KR101446942B1 - 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법 - Google Patents
에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치는 에스에스디용 케이스가 안착되는 안착대; 상기 에스에스디용 케이스에 설정되는 다수의 측정포인트에 대응되도록 상호 이격되도록 마련되고, 상기 안착대의 상향에 위치하여 각 측정포인트의 평탄도값을 측정하도록 각 측정포인트와 접촉하게 이동하는 다수의 프로브; 상기 안착대의 상향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 하향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제1보정유닛; 상기 안착대에 안착된 에스에스디용 케이스의 하향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 상향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제2보정유닛; 및, 상기 프로브로부터 각 측정포인트의 평탄도값을 전달받아 상기 에스에스디용 케이스의 평탄도를 측정하며, 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 있는 경우, 상기 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 상기 평탄도 기준범위를 만족하도록 상기 제1보정유닛 또는 상기 제2보정유닛 중 적어도 어느 하나를 제어하는 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 에스에스디용 케이스의 공정 중 발생하는 뒤틀림을 보정할 수 있고, 보정대상인 에스에스디용 케이스에 가상의 측정포인트를 설정하고, 각 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위를 벗어나면 해당 측정포인트의 상면과 저면을 가압하여 해당 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위에 적합하도록 할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법이 제공된다.
Description
본 발명은 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 에스에스디용 케이스의 평탄도를 측정하여 평탄도 기준범위를 만족하도록 보정할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법에 관한 것이다.
일반적으로 에스에스디(SSD:Solid State Drive)는 종래 하드디스크 타입의 휘발성 메모리를 소형 고집적된 반도체 칩의 형태로 변환한 것으로서, 메모리의 소형화 및 경량화를 가능하게 하였다.
상기 에스에스디는 기판 상에 탑재된 상태로 소정의 케이스의 내부에 설치되어 소비자에게 제공된다.
그런데, 케이스는 상호 결합되는 두 개의 패널을 포함하며, 각각의 패널의 테두리에는 상호 결합을 위한 리브가 형성되어 있다.
각 패널은 통상적으로 알루미늄 등의 재질로 형성되어 단조 등의 방법으로 가공되므로, 생산공정 중에 외력 또는 작업환경에 의해 패널이 뒤틀리는 휨 현상이 발생하여 불량률이 높아지는 문제점이 있었다.
따라서, 상기 휨 현상을 억제하기 위해, 케이스 제조시 수치제어를 정밀하게 하거나, 기판을 설치하는 공정에서 휨 현상이 발생하는 것을 방지하기 위한 다수의 장치 등을 구비하고 있다.
그러나, 수치제어를 정밀하게 하거나 휨 현상 발생 방지수단을 구비하였음에도 불구하고, 생산 후 기판을 설치하기 위한 공정을 위해 사용할 때 적치된 환경 및 작업환경에 따라 뒤틀려 있는 상태로 제공되는 경우가 매우 빈번하게 발생하는 문제점이 있었다.
본 발명의 과제는 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 에스에스디용 케이스의 공정 중 발생하는 전면 또는 후면의 휨을 보정할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법을 제공함에 있다.
또한, 보정대상인 에스에스디용 케이스에 가상의 측정포인트를 설정하고, 각 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위를 벗어나면 해당 측정포인트의 상면과 저면을 가압하여 해당 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위에 적합하도록 할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법을 제공함에 있다.
상기 과제는, 본 발명에 따라, 에스에스디용 케이스가 안착되는 안착대; 상기 에스에스디용 케이스에 설정되는 다수의 측정포인트에 대응되도록 상호 이격되도록 마련되고, 상기 안착대의 상향에 위치하여 각 측정포인트의 평탄도값을 측정하도록 각 측정포인트와 접촉하게 이동하는 다수의 프로브; 상기 안착대의 상향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 하향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제1보정유닛; 상기 안착대에 안착된 에스에스디용 케이스의 하향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 상향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제2보정유닛; 및, 상기 프로브로부터 각 측정포인트의 평탄도값을 전달받아 상기 에스에스디용 케이스의 평탄도를 측정하며, 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 있는 경우, 상기 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 상기 평탄도 기준범위를 만족하도록 상기 제1보정유닛 또는 상기 제2보정유닛 중 적어도 어느 하나를 제어하는 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치에 의해 달성될 수 있다.
여기서, 상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛 중 어느 하나는 단일 측정포인트를 가압프레싱하도록 형성되며, 다른 하나는 단일 측정포인트와 그 인접영역을 포함하여 가압프레싱하도록 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 인접영역은 어느 하나의 측정포인트와 인접한 측정포인트를 포함하는 영역인 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛은 상기 에스에스디용 케이스의 테두리의 내측에 위치하는 측정포인트를 가압프레싱하도록 제어되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 프로브와 상기 제1보정유닛이 설치되는 이동본체를 더 포함하며, 상기 이동본체는 좌우방향 및 상하방향으로 이동가능하도록 설치되며, 상기 안착대는 전후방향으로 이동가능하도록 설치되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치를 이용한 보정방법은, 에스에스디용 케이스를 안착대에 안착시키는 안착단계; 상기 에스에스디용 케이스에 평탄도 측정을 위한 다수의 측정포인트를 설정하고, 상향에 위치하는 다수의 프로브를 상기 측정포인트에 접촉하도록 이동시켜 각 측정포인트의 평탄도값을 측정하는 평탄도 측정단계; 각 측정포인트 중 평탄도값이 설정된 평탄도 기준범위를 만족하는지 여부를 검사하는 평탄도 검사단계; 각 측정포인트 중 평탄도값이 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는 돌출포인트가 존재하는 경우, 상기 에스에스디용 케이스의 상향에 위치하는 제1보정유닛 또는 상기 에스에스디용 케이스의 하향에 위치하는 제2보정유닛 중 적어도 어느 하나를 상기 돌출포인트를 가압프레싱하도록 이동시켜 상기 평탄도 기준범위를 만족되도록 하는 보정단계;를 포함하여, 상기 보정단계 이후에 상기 평탄도 측정단계 및 상기 평탄도 검사단계를 실행하여, 각 측정포인트가 상기 평탄도 기준범위를 만족하지 않으면 상기 보정단계를 재실행하도록 구성되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛 중 어느 하나는 상기 측정포인트와 대응되는 크기로 마련되어 상기 돌출포인트를 가압프레싱하며, 다른 하나는 상기 측정포인트 및 그 인접영역을 포함하는 크기로 마련되어 상기 돌출포인트 및 그 인접영역을 가압프레싱하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 인접영역은 상기 돌출포인트와 인접한 측정포인트를 포함하는 영역인 것이 바람직하다.
또한, 재실행하는 상기 보정단계에서는 선행 실행한 보정단계에서 가압프레싱하는 방향과 반대방향으로 돌출포인트를 가압프레싱하도록 제1보정유닛 또는 제2보정유닛을 이동시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 측정포인트는 상기 에스에스디용 케이스의 테두리 영역을 포함하여 설정되며, 상기 보정단계에서 상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛에 의해 가압프레싱되는 측정포인트는 상기 에스에스디용 케이스의 테두리 영역의 내측에 위치하는 측정포인트인 것이 바람직하다.
또한, 상기 안착단계 이전에 실행되며, 기준범위 설정용 마스터샘플을 상기 안착대에 안착시켜 상기 평탄도 기준범위를 설정하는 기준범위 설정단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 에스에스디용 케이스의 공정 중 발생하는 뒤틀림을 보정할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법이 제공된다.
또한, 보정대상인 에스에스디용 케이스에 가상의 측정포인트를 설정하고, 각 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위를 벗어나면 해당 측정포인트의 상면과 저면을 가압하여 해당 측정포인트의 검출값이 평탄도 기준범위에 적합하도록 할 수 있는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치 및 보정방법이 제공된다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치의 개략도,
도 2는 도 1의 안착대의 확대도,
도 3은 도 1의 이동본체의 사시도,
도 4는 도 1의 A의 확대도
도 5는 도 1의 제2보정유닛의 확대도,
도 6은 에스에스디용 케이스의 측정포인트 설정도,
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법의 순서도,
도 8 내지 도 12는 도 7의 각 공정에서의 공정도,
도 13 내지 도 15는 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법의 구현예이다.
도 2는 도 1의 안착대의 확대도,
도 3은 도 1의 이동본체의 사시도,
도 4는 도 1의 A의 확대도
도 5는 도 1의 제2보정유닛의 확대도,
도 6은 에스에스디용 케이스의 측정포인트 설정도,
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법의 순서도,
도 8 내지 도 12는 도 7의 각 공정에서의 공정도,
도 13 내지 도 15는 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법의 구현예이다.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치에 대하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치의 개략도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치는 에스에스디용 케이스가 안착되는 안착대(10)와, 상기 에스에스디용 케이스의 평탄도를 측정하는 프로브유닛(20)과, 상기 안착대(10)에 안착되는 에스에스디용 케이스의 상향에 설치되는 제1보정유닛(30)과, 상기 안착대(10)에 안착되는 에스에스디용 케이스의 하향에 설치되는 제2보정유닛(40) 및 상기 프로브유닛(20)으로부터 측정된 평탄도값을 이용하여 평탄도를 검사하고 상기 안착대(10) 및 상기 프로브유닛(20)을 제어하는 컨트롤러를 포함하여 구성된다.
도 2는 도 1의 안착대의 확대도이다. 도 2를 참조하면, 상기 안착대(10)는 베이스(111) 상에 설치되는 안착부(11)와 핑거부(12)를 포함하여 구성된다.
상기 안착부(11)는 베이스(111) 상에 설치되는 안착용 돌출부(112)와 상기 안착용 돌출부(112)의 가장자리에 다수 개가 설치되어 에스에스디용 케이스 안착시 에스에스디용 케이스의 측면을 가이드하면서 안착완료된 후에는 에스에스디용 케이스의 측면을 지지하는 가이드부재(113)를 포함하여 구성된다.
상기 베이스(111)는 후술할 제2보정유닛(40)이 설치되며, 상기 제2보정유닛(40)과 함께 안착대용 가이드(13)를 따라 후술할 컨트롤러(50)에 의해 전후방으로 이동가능하도록 제어된다.
상기 핑거부(12)는 제1핑거(121)와 제2핑거(122)를 포함하며, 상기 제1핑거(121)는 에스에스디용 케이스의 전방 단부의 일부가 내입되어 지지되는 홈(121a)이 형성되고, 상기 제2핑거(122)는 에스에스디용 케이스의 후방 단부의 상면 일부를 덮어서 지지하도록 형성된다.
상기 제1핑거(121)와 제2핑거(122)는 각각 전후방 이동가능하도록 리니어 가이드(121, 122a)와 결합되며, 제1핑거(121)와 제2핑거(122)는 동시에 전후방향으로 이동가능하도록 후술하는 컨트롤러(50)에 의해 제어된다.
즉, 에스에스디용 케이스가 안착대(10)에 안착되면, 상기 제1핑거(121)와 상기 제2핑거(122)가 동시에 에스에스디용 케이스의 내측방향으로 이동하여 에스에스디용 케이스를 전방 및 후방단부를 파지하듯이 고정하여 지지할 수 있다.
상기 프로브유닛(20)은 이동본체(23)가 상하가이드(21)에 의해 상하방향으로 이동가능하도록 설치되며, 상기 상하가이드(21)는 좌우가이드(22)를 따라 좌우방향으로 이동가능하도록 설치된다(도 1참조).
도 3은 도 1의 이동본체의 사시도이다. 도 3을 참조하면, 상기 이동본체(23)는 대략 직육면체의 형상으로 형성되며, 다수의 프로브(24)가 설치된다.
상기 다수의 프로브(24)는 에스에스디용 케이스에 설정되는 평탄도 보정을 위한 측정포인트와 대응되는 숫자로 설치된다.
상기 프로브(24)는 상기 이동본체(23)가 하향으로 이동하여 프로브(24)의 하측 말단부가 에스에스디용 케이스에 설정된 측정포인트와 접촉시, 각 측정포인트에서의 평탄도값을 측정하여 후술하는 컨트롤러(50)로 전송하도록 구성된다.
본 실시예에서는 이동하는 거리값을 토대로 하여 평탄도값을 측정하도록 구성되며, 상기 평탄도값은 에스에스디용 케이스의 뒤틀림(warpage)값이다.
도 4는 도 1의 A의 확대도이다. 도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 제1보정유닛(30)은 봉 형상의 본체(31)와, 상기 본체(31)의 바닥면에 설치되는 보정핀(32)을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 본체(31)는 이동본체(23)의 후방측에 결합되어 이동본체(23)의 하향으로 이동시 함께 이동되며, 상기 보정핀(32)은 각 측정포인트와 대응되는 크기로 형성되어 상기 본체(31)가 하향으로 이동시 측정포인트와 접촉하여 하향으로 가압프레싱할 수 있다.
상기 제1보정유닛(30) 중 실질적으로 가압프레싱하는 수단인 보정핀(32)의 크기는, 본 실시예에서는 단일의 측정포인트와 대응되는 크기로 형성하였으나 다수의 측정포인트와 대응되는 크기로 형성할 수도 있다.
도 5는 도 1의 제2보정유닛의 확대도이다. 도 5를 참조하면, 상기 제2보정유닛(40)은 안착대(10)에 안착되는 에스에스디용 케이스의 하향 즉, 상술한 안착대(10)의 베이스(111) 측에 설치된다.
상기 제2보정유닛(40)은 실린더(41)와 보정편(42)을 포함하여 구성되며, 상기 실린더(41)는 운동부인 선단이 상기 베이스(111)의 상향으로 돌출되도록 설치되고, 상기 보정편(42)은 상기 실린더(41)의 선단에 결합되어 상향으로 이동시 에스에스디용 케이스의 저면부를 가압프레싱한다.
여기서, 상기 보정편(42)은 상면이 적어도 하나의 측정포인트와 대응되는 크기로 형성되며, 본 실시예에서는 대략 직사각형 형태로 형성되어, 어느 하나의 측정포인트가 차지하는 영역 및 그 인접영역에 위치하는 다른 하나의 측정포인트를 포함하는 영역과 대응되는 크기로 형성된다.
도시된 바는 전방측과 후방측에 각각 하나씩 한 쌍의 제2보정유닛이 설치되어 있으며, 필요에 따라 단일의 제2보정유닛을 설치하고 직교좌표 로봇 등을 구비하여 평면상에서 이동하도록 할 수도 있다.
한편, 상기 제1보정유닛(30)과 상기 제2보정유닛(40)의 하향 또는 상향으로 이동하는 거리 즉, 가압프레싱하는 힘은 에스에스디용 케이스에 적합하도록 사전에 설정되어 있거나, 에스에스디용 케이스의 종류에 따라 설정할 수 있다.
상기 컨트롤러(50)는 상술한 안착대(10)의 전후방향 구동, 핑거부(12)의 전후방향 구동, 이동본체(23)의 상하 및 좌우방향 구동, 제2보정유닛(40)의 실린더(41) 등을 포함하여 장치 전체에 걸쳐 컨트롤하도록 구성된다.
또한, 상기 컨트롤러(50)는 평탄도를 측정할 에스에스디용 케이스(c)에 측정포인트를 설정할 수 있다. 본 실시예에서는 도 6에서와 같이 20개의 측정포인트(a)가 설정된다.
또한, 상기 컨트롤러(50)는 상술한 각 프로브(24)로부터 측정된 평탄도값을 전달받아 각 측정포인트의 평탄도값이 사전에 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는지 여부를 검사한다.
상술한 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치를 이용한 보정방법에 대해 설명한다.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법의 순서도이고, 도 8 내지 도 12는 도 7의 각 공정에서의 공정도이다.
도 7을 참조하면, 평탄도 기준범위 설정단계(S10), 에스에스디용 케이스 안착단계(S20), 평탄도 측정단계(S30), 평탄도 검사단계(S40) 및 보정단계(S50)을 포함하여 구성된다.
먼저, 상기 평탄도 기준범위 설정단계(S10)로서, 도 8을 참조하면, 기준범위 설정용 마스터샘플(c')을 안착대(10)에 안착시키고, 컨트롤러(50)를 통해 마스터샘플(A)에 설정된 측정포인트와 프로브(24)가 접촉되도록 이동본체(23)를 하향으로 이동시킨 후 상향으로 복귀되도록 한다.
여기서, 마스터샘플(c')은 평탄도를 보정할 에스에스디용 케이스(1)와 크기는 동일하며, 평탄도의 기준을 제시할 수 있도록 사전에 준비된다.
그리고, 상기 측정포인트는 테두리 영역을 포함하여 사전에 평탄도를 측정할 부분에 설정된다.
컨트롤러(50)는 각각의 프로브(24)가 해당 측정포인트와의 접촉시까지의 이동거리를 측정하여, 상기 이동거리값을 평탄도값으로 정의한다. 이때, 평탄한 면으로서 판단될 수 있는 적절한 오차를 설정하여 각 측정포인트의 평탄도 기준범위를 설정한다.
이어, 에스에스디용 케이스 안착단계(S20)로서, 도 9를 참조하면, 마스터샘플(c')이 안착대(10)에서 제거되고, 평탄도를 보정할 에스에스디용 케이스(c)를 안착대(10)에 안착시킨다.
이때, 에스에스디용 케이스(1) 안착시, 컨트롤러는 제1핑거(121)와 제2핑거(122)를 이동시켜 에스에스디용 케이스(1)를 상하방향으로 요동하지 않도록 한다. 이때, 측부에 위치하는 가이드부재(113)에 의해 에스에스디용 케이스(c)의 측면은 지지된다.
이어, 평탄도 측정단계(S30)로서, 도 10을 참조하면, 컨트롤러(50)는 각 프로브(24)의 하측 단부가 해당 측정포인트와 접촉하도록 이동본체(23)를 이동시키고, 각 측정포인트까지의 이동거리인 평탄도값을 측정한다.
그리고, 평탄도 검사단계(S40)로서, 컨트롤러(50)는 각 측정포인트에서 측정된 평탄도값이 각 측정포인트의 평탄도 기준범위를 벗어나는지 여부를 검사한다.
여기서, 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 존재하지 않으면 양품으로 판단하여 후속공정으로 진행하고, 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 존재하면 후술하는 보정단계로 이행한다.
상기 보정단계(S50)는 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트인 돌출포인트가 존재하는 경우에 실행하며, 측정된 평탄도값을 토대로 하여 상기 돌출포인트가 상향으로 돌출된 경우에는 해당 돌출포인트를 하향으로 가압프레싱하도록 제1보정유닛(30)을 하향으로 이동시키고, 상기 돌출포인트가 하향으로 돌출된 경우에는 해당 돌출포인트를 상향으로 가압프레싱하도록 제2보정유닛(40)을 상향으로 이동시킨다.
구체적으로, 돌출포인트가 상향으로 돌출되는 경우에는 도 11에서와 같이 제1보정유닛(20)으로 해당 돌출포인트(a')를 하향으로 가압프레싱하도록 이동본체(23)를 이동시키고, 돌출포인트(a')가 하향으로 돌출되는 경우에는 도 12에서와 같이 제2보정유닛(40)의 보정편(42)이 해당 돌출포인트(a')을 상향으로 가압프레싱하도록 이동시킨다.
상기와 같은 보정을 실행한 후, 프로브(24)를 접촉시켜 다시 한번 각 측정포인트의 평탄도값을 측정 및 검사하고, 해당 돌출포인트 및 다른 측정포인트들도 평탄도 기준범위를 만족하는지 여부를 검사한다.
상기 평탄도 검사단계(S40)를 통해서도 돌출포인트가 평탄도 기준범위를 만족하지 않으면 보정단계(S50)을 재실행한다.
여기서, 선행되는 보정단계(S50)에서 제1보정유닛(30)을 이용하여 해당 돌출포인트를 하향으로 가압프레싱했다고 하면, 재실행되는 보정단계(S50)에서는 제2보정유닛(40)을 이용하여 해당 돌출포인트를 상향으로 가압프레싱한다.
이때, 에스에스디용 케이스(1)의 재질이 통상적으로 알루미늄 등을 포함하는 합금으로 마련되므로, 돌출포인트를 가압하면 그와 인접한 측정포인트도 같이 변형이 발생한다. 따라서, 재실행하여 반대방향으로 가압프레싱하는 경우에는 돌출포인트를 포함하여 그와 인접한 측정포인트를 포함하는 영역까지 가압프레싱하는 것이 바람직하다.
이를 위해, 본 발명에서는 제1보정유닛(30)은 단일 측정포인트를 가압하도록 형성되고, 제2보정유닛(40)은 단일 측정포인트 및 그와 인접한 측정포인트를 포함한 영역까지 가압프레싱하도록 형성되어 있다.
한편, 에스에스디용 케이스(1)에서 테두리 영역에 설정되는 측정포인트는 에스에스디용 케이스(1)의 면 상에서 돌출형성된 리브에 의해 일단이 지지되므로, 외력에 의한 휨 변형이 매우 작게 발생한다. 또한, 에스에스디용 케이스(1)의 중앙영역에 설정되는 측정포인트는 360°전방위에 대해서 지지되어 있는 부분이 없으므로 휨 변형 발생이 매우 크게 나타난다.
이에 따라, 보정할 수 있는 영역은 테두리 영역과 중앙영역을 제외한 나머지 영역으로 국한될 수 있다.
상기와 같이 반복적인 재실행에 의해 돌출포인트가 평탄도 기준범위를 만족할 때까지 반복수행하여 에스에스디용 케이스(1)의 전체 면에서의 평탄도를 보정할 수 있다. 여기서, 반복회수는 8회 이하로 한정하는 것이 적절한 제조공정시간을 담보할 수 있다.
상기와 같은 보정방법을 구체적인 예를 들어 설명한다. 가령, 도 13에서와 같이, 에스에스디용 케이스의 좌측 최하단을 (1,1)로 하고, 우측 최상단을 (4,5)로 측정포인트가 설정되어 있다고 가정한다.
이때, 평탄도 측정 및 검사를 통해 (2,2)에 위치하는 측정포인트가 기준치(0)보다 상향으로 (+2)만큼 돌출된 돌출포인트라고 검사되고, 나머지 측정포인트는 모두 0으로 검사되었다고 가정한다. 또한, 컨트롤러에 설정된 평탄도 기준범위는 ㄱ(-기준치인 0을 기준으로 (-0.5 ~ +0.5)이라고 가정한다.
상기와 같은 평탄도값을 토대로 하여, 도 14에서와 같이, 제1보정유닛(30)을 이용하여 상기 (2,2)의 측정포인트가 하향으로 (-2)만큼 프레싱하도록 가압한다. 여기서, 제1보정유닛(30) 및 제2보정유닛(40)에 의해 가압프레싱되는 측정포인트와 인접해 있는 측정포인트는, 가압프레싱되는 힘에 의해 직접적으로 가압프레싱되는 측정포인트의 변형량의 대략 1/2정도의 변형량이 발생한다고 가정한다.
이어, 프로브유닛(20)을 이용하여 모든 측정포인트를 측정한 후 검사하면, (2,2)는 0이 되어 기준범위를 만족하나, (3,2)의 측정포인트는 (-1)만큼 하향으로 돌출되어 있으므로 평탄도 기준범위를 만족하지 않게 된다.
따라서, 도 15에서와 같이, 제2보정유닛(40)의 보정편(42)을 통해 (3,2)의 측정포인트를 상향으로 (+1)만큼 가압프레싱되도록 하면, 상기 (3,2)는 기준범위 이내인 0이 되고, 상기 (3,2)와 인접한 측정포인트에서는 상향으로 (+0.5)가 되므로 평탄도 기준범위를 벗어나지 않게 되어 상기 평탄도 기준범위를 만족하게 된다.
상기(2,2)에 인접한 측정포인트인 (2,3)도 (3,2)에서와 같이 평탄도가 보정된다.
결과적으로, 모든 측정포인트가 평탄도 기준범위를 벗어나지 않게 되므로, 양품으로 판정할 수 있다.
상기와 같은 방법을 이용하면, 종래 에스에스디용 케이스의 제조공정 중 외력에 의한 변형 및 작업환경에 따른 뒤틀림이 일부 발생하더라도 양품수율을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※
10 : 안착대 11 : 안착부
111 : 베이스 112 : 안착용 돌출부
113 : 가이드부재 12 : 핑거부
121 : 제1핑거 121a : 홈
122 : 제2핑거 13 : 안착대용 가이드
20 : 프로브유닛 21 : 상하가이드
22 : 좌우가이드 23 : 이동본체
24 : 프로브 30 : 제1보정유닛
31 : 본체 32 : 보정핀
40 : 제2보정유닛 41 : 실린더
42 : 보정편
10 : 안착대 11 : 안착부
111 : 베이스 112 : 안착용 돌출부
113 : 가이드부재 12 : 핑거부
121 : 제1핑거 121a : 홈
122 : 제2핑거 13 : 안착대용 가이드
20 : 프로브유닛 21 : 상하가이드
22 : 좌우가이드 23 : 이동본체
24 : 프로브 30 : 제1보정유닛
31 : 본체 32 : 보정핀
40 : 제2보정유닛 41 : 실린더
42 : 보정편
Claims (11)
- 에스에스디용 케이스가 안착되는 안착대;
상기 에스에스디용 케이스에 설정되는 다수의 측정포인트에 대응되도록 상호 이격되도록 마련되고, 상기 안착대의 상향에 위치하여 각 측정포인트의 평탄도값을 측정하도록 각 측정포인트와 접촉하게 이동하는 다수의 프로브;
상기 안착대의 상향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 하향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제1보정유닛;
상기 안착대에 안착된 에스에스디용 케이스의 하향에 위치하여 적어도 하나의 측정포인트를 상향으로 가압프레싱하도록 이동하는 제2보정유닛; 및,
상기 프로브로부터 각 측정포인트의 평탄도값을 전달받아 상기 에스에스디용 케이스의 평탄도를 측정하며, 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 있는 경우, 상기 평탄도 기준범위를 벗어나는 측정포인트가 상기 평탄도 기준범위를 만족하도록 상기 제1보정유닛 또는 상기 제2보정유닛 중 적어도 어느 하나를 제어하는 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치. - 제 1항에 있어서,
상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛 중 어느 하나는 단일 측정포인트를 가압프레싱하도록 형성되며, 다른 하나는 단일 측정포인트와 그 인접영역을 포함하여 가압프레싱하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치. - 제 2항에 있어서,
상기 인접영역은 어느 하나의 측정포인트와 인접한 측정포인트를 포함하는 영역인 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치. - 제 3항에 있어서,
상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛은 상기 에스에스디용 케이스의 테두리의 내측에 위치하는 측정포인트를 가압프레싱하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치. - 제 1항에 있어서,
상기 프로브와 상기 제1보정유닛이 설치되는 이동본체를 더 포함하며,
상기 이동본체는 좌우방향 및 상하방향으로 이동가능하도록 설치되며, 상기 안착대는 전후방향으로 이동가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정장치. - 에스에스디용 케이스를 안착대에 안착시키는 안착단계;
상기 에스에스디용 케이스에 평탄도 측정을 위한 다수의 측정포인트를 설정하고, 상향에 위치하는 다수의 프로브를 상기 측정포인트에 접촉하도록 이동시켜 각 측정포인트의 평탄도값을 측정하는 평탄도 측정단계;
각 측정포인트 중 평탄도값이 설정된 평탄도 기준범위를 만족하는지 여부를 검사하는 평탄도 검사단계;
각 측정포인트 중 평탄도값이 설정된 평탄도 기준범위를 벗어나는 돌출포인트가 존재하는 경우, 상기 에스에스디용 케이스의 상향에 위치하는 제1보정유닛 또는 상기 에스에스디용 케이스의 하향에 위치하는 제2보정유닛 중 적어도 어느 하나를 상기 돌출포인트를 가압프레싱하도록 이동시켜 상기 평탄도 기준범위를 만족되도록 하는 보정단계;를 포함하여,
상기 보정단계 이후에 상기 평탄도 측정단계 및 상기 평탄도 검사단계를 실행하여, 각 측정포인트가 상기 평탄도 기준범위를 만족하지 않으면 상기 보정단계를 재실행하는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법. - 제 6항에 있어서,
상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛 중 어느 하나는 상기 측정포인트와 대응되는 크기로 마련되어 상기 돌출포인트를 가압프레싱하며, 다른 하나는 상기 측정포인트 및 그 인접영역을 포함하는 크기로 마련되어 상기 돌출포인트 및 그 인접영역을 가압프레싱하는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법. - 제 7항에 있어서,
상기 인접영역은 상기 돌출포인트와 인접한 측정포인트를 포함하는 영역인 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법. - 제 8항에 있어서,
재실행하는 상기 보정단계에서는 선행 실행한 보정단계에서 가압프레싱하는 방향과 반대방향으로 돌출포인트를 가압프레싱하도록 제1보정유닛 또는 제2보정유닛을 이동시키는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법. - 제 6항에 있어서,
상기 측정포인트는 상기 에스에스디용 케이스의 테두리 영역을 포함하여 설정되며,
상기 보정단계에서 상기 제1보정유닛과 상기 제2보정유닛에 의해 가압프레싱되는 측정포인트는 상기 에스에스디용 케이스의 테두리 영역의 내측에 위치하는 측정포인트인 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법. - 제 6항에 있어서,
상기 안착단계 이전에 실행되며, 기준범위 설정용 마스터샘플을 상기 안착대에 안착시켜 상기 평탄도 기준범위를 설정하는 기준범위 설정단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에스에스디용 케이스의 평탄도 보정방법.
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- 2013-05-15 KR KR1020130054982A patent/KR101446942B1/ko active IP Right Grant
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