KR101443843B1 - 수직형 플라즈마 처리장치 - Google Patents

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Abstract

수직형 플라즈마 처리장치가 개시된다. 개시된 플라즈마 처리장치는 상부에 개구가 형성되는 플라즈마 챔버; 스트립 제품을 파지한 상태로 플라즈마 챔버의 개구를 통해 플라즈마 챔버 내측에 장입되는 기판 장착부; 상기 플라즈마 챔버의 개구를 개폐하며, 승강동작에 의해 상기 기판 장착부를 상기 플라즈마 챔버 내로 투입 및 취출하는 도어;를 포함한다.

Description

수직형 플라즈마 처리장치{VERTICAL TYPE PLASMA TREATMENT APPARATUS}
본 발명은 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 특히 인쇄회로기판(Printed Circuit Board, 이하 'PCB'라 함) 등의 스트립(strip) 제품을 단일 플라즈마 챔버 당 낱 장씩 플라즈마 처리하는 수직형 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 에칭은 플라즈마를 이용하여 피가공물 표면을 에칭하여 조도각을 형성시켜 도금접착력을 향상시키며, PCB의 층간을 이어주는 비아홀(via hole) 내부의 탄화물을 제거하기 위해 사용되고 있다.
한편, 기술의 발전으로 인한 각종 전자제품의 소형화에 따라 PCB에 형성되는 비아홀 역시 조밀해지며, 이는 플라즈마 가공 시 약액이 침투하지 못하는 원인이 되었다. 이를 해소하기 위해 플라즈마 처리를 통한 PCB 표면의 친수성을 향상시켜 약액이 침투할 수 있도록 하는 기술이 개발되었다.
이와 같은 플라즈마 에칭을 위한 종래의 플라즈마 처리장치는, 내측에 플라즈마 전극이 구비된 진공챔버 내에 피가공물 예를 들면, 복수의 PCB를 장입하고, 진공챔버 내에 소정의 반응가스를 주입하면서 플라즈마 전극으로 고주파전력을 인가하여 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 플라즈마 처리가 이루어진다.
이 경우 종래 장치는 1회에 많은 량(약 15-60장)을 처리하기 위해 매우 조밀한 간격으로 배치된 복수의 플라즈마 전극 사이로 다수의 PCB를 장입시킨 후, 다수의 PCB에 대하여 균일한 플라즈마 처리가 이루어지도록 매우 높은 고주파 전력을 인가하였다.
이와 같이 매우 높은 고주파 전력에 의해 발생하는 플라즈마로 인해 일부 PCB가 변색이 되거나 타는 현상이 자주 발생하였고, 이로 인해 PCB의 표면처리 품질이 저하되는 것은 물론 장치의 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.
이러한 문제를 해결하기 위해 특허등록 제10-1176946호(등록일자: 2012년08월20일)에 기판을 낱장씩 처리하는 플라즈마 처리장치가 개시된 바 있다.
이와 같은 종래의 플라즈마 처리장치는 스트립 제품을 플라즈마 챔버에 투입하는 경우, 로더에 의해 독립된 기판 장착부를 플라즈마 챔버에 로딩한 후 도어가 플라즈마 챔버의 개구를 폐쇄한다. 반대로 플라즈마 챔버에서 플라즈마 처리가 완료된 기판은 도어 개방 후 일측에서 대기하고 있는 상기 로더가 가동하여 플라즈마 챔버 내의 기판 장착부를 파지한 후 도어로부터 취출한다.
그런데, 종래의 플라즈마 처리장치는 로더를 통해 기판 장착부를 플라즈마 챔버로 투입 및 취출하는 동작과 도어의 개폐 동작이 서로 분리되어 이루어짐에 따라, 1회 플라즈마 처리 전과 처리 후에 스트립을 이송시키는 동작에 의해 약 90초 정도의 비교적 긴 시간이 소요되고 있으며 이는 전체적인 생산성을 저감하는 요인이 된다.
상기 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 낱장씩 행해지는 플라즈마 처리 전과 후에 소요되는 시간을 단축시킬 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 상부에 개구가 형성되는 플라즈마 챔버; 스트립(Strip) 제품을 파지한 상태로 플라즈마 챔버의 개구를 통해 플라즈마 챔버 내측에 장입되는 기판 장착부; 및 상기 플라즈마 챔버의 개구를 개폐하며, 승강동작에 의해 상기 기판 장착부를 상기 플라즈마 챔버 내로 투입 및 취출하는 도어;를 포함하는 플라즈마 처리장치를 제공한다.
상기 도어는 상기 기판 장착부와 일체로 형성될 수 있다.
상기 기판 장착부는 상단이 상기 도어의 하단에 고정되며, 상기 플라즈마 챔버의 수직방향에 평행하게 배치될 수 있다.
상기 기판 장착부는 플렉시블 기판이 면접촉하는 지지패널; 및 상기 지지패널의 양측에 각각 상기 도어의 이동방향에 직각방향으로 이동가능하게 배치되어 플렉시블 기판의 양측을 각각 탄력적으로 파지하는 제1 및 제2 클램핑부를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 클램핑부는 각각, 상기 지지패널의 일측면에 배치되며 코일 스프링을 내장한 한 쌍의 하우징; 상기 지지패널의 타측면에 배치되며 플렉시블 기판을 파지하기 위해 간격을 두고 배치되는 다수의 고정부재를 구비하는 서포팅로드; 및 상기 지지패널을 관통하여 상기 서포팅로드를 상기 한 쌍의 하우징에 탄력적으로 연결하는 연결핀;을 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 클램핑부의 플렉시블 기판의 파지 상태를 동시에 해제하는 클램핑해제부를 포함할 수 있다.
상기 클램핑해제부는 플렉시블 기판이 기판 장착부로부터 이탈 가능하도록 상기 제1 및 제2 클램핑부의 한 쌍의 하우징과 서포팅로드의 간격을 벌리는 다수의 에어척(air chuck)을 구비할 수 있다.
상기 다수의 에어척은 상기 제1 및 제2 클램핑부를 서로 멀어지는 방향 또는 가까워지는 방향으로 이동될 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명에 있어서는 PCB 등의 스트립(Strip) 제품을 장착하는 기판 장착부가 도어와 일체화되어 있어 도어가 플라즈마 챔버의 개구를 개방하는 동작과 기판 장착부를 플라즈마 챔버로 투입하는 동작이 동시에 이루어지고, 또한 도어가 플라즈마 챔버의 개구를 폐쇄 동작과 기판 장착부를 플라즈마 챔버로 부터 취출하는 동작이 동시에 이루어짐에 따라, 플라즈마 처리 시 소요되는 작업시간을 크게 단축시킬 수 있고 이에 따른 생산량 증가를 기대할 수 있다.
또한, 본 발명은 종래와 달리 기판 장착부를 플라즈마 챔버에 로딩 및 언로딩하는 별도의 구조물을 생략할 수 있으므로 장치의 부피를 줄여 소형화할 수 있고, 종래의 복잡한 구조에 비해 장비가 단순화됨에 따라 장비 트러블을 감소할 수 있어 장비의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치를 나타내는 정면도이다.
도 2는 도 1에 표시된 A 방향에서 바라본 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치의 측면도이다.
도 3은 도 1에 표시된 B 방향에서 바라본 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치의 평면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치의 도어 및 도어와 일체화된 기판 장착부를 나타내는 정면도이다.
도 4b는 도 4a에 표시된 C 방향에서 바라본 도어 및 도어와 일체화된 기판 장착부를 나타내는 측면도이다.
도 4c는 도 4a에 표시된 D 방향에서 바라본 기판 장착부를 나타내는 평면도이다.
도 5는 도 4a에 도시된 기판 장착부에 장착되는 플렉시블 기판을 나타내는 도면이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치의 클램핑해제부를 나타내는 정면도이다.
도 6b는 도 6a에 표시된 E 방향에서 바라본 클램핑해제부를 나타내는 측면도이다.
도 6c는 도 6a에 표시된 F 방향에서 바라본 클램핑해제부를 나타내는 평면도이다.
도 7a 내지 7f는 기판 장착부로부터 플렉시블 기판을 분리하는 과정을 순차적으로 나타내는 개략도들이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치를 나타내는 정면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명한다. 이하에서 설명되는 실시예는 발명의 이해를 돕기 위하여 예시적으로 나타낸 것이며, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예와 다르게 다양하게 변형되어 실시될 수 있음이 이해되어야 할 것이다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기능 혹은 구성요소에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명 및 구체적인 도시를 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 발명의 이해를 돕기 위하여 실제 축척대로 도시된 것이 아니라 일부 구성요소의 치수가 과장되게 도시될 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 플라즈마 처리장치(100)는 대략 직육면체를 이루는 프레임(101), 플라즈마 챔버(110), 도어(130), 기판 장착부(150) 및 클램핑해제부(170)를 포함한다.
프레임(101)은 플라즈마 챔버(110), 도어(130)의 승강가이드(131) 및 클램핑해제부(170)가 설치된다.
플라즈마 챔버(110)는 내부에 PCB 등의 스트립(Strip) 제품(120, 도 5 참조)을 플라즈마 처리하기 위한 공간부를 구비하며, 상단부에 기판 장착부(150)가 상기 공간부로 투입 및 취출될 수 있는 개구(111)가 형성된다.
상기 플라즈마 챔버(110)는 지면에 대하여 대략 수직으로 배치되어 있으며, 기판 장착부(150)에 의해 장착된 플렉시블 기판(120)이 상술한 플라즈마 챔버(110)의 공간부로 낱장씩 투입된 후 플라즈마 처리된다.
또한, 플라즈마 챔버(110)는 일측에 배치된 진공펌프(113)와 연통되어 있어 플라즈마 처리 시 공간부가 진공상태로 설정된다. 아울러 플라즈마 챔버(110)는 통상의 플라즈마 처리 시 사용되는 소정의 반응가스를 사용하며, 공간부에 배치된 플라즈마 전극으로 고주파전력을 인가하여 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 플라즈마 처리가 이루어진다.
도어(130)는 플라즈마 챔버(110)의 상측에서 승강 가능하게 배치되어 플라즈마 챔버(110)의 개구(111)를 개폐한다. 상기 도어(130)는 프레임(101)에 수직방향(또는 플라즈마 챔버(110)가 설치되는 수직방향에 평행한 방향)으로 설치되는 통상의 직교 로봇(131)에 도어(130)의 일단이 결합된다. 이에 따라 도어(130)의 승강 동작은 직교 로봇(131)에 의해 이루어진다.
또한, 도어(130)의 최고 승강 높이(즉, 플라즈마 챔버(110)의 상단으로부터 도어(130)의 하단 사이의 최대 간격)는 적어도 후술하는 기판 장착부(150)의 높이에 대응한다.
도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 기판 장착부(150)는 도어(130)와 일체로 연결되어 있어 도어(130)의 승강과 함께 상하로 이동하면서 플라즈마 챔버(110)의 공간부로 투입되거나 공간부로부터 취출된다. 이에 따라 본 실시예는 도어(130)로 플라즈마 챔버(110)의 개구(111)를 폐쇄함과 동시에 기판 장착부(150)가 플라즈마 챔버(110)의 공간부에 소정의 플라즈마 처리 위치로 설정된다.
상기 기판 장착부(150)는 지지패널(151), 제1 및 제2 클램핑부(153,155)를 포함한다.
지지패널(151)은 상단이 다수의 연결구(140)에 의해 도어(130)의 하단에 연결된다. 이 경우 지지패널(151)은 대략 플라즈마 챔버(110)의 수직방향에 평행하게 배치된다.
상기 지지패널(151)은 제1 및 제2 클램핑부(153,155)에 의해 양측이 고정되는 스트립 제품(120)의 전후면이 플라즈마 처리되도록 스트립 제품(120)이 배치되는 위치에 관통구멍(151c)이 형성된다.
또한, 지지패널(151)은 관통구멍(151c)의 양측변 상하에 각각 가이드 장공(151a)이 형성된다. 상기 다수의 가이드 장공(151a)은 제1 및 제2 클램핑부(153,155)가 서로 멀어지는 방향(스트립 제품(120)을 지지패널(151)로부터 분리하는 경우) 또는 서로 인접하는 방향(플렉시블 기판(120)을 지지패널(151)에 고정하는 경우)으로 이동할 수 있도록 가이드 한다. 이 경우 각 가이드 장공(151a)에는 후술하는 연결핀(153f)이 슬라이딩 가능하게 관통 결합된다.
상기 지지패널(151)은 하단의 양측에 각각 완충부(151b)가 결합된다. 한 쌍의 완충부(151b)는 기판 장착부(150)이 플라즈마 챔버(110)의 공간부로 투입된 후 공간부에서 안정적으로 고정될 수 있도록 플라즈마 챔버(110) 내에서 소정 부분에 안착된다.
제1 및 제2 클램핑부(153,155)는 각각 스트립 제품(120)의 양단을 파지하도록 상기 지지패널(151)의 양측(121,123, 도 5 참조)에 각각 배치된다.
제1 클램핑부(153)는 지지패널(151)의 후면에 위치하는 한 쌍의 소형 하우징(153a)과, 지지패널(151)의 전면에 위치하는 서포팅로드(153d)를 구비한다. 이 경우 한 쌍의 하우징(153a)은 서로 간격을 두고 상하로 배치되며, 바람직하게는 서포팅로드(153d)의 상단 및 하단에 대응하는 위치에 배치된다.
상기 한 쌍의 하우징(153a)은 각각 연결핀(153f)을 통해 서포팅로드(153d)와 탄력적으로 연결된다. 이 경우 연결핀(153f)은 일단이 서포팅로드(153d)에 고정되고, 타단이 상기 하우징(153a) 내에서 코일 스프링(153b)에 의해 전후 탄력적으로 가동 가능하게 설치된다. 이에 따라 한 쌍의 하우징(153a)과 서포팅로드(153d)는 후술하는 클램핑해제부(170)에 의해 서로 간의 간격을 가변적으로 설정할 수 있다.
또한, 한 쌍이 하우징(153a)은 지지패널(151)의 외측방향으로 걸림구(153c)가 각각 결합된다. 걸림구(153c)는 후술하는 클램핑해제부(170)의 거치구(175d)가 거치되는 구조물로써 거치구(175d)의 동작에 의해 하우징(153a)이 서포팅로드(155d)와의 간격이 변경될 수 있다.
서포팅로드(153d)는 지지패널(151) 측으로 돌출되는 다수의 고정부재(153e)를 소정 간격을 두고 구비된다. 상기 서포팅로드(153d)는 상기 코일 스프링(153b)의 탄성력에 의해 항상 지지패널(151) 측으로 당겨지게 된다. 이에 따라 다수의 고정부재(153e)는 스트립 제품(120)의 양측(121,123)의 다수의 고정 포인트(125, 도 5 참조)를 소정 압력으로 가압하여 지지패널(151)에 안정적으로 고정시킨다.
제2 클램핑부(155)는 상술한 제1 클램핑부(153)와 동일한 구성으로 이루어지므로 상세한 설명을 생략한다. 도 4a 내지 도 4c의 미설명 부호 155a는 하우징, 155b는 코일 스프링, 155c는 걸림구, 155d는 서포팅로드, 155e는 고정부재 및 155f는 연결핀을 각각 나타낸다.
클램핑해제부(170)는 기판 장착부(150)에 장착된 스트립 제품(120)을 기판 장착부(150)로부터 분리하기 위해 제1 및 제2 클램핑부(153,155)의 클램핑 상태를 해제한다.
도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 상기 클램핑해제부(170)는 가동패널(171), 다수의 작동부(173a~173d) 및 다수의 지지대(176), 래크부(178) 및 구동모터(179)를 포함한다.
가동패널(171)은 도어(130)의 승강방향에 대하여 대략 직각방향(또는 수평방향)으로 전후진 이동한다. 이 경우 가동패널(171)의 설치위치는 기판 장착부(150)가 도어(130)의 상승 이동에 의해 플라즈마 챔버(110)로부터 완전히 취출된 위치에 대응하는 높이에 설정되는 것이 바람직하다.
상기 가동패널(171)은 제1 및 제2 클램핑부(153,155)의 클램핑을 해제할 수 있도록 가동패널(171)의 상단 및 하단의 연장부(172a,172b) 양측에 각각 설치된 다수의 작동부(173a~173d)를 기판 장착부(150)의 측단부까지 위치시킨다.
다수의 작동부(173a~173d)는 모두 동일한 구조를 가지며, 각각 가동패널(171)의 좌측 및 우측에 서로 대칭으로 배치된다.
각 작동부(173a~173d)는 에어척(air chuck)(175c)을 구비하며, 에어척(175c)의 선단에는 제1 및 제2 클램핑부(153,155)의 하우징(153a;155a)과 서포팅로드(153d;155d) 간의 간격을 벌리기 위한 한 쌍의 거치구(175d)가 결합된다. 상기 에어척(175c)은 소정의 에어 공급원으로부터 에어압을 전가 받아 상기 한 쌍의 거치구(175d)를 동작시킨다.
상기 에어척(175c)은 가이드(175a)에 슬라이딩 가능하게 결합되는 가동부(175b)에 고정된다. 이에 따라 가동패널(171)의 좌측 및 우측에서 대층으로 배치되는 에어척(175c)이 서로 마주하는 방향 및 그 반대 방향으로 동시에 동일한 거리만큼 가동된다. 이에 따라 에어척(175c)에 의해 클램핑이 해제된 상태의 제1 및 제2 클램핑부(153,155)가 서로 멀어지는 방향으로 이동하는 경우, 지지패널(151)로부터 분리되는 플렉시블 기판(120)은 제1 및 제2 클램핑부(153,155)에 의해 간섭되지 않고 이동할 수 있다.
다수의 지지대(176)는 일단이 가동패널(171)의 후면에 가동패널(171)에 대하여 직각 방향으로 고정되며, 동시에 가이드로드(177)에 슬라이딩 가능하게 지지된다.
또한, 래크부(178)는 다수의 지지대(176)과 평행하게 배치되며 일단이 가동패널(171)의 후면 중앙부에 고정된다. 구동모터(179)는 상기 래크부(178)와 기어 결합되는 피너언기어(179a)를 구비한다. 상기 구동모터(179)는 피니언기어(179a)를 정회전 또는 역회전함에 따라 래크부(178)가 전진 및 후진하며, 가동패널(171)도 래크부(178)의 이동 방향과 동일한 방향으로 가동한다.
이하, 도 7a 내지 도 7f를 참조하여, 제1 및 제2 클램핑부(153,155)에 의해 지지패널(151)에 고정된 스트립 제품(120)을 분리하는 과정을 순차적으로 설명한다. 편의상 제2 클램핑부(155) 측에서 이루어지는 동작에 대해서만 설명한다. 스트립 제품(120)이 지지패널(151)로부터 분리되는 동작은 플라즈마 챔버(110)에 투입되어 플라즈마 처리가 완료되어 플라즈마 챔버(110)로부터 취출된 후에 이루어진다.
스트립 제품(120)은 도 7a과 같이 제2 클램핑부(155)의 다수의 고정부재(155e)에 의해 일측이 파지된 상태로 지지패널(151)에 고정된다.
이 경우 에어척(175c)은 도 7b와 같이 가동패널(171)의 외측 방향으로 소정거리 만큼 이동한다. 이때 에어척(175c)의 이동 거리는 에어척(175c)이 기판 장착부(150)의 일측에 위치하는 과정에서 에어척(175c)의 한 쌍의 거치구(175d)가 지지패널(151)의 일단에 간섭되지 않을 정도의 거리이면 충분하다.
가동패널(171)은 도 7c와 같이 기판 장착부(150)를 향해 이동하여 에어척(175c)의 한 쌍의 거치구(175d)가 각각 지지기판(151)과 하우징(155a), 지지기판(151)과 서포팅로드(155d) 사이로 삽입될 수 있는 위치로 이동한다.
이어서 에어척(175c)의 한 쌍의 거치구(175d)는 도 7d와 같이 각각 지지기판(151)과 하우징(155a), 지지기판(151)과 서포팅로드(155d) 사이로 삽입된다. 이때, 통상의 클램핑 구조를 구비한 소정의 가동유닛(200)이 스트립 제품(120)을 향해 이동한 후, 스트립 제품(120)을 클램핑한다.
이 상태에서 에어척(175c)의 한 쌍의 거치구(175d)는 도 7e와 같이 하우징(155a)과 서포팅로드(155d)를 서로 멀어지는 방향으로 벌린다. 이에 따라 스트립 제품(120)은 제2 클램핑부(155)에 의한 클램핑이 해제된다. 이 경우 제1 클램핑부(153)도 제2 클램핑부(155)와 마찬가지로 스트립 제품(120)의 타측을 클램핑 해제한다.
그 후, 에어척(175c)은 도 7f와 같이 제2 클램핑부(155)를 벌린 상태로 지지패널(151)의 측단 방향으로 이동시킨다. 이때 제2 클램핑부(155)의 연결핀(155f)은 가이드 장공(151a)을 따라 슬라이딩되면서 제2 클램핑부(155)가 지지패널(151)로부터 분리되는 스트립 제품(120)을 간섭하지 않는 위치로 이동된다.
플라즈마 처리가 완료된 플렉시블 기판(120)이 가동유닛(200)에 의해 기판 장착부(150)로부터 완전히 분리되면, 다시 플라즈마 처리되지 않은 새로운 스트립 제품(120)이 기판 장착부(150)에 장착된다. 새로운 스트립 제품(120)의 장착순서는 상술한 클램핑 해제 순서의 역순으로 진행된다.
상기한 바와 같이 본 발명에 있어서는, 도어(130)에 기판 장착부(150)를 일체로 구비함에 따라, 도어(130)를 하강시켜 플라즈마 챔버(110)의 개구(111)를 폐쇄함과 동시에 스트립 제품(120)을 플라즈마 챔버(110)에 투입할 수 있고, 반대로 도어(130)을 상승시켜 플라즈마 챔버(110)의 개구(111)를 개방함과 동시에 스트립 제품(120)을 플라즈마 챔버(110)로부터 취출할 수 있다.
이에 따라, 플라즈마 처리의 전과 후에 행해지는 스트립 제품(120)의 이송동작으로 인해 소요되는 작업시간을 크게 단축시킬 수 있고 이에 따른 생산량 증가를 기대할 수 있다. 즉, 본 발명의 경우 기판 장착부(150)를 플라즈마 챔버(110)에 로딩 및 언로딩하기 위한 로더의 대기시간을 줄여 1회 플라즈마 처리시간을 종래의 약 90초에서 약 40초로 절반 이하로 줄일 수 있다.
또한, 본 발명은 종래와 달리 기판 장착부(150)를 플라즈마 챔버(110)에 로딩 및 언로딩하는 별도의 구조물을 생략할 수 있으므로 장치의 부피를 줄여 소형화할 수 있고, 종래의 복잡한 구조에 비해 장비가 단순화됨에 따라 장비 트러블을 감소할 수 있어 장비의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 8을 참조하면, 본 발명은 플라즈마 챔버(110)와 도어(130)를 한 쌍으로 배치하는 것도 물론 가능하다. 도 8에 도시된 각 구성은 상술한 일 실시예에 비하여 한 쌍으로 배치된 것을 제외하고 모두 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술 사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 가능함은 물론이다.
101: 프레임 130: 도어
150: 기판 장착부 151: 지지패널
151a: 가이드 장공 151c: 관통구멍
153: 제1 클래핑부 153a,155a: 하우징
153d,155d: 서포팅로드 153e,155e: 고정부재
153f,155f: 연결핀 155: 제2 클램핑부
170: 클램핑해제부 171: 가동패널
173a~173d: 작동부 175c: 에어척

Claims (8)

  1. 상부에 개구가 형성되는 플라즈마 챔버;
    스트립 제품을 파지한 상태로 플라즈마 챔버의 개구를 통해 플라즈마 챔버 내측에 장입되는 기판 장착부; 및
    상기 플라즈마 챔버의 개구를 개폐하며, 승강동작에 의해 상기 기판 장착부를 상기 플라즈마 챔버 내로 투입 및 취출하는 도어;를 포함하는 플라즈마 처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도어는 상기 기판 장착부와 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 기판 장착부는 상단이 상기 도어의 하단에 고정되며, 상기 플라즈마 챔버의 수직방향에 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판 장착부는 스트립 제품이 면접촉하는 지지패널; 및
    상기 지지패널의 양측에 각각 상기 도어의 이동방향에 직각방향으로 이동가능하게 배치되어 스트립 제품의 양측을 각각 탄력적으로 파지하는 제1 및 제2 클램핑부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 클램핑부는 각각,
    상기 지지패널의 일측면에 배치되며 코일 스프링을 내장한 한 쌍의 하우징;
    상기 지지패널의 타측면에 배치되며 스트립 제품을 파지하기 위해 간격을 두고 배치되는 다수의 고정부재를 구비하는 서포팅로드; 및
    상기 지지패널을 관통하여 상기 서포팅로드를 상기 한 쌍의 하우징에 탄력적으로 연결하는 연결핀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 클램핑부의 스트립 제품의 파지 상태를 동시에 해제하는 클램핑해제부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 클램핑해제부는 스트립 제품이 기판 장착부로부터 이탈 가능하도록 상기 제1 및 제2 클램핑부의 한 쌍의 하우징과 서포팅로드의 간격을 벌리는 다수의 에어척을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 다수의 에어척은 상기 제1 및 제2 클램핑부를 서로 멀어지는 방향 또는 가까워지는 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH08115903A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置
JP2001217228A (ja) 2000-02-07 2001-08-10 Rohm Co Ltd 半導体製造装置
KR20110109517A (ko) * 2010-03-31 2011-10-06 주식회사 무진산업 진공 플라즈마처리장치 및 이를 이용한 플라즈마처리방법
KR20130009035A (ko) * 2011-07-14 2013-01-23 주식회사 무진산업 진공 플라즈마 처리장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08115903A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置
JP2001217228A (ja) 2000-02-07 2001-08-10 Rohm Co Ltd 半導体製造装置
KR20110109517A (ko) * 2010-03-31 2011-10-06 주식회사 무진산업 진공 플라즈마처리장치 및 이를 이용한 플라즈마처리방법
KR20130009035A (ko) * 2011-07-14 2013-01-23 주식회사 무진산업 진공 플라즈마 처리장치

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