so that many substrates can be processed in a short time.

이러한 화학 기상 증착공정을 위한 종래기술에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 증착 공정이 수행되며 기판(G)의 출입을 위해 게이트 슬릿이 마련되는 공정 챔버(Processing Chamber,1)와, 공정 챔버(1)에 이웃하게 배치되며 게이트 슬릿(미도시)을 통해 기판(G)을 공정 챔버(1)의 외부 및 내부로 출입시키는 기판 출입유닛(2)을 포함한다.1, a chemical vapor deposition apparatus for a flat panel display according to a related art for such a chemical vapor deposition process is provided with a process chamber in which a deposition process is performed and a gate slit is provided for entering / And a substrate entrance unit 2 which is disposed adjacent to the process chamber 1 and which allows the substrate G to be introduced into and out of the process chamber 1 through a gate slit (not shown) .

공정 챔버(1)는, 공정챔버(1) 내에 마련되어 증착 대상인 기판(G)이 로딩(Loading)되는 서셉터(Susceptor, 미도시)와, 공정챔버(1) 내에 마련되어 상부전극의 역할을 하는 배면판(미도시)과, 배면판(미도시)의 하부에 마련되어 기판(G) 상으로 증착물질을 분배하는 가스분배판(미도시)을 포함한다.The process chamber 1 includes a susceptor (not shown) which is provided in the process chamber 1 and is loaded with a substrate G to be a deposition target and a rear surface provided in the process chamber 1, And a gas distribution plate (not shown) provided at a lower portion of a back plate (not shown) to distribute the evaporation material onto the substrate G.

기판 출입유닛(2)은, 기판(G)이 공정 챔버(1)로 진입될 수 있는 환경을 조성하는 로드락 챔버(load lock Chamber, 3)에서 기판(G)을 공급받는다. 또한 이러한 기판 출입유닛(2)은, 공정 챔버(1)와 로드락 챔버(3)를 연결하는 트랜스퍼 챔버(transfer chamber, 4)의 내부에 마련된다.The substrate entrance unit 2 is supplied with the substrate G from a load lock chamber 3 that creates an environment in which the substrate G can enter the process chamber 1. [ The substrate access unit 2 is also provided inside a transfer chamber 4 that connects the process chamber 1 and the load lock chamber 3.

한편, 공정 챔버(1), 로드락 챔버(3) 및 트랜스퍼 챔버(4)는 진공 챔버로 형성되며, 로드락 챔버(3)와 트랜스퍼 챔버(4)에도 공청 챔버(1)와 마찬가지로 기판(G)의 출입을 위해 게이트 슬릿이 마련된다.On the other hand, the process chamber 1, the load lock chamber 3 and the transfer chamber 4 are formed of a vacuum chamber, and the load lock chamber 3 and the transfer chamber 4 are provided with a substrate G A gate slit is provided for entering and exiting.

또한 공정 챔버(1)와 트랜스퍼 챔버(4) 사이, 로드락 챔버(3) 및 트랜스퍼 챔버(4) 사이에는 게이트 슬릿(미도시)을 개폐하는 게이트 밸브(미도시)가 마련된다. A gate valve (not shown) for opening and closing a gate slit (not shown) is provided between the process chamber 1 and the transfer chamber 4, and between the load lock chamber 3 and the transfer chamber 4.

종래 기술에 따른 게이트 밸브(미도시)는, 밸브 챔버의 내부에서 업/다운(up/down)되어 게이트 슬릿(미도시)을 개폐하는 밸브 도어(미도시)와, 밸브 도어(미도시)에 연결되어 밸브 도어(미도시)를 업/다운(up/down)시키는 도어 업/다운(up/down) 구동부(미도시)를 포함한다.A gate valve (not shown) according to the related art includes a valve door (not shown) for opening / closing a gate slit (not shown) by up / down in the valve chamber, And a door up / down driver (not shown) connected to the valve door (not shown) to up / down the valve door (not shown).

밸브 도어는 가로 방향으로 긴 막대 형상으로 마련되며, 도어 업/다운(up/down) 구동부는 이러한 막대 형상의 밸브 도어의 크기에 따라 다수개가 설치된다.The valve door is provided in a long rod shape in the horizontal direction, and a plurality of door up / down driving parts are installed according to the size of the rod-shaped valve door.

그런데 종래 기술에 따른 게이트 밸브는, 도어 업/다운(up/down) 구동부 상호간의 정확한 동기화가 수행되지 않아 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어의 수평을 유지시키기 어려운 문제점이 있다.However, the gate valve according to the related art has a problem in that it is difficult to maintain the level of the valve door when the valve door is up / down because accurate synchronization between the door up / down driving parts is not performed .

즉 도어 밸브가 기울어진 상태(도어 밸브의 말단부의 높이가 서로 다른 상태)로 업/다운(up/down)되는데, 이와 같이 밸브 도어가 기울어진 상태로 업/다운(up/down)되면, 밸브 도어가 손상될 수 있고 밸브 챔버에 리크(leak)가 발생될 수 있다.That is, the door valve is up / down in a tilted state (a state where the heights of the distal end portions of the door valves are different from each other). When the valve door is up / down in an inclined state, The door may be damaged and a leak may occur in the valve chamber.

따라서 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어의 수평을 유지시킬 수 있는 게이트 밸브의 개발이 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to develop a gate valve capable of maintaining the level of the valve door when the valve door is up / down.

한국특허공개공보 제10-2008-0082922호 (어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드), 2008.09.12Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2008-0082922 (Applied Materials, Inc.), September 12, 2008

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어의 수평을 유지시킬 수 있는 게이트 밸브를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a gate valve capable of maintaining the level of the valve door when the valve door is up / down.

본 발명의 일 측면에 따르면, 진공 챔버에 형성되는 게이트 슬릿에 인접하게 배치되며, 기판이 출입할 수 있는 기판 출입구가 형성되는 밸브 챔버; 상기 밸브 챔버 내부에 업/다운(up/down) 가능하게 마련되며, 기판 출입구를 개폐하는 밸브 도어; 상기 밸브 도어에 연결되며, 상기 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 상기 밸브 도어의 수평을 유지시키는 수평 유지유닛; 및 상기 수평 유지유닛에 연결되며, 상기 밸브 도어를 업/다운(up/down)시키는 도어 업/다운(up/down) 구동유닛을 포함하는 게이트 밸브를 제공할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum chamber comprising: a valve chamber disposed adjacent to a gate slit formed in a vacuum chamber and having a substrate entrance port through which a substrate can enter and exit; A valve door which is provided in the valve chamber so as to be able to be up / down, and opens and closes the substrate entrance; A horizontal holding unit connected to the valve door and maintaining the level of the valve door when the valve door is up / down; And a door up / down driving unit connected to the horizontal holding unit to up / down the valve door.

상기 수평 유지유닛은, 상호 이격되어 배치되며, 상기 밸브 도어에 각각 결합되는 제1 및 제2 이동축; 상기 제1 및 제2 이동축에 결합되어 제1 및 제2 이동축을 연결하는 연결축; 및 상기 연결축에 연결되어 상기 연결축의 업/다운(up/down)을 가이드하는 가이드부를 포함할 수 있다.The horizontal holding unit includes first and second moving shafts spaced from each other and coupled to the valve doors, respectively; A connecting shaft coupled to the first and second moving shafts to connect the first and second moving shafts; And a guide portion connected to the connection shaft and guiding up / down of the connection shaft.

상기 가이드부는, 상기 연결축의 중앙부에 연결되는 중앙부 연결형 가이드부로 이루어질 수 있다.The guide portion may include a central connecting guide portion connected to a central portion of the connecting shaft.

상기 중앙부 연결형 가이드부는, 상기 연결축의 중앙부에 결합되는 제1 가이드 블록; 및 상기 제1 가이드 블록이 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 제1 가이드 레일을 포함할 수 있다.The center connection type guide unit includes a first guide block coupled to a central portion of the connection shaft, And a first guide rail to which the first guide block can be coupled up / down.

상기 중앙부 연결형 가이드부는, 상기 밸브 챔버에 결합되며, 상기 제1 가이드 레일을 지지하는 제1 가이드 레일 지지대를 더 포함할 수 있다.The center connection type guide unit may further include a first guide rail support member coupled to the valve chamber and supporting the first guide rail.

상기 중앙부 연결형 가이드부는, 상기 연결축의 중앙부에 결합되는 볼 부쉬; 및 상기 볼 부쉬가 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 가이드 샤프트를 포함할 수 있다.The center connection type guide unit includes a ball bushing coupled to a central portion of the connection shaft; And a guide shaft to which the ball bush is coupled so as to be able to be up / down.

상기 가이드 샤프트는, 상기 밸브 챔버에 결합될 수 있다.The guide shaft may be coupled to the valve chamber.

상기 도어 업/다운(up/down) 구동유닛은, 상호 이격되어 배치되며, 상기 제1 및 제2 이동축에 각각 연결되어 상기 제1 및 제2 이동축을 업/다운(up/down)시키는 제1 및 제2 이동축 구동부를 포함할 수 있다.The door up / down driving unit may be disposed apart from each other, and may be connected to the first and second moving shafts to up / down the first and second moving shafts. 1 and a second moving axis driver.

상기 가이드부는, 상기 연결축의 말단부에 각각 연결되는 한 쌍의 말단부 연결형 가이드부로 이루어질 수 있다.The guide portion may include a pair of distal-end connecting guide portions connected to distal ends of the connecting shaft.

상기 말단부 연결형 가이드부는, 상기 연결축의 말단부에 연결되는 제2 가이드 블록; 및 상기 제2 가이드 블록이 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 제2 가이드 레일을 포함할 수 있다.The distal end connection type guide portion includes a second guide block connected to a distal end of the connection shaft; And a second guide rail to which the second guide block can be coupled up / down.

상기 말단부 연결형 가이드부는, 상기 밸브 챔버에 결합되며, 상기 제2 가이드 레일을 지지하는 제2 가이드 레일 지지대를 더 포함할 수 있다.The distal end connection type guide unit may further include a second guide rail support coupled to the valve chamber and supporting the second guide rail.

상기 수평 유지 유닛은, 상기 한 쌍의 말단부 연결형 가이드부 중 적어도 어느 하나에 연결되며, 상기 연결축의 열팽창 시 상기 연결축의 수평방향에 대한 신장을 가이드하는 열팽창 가이드부를 더 포함할 수 있다.The horizontal holding unit may further include a thermal expansion guide part connected to at least one of the pair of end connection type guide parts and guiding the extension of the connection shaft in the horizontal direction when the connection shaft is thermally expanded.

상기 열팽창 가이드부는, 상기 연결축에 결합되는 제3 가이드 블록; 및 상기 제2 가이드 블록과 결합되며, 상기 제3 가이드 블록이 이동 가능하게 결합되는 제3 가이드 레일을 구비하는 연결축 신장 가이드부재를 포함할 수 있다.The thermal expansion guide portion may include: a third guide block coupled to the connection shaft; And a connection shaft extension guide member coupled to the second guide block and including a third guide rail movably coupled to the third guide block.

상기 연결축 신장 가이드부재는, 상기 제2 가이드 블록이 결합되는 세로 몸체; 및 상기 세로 몸체에서 연장되며, 상기 제3 가이드 레일이 결합되는 가로 몸체를 포함할 수 있다.Wherein the connection shaft extension guide member comprises: a vertical body to which the second guide block is coupled; And a lateral body extending from the vertical body and coupled with the third guide rail.

상기 도어 업/다운(up/down) 구동유닛은, 상기 연결축에 결합되며, 상기 연결축를 업/다운(up/down)시키는 연결축 업/다운(up/down) 구동부를 포함할 수 있다.The door up / down driving unit may include a connection axis up / down driving unit coupled to the connection axis and causing the connection axis to be up / down.

상기 밸브 챔버는, 상기 제1 및 제2 이동축에 연결되며, 상기 밸브 챔버의 기밀을 유지하는 기밀 유지부를 더 포함할 수 있다.The valve chamber may further include a hermetic portion connected to the first and second moving shafts and configured to maintain the hermeticity of the valve chamber.

상기 기밀 유지부는, 상기 제1 및 제2 이동축 각각에 연결되는 오링(O-ring)을 포함할 수 있다.The hermetic-sealing portion may include an O-ring connected to each of the first and second moving shafts.

상기 기밀 유지부는, 상기 제1 및 제2 이동축 각각에 결합되는 벨로우즈(bellows)를 포함할 수 있다.The hermetically-holding portion may include bellows coupled to the first and second moving shafts, respectively.

상기 밸브 도어는, 상기 수평 유지유닛이 연결되는 도어 몸체부; 상기 도어 몸체부에 연결되며, 상기 밸브 챔버의 내벽에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 이동되어 상기 기판 출입구를 개폐하는 도어 블레이드부; 및 상기 도어 몸체부에 마련되며, 상기 도어 블레이드부를 구동하는 블레이드 구동부를 포함할 수 있다.Wherein the valve door includes: a door body portion to which the horizontal holding unit is connected; A door blade part connected to the door body part and moved in a direction to approach and separate from the inner wall of the valve chamber to open and close the substrate doorway; And a blade driving unit that is provided on the door body unit and drives the door blade unit.

본 발명의 실시예들은, 수평 유지유닛이 밸브 도어에 연결되어 상기 밸브 도어의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어의 수평을 유지함으로써, 밸브 도어의 업/다운(up/down)과정에서 밸브 도어의 손상을 방지하고 밸브 챔버에서의 리크(leak) 발생을 억제할 수 있다.Embodiments of the present invention provide a method of controlling a valve door in an up / down process of a valve door by maintaining the horizontal position of the valve door when the horizontal holding unit is connected to the valve door to up / down the valve door It is possible to prevent the valve door from being damaged and to prevent leakage in the valve chamber.

도 1은 종래기술에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치의 개략적인 구조도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 게이트 밸브의 개략적인 구조가 도시된 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이다.
도 4는 도 3의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이다.
도 5는 도 3의 게이트 밸브를 다른 방향에서 바라본 사시도이다.
도 6은 도 3의 정면도이다.
도 7은 도 3의 측면도이다.
도 8은 도 4의 측면도이다.
도 9는 도 2의 공정 챔버의 구조가 도시된 도면이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이다.
도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이다.
도 12는 도 11의 정면도이다.
도 13은 도 11의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이다.
도 14는 본 발명의 제4 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 도면이다.
도 15는 본 발명의 제5 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이다.
도 16은 도 15의 정면도이다.
도 17은 도 15의 'A' 부분의 확대도이다.
도 18 도 15의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이다.1 is a schematic structural view of a conventional chemical vapor deposition apparatus for a flat panel display.
2 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a gate valve according to the first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a gate valve according to the first embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a view showing a state in which the substrate entrance of Fig. 3 is closed. Fig.
Fig. 5 is a perspective view of the gate valve of Fig. 3 taken in another direction. Fig.
6 is a front view of Fig.
Figure 7 is a side view of Figure 3;
Figure 8 is a side view of Figure 4;
FIG. 9 is a view showing the structure of the process chamber of FIG. 2. FIG.
10 is a perspective view showing a gate valve according to a second embodiment of the present invention.
11 is a perspective view showing a gate valve according to a third embodiment of the present invention.
12 is a front view of Fig.
Fig. 13 is a diagram showing a state in which the substrate entrance of Fig. 11 is closed. Fig.
14 is a view showing a gate valve according to a fourth embodiment of the present invention.
15 is a perspective view showing a gate valve according to a fifth embodiment of the present invention.
16 is a front view of Fig. 15. Fig.
17 is an enlarged view of a portion 'A' in FIG.
Fig. 18 is a view showing a state in which the substrate entrance of Fig. 15 is closed. Fig.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 평면디스플레이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다. 다만, 본 실시예에서는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)를 채택하여 설명한다. Prior to the description with reference to the drawings, any of a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting diode (OLED) may be used as the flat panel display. However, in the present embodiment, an organic light emitting diode (OLED) is adopted.

이하, 편의를 위해, OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 단순히 기판이라 하여 설명하기로 한다.Hereinafter, for convenience, a glass substrate for OLED (Organic Light Emitting Diodes) will be simply referred to as a substrate.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 게이트 밸브의 개략적인 구조가 도시된 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이며, 도 4는 도 3의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이고, 도 5는 도 3의 게이트 밸브를 다른 방향에서 바라본 사시도이며, 도 6은 도 3의 정면도이고, 도 7은 도 3의 측면도이며, 도 8은 도 4의 측면도이고, 도 9는 도 2의 공정 챔버의 구조가 도시된 도면이다.FIG. 3 is a perspective view showing a gate valve according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the gate valve according to the first embodiment of the present invention, 6 is a front view of FIG. 3, FIG. 7 is a side view of FIG. 3, and FIG. 8 is a side view of the gate valve of FIG. 4, and Fig. 9 is a view showing the structure of the process chamber of Fig.

도 2 내지 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 밸브는, 진공 챔버(100, 210)에 형성되는 게이트 슬릿(121,221)에 인접하게 배치되며, 기판(G)이 출입할 수 있는 기판 출입구(311)가 형성되는 밸브 챔버(310)와, 밸브 챔버(310) 내부에 업/다운(up/down) 가능하게 마련되며, 기판 출입구(311)를 개폐하는 밸브 도어(320)와, 밸브 도어(320)에 연결되며, 밸브 도어(320)의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어(320)의 수평을 유지시키는 수평 유지유닛(330)과, 수평 유지유닛(330)에 연결되며, 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시키는 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340)을 포함한다.2 to 9, the gate valve according to the embodiment of the present invention is disposed adjacent to the gate slits 121 and 221 formed in the vacuum chambers 100 and 210, And a valve door 320 which is provided to be able to move up and down inside the valve chamber 310 and which opens and closes the substrate entrance 311. The valve door 310 is formed in the valve chamber 310, A horizontal holding unit 330 connected to the valve door 320 and maintaining the horizontal position of the valve door 320 when the valve door 320 is up / down, a horizontal holding unit 330, And a door up / down driving unit 340 connected to the door panel 320 and up / down the valve door 320.

진공 챔버(100, 210)는 챔버 내부를 진공 분위기로 형성한다. 설명의 편의를 위해 본 실시예에 따른 게이트 밸브는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치에 사용되는 경우를 설명한다. 또한, 본 실시예에 따른 게이트 밸브는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치의 진공 챔버(100, 210)에 해당하는 공정 챔버(Processing Chamber, 110) 및 트랜스퍼 챔버(transfer chamber, 210) 사이에 배치되는 경우로 한정하여 설명한다.The vacuum chambers 100 and 210 form a vacuum atmosphere inside the chamber. For convenience of explanation, the gate valve according to the present embodiment is used for a chemical vapor deposition apparatus for a flat display. When the gate valve according to the present embodiment is disposed between a processing chamber 110 and a transfer chamber 210 corresponding to the vacuum chambers 100 and 210 of the chemical vapor deposition apparatus for a flat panel display .

평면디스플레이용 화학 기상 증착장치에서, 공정 챔버(100)는 기판(G)에 대한 증착 공정을 수행하며, 트랜스퍼 챔버(210)는 기판(G)을 공정 챔버(100)로 반입 및 반출한다. 이러한 공정 챔버(100)와 트랜스퍼 챔버(210)에 대한 구성은 설명의 편의를 위해 후술한다.In a chemical vapor deposition apparatus for a flat display, a process chamber 100 performs a deposition process for a substrate G, and a transfer chamber 210 transfers a substrate G into and out of the process chamber 100. The construction of the process chamber 100 and the transfer chamber 210 will be described later for convenience of explanation.

밸브 챔버(310)는, 공정 챔버(100)와 트랜스퍼 챔버(210)에 형성되는 게이트 슬릿(121,221)에 인접하게 배치되며, 게이트 슬릿(121,221)에 연통되어 기판(G)이 출입할 수 있는 기판 출입구(311)가 형성된다. The valve chamber 310 is disposed adjacent to the gate slits 121 and 221 formed in the process chamber 100 and the transfer chamber 210 and is connected to the gate slits 121 and 221, An entrance 311 is formed.

이러한 밸브 챔버(310)는, 수평 유지유닛(330)에 연결되며, 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지하는 기밀 유지부(312)를 더 포함한다. 이러한 기밀 유지부(312)는 설명의 편의를 위해 후술한다.The valve chamber 310 is connected to the horizontal holding unit 330 and further includes a hermetic portion 312 that maintains the hermeticity of the valve chamber 310. The hermeticity holding unit 312 will be described later for convenience of explanation.

밸브 도어(320)는, 밸브 챔버(310) 내부에 업/다운(up/down) 가능하게 마련되며, 기판 출입구(311)를 개폐한다.The valve door 320 is provided so as to be able to be up / down inside the valve chamber 310 and opens / closes the substrate entry / exit port 311.

이러한 밸브 도어(320)는, 수평 유지유닛(330)이 연결되는 도어 몸체부(321)와, 도어 몸체부(321)에 연결되며, 밸브 챔버(310)의 내벽에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 이동되어 기판 출입구(311)를 개폐하는 도어 블레이드부(322)와, 도어 몸체부(321)에 마련되며, 도어 블레이드부(322)를 구동하는 블레이드 구동부(323)를 포함한다. The valve body 320 includes a door body portion 321 to which the horizontal holding unit 330 is connected and a door body portion 321 which is connected to the door body portion 321 And a blade driving part 323 provided on the door body part 321 and driving the door blade part 322. The door driving part 322 drives the door driving part 322,

도어 몸체부(321)는, 수평 유지유닛(330)에 연결되어 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340)의 가압에 의해 업/다운(up/down)된다. The door body portion 321 is connected to the horizontal holding unit 330 and is up / down by pressing the door up / down driving unit 340.

도어 블레이드부(322)는, 도어 몸체부(321)에 연결되며, 밸브 챔버(310)의 내벽에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 이동되어 기판 출입구(311)를 개폐한다. The door blade portion 322 is connected to the door body portion 321 and moves in a direction approaching and separating from the inner wall of the valve chamber 310 to open and close the substrate entrance 311.

블레이드 구동부(323)는, 밸브 도어 몸체부(321)에 마련되며, 도어 블레이드부(322)에 연결되어 도어 블레이드부(322)를 밸브 챔버(310)의 내벽에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 이동시킨다. 본 실시예에서 블레이드 구동부(323)는, 도어 블레이드부(322)를 가압하는 공압 실린더로 마련된다. The blade driving portion 323 is provided on the valve door body portion 321 and is connected to the door blade portion 322 to move the door blade portion 322 in a direction approaching and separating from the inner wall of the valve chamber 310 . In the present embodiment, the blade driving portion 323 is provided with a pneumatic cylinder which pressurizes the door blade portion 322.

이러한 밸브 도어(320)는, 도어 몸체부(321)가 기판 출입구(311)의 위치로 이동된 후 도어 블레이드부(322)가 밸브 챔버(310) 내벽에 밀착되어 기판 출입구(311)의 폐쇄한다. 기판 출입구(311)의 개방은 기판 출입구(311)의 폐쇄와 반대로 이루어진다.After the door body portion 321 is moved to the position of the substrate entrance 311, the door blade portion 322 is brought into close contact with the inner wall of the valve chamber 310 to close the substrate entrance 311 . The opening of the substrate entrance 311 is opposite to the closing of the substrate entrance 311.

한편, 수평 유지유닛(330)은, 밸브 도어(320)에 연결되며, 밸브 도어(320)의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어(320)의 수평을 유지시킨다.The horizontal holding unit 330 is connected to the valve door 320 and maintains the level of the valve door 320 when the valve door 320 is up / down.

이러한 수평 유지유닛(330)은, 상호 이격되어 배치되며, 밸브 도어(320)에 각각 결합되는 제1 및 제2 이동축(331,332)과, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 결합되어 제1 및 제2 이동축(331,332)을 연결하는 연결축(333)과, 연결축(333)에 연결되어 연결축(333)의 업/다운(up/down)을 가이드하는 가이드부(334)를 포함한다. The horizontal holding unit 330 includes first and second moving shafts 331 and 332 which are spaced apart from each other and are coupled to the valve door 320 and first and second moving shafts 331 and 332 which are coupled to the first and second moving shafts 331 and 332, A connecting shaft 333 connecting the first and second moving shafts 331 and 332 and a guide portion 334 connected to the connecting shaft 333 and guiding the up / down of the connecting shaft 333 .

제1 및 제2 이동축(331,332)은, 상호 이격되어 배치되며, 밸브 도어(320)에 각각 결합된다. 이러한 제1 및 제2 이동축(331,332)은 앞서 설명한 이러한 블레이드 구동부(323)와 연결되며, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 내부에는 블레이드 구동부(323)에 공압을 전달하는 공압 유로(미도시)가 형성된다. The first and second moving shafts 331 and 332 are spaced apart from each other and are respectively coupled to the valve door 320. The first and second moving shafts 331 and 332 are connected to the blade driving unit 323 as described above and the pneumatic flow path for transmitting the pneumatic pressure to the blade driving unit 323 is provided inside the first and second moving shafts 331 and 332 (Not shown).

또한 제1 및 제2 이동축(331,332)에는, 공압 유로(미도시)와 연결되는 에어 포트(air port, 미도시)가 마련된다. The first and second moving shafts 331 and 332 are provided with an air port (not shown) connected to a pneumatic flow path (not shown).

연결축(333)은, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 결합되어 제1 및 제2 이동축(331,332)을 연결한다. 이러한 연결축(333)은 막대 형상으로 마련되며, 가로 방향으로 배치되어 제1 및 제2 이동축(331,332)을 연결한다. The connection shaft 333 is coupled to the first and second movement shafts 331 and 332 to connect the first and second movement shafts 331 and 332. The connecting shaft 333 is provided in a bar shape and is arranged in the transverse direction to connect the first and second moving shafts 331 and 332.

가이드부(334)는 연결축(333)에 연결되어 연결축(333)의 업/다운(up/down)을 가이드한다. 본 실시예에서 가이드부(334)는, 연결축(333)의 중앙부에 연결되는 중앙부 연결형 가이드부(334)로 이루어진다.The guide portion 334 is connected to the connection shaft 333 to guide the connection shaft 333 up / down. In this embodiment, the guide portion 334 is composed of a guide portion 334 having a central connection portion connected to the central portion of the connection shaft 333.

이러한 중앙부 연결형 가이드부(334)는, 연결축(333)의 중앙부에 결합되는 제1 가이드 블록(335)과, 제1 가이드 블록(335)이 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 제1 가이드 레일(336)을 포함한다.The center connection type guide portion 334 includes a first guide block 335 coupled to the center of the connection shaft 333 and a first guide block 335 coupled to the first guide block 335 so as to be up / And a first guide rail 336.

제1 가이드 블록(335)은, 가로 방향으로 배치된 연결축(333)의 중앙부에 결합된다. The first guide block 335 is coupled to the central portion of the connection shaft 333 arranged in the transverse direction.

제1 가이드 레일(336)에는, 제1 가이드 블록(335)이 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 된다. 이러한 제1 가이드 레일(336)은 세로 방향으로 배치되어 제1 가이드 블록(335)의 업/다운(up/down)을 안내한다.The first guide rail 336 is coupled to the first guide block 335 such that it can be up / down. The first guide rail 336 is arranged in the longitudinal direction to guide up / down of the first guide block 335.

또한 중앙부 연결형 가이드부(334)는, 밸브 챔버(310)에 결합되며, 제1 가이드 레일(336)을 지지하는 제1 가이드 레일 지지대(337)를 더 포함한다.The center connection type guide portion 334 further includes a first guide rail support 337 coupled to the valve chamber 310 and supporting the first guide rail 336.

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시키는 제1 및 제2 이동축(331,332)이 연결축(333)에 의해 연결됨으로써, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down)을 동기화할 수 있다.The gate valve according to the present embodiment is configured such that the first and second moving shafts 331 and 332 for moving up and down the valve door 320 are connected by the connecting shaft 333, Up / down of the second movement axes 331 and 332 can be synchronized.

또한 연결축(333)에 결합된 제1 가이드 블록(335)이 제1 가이드 레일(336)을 따라 업/다운(up/down)됨으로써, 연결축(333)은 수평상태를 유지하며 업/다운(up/down)될 수 있다. The first guide block 335 coupled to the connection shaft 333 is up / down along the first guide rail 336 so that the connection shaft 333 maintains a horizontal state and the up / down (up / down).

결국, 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down) 높이를 동일하게 동기화할 수 있고, 그에 따라 제1 및 제2 이동축(331,332)에 결합된 밸브 도어(320)의 수평상태를 유지하며 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시킬 수 있다.As a result, the gate valve according to the present embodiment can equally synchronize the up / down heights of the first and second moving shafts 331 and 332, and accordingly the first and second moving shafts 331 and 332 The valve door 320 can be maintained in a horizontal state and the valve door 320 can be up / down.

한편, 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340)은, 수평 유지유닛(330)에 연결되며, 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시킨다.On the other hand, the door up / down driving unit 340 is connected to the horizontal holding unit 330 and causes the valve door 320 to be up / down.

이러한 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340)은, 상호 이격되어 배치되며, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 각각 연결되어 제1 및 제2 이동축(331,332)을 업/다운(up/down)시키는 제1 및 제2 이동축 구동부(341,342)를 포함한다. The door up / down driving unit 340 is disposed to be spaced apart from each other and connected to the first and second moving shafts 331 and 332 to move the first and second moving shafts 331 and 332 up / And the first and second moving axis drivers 341 and 342 down / up.

본 실시예에서 제1 및 제2 이동축 구동부(341,342)는, 제1 및 제2 이동축(331,332)을 가압하는 공압 실린더로 이루어진다. 이러한 제1 및 제2 이동축 구동부(341,342)는, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 가압을 위한 에어 포트(air port)가 마련된다.In this embodiment, the first and second moving shaft driving units 341 and 342 are composed of a pneumatic cylinder that presses the first and second moving shafts 331 and 332. The first and second moving shaft driving units 341 and 342 are provided with air ports for pressing the first and second moving shafts 331 and 332.

한편, 앞서 설명한 바와 같이 밸브 챔버(310)는, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 연결되며 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지하는 기밀 유지부(312)를 더 포함한다.As described above, the valve chamber 310 further includes a hermetic portion 312 connected to the first and second moving shafts 331 and 332 to maintain the hermeticity of the valve chamber 310.

이러한 기밀 유지부(312)는, 제1 및 제2 이동축(331,332) 각각에 연결되는 오링(O-ring, 313)을 포함한다. 이러한 오링(313)은 제1 및 제2 이동축(331,332)의 외주면에 밀착됨으로써, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down)되더라도 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지시킨다.The hermeticity holding portion 312 includes an O-ring 313 connected to the first and second moving shafts 331 and 332, respectively. The O-ring 313 is in close contact with the outer circumferential surfaces of the first and second moving shafts 331 and 332 so that the airtightness of the valve chamber 310 is maintained even when the first and second moving shafts 331 and 332 are up / .

한편, 트랜스퍼 챔버(210)는 기판(G)을 공정 챔버(100)로 반입 및 반출한다.이러한 트랜스퍼 챔버(210)는, 트랜스퍼 챔버(210)의 내부에 마련되어 기판(G)을 공정 챔버(100)로 반입하며 증착 공정이 수행된 기판(G)을 공정 챔버(100)에서 반출하는 기판 출입유닛(미도시)를 포함한다.The transfer chamber 210 transfers the substrate G into and out of the process chamber 100. The transfer chamber 210 is provided inside the transfer chamber 210 to transfer the substrate G to the process chamber 100 And a substrate inserting unit (not shown) for transferring the substrate G having been subjected to the deposition process from the process chamber 100.

한편 공정 챔버(100)는 기판(G)에 대한 증착 공정을 수행한다. 이러한 공정 챔버(100)는, 도 9에 도시된 바와 같이, 상부챔버(110)와 하부챔버(120)를 포함한다. 이러한 공정 챔버(100)는, 상부챔버(110)와 하부챔버(120)가 한 몸체를 이루어 내부에 증착공간(S)을 형성한다. Meanwhile, the process chamber 100 performs a deposition process for the substrate G. [ This process chamber 100 includes an upper chamber 110 and a lower chamber 120, as shown in FIG. In this process chamber 100, the upper chamber 110 and the lower chamber 120 form a body to form a deposition space S therein.

또한 공정 챔버(100)는, 증착 공정이 진행될 때는 증착공간(S)이 진공 분위기로 유지될 수 있도록, 증착공간(S)을 외부와 격리한다.In addition, the process chamber 100 isolates the deposition space S from the outside so that the deposition space S can be maintained in a vacuum atmosphere when the deposition process proceeds.

상부챔버(110)의 내부에는 횡 방향을 따라 전극(140)이 마련되어 있다. 전극(140)은, 하부챔버(120)를 향한 전면에 배치되는 가스분배판(145)과, 가스분배판(145)과의 버퍼공간(Y)을 사이에 두고 가스분배판(145)의 배후에 배치되는 후방플레이트(141)를 구비한다.Inside the upper chamber 110, an electrode 140 is provided along the lateral direction. The electrode 140 includes a gas distribution plate 145 disposed on a front surface facing the lower chamber 120, And a rear plate 141 disposed behind the gas distribution plate 145 with a buffer space Y between the gas distribution plate 145 therebetween.

가스분배판(145)에는, 공정 챔버(100) 내에 형성되는 증착공간(S)으로 증착 공정을 위한 플라즈마 상태의 가스(gas)를 분배하는 다수의 오리피스(미도시)가 그 두께방향을 따라 형성되어 있다.A plurality of orifices (not shown) for distributing a gas in a plasma state for a deposition process to a deposition space S formed in the process chamber 100 are formed along the thickness direction of the gas distribution plate 145 .

가스분배판(145)과 후방플레이트(141) 사이에는 현가지지부재(143)가 마련되어 있다. 현가지지부재(143)는 버퍼공간(Y) 내의 증착물질이 외부로 누출되지 않도록 버퍼공간(Y)을 차폐할 뿐만 아니라 가스분배판(145)을 후방플레이트(141)에 대해 현가 지지한다. 뿐만 아니라 현가지지부재(143)는 증착 공정 시 대략 200℃ 정도로 가열된 가스분배판(145)이 X축, Y축 및 Z축 방향 중 적어도 어느 한 방향으로 열팽창하는 것을 보상하는 역할도 겸한다.Between the gas distribution plate 145 and the rear plate 141, a present holding member 143 is provided. The current holding member 143 not only shields the buffer space Y so as to prevent the evaporation material in the buffer space Y from leaking out but also suspends the gas distribution plate 145 against the rear plate 141. [ In addition, the current holding member 143 also serves to compensate for the thermal expansion of the gas distribution plate 145 heated to about 200 ° C. in at least one of the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions during the deposition process.

후방플레이트(141)와 상부챔버(110) 사이에는 후방플레이트(141)가 상부챔버(110)의 외벽에 직접 접촉되어 통전되지 않도록 절연체(117)가 마련되어 있다. 절연체(117)는 테프론 등으로 제작될 수 있다. 후방플레이트(141)의 주변에는 상부챔버(110)에 대해 후방플레이트(141)를 지지하는 플레이트지지부(미도시)가 더 구비되어 있다.An insulator 117 is provided between the rear plate 141 and the upper chamber 110 so that the rear plate 141 is in direct contact with the outer wall of the upper chamber 110 and is not energized. The insulator 117 may be made of Teflon or the like. Around the rear plate 141, a plate support (not shown) for supporting the rear plate 141 with respect to the upper chamber 110 is further provided.

상부챔버(110)의 상단에는 상판부(113)가 마련되어 있는데, 상판부(113)는 상부챔버(110)의 상부를 덮는 역할을 할 뿐만 아니라 지지 플레이트(미도시)가 지지 및 결합되는 부분이 된다. An upper plate 113 is provided at an upper end of the upper chamber 110. The upper plate 113 serves to cover an upper portion of the upper chamber 110 and also supports and supports a support plate (not shown).

지지 플레이트(미도시)에는, 그 상부에 공정 가스(gas)를 공급시키기 위한 가스공급부(115)와, 상부챔버(110) 내에 결합되어 있는 후방플레이트(141)와 연결라인(11)에 의해 전기적으로 연결되어 있는 고주파 전원부(12)와, 가스공급부(115)와 가스유입관(미도시)이 연결되도록 가스공급부(115) 및 고주파 전원부(12) 사이에 마련되어 가스공급부(115)로부터 유입되는 공정 가스(gas)의 이동 경로가 되는 가스이동관(미도시)과, 가스이동관(미도시) 및 그 주변 영역을 차폐하는 차폐박스(미도시) 등이 장착되어 있다.The support plate (not shown) is provided with a gas supply part 115 for supplying a process gas to the upper part thereof, a rear plate 141 coupled to the upper chamber 110, A high frequency power supply unit 12 connected between the gas supply unit 115 and the high frequency power supply unit 12 so as to connect the gas supply unit 115 and the gas inflow pipe (not shown) A gas moving tube (not shown) serving as a moving path of gas, a shielding box (not shown) shielding a gas moving tube (not shown) and its peripheral area, and the like.

이러한 구성에 의해 가스공급부(115)로부터 공급되는 공정 가스(gas)는 가스유입관(미도시)을 통해 버퍼공간(Y)으로 공급될 수 있고, 후방플레이트(141)가 고주파 전원부(112)에 의해 공급되는 고주파 전력에 의해 전극을 띠게 됨으로써 버퍼공간(Y)으로 유입된 공정 가스(gas)를 플라즈마화 할 수 있다.With this configuration, the process gas supplied from the gas supply unit 115 can be supplied to the buffer space Y through the gas inlet pipe (not shown), and the rear plate 141 can be supplied to the high frequency power supply unit 112 So that the process gas introduced into the buffer space Y can be converted into plasma.

하부챔버(120)에 대해서 살펴보면, 하부챔버(120)는, 실질적으로 기판(G)에 대한 증착 공정이 진행되는 부분으로서, 전술한 증착공간(S)이 하부챔버(120) 내에 형성된다. Referring to the lower chamber 120, the lower chamber 120 is substantially the portion where the deposition process for the substrate G proceeds, and the above-described deposition space S is formed in the lower chamber 120.

도시하지는 않았지만, 하부챔버(120) 내의 바닥면 영역에는 증착공간(S)에 존재하는 공정 가스(gas)를 다시 증착공간(S)으로 확산시키는 가스확산판(미도시)이 마련되어 있다.Although not shown, a gas diffusion plate (not shown) for diffusing the process gas existing in the deposition space S into the deposition space S is provided in the bottom surface area of the lower chamber 120.

하부챔버(120) 내부에는 기판(G)이 로딩(Loading)되는 서셉터(130)가 마련된다.In the lower chamber 120, a susceptor 130 is mounted on which the substrate G is loaded.

서셉터(130)는 하부챔버(120) 내의 증착공간(S)에서 횡 방향으로 배치되어 로딩(loading)되는 기판(G)을 지지한다. 보통은 증착 대상물인 기판(G)의 면적보다 큰 구조물로 형성되며, 서셉터(130)의 상면은 기판(G)이 정밀하게 수평 상태로 로딩될 수 있도록 거의 정반(Surface plate)으로 제조된다.The susceptor 130 supports the substrate G which is laterally disposed in the deposition space S in the lower chamber 120 to be loaded. The upper surface of the susceptor 130 is formed as a surface plate so that the substrate G can be accurately loaded in a horizontal state.

서셉터(130)의 상면으로 기판(G)이 얹혀지면서 로딩되거나 취출되기 위해 서셉터(130)에는 로딩되거나 취출되는 기판(G)의 하면을 안정적으로 지지하는 복수의 리프트 핀(131, Lift Pin)이 더 구비되어 있다. 리프트 핀(131)들은 서셉터(130)를 관통하도록 서셉터(130)에 설치되어 있다.A lift pin 131 for stably supporting the lower surface of the substrate G loaded or unloaded from the susceptor 130 for loading or unloading the substrate G on the upper surface of the susceptor 130, ). The lift pins 131 are provided on the susceptor 130 so as to penetrate the susceptor 130.

이러한 리프트 핀(131)들은 서셉터(130)가 하강할 때, 그 하단이 하부챔버(120)의 바닥면에 가압되어 상단이 서셉터(130)의 상단으로 돌출된다. 리프트 핀(131)의 돌출된 상단은 기판(G)을 상부로 들어올리게 되고 따라서 기판(G)은 서셉터(130)로부터 이격되게 된다.When the susceptor 130 is lowered, the lower ends of the lift pins 131 are pressed against the bottom surface of the lower chamber 120, and the upper ends of the lift pins 131 protrude to the upper end of the susceptor 130. The protruded upper end of the lift pin 131 lifts the substrate G upward and thus the substrate G is separated from the susceptor 130. [

반대로, 서셉터(130)가 부상하면, 리프트 핀(131)이 서셉터(130)의 상면에 대해 하방으로 이동하여 기판(G)이 서셉터(130)의 상면에 밀착된다. 즉, 리프트 핀(131)들은 후술할 엔드 이펙터(210)가 서셉터(130)에 로딩된 기판(G)을 지지할 수 있도록 기판(G)과 서셉터(130) 사이의 공간을 형성하는 역할을 겸한다. Conversely, when the susceptor 130 floats, the lift pin 131 moves downward with respect to the upper surface of the susceptor 130, and the substrate G is brought into close contact with the upper surface of the susceptor 130. That is, the lift pins 131 form a space between the substrate G and the susceptor 130 so that the end effector 210, which will be described later, can support the substrate G loaded on the susceptor 130 As well.

이러한 서셉터(130)에는, 그 상단이 서셉터(130)의 배면 중앙 영역에 고정되고 하단이 하부챔버(120)를 통해 하방으로 노출되어 서셉터(130)를 승강 가능하게 지지하는 컬럼(132)이 더 결합되어 있다. The upper end of the susceptor 130 is fixed to the center region of the rear surface of the susceptor 130 and the lower end of the susceptor 130 is exposed downward through the lower chamber 120 to support the susceptor 130 in a column 132 ).

한편, 서셉터(130)는 무겁고 사이즈가 크게 되면 이에 의하여 처짐 등이 발생될 수 있는데, 이는 서셉터(130)의 상면에 로딩되는 기판(G)의 처짐 등으로 연계될 수 있다. 이에 본 실시예에서는, 도 3에 도시된 바와 같이, 컬럼(132)의 상부 영역에는 서셉터 지지부(133)가 마련되어 서셉터(130)를 안정적으로 떠받치고 있다. 그러나 본 발명의 권리범위는 이에 제한되지 않으며 서셉터(130)에 처짐이 없는 경우라면 서셉터 지지부(133)는 생략될 수 있다.If the susceptor 130 is heavy and has a large size, deflection or the like may be generated. This may be caused by deflection of the substrate G loaded on the upper surface of the susceptor 130, and the like. In this embodiment, as shown in FIG. 3, a susceptor supporting portion 133 is provided in an upper region of the column 132 to stably support the susceptor 130. However, the scope of the present invention is not limited thereto, and the susceptor support portion 133 may be omitted if the susceptor 130 is not deflected.

서셉터(130)는 하부챔버(120) 내의 증착공간(S)에서 상하로 승강한다. 즉, 기판(G)이 로딩될 때는 하부챔버(120) 내의 바닥면 영역에 배치되어 있다가 기판(G)이 서셉터(130)의 상면에 밀착되고 증착 공정이 진행될 때에는 기판(G)이 가스분배판(145)에 인접할 수 있도록 부상한다. 이를 위해, 서셉터(130)에 결합된 컬럼(132)에는 서셉터(130)를 승강시키는 승강 모듈(150)이 더 마련되어 있다.The susceptor 130 vertically moves up and down in the deposition space S in the lower chamber 120. That is, when the substrate G is loaded, the substrate G is disposed on the bottom surface area in the lower chamber 120, and when the substrate G is in close contact with the upper surface of the susceptor 130 and the deposition process is proceeded, And floats so as to be adjacent to the distribution plate 145. To this end, a column 132 coupled to the susceptor 130 is further provided with a lift module 150 for moving the susceptor 130 up and down.

승강 모듈(150)에 의해 서셉터(130)가 승강하는 과정에서 컬럼(132)과 하부챔버(120) 사이에 공간이 발생되면 않아야 한다. 따라서 컬럼(132)이 통과하는 하부챔버(120)의 해당 영역에는, 컬럼(132)의 외부를 감싸도록 벨로우즈관(151)이 마련되어 있다. 벨로우즈관(151)은 서셉터(130)가 하강할 때 팽창되고, 서셉터(130)가 부상할 때 압착된다.A space may not be generated between the column 132 and the lower chamber 120 during the lifting and lowering of the susceptor 130 by the lifting and lowering module 150. The bellows tube 151 is provided in the corresponding region of the lower chamber 120 through which the column 132 passes so as to surround the outside of the column 132. [ The bellows pipe 151 expands when the susceptor 130 descends, and is squeezed when the susceptor 130 floats.

하부챔버(120)의 측벽에 게이트 슬릿(121)이 마련되며, 게이트 밸브(160)에 의해 게이트 슬릿(121)이 개폐된다.A gate slit 121 is provided on a side wall of the lower chamber 120 and a gate slit 121 is opened and closed by a gate valve 160.

이하에서 본 실시예에 따른 게이트 밸브의 작동을 도 2 내지 도 9에 따라 설명한다.Hereinafter, the operation of the gate valve according to this embodiment will be described with reference to Figs. 2 to 9. Fig.

먼저 기판 출입구(311)의 폐쇄 시 제1 및 제2 이동축 구동부(341,342)가 제1 및 제2 이동축(331,332)을 상승시킨다. 제1 및 제2 이동축(331,332)에 연결된 연결축(333)도 제1 및 제2 이동축(331,332)을 따라 상승한다.First, the first and second moving shaft driving units 341 and 342 raise the first and second moving shafts 331 and 332 when the substrate inlet / outlet 311 is closed. The connecting shaft 333 connected to the first and second moving shafts 331 and 332 also moves along the first and second moving shafts 331 and 332.

즉, 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시키는 제1 및 제2 이동축(331,332)이 연결축(333)에 의해 연결됨으로써, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 상승은 동기화된다.That is, the first and second moving shafts 331 and 332 for moving up and down the valve door 320 are connected by the connecting shaft 333, so that the first and second moving shafts 331 and 332 Are synchronized.

또한 연결축(333)의 상승은 중앙부 연결형 가이드부(334)에 의해 안내된다. 즉 연결축(333)에 결합된 제1 가이드 블록(335)이 제1 가이드 레일(336)을 따라 상승됨으로써, 연결축(333)은 수평상태를 이루며 상승될 수 있다. And the elevation of the connecting shaft 333 is guided by the center connecting type guide portion 334. That is, the first guide block 335 coupled to the connection shaft 333 is lifted along the first guide rail 336, so that the connection shaft 333 can be raised in a horizontal state.

결국, 제1 및 제2 이동축 구동부(341,342)를 소프트웨어적으로 동기화시키지 않더라도, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 연결된 연결축(333)은 수평상태를 유지한다. 이렇게 수평상태를 유지하는 연결축(333)에 의해 제1 및 제2 이동축(331,332)은 동일한 높이로 상승하고, 그에 따라 제1 및 제2 이동축(331,332)에 결합된 밸브 도어(320)도 수평상태를 유지하며 상승한다. As a result, the connecting shaft 333 connected to the first and second moving shafts 331 and 332 remains in a horizontal state even if the first and second moving shaft driving units 341 and 342 are not synchronized with software. The first and second moving shafts 331 and 332 move up to the same height by the connecting shaft 333 maintaining the horizontal state and the valve door 320 coupled to the first and second moving shafts 331 and 332, While maintaining a horizontal state.

밸브 도어(320)가 기판 출입구(311)의 위치로 상승된 후 도어 블레이드부(322)가 밸브 챔버(310) 내벽을 향하여 전진하고, 도어 블레이드부(322)가 밸브 챔버(310) 내벽에 밀착됨으로써 기판 출입구(311)가 폐쇄된다. The door blade portion 322 is advanced toward the inner wall of the valve chamber 310 after the valve door 320 is raised to the position of the substrate entrance 311 and the door blade portion 322 is brought into close contact with the inner wall of the valve chamber 310 The substrate entry / exit port 311 is closed.

기판 출입구(311)의 개방은, 상술한 기판 출입구(311)의 폐쇄와 반대로 진행되므로 자세한 설명은 생략한다.The opening of the substrate entry / exit port 311 is opposite to the closing of the substrate entry / exit port 311 described above, so that detailed description is omitted.

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 수평 유지유닛(330)이 밸브 도어(320)에 연결되어 밸브 도어(320)의 업/다운(up/down) 시 밸브 도어(320)의 수평을 유지함으로써, 밸브 도어(320)의 업/다운(up/down)과정에서 밸브 도어(320)의 손상을 방지하고 밸브 챔버(310)에서의 리크(leak) 발생을 억제할 수 있다.The gate valve according to the present embodiment is configured such that the horizontal holding unit 330 is connected to the valve door 320 to maintain the level of the valve door 320 when the valve door 320 is up / It is possible to prevent the valve door 320 from being damaged during the up / down process of the valve door 320 and to prevent leakage in the valve chamber 310.

도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이다. 10 is a perspective view showing a gate valve according to a second embodiment of the present invention.

본 실시예는 제1 실시예와 비교할 때에 중앙부 연결형 가이드부(334a)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 2 내지 도 9의 제1 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 중앙부 연결형 가이드부(334a)의 구성을 위주로 설명하기로 한다. The present embodiment differs from the first embodiment only in the configuration of the center connecting type guide portion 334a. In other respects, the configuration is the same as that of the first embodiment of Figs. 2 to 9, The structure of the example center connection type guide portion 334a will be mainly described.

본 실시예에 따른 중앙부 연결형 가이드부(334a)는, 연결축(333)의 중앙부에 결합되는 볼 부쉬(338)와, 볼 부쉬(338)가 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 가이드 샤프트(339)를 포함한다.The center connection type guide portion 334a according to the present embodiment includes a ball bush 338 coupled to the center of the connection shaft 333 and a ball bush 338 coupled to the ball bush 338 so as to be up / And a guide shaft 339.

볼 부쉬(338)는 연결축(333)의 중앙부에 결합된다. 이러한 볼 부쉬(338)에는 가이드 샤프트(339)가 관통되는 관통구가 형성되며, 관통구의 내벽에는 복수의 볼(ball) 회전체(미도시)가 회전가능하게 결합된다.The ball bush 338 is coupled to the central portion of the connecting shaft 333. The ball bush 338 is formed with a through-hole through which the guide shaft 339 passes, and a plurality of ball rotors (not shown) are rotatably coupled to the inner wall of the through-hole.

가이드 샤프트(339)는, 볼 부쉬(338)가 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 된다. 이러한 가이드 샤프트(339)는 밸브 챔버(310)에 결합되어 지지된다.The guide shaft 339 is coupled such that the ball bush 338 can be up / down. The guide shaft 339 is coupled to and supported by the valve chamber 310.

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 연결축(333)에 결합된 볼 부쉬(338)가 가이드 샤프트(339)를 따라 업/다운(up/down)됨으로써, 연결축(333)은 수평상태를 유지하며 업/다운(up/down)될 수 있다. As described above, in the gate valve according to the present embodiment, the ball bush 338 coupled to the connection shaft 333 is up / down along the guide shaft 339 so that the connection shaft 333 is in a horizontal state And can be up / down.

도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이고, 도 12는 도 11의 정면도이며, 도 13은 도 11의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이다.FIG. 11 is a perspective view illustrating a gate valve according to a third embodiment of the present invention, FIG. 12 is a front view of FIG. 11, and FIG. 13 is a view illustrating a state in which the substrate inlet of FIG. 11 is closed.

본 실시예는 제1 실시예와 비교할 때에 가이드부(334b)과 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340b)에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 2 내지 도 9의 제1 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 가이드부(334b)와, 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340b)의 구성을 위주로 설명하기로 한다. The present embodiment differs from the first embodiment only in that the guide portion 334b differs from the door up / down drive unit 340b, and in the other configurations, The configuration of the guide portion 334b and the door up / down drive unit 340b of the present embodiment will be mainly described below.

본 실시예에 따른 가이드부(334b)는, 연결축(333)의 말단부에 각각 연결되는 한 쌍의 말단부 연결형 가이드부(334b)로 이루어진다.The guide portion 334b according to the present embodiment includes a pair of distal-end coupling-type guide portions 334b connected to the distal end portions of the connecting shaft 333.

이러한 말단부 연결형 가이드부(334b)는, 연결축(333)의 말단부에 연결되는 제2 가이드 블록(335b)과, 제2 가이드 블록(335b)이 업/다운(up/down) 가능하게 결합되는 되는 제2 가이드 레일(336b)을 포함한다.The end connection type guide portion 334b includes a second guide block 335b connected to the distal end of the connection shaft 333 and a second guide block 335b connected to the distal end of the connection shaft 333 such that the second guide block 335b can be up / And a second guide rail 336b.

제2 가이드 블록(335b)은, 연결축(333)의 말단부에 연결되며, 제2 가이드 레일(336b)에 업/다운(up/down) 가능하게 결합된다. The second guide block 335b is connected to the distal end of the connection shaft 333 and coupled to the second guide rail 336b so as to be able to be up / down.

또한, 말단부 연결형 가이드부(334b)는, 밸브 챔버(310)에 결합되며, 제2 가이드 레일(336b)을 지지하는 제2 가이드 레일 지지대(337b)를 더 포함한다.The distal connecting guide portion 334b further includes a second guide rail support 337b coupled to the valve chamber 310 and supporting the second guide rail 336b.

또한 연결축(333)의 말단부에 연결된 제2 가이드 블록(335b)이 제2 가이드 레일(336b)을 따라 업/다운(up/down)됨으로써, 연결축(333)은 수평상태를 유지하며 업/다운(up/down)될 수 있다. The second guide block 335b connected to the distal end of the connection shaft 333 is up / down along the second guide rail 336b so that the connection shaft 333 maintains the horizontal state, (Up / down).

한편 본 실시예에 따른 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340b)은, 연결축(333)에 결합되며, 연결축(333)를 업/다운(up/down)시키는 연결축 업/다운(up/down) 구동부(343)를 포함한다. 이러한 연결축 업/다운(up/down) 구동부(343)는, 연결축(333)의 중앙부에 결합된다.Meanwhile, the door up / down driving unit 340b according to the present embodiment includes a connection axis up / down driving unit 340b coupled to the connection axis 333 and for up / down the connection axis 333, And an up / down driving unit 343. The connection axis up / down driver 343 is coupled to the central portion of the connection axis 333.

본 실시예에서 연결축 업/다운(up/down) 구동부(343)는, 가압 로드(344)가 연결축(333)에 결합되는 가압 실린더(343)가 사용될 수 있다.The connecting shaft up / down driving unit 343 may be a pressing cylinder 343 in which the pressing rod 344 is coupled to the connecting shaft 333 in this embodiment.

또한 본 실시예에 따른 도어 업/다운(up/down) 구동유닛(340b)은, 밸브 챔버(310)에 결합되며, 연결축 업/다운(up/down) 구동부(343)을 지지하는 구동부지지대(345)를 더 포함한다.The door up / down driving unit 340b according to the present embodiment is coupled to the valve chamber 310 and includes a driving part support 340 supporting the connecting shaft up / down driving part 343, (345).

한편, 밸브 챔버(310)는, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 연결되며, 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지하는 기밀 유지부(312)를 더 포함한다.The valve chamber 310 further includes a hermetic portion 312 which is connected to the first and second moving shafts 331 and 332 and maintains the hermeticity of the valve chamber 310.

이러한 기밀 유지부(312)는, 제1 및 제2 이동축(331,332)각각에 연결되는 오링(O-ring,미도시)을 포함한다. 이러한 오링(미도시)은 제1 및 제2 이동축(331,332)의 외주면에 밀착됨으로써, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down)되더라도 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지시킨다.The hermeticity holding portion 312 includes an O-ring (not shown) connected to the first and second moving shafts 331 and 332, respectively. The O-rings (not shown) are in close contact with the outer circumferential surfaces of the first and second moving shafts 331 and 332 so that even if the first and second moving shafts 331 and 332 are up / down, .

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 제1 및 제2 이동축(331,332)에 연결된 연결축(333)을 연결축 업/다운(up/down) 구동부(343)를 통해 업/다운(up/down)시킴으로써 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down)을 동기화할 수 있으며, 연결축(333)의 말단부에 연결되어 제2 가이드 레일(336b)을 따라 업/다운(up/down)되는 제2 가이드 블록(335b)을 통해 연결축(333)의 수평상태를 유지할 수 있다.The gate valve according to the present embodiment is configured such that the connecting shaft 333 connected to the first and second moving shafts 331 and 332 is connected to the connecting shaft up / down movement of the first and second moving shafts 331 and 332 can be synchronized with the up / down movement of the first and second moving shafts 331 and 332, The horizontal state of the connection shaft 333 can be maintained through the second guide block 335b which is up / down.

결국, 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 수평상태를 유지하는 연결축(333)에 의해 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down) 높이를 동일하게 동기화할 수 있고, 그에 따라 제1 및 제2 이동축(331,332)에 결합된 밸브 도어(320)의 수평상태를 유지하며 밸브 도어(320)를 업/다운(up/down)시킬 수 있다.As a result, the gate valve according to the present embodiment can synchronize the up / down heights of the first and second moving shafts 331 and 332 equally by the connecting shaft 333 maintaining the horizontal state So that the valve door 320 coupled to the first and second moving shafts 331 and 332 can be maintained in a horizontal state and the valve door 320 can be up / down.

도 14는 본 발명의 제4 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 도면이다.14 is a view showing a gate valve according to a fourth embodiment of the present invention.

본 실시예는 제3 실시예와 비교할 때에 기밀 유지부(312c)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 11 내지 도 13의 제3 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 기밀 유지부(312c)의 구성을 위주로 설명하기로 한다. The present embodiment differs from the third embodiment only in the configuration of the hermeticity retaining portion 312c. In other respects, the configuration of the third embodiment is the same as that of the third embodiment of Figs. 11 to 13, The configuration of the confidential holding unit 312c will be mainly described.

본 실시예에 따른 기밀 유지부(312c)는, 제1 및 제2 이동축(331,332) 각각에 결합되는 벨로우즈(bellows, 314)를 포함한다.The hermeticity holding portion 312c according to the present embodiment includes bellows 314 coupled to the first and second moving shafts 331 and 332, respectively.

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 제1 및 제2 이동축(331,332)각각에 결합되는 벨로우즈(314)를 포함함으로써, 제1 및 제2 이동축(331,332)의 업/다운(up/down)되더라도 밸브 챔버(310)의 기밀을 유지시킨다.The gate valve according to the present embodiment includes the bellows 314 coupled to the first and second moving shafts 331 and 332 so that the up and down movement of the first and second moving shafts 331 and 332, down to maintain the airtightness of the valve chamber 310.

도 15는 본 발명의 제5 실시예에 따른 게이트 밸브가 도시된 사시도이고, 도 16은 도 15의 정면도이며, 도 17은 도 15의 'A' 부분의 확대도이고, 도 18 도 15의 기판 출입구가 폐쇄된 상태가 도시된 도면이다.15 is a perspective view of a gate valve according to a fifth embodiment of the present invention, FIG. 16 is a front view of FIG. 15, FIG. 17 is an enlarged view of a portion 'A' And the door is closed.

본 실시예는 제3 실시예와 비교할 때에 수평 유지 유닛(330d)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 11 내지 도 13의 제3 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 수평 유지 유닛(330d)의 구성을 위주로 설명하기로 한다. The present embodiment differs from the third embodiment only in the configuration of the horizontal holding unit 330d. In other respects, the configuration of the third embodiment is the same as that of the third embodiment shown in Figs. 11 to 13, The configuration of the horizontal holding unit 330d will be mainly described.

본 실시예에 따른 수평 유지 유닛(330d)은, 한 쌍의 말단부 연결형 가이드부(334b) 중 적어도 어느 하나에 연결되며, 연결축(333)의 열팽창 시 연결축(333)의 수평방향에 대한 신장을 가이드하는 열팽창 가이드부(350)를 더 포함한다.The horizontal holding unit 330d according to the present embodiment is connected to at least one of the pair of distal-end connecting guide portions 334b and extends in the horizontal direction of the connecting shaft 333 in thermal expansion of the connecting shaft 333 And a thermal expansion guide part 350 for guiding the thermal expansion guide part 350.

이러한 열팽창 가이드부(350)는, 연결축(333)에 결합되는 제3 가이드 블록(351)과, 제2 가이드 블록(335b)과 결합되며, 제3 가이드 블록(351)이 이동 가능하게 결합되는 제3 가이드 레일(352)을 구비하는 연결축 신장 가이드부재(353)를 포함한다.The thermal expansion guide unit 350 includes a third guide block 351 coupled to the connection shaft 333 and a second guide block 335b coupled to the third guide block 351 And a connection shaft extension guide member 353 having a third guide rail 352.

이러한 연결축 신장 가이드부재(353)는, 제2 가이드 블록(335b)이 결합되는 세로 몸체(354)와, 세로 몸체(354)에서 연장되며, 제3 가이드 레일(352)이 결합되는 가로 몸체(355)를 포함한다.The connection shaft extension guide member 353 includes a vertical body 354 to which the second guide block 335b is coupled and a horizontal body 354 extending from the vertical body 354 and coupled to the third guide rail 352, 355).

이러한, 세로 몸체(354)는 연결축(333)의 열팽창 시 연결축(333)의 말단부에 접촉되지 않도록 연결축(333)의 말단부에서 이격되어 배치된다.The vertical body 354 is disposed apart from the distal end of the connection shaft 333 so as not to contact the distal end of the connection shaft 333 when thermal expansion of the connection shaft 333 occurs.

이와 같이 본 실시예에 따른 게이트 밸브는, 연결축(333)의 수평방향에 대한 신장을 가이드하는 열팽창 가이드부(350)를 포함함으로써, 연결축(333)이 고온(공정 챔버(100)에서 전달되는 열에 의해)에 의해 열팽창되더라도, 연결축(333)의 수평상태를 유지시킬 수 있다. The gate valve according to the present embodiment includes the thermal expansion guide portion 350 for guiding the extension of the connection shaft 333 in the horizontal direction so that the connection shaft 333 is communicated at a high temperature (in the process chamber 100) The connecting shaft 333 can be maintained in a horizontal state.

이상 도면을 참조하여 본 실시예에 대해 상세히 설명하였지만 본 실시예의 권리범위가 전술한 도면 및 설명에 국한되지는 않는다.Although the present invention has been described in detail with reference to the above drawings, the scope of the scope of the present invention is not limited to the above-described drawings and description.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100: 공정 챔버 210: 트랜스퍼 챔버
121, 221: 게이트 슬릿 310: 밸브 챔버
311: 기판 출입구 312,312c: 기밀 유지부
313: 오링 314: 벨로우즈
320: 밸브 도어 321: 도어 몸체부
322: 도어 블레이드부 323: 블레이드 구동부
330, 330d: 수평 유지유닛 331: 제1 이동축
332: 제2 이동축 333: 연결축
334, 334a: 중앙부 연결형 가이드부
334b: 말단부 연결형 가이드부
335: 제1 가이드 블록 335b: 제2 가이드 블록
336: 제1 가이드 레일 336b: 제2 가이드 레일
337: 제1 가이드 레일 지지대 337b: 제2 가이드 레일 지지대
338: 볼 부쉬 339: 가이드 샤프트
340,340b: 도어 업/다운(up/down) 구동유닛
341: 제1 이동축 구동부 342: 제2 이동축 구동부
343: 연결축 업/다운(up/down) 구동부
344: 가압 로드 345: 구동부지지대
350: 열팽창 가이드부 351: 제3 가이드 블록
352: 제3 가이드 레일 353: 연결축 신장 가이드부재
354: 세로 몸체 355: 가로 몸체
G: 기판100: process chamber 210: transfer chamber
121, 221: gate slit 310: valve chamber
311: substrate entrance port 312, 312c:
313: O-ring 314: Bellows
320: valve door 321: door body part
322: door blade part 323: blade driving part
330, 330d: Horizontal holding unit 331:
332: second moving shaft 333: connecting shaft
334, 334a: a central connecting type guide portion
334b:
335: first guide block 335b: second guide block
336: first guide rail 336b: second guide rail
337: first guide rail support member 337b: second guide rail support member
338: Ball Bushing 339: Guide Shaft
340, 340b: door up / down driving unit
341: first moving axis driving unit 342: second moving axis driving unit
343: Connection axis up / down driver
344: pressing rod 345: driving part support
350: thermal expansion guide portion 351: third guide block
352: third guide rail 353: connecting shaft extension guide member
354: vertical body 355: horizontal body
G: substrate

Claims

A valve chamber disposed adjacent to the gate slit formed in the vacuum chamber and having a substrate entry port through which the substrate can enter and exit;
A valve door which is provided in the valve chamber so as to be able to be up / down, and opens and closes the substrate entrance;
A horizontal holding unit connected to the valve door and maintaining the level of the valve door when the valve door is up / down; And
And a door up / down driving unit connected to the horizontal holding unit to up / down the valve door,
The horizontal holding unit includes:
First and second moving shafts spaced apart from each other and coupled to the valve doors, respectively;
A connecting shaft coupled to the first and second moving shafts to connect the first and second moving shafts; And
And a guide portion connected to the connection shaft and guiding up / down of the connection shaft.

delete

The method according to claim 1,
The guide portion
And a central connecting guide portion connected to a central portion of the connecting shaft.

The method of claim 3,
The center connection type guide unit includes:
A first guide block coupled to a central portion of the connection shaft; And
And a first guide rail to which the first guide block is coupled so as to be able to be up / down.

5. The method of claim 4,
The center connection type guide unit includes:
And a first guide rail support coupled to the valve chamber and supporting the first guide rail.

5. The method of claim 4,
The center connection type guide unit includes:
A ball bush coupled to a central portion of the connection shaft; And
Wherein the ball bushing is coupled such that it can be up / down.

The method according to claim 6,
Wherein the guide shaft includes:
Wherein the valve body is coupled to the valve chamber.

The method of claim 3,
The door up / down driving unit includes:
And a first and a second moving shaft driver connected to the first and second moving shafts to up / down the first and second moving shafts, respectively.

The method according to claim 1,
The guide portion
And a pair of distal-end-coupling-type guide portions connected to distal ends of the connecting shafts.

10. The method of claim 9,
The distal-end connecting guide portion
A second guide block connected to a distal end of the connection shaft; And
And a second guide rail to which the second guide block is coupled so as to be able to be up / down.

11. The method of claim 10,
The distal-end connecting guide portion
And a second guide rail support coupled to the valve chamber and supporting the second guide rail.

11. The method of claim 10,
The horizontal holding unit includes:
And a thermal expansion guide part connected to at least one of the pair of end connection type guide parts and guiding the extension of the connection shaft in the horizontal direction when the connection shaft is thermally expanded.

13. The method of claim 12,
The thermal expansion guide portion
A third guide block coupled to the connection shaft; And
And a third guide rail coupled to the second guide block and to which the third guide block is movably coupled.

14. The method of claim 13,
Wherein the connection shaft extension guide member
A vertical body to which the second guide block is coupled; And
And a lateral body extending from the vertical body and coupled with the third guide rail.

10. The method of claim 9,
The door up / down driving unit includes:
And a connection axis up / down driving unit coupled to the connection axis for up / down the connection axis.

The method according to claim 1,
Wherein the valve chamber comprises:
And a hermetic portion connected to the first and second moving shafts, the hermetic holder retaining the airtightness of the valve chamber.

17. The method of claim 16,
The hermetic-
And an O-ring connected to each of the first and second moving shafts.

17. The method of claim 16,
The hermetic-
And bellows coupled to each of the first and second movement axes.

The method according to claim 1,
The valve door includes:
A door body portion to which the horizontal holding unit is connected;
A door blade part connected to the door body part and moved in a direction to approach and separate from the inner wall of the valve chamber to open and close the substrate doorway; And
And a blade driving part provided on the door body part to drive the door blade part.