KR101439168B1 - A wafer treat equipment have the wafer purging cassette removal remain fume on the wafer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치에 관한 것으로, 그 목적은 웨이퍼에 잔존하는 공정가스 및 퓸등의 오염 물질을 제거하는 장치를 널리 공급하여, 반도체 제조 장비의 오염 및 에칭패턴의 불량 원인을 원천적으로 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시키는데 있다.
이러한 목적으로 이루어진 본 발명은, 이송용기에 구비된 웨이퍼를 이송로봇에 의해 각 공정별로 이송하는 이송장치와, 상기 이송장치 일측에 구비되어 다수의 웨이퍼를 격납하는 카세트부와, 상기 카세트부에서 공급된 웨이퍼 상부표면에 다양한 기능을 갖출 수 있도록 박막 증착공정, 식각공정 및 웨이퍼 상부에 층간 절연막등을 증착한 후에 일괄적으로 웨이퍼 표면을 연마하여 단차를 제거하는 평탄화공정등을 순차적으로 수행하는 반도체 제조공정모듈로 이루어진 웨이퍼 처리장치에 관한 것으로,
상기 카세트부는, 상기 반도체 제조공정모듈에 제공되는 웨이퍼를 세정하도록 적어도 하나 이상 구비된 웨이퍼 퍼징 카세트를 포함한다.
이에 따라, 웨이퍼에 잔존하는 공정 가스 및 퓸 등의 오염 물질을 제거할 수 있는 장치를 널리 공급하여, 반도체 제조 장비의 오염 및 에칭 패턴(Etching Pattern)의 불량 원인을 원천적으로 방지함으로서, 제품의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer processing apparatus having a wafer purging cassette for removing process gas remaining on a wafer and an object thereof is to provide an apparatus for removing contaminants such as process gas and fumes remaining on a wafer, And to improve the reliability of the product by preventing the cause of the contamination of the equipment and the defect of the etching pattern.
According to another aspect of the present invention, there is provided a wafer transfer apparatus including a transfer device for transferring wafers provided in a transfer container by a transfer robot for each process, a cassette unit provided at one side of the transfer device for storing a plurality of wafers, And a planarization process for removing the step by collectively polishing the surface of the wafer after depositing an interlayer insulating film or the like on the wafer and performing a thin film deposition process, an etching process, and a semiconductor manufacturing process The present invention relates to a wafer processing apparatus comprising process modules,
The cassette section includes at least one wafer purging cassette for cleaning the wafer provided in the semiconductor manufacturing process module.
Accordingly, a device capable of removing contaminants such as process gases and fumes remaining on the wafer is widely supplied to fundamentally prevent the contamination of the semiconductor manufacturing equipment and the defect of the etching pattern, .

Description

웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치{A WAFER TREAT EQUIPMENT HAVE THE WAFER PURGING CASSETTE REMOVAL REMAIN FUME ON THE WAFER}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a wafer processing apparatus having a wafer purging cassette for removing a process gas remaining on a wafer. ≪ RTI ID = 0.0 > [0002] <

본 발명은 웨이퍼 처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 처리장치상에서 웨이퍼에 대한 각종 공정 수행 후, 수직방향으로 적층된 각각의 웨이퍼 상에 잔존하는 공정 가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer processing apparatus and, more particularly, to a wafer processing apparatus having a wafer purging cassette for removing process gases remaining on each wafer stacked in a vertical direction after performing various processes on the wafer on the wafer processing apparatus ≪ / RTI >

일반적으로, 반도체의 핵심 소재인 웨이퍼 상부 표면에 여러 가지 기능을 수행할 수 있도록 박막을 증착하고, 이를 패터닝하여 다양한 회로구조를 형성하는 웨이퍼 처리장치에 대해서는 여러가지가 알려져 오고 있다.In general, a variety of wafer processing apparatuses have been known in which a thin film is deposited on a wafer upper surface, which is a core material of a semiconductor, to perform various functions and patterned to form various circuit structures.

예를 들면, 도 1에 도시한 웨이퍼 처리장치(TE)(이하, "처리장치"라 칭한다)가 그 대표적인 것으로 그 내용은 다음과 같다.For example, the wafer processing apparatus TE (hereinafter referred to as "processing apparatus") shown in Fig. 1 is representative of the following.

도시한 바와 같이, 종래 처리장치(TE)는 이송장치(CE)와 카세트부(CA)와 반도체 제조공정모듈(SM)(이하, “공정모듈”이라 칭한다)로 대별된다.As shown, the conventional processing apparatus TE is roughly divided into a transfer apparatus CE, a cassette unit CA, and a semiconductor manufacturing process module SM (hereinafter referred to as " process module ").

이송장치(CE)는 내부에 이송로봇(MR)이 적어도 하나 이상 구비되며, 도시한 방향 기준하여 하측에 적어도 하나 이상의 이송용기(MB)를 갖추고 있다.At least one transfer robot MR is provided inside the transfer device CE and at least one transfer container MB is provided on the lower side based on the illustrated direction.

다시 말해서, 이송장치(CE)는 내부에 구비된 이송로봇(MR)을 이용하여 이송용기(MB)에 구비된 웨이퍼(WF)를 각 공정에 공급한다.In other words, the transfer device CE supplies the wafer WF provided in the transfer container MB to each process by using the transfer robot MR provided therein.

카세트부(CA)는 제 1, 2웨이퍼 카세트(WC1)(WC2)로 이루어지는데, 이 제 1, 2웨이퍼 카세트(WC1)(WC2)는 일측에 도시한 바와 같이, 다수의 웨이퍼(WF)를 적층할 수 있도록 상, 하 방향으로 다수의 리브(LV)가 구비된다.The cassette unit CA is composed of a first and a second wafer cassettes WC1 and WC2. The first and second wafer cassettes WC1 and WC2 have a plurality of wafers WF A plurality of ribs LV are provided in the upward and downward directions so as to be stacked.

이와 같이, 제 1웨이퍼 카세트(WC1)에 공급된 웨이퍼(WF)는 후술하는 공정모듈(SM)에서 다수의 공정들을 수행하기 전에 웨이퍼(WF)를 보관한다.Thus, the wafer WF supplied to the first wafer cassette WC1 stores the wafer WF before performing a plurality of processes in the process module SM described later.

이와 같이, 제 1웨이퍼 카세트(WC1)를 통해 공급된 웨이퍼(WF)는 공정모듈(SM)에서 웨이퍼(WF) 상부표면에 여러가지 기능을 갖출 수 있도록 3B족 또는 5B족의 불순물 이온을 주입하는 불순물 이온 주입공정과 반도체 기판상에 물질막을 형성하는 박막 증착공정, 상기 물질막을 소정의 패턴으로 형성하는 식각공정 및 웨이퍼 상부에 층간 절연막등을 증착한 후에 일괄적으로 웨이퍼 표면을 연마하여 단차를 제거하는 평탄화 공정(Chemical Mechanical Polishing : CMP)등을 순차적으로 수행한다.As described above, the wafer WF supplied through the first wafer cassette WC1 is an impurity implanting impurity ions of group 3B or group 5B so as to have various functions on the upper surface of the wafer WF in the process module SM A thin film deposition process for forming a material film on a semiconductor substrate, an etching process for forming the material film in a predetermined pattern, and an interlayer insulating film on the wafer are deposited, and then the wafer surface is collectively polished to remove the step And a chemical mechanical polishing (CMP) process.

한편, 상술한 소정의 공정이 완료된 웨이퍼(WF)는 개별 단위로 이동하지 않고, 20개 ~ 25개 단위 묶음으로 격납되어 이동하는데, 이 이동하는 웨이퍼(WF)는 상술한 각 공정상에서 사용되는 공정 가스 및 공정상의 부산물인 퓸(Fume) 등이 제거되지 않고 웨이퍼의 표면에 잔존한 채로 일측에 도시한 바와 같은 형태로 이루어진 제 2웨이퍼 카세트(WC2)에 격납된다.On the other hand, the wafers WF that have been subjected to the above-described predetermined processes do not move in individual units but are stored in groups of 20 to 25 units and move. The moving wafers WF are transferred to the process Gas and fumes as byproducts in the process and the like are not removed but remain on the surface of the wafer and are stored in the second wafer cassette WC2 in the form as shown on the side.

이러한 잔존물이 웨이퍼의 표면에 부착된 상태로 공정을 진행하게 되면 반도체 제조 장비의 오염 및 에칭 패턴(Etching Pattern)의 불량 등으로 이어져 결국 제품의 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.If the residues are adhered to the surface of the wafer, the process proceeds to contamination of the semiconductor manufacturing equipment and deterioration of the etching pattern. As a result, the reliability of the product is deteriorated.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해 반도체 제조용 웨이퍼(Wafer)에 각종의 공정을 수행한 후, 이 웨이퍼가 이송 용기(FOUP : Front Opening Unified Pod) 등으로 이송되기 전에 별도로 구성되는 챔버 등에서 일정 시간 머물면서 웨이퍼의 표면에 잔존하는 공정 가스 및 퓸(Fume)등을 제거하는 방법이 제시되기도 하였다.In order to solve such a problem, various processes are performed on a wafer for semiconductor manufacturing, and after the wafer is transferred to a front opening unified pod (FOUP) or the like, And a method of removing the remaining process gas and fumes on the surface of the substrate.

그러나 상술한 방법에 의하면 챔버 내부에 별도로 공정 가스 및 퓸 등을 제거하는 장치를 마련함으로써 반도체 제조 설비의 비용이 증가할 뿐만 아니라 유지보수비용도 증가한다는 문제점이 있으며, 웨이퍼의 생산 효율이 저하된다는 문제점이 발생한다.However, according to the above-described method, the apparatus for removing the process gas and the fume is separately provided in the chamber, thereby increasing the cost of the semiconductor manufacturing facility and increasing the maintenance cost. In addition, Lt; / RTI >

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 웨이퍼에 잔존하는 공정 가스 및 퓸 등의 오염 물질을 제거할 수 있는 장치를 널리 공급하여, 반도체 제조장비의 오염 및 에칭 패턴(Etching Pattern)의 불량 원인을 원천적으로 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시키는데 있다.It is an object of the present invention to provide a device capable of removing contaminants such as process gas and fumes remaining on a wafer, And to improve the reliability of the product by preventing the defect of etch pattern.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 반도체 제조장비의 비용을 대폭적으로 증가시키지 않고도 웨이퍼의 생산효율은 극대화하는데 있다. Another object of the present invention is to maximize the production efficiency of wafers without significantly increasing the cost of the semiconductor manufacturing equipment.

이러한 목적으로 이루어진 본 발명은;The present invention made for this purpose comprises:

이송용기에 구비된 웨이퍼를 이송로봇에 의해 각 공정별로 이송하는 이송장치와, 상기 이송장치 일측에 구비되어 다수의 웨이퍼를 격납하는 제 1웨이퍼 카세트와, 상기 제 1웨이퍼 카세트에서 공급된 웨이퍼 상부표면에 여러가지 기능을 갖출 수 있도록 박막 증착공정, 식각공정 및 웨이퍼 상부에 층간 절연막등을 증착한 후에 일괄적으로 웨이퍼 표면을 연마하여 단차를 제거하는 평탄화공정등을 순차적으로 수행하는 반도체 제조공정모듈과, 상기 반도체 제조공정모듈에서 수행하는 모든 공정이 완료된 다수의 웨이퍼를 보관할 수 있도록 상기 제 1웨이퍼 카세트 일측에 구비되는 제 2웨이퍼 카세트로 이루어진 카세트부를 포함하는 웨이퍼 처리장치에 관한 것으로,A transfer device for transferring the wafer provided in the transfer container by the transfer robot by each process; a first wafer cassette provided at one side of the transfer device for storing a plurality of wafers; A semiconductor manufacturing process module for sequentially performing a thin film deposition process, an etching process, a planarization process for removing an unevenness by collectively polishing the wafer surface after depositing an interlayer insulating film or the like on the wafer, And a cassette unit including a second wafer cassette disposed at one side of the first wafer cassette so as to store a plurality of wafers having completed all processes performed in the semiconductor manufacturing process module,

상기 카세트부의 제 2웨이퍼 카세트는, The second wafer cassette of the cassette unit

상기 반도체 제조공정모듈에서 제공되는 각각의 웨이퍼를 소정간격 이격시켜 적층할 수 있도록 일측 수평방향 대칭형으로 리브가 마련된 다수의 웨이퍼 지지부재와, 상기 웨이퍼 지지부재의 상, 하 수직방향으로 번갈아 구비되는 스페이서와, 상기 스페이서와 상기 웨이퍼 지지부재를 수직방향으로 관통하며, 상기 스페이서의 길이방향으로 다수 형성된 개구부에 퍼지가스가 분사되는 분사구가 마련되는 다수의 분사관으로 이루어진 웨이퍼 퍼징 카세트를 포함한다.
A plurality of wafer supporting members provided with ribs symmetrically formed on one side in a horizontal direction so that the wafers provided in the semiconductor manufacturing process module can be stacked with a predetermined distance therebetween and spaced apart from each other in a vertical direction; And a wafer purging cassette including a plurality of spraying tubes penetrating the spacer and the wafer supporting member in the vertical direction and having a plurality of spraying nozzles through which a plurality of openings formed in the longitudinal direction of the spacers are injected with purge gas.


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또한, 상기 웨이퍼 퍼징 카세트는,In addition, the wafer purging cassette includes:

상기 분사구를 통해 분사되는 퍼지가스의 압력과 유량을 제어하는 컨트롤러를 더 포함한다.
And a controller for controlling the pressure and the flow rate of the purge gas injected through the injection port.

또한, 상기 웨이퍼 퍼징 카세트는,In addition, the wafer purging cassette includes:

상기 각각의 웨이퍼를 소정간격 이격시켜 적층할 수 있도록 일측 수평방향 대칭형으로 리브가 마련된 다수의 웨이퍼 지지부재와, 상기 웨이퍼 지지부재의 상, 하 수직방향으로 번갈아 구비되며, 길이방향 일측으로 퍼지가스가 유입되는 유입구와, 상기 유입구의 일측 직각방향 등간격으로 퍼지가스(Purge Gas)가 분사되는 다수의 분사구가 마련되는 스페이서로 이루어진다.
A plurality of wafer supporting members provided with ribs symmetrically formed on one side in a horizontal direction so as to allow the wafers to be stacked with a predetermined distance therebetween and alternately in the vertical direction and the vertical direction of the wafer supporting member, And a spacer provided with a plurality of ejection openings through which purge gas is injected at equal intervals in a direction perpendicular to one side of the inlet.

또한, 상기 웨이퍼 퍼징 카세트는,In addition, the wafer purging cassette includes:

상, 하 방향으로 번갈아 구비되는 상기 웨이퍼 지지부재와 스페이서의 수직방향으로 구비된 감지수단과, 상기 감지수단으로 부터의 전기신호를 감지하는 컨트롤러와, 상기 컨트롤러의 신호에 따라, 선택적으로 개폐되는 다수의 유출구가 마련된 공압 블록을 더 포함한다.
A sensing unit provided in a direction perpendicular to the wafer support member and the spacer alternately provided in the upward and downward directions, a controller for sensing electric signals from the sensing unit, and a plurality of And a pneumatic block provided with an outlet of the pneumatic block.

또한, 상기 감지수단은 광학센서(Optical Senser)인 것을 특징으로 한다.In addition, the sensing means may be an optical sensor.

상술한 바와 같이, 본 발명에 의하며, 웨이퍼에 잔존하는 공정 가스 및 퓸 등의 오염 물질을 제거할 수 있는 장치를 널리 공급하여, 반도체 제조 장비의 오염 및 에칭 패턴(Etching Pattern)의 불량 원인을 원천적으로 방지함으로서, 제품의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, a device capable of removing contaminants such as process gas and fumes remaining on a wafer is widely supplied, and the causes of contamination of the semiconductor manufacturing equipment and the defect of the etching pattern It is possible to improve the reliability of the product.

또한, 반도체 제조장비의 비용을 대폭적으로 증가시키지 않고도 웨이퍼의 생산효율은 극대화하는 효과가 있다.Further, the production efficiency of the wafer is maximized without significantly increasing the cost of the semiconductor manufacturing equipment.

도 1은 종래 웨이퍼 처리장치를 평면상에서 바라본 도면이고,
도 2a는 본 발명 일 실시 예에 따른 웨이퍼 퍼징 카세트를 보인 사시도이고,
도 2b는 도 2a “A”선을 확대하여 보인 분해사시도이고,
도 3은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 웨이퍼 퍼징 카세트를 보인 사시도이고,
도 4는 도 3 "B"선을 확대하여 보인 분해 사시도이고,
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼 퍼징 카세트의 작용, 효과를 보인 사시도이고,
도 6은 도 5 “C”선을 확대하여 보인 도면이다.1 is a plan view of a conventional wafer processing apparatus,
2A is a perspective view showing a wafer purging cassette according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2B is an exploded perspective view showing the enlarged line of FIG. 2A "A"
3 is a perspective view showing a wafer purging cassette according to another embodiment of the present invention,
Fig. 4 is an exploded perspective view showing an enlarged line of Fig. 3 "B"
5 is a perspective view showing the action and effect of the wafer purging cassette according to the present invention,
Fig. 6 is an enlarged view of the line " C " in Fig.

도 2a 도 2b를 참조하면, 본 발명 일 실시예에 따른 웨이퍼 퍼징 카세트(100)(이하, "카세트"라 칭한다)는 마구리(105)와 웨이퍼 지지부재(110)와 스페이서(130)와 분사관(150)으로 대별된다. 2A and 2B, a wafer purging cassette 100 (hereinafter referred to as a "cassette") according to an embodiment of the present invention includes a wafer holder 105, a wafer support member 110, spacers 130, (150).

마구리(105)는 단면상 직사각형으로 형성된 바아 형태이며, 하측 길이방향 등간격으로 후술하는 분사관(150)의 단부가 억지끼워맞춤으로 삽입될 수 있도록 요홈(106)이 형성되어 있다.The barb 105 is formed in a bar shape having a rectangular shape in section and has a groove 106 formed therein at an equal interval in the lower longitudinal direction so that the end of the injection pipe 150 described below can be inserted in an interference fit.

이 마구리(105) 대신에 후술하는 분사관(150)의 각 단부를 막는 형태의 마구리를 장착해도 본 발명 소기의 목적을 달성할 수 있음은 물론이다.It is needless to say that the present invention can be accomplished by replacing the tail pipe 105 with a tail pipe which blocks each end of the injection pipe 150 described later.

상기한 마구리(105)의 하측에 스페이서(130)가 구비된다.A spacer 130 is provided on the lower side of the edge 105.

스페이서(130)는 상기한 요홈(106)의 위치와 수직상으로 중심이 일치하는 위치 일측으로 개구부(131)가 형성되는데, 이 개구부(131)는 후술하는 작용에서 분사관(150)의 분사구(151)가 구비되는 위치이다.The spacer 130 is formed with an opening 131 at one side of a position where the center of the spacer 130 is vertically aligned with the position of the groove 106. The opening 131 is formed in the opening 130 of the injection pipe 150 151 are provided.

스페이서(130)의 하측으로 웨이퍼 지지부재(110)가 구비된다.A wafer support member 110 is provided below the spacer 130.

웨이퍼 지지부재(110)는 상기한 요홈(106)과 개구부(131)의 중심과 수직상으로 일치하는 위치에 관통공(111)이 형성되어, 분사관(150)의 관통이 용이하도록 하였다.The wafer support member 110 is formed with a through hole 111 at a position vertically aligned with the center of the groove 106 and the opening 131 to facilitate the passage of the injection tube 150. [

또한, 일측 방향으로 웨이퍼(5)를 지지할 수 있도록 리브(113)가 구비되는데, 이 리브(113)의 테두리에는 단차(114)가 형성되어 안착되는 웨이퍼(5)의 상면이 돌출되는 것을 방지하도록 하였다.In addition, a rib 113 is provided to support the wafer 5 in one direction. A step 114 is formed on the edge of the rib 113 to prevent the upper surface of the wafer 5 from being protruded Respectively.

상기한 바와 같은, 스페이서(130)와 웨이퍼 지지부재(110)는 다층 대칭형으로 구비되며, 상기한 관통공(111)과 개구부(131)를 관통한 분사관(150)이 구비된다.The spacer 130 and the wafer support member 110 are provided in a multilayer symmetrical manner and the injection tube 150 penetrating the through hole 111 and the opening 131 is provided.

분사관(150)은 수직방향으로 다수의 분사구(151)가 형성되는데, 이 분사구(151)는 상기한 스페이서(130)의 개구부(131)에 위치되며, 방사상으로 적어도 하나 이상 형성하여 후술하는 작용에서 퍼지가스(Purge Gas)의 폭넓은 분출이 용이하도록 하였다.A plurality of injection openings 151 are formed in the vertical direction of the injection tube 150. The injection openings 151 are located in the openings 131 of the spacers 130 and are formed in at least one radial direction, (Purge Gas).

분사관(150)의 하단은 엘보우(153)(Elbow)와 티이(155)(Tee)를 통해 한 라인으로 형성됨으로서, 양측 동시에 퍼지가스 분출이 용이하다.The lower end of the injection pipe 150 is formed as one line through the elbow 153 and the tee 155 so that the purge gas can be easily ejected on both sides at the same time.

이와 같이, 분사관(150)을 통해 분출되는 퍼지가스의 압력과 유량은 도시하지 않은 컨트롤러에 의해 자동으로 조절된다.As described above, the pressure and the flow rate of the purge gas ejected through the injection pipe 150 are automatically controlled by a controller (not shown).

한편, 상기한 스페이서(130)와 웨이퍼 지지부재(110)는 접착제에 의해 번갈아 적층할 수도 있고, 수직방향으로 다수의 볼트(미도시)를 체결하여 일체로 적층할 수도 있다.Meanwhile, the spacer 130 and the wafer support member 110 may be alternately stacked by an adhesive, or a plurality of bolts (not shown) may be fastened in a vertical direction to be integrally laminated.

도 3 내지 도 5에 도시한 것은 본 발명에 따른 카세트(100)의 다른 실시예를 보인 것이다. 3 to 5 show another embodiment of the cassette 100 according to the present invention.

도시한 바를 참조하면, 본 발명에 따른 카세트(100)는 웨이퍼 지지부재(110)와 스페이서(130)로 이루어진다.(설명 편의상, 일실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 붙여 설명한다)Referring to the drawings, the cassette 100 according to the present invention includes a wafer support member 110 and a spacer 130. (For the sake of convenience, the same components are denoted by the same reference numerals)

스페이서(130)는 단면상 직사각형상을 갖춘 바아 형태로서, 일측 길이방향으로 후술하는 공압블럭(160)에서 유입되는 퍼지가스가 유입되도록 유입구(133)가 형성되며, 이 유입구(133)의 일측 직각방향 등간격으로 다수의 분사구(135)가 형성되어 있다. The spacer 130 is formed in a bar shape having a rectangular shape in cross section and has an inlet 133 for introducing the purge gas introduced from a later-described pneumatic block 160 in the longitudinal direction of the one side, And a plurality of jetting ports 135 are formed at regular intervals.

상기한 유입구(133)는 후술하는 작용에서 공압블럭(160)중 어느 하나의 유출구(161)와 직접 연결됨으로서 웨이퍼(5)가 구비되는 부분의 분사구(135)로만 개별적으로 퍼지가스가 분출되도록 하였다.The inlet port 133 is directly connected to any one of the outlet ports 161 of the pneumatic block 160 to be described later so that the purge gas is ejected individually only at the injection port 135 of the portion where the wafer 5 is provided .

이 스페이서(130)의 하측으로 웨이퍼 지지부재(110)가 구비된다.A wafer support member 110 is provided below the spacer 130.

웨이퍼 지지부재(110)는 상기한 스페이서(130)의 관통공(137)과 수직상으로 중심이 일치하는 위치에 관통공(117)이 형성되어 수직방향으로 볼트(BT)체결이 용이하도록 하였다.The wafer support member 110 is formed with a through hole 117 at a position where the wafer support member 110 is vertically centered with the through hole 137 of the spacer 130 to facilitate bolt BT tightness in the vertical direction.

이 웨이퍼 지지부재(110)의 일측 방향에는 웨이퍼(5)를 지지할 수 있도록 리브(113)가 구비된다. A rib 113 is provided at one side of the wafer support member 110 so as to support the wafer 5.

이하, 리브(113)는 상술한 일실시예와 동일함으로 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, the rib 113 is the same as that of the above-described embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 퍼징 카세트(100)는 감지수단(120)과 컨트롤러(140)와 공압블럭(160)을 더 포함한다.5, the purging cassette 100 according to the present invention further includes a sensing unit 120, a controller 140, and a pneumatic block 160. As shown in FIG.

감지수단(120)은 광학 센서(Optics Sensor)로서 상기한 스페이서(130)와 웨이퍼 지지부재(110)가 번갈아 다수 구비된 수직방향으로 적어도 하나 이상의 구비된다.The sensing means 120 is an optical sensor and is provided with at least one or more spacers 130 and a plurality of wafer support members 110 alternately arranged in a vertical direction.

이 감지수단(120)은 후술하는 작용에서 본 발명에 따른 퍼징 카세트(100)에 웨이퍼(5)가 적재되면 이를 감지하여 컨트롤러(140)에 전기 신호를 발생한다.When the wafer 5 is loaded on the purging cassette 100 according to the present invention, the sensing means 120 senses the wafer 5 and generates an electric signal to the controller 140.

이때, 컨트롤러(140)에서는 상기한 감지수단(120)에서 감지된 전기신호에 따른 동작을 실행한다.At this time, the controller 140 performs an operation according to the electric signal sensed by the sensing means 120. [

다시 말해서, 컨트롤러(140)는 웨이퍼(5)가 구비된 부분의 스페이서(130)에만 퍼지 가스가 분출되도록 프로그램됨으로서, 이 프로그램에 의해 공압블럭(160)의 유출구(161)는 해당 스페이서(130)의 유입구(133)로 퍼지가스가 공급되고, 이 공급된 퍼지가스는 해당 스페이서(130)의 분사구(135)를 통해 분출된다.In other words, the controller 140 is programmed such that the purge gas is ejected only to the spacer 130 of the portion where the wafer 5 is provided, by which the outlet 161 of the pneumatic block 160 is connected to the corresponding spacer 130, And the supplied purge gas is ejected through the injection port 135 of the spacer 130. The purge gas is supplied to the inlet 133 of the spacer 130 through the injection port 135 of the spacer 130. [

상기한 감지수단(120)은 본 발명에 따른 카세트(100)의 일측 수직방향으로 구비된 것에 대해서만 설명하였으나, 그 설치 위치는 얼마든지 설치되는 현장 상황에 따라 달라질 수 있다. Although the sensing means 120 is provided in the vertical direction of one side of the cassette 100 according to the present invention, the installation position of the sensing means 120 may vary depending on the installation situation.

예를 들면, 도 6에 도시한 바와 같이, 좌, 우 수직방향 이외에 상, 하 수평방향으로 구비하여도 본 발명 소기의 목적을 달성할 수 있음은 물론이다.For example, as shown in Fig. 6, it is needless to say that the present invention can be achieved in the vertical direction as well as the left and right vertical directions.

계속해서, 도 6을 참조로 하여 본 발명에 따른 퍼징 카세트(100)의 작용 효과를 설명한다.Next, referring to Fig. 6, the operation and effect of the purging cassette 100 according to the present invention will be described.

우선, 세정할 웨이퍼(5)가 본 발명에 따른 퍼징 카세트(100)에 공급된다.First, the wafer 5 to be cleaned is supplied to the purging cassette 100 according to the present invention.

이 때, 일측 수직방향으로 구비된 감지수단(120)에서 이를 감지하여, 이 감지신호를 컨트롤러(140)에 전달한다.At this time, the detection means 120 provided in one vertical direction detects this and transmits the detection signal to the controller 140.

컨트롤러(140)는 이 신호에 따라 미리 입력된 프로그램을 실행하게 되는데, 해당 웨이퍼(5)가 투입된 부분의 스페이서(130)에만 퍼지가스가 공급되도록 공압블럭(160)의 유출구(161)중 어느 한 개소가 개방되며, 도시하지 않은 탱크로 부터 공급되는 퍼지가스를 해당 스페이서(130)의 분사구(135)를 통해 분출한다.The controller 140 executes a program that has been input in advance according to the signal so that one of the outlets 161 of the pneumatic block 160 is supplied with the purge gas only to the spacer 130 of the portion into which the wafer 5 is inserted And the purge gas supplied from a tank (not shown) is ejected through the injection port 135 of the spacer 130. [

이에 따라, 본 발명에 따른 퍼징 카세트(100)는 감지수단(120)의 감지신호에 따라, 적어도 한 개소 이상의 스페이서(130)에 퍼지 가스를 분출하면서 세정작업이 이루어진다. Accordingly, the purging cassette 100 according to the present invention performs the cleaning operation by ejecting the purge gas to at least one of the spacers 130 in accordance with the detection signal of the sensing means 120.

이에 따라, 웨이퍼에 대한 각종 공정의 수행 후, 웨이퍼에 잔존하는 공정 가스 및 퓸등의 오염물질을 제거하여 웨이퍼의 오염을 방지함과 동시에 웨이퍼의 수율을 향상시키는 이점이 있으며, 이로 인하여 반도체 제조 설비의 부식을 방지하고 신뢰성을 확보할 수 있다.Accordingly, after performing various processes on the wafer, contaminants such as process gas and fumes remaining on the wafer are removed to prevent contamination of the wafer and improve the yield of the wafer. As a result, Corrosion can be prevented and reliability can be secured.

본 발명에 따른 웨이퍼 퍼징 카세트(100)는 하나의 구성에 대해서만 설명하였으나, 적어도 하나 이상의 수량으로 설치하여 상술한 퍼징동작을 교번하여 수행하여도 본 발명 소기의 목적을 달성할 수 있음은 물론이다. Although the wafer purging cassette 100 according to the present invention has been described with respect to only one configuration, it is needless to say that the present invention can also achieve the objects of the present invention by performing the purging operation alternately by installing the wafer purging cassette 100 in at least one quantity.

본 발명은 상술한 특정 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자 라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변형실시는 본 발명의 청구범위 기재 범위 내에 있게 된다.It is to be understood that the present invention is not limited to the specific exemplary embodiments described above and that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. And such modified embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

1 : 웨이퍼 처리장치 10 : 카세트부
100 : 웨이퍼 퍼징 카세트 110 : 웨이퍼 지지부재
120 : 감지수단 140 : 컨트롤러
160 : 공압 블록 161 : 유출구
130 : 스페이서 131 : 개구부
150 : 분사관 151 : 분사구1: Wafer processing apparatus 10: Cassette section
100: wafer purging cassette 110: wafer support member
120: sensing means 140: controller
160: Pneumatic block 161: Outlet
130: spacer 131: opening
150: Injector 151: Injector

Claims (6)

이송용기에 구비된 웨이퍼를 이송로봇에 의해 각 공정별로 이송하는 이송장치와, 상기 이송장치 일측에 구비되어 다수의 웨이퍼를 격납하는 제 1웨이퍼 카세트와, 상기 제 1웨이퍼 카세트에서 공급된 웨이퍼 상부표면에 여러가지 기능을 갖출 수 있도록 박막 증착공정, 식각공정 및 웨이퍼 상부에 층간 절연막등을 증착한 후에 일괄적으로 웨이퍼 표면을 연마하여 단차를 제거하는 평탄화공정등을 순차적으로 수행하는 반도체 제조공정모듈과, 상기 반도체 제조공정모듈에서 수행하는 모든 공정이 완료된 다수의 웨이퍼를 보관할 수 있도록 상기 제 1웨이퍼 카세트 일측에 구비되는 제 2웨이퍼 카세트로 이루어진 카세트부를 포함하는 웨이퍼 처리장치에 있어서,
상기 카세트부의 제 2웨이퍼 카세트는,
상기 반도체 제조공정모듈에서 제공되는 각각의 웨이퍼를 소정간격 이격시켜 적층할 수 있도록 일측 수평방향 대칭형으로 리브가 마련된 다수의 웨이퍼 지지부재와, 상기 웨이퍼 지지부재의 상, 하 수직방향으로 번갈아 구비되는 스페이서와, 상기 스페이서와 상기 웨이퍼 지지부재를 수직방향으로 관통하며, 상기 스페이서의 길이방향으로 다수 형성된 개구부에 퍼지가스가 분사되는 분사구가 마련되는 다수의 분사관으로 이루어진 웨이퍼 퍼징 카세트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치.A transfer device for transferring the wafer provided in the transfer container by the transfer robot by each process; a first wafer cassette provided at one side of the transfer device for storing a plurality of wafers; A semiconductor manufacturing process module for sequentially performing a thin film deposition process, an etching process, a planarization process for removing an unevenness by collectively polishing the wafer surface after depositing an interlayer insulating film or the like on the wafer, And a cassette unit including a second wafer cassette disposed at one side of the first wafer cassette so as to store a plurality of wafers completed in the semiconductor manufacturing process module, the apparatus comprising:
The second wafer cassette of the cassette unit
A plurality of wafer supporting members provided with ribs symmetrically formed on one side in a horizontal direction so that the wafers provided in the semiconductor manufacturing process module can be stacked with a predetermined distance therebetween and spaced apart from each other in a vertical direction; And a wafer purging cassette including a plurality of spraying tubes which are vertically penetrated through the spacer and the wafer supporting member and provided with an injection port through which a plurality of openings formed in the longitudinal direction of the spacer are injected with purge gas A wafer processing apparatus having a wafer purging cassette for removing process gas remaining on a wafer. 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 웨이퍼 퍼징 카세트는, 상기 분사구를 통해 분사되는 퍼지가스의 압력과 유량을 제어하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the wafer purging cassette further comprises a controller for controlling the pressure and the flow rate of the purge gas being injected through the injection orifice, wherein the wafer purging cassette further comprises a controller for controlling the pressure and the flow rate of the purge gas injected through the injection port. 제 1항에 있어서,
상기 웨이퍼 퍼징 카세트는, 상기 각각의 웨이퍼를 소정간격 이격시켜 적층할 수 있도록 일측 수평방향 대칭형으로 리브가 마련된 다수의 웨이퍼 지지부재와, 상기 웨이퍼 지지부재의 상, 하 수직방향으로 번갈아 구비되며, 길이방향 일측으로 퍼지가스가 유입되는 유입구와, 상기 유입구의 일측 직각방향 등간격으로 퍼지가스(Purge Gas)가 분사되는 다수의 분사구가 마련되는 스페이서로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치.The method according to claim 1,
The wafer purging cassette includes a plurality of wafer supporting members provided with ribs symmetrically formed on one side in a horizontal direction so that the wafers can be stacked with a predetermined spacing therebetween, And a spacer provided with a plurality of injection ports through which a purge gas is injected at equal intervals in a direction perpendicular to the one side of the inlet. Wherein the wafer purging cassette comprises a wafer purging cassette. 제 4항에 있어서,
상기 웨이퍼 퍼징 카세트는, 상, 하 방향으로 번갈아 구비되는 상기 웨이퍼 지지부재와 스페이서의 좌, 우 수직방향 또는 상, 하 수평방향으로 적어도 하나 이상 구비된 감지수단과, 상기 감지수단으로부터의 전기신호를 감지하는 컨트롤러와, 상기 컨트롤러의 신호에 따라, 선택적으로 개폐되는 다수의 유출구가 마련된 공압 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치.5. The method of claim 4,
The wafer purging cassette includes sensing means provided at least one or more in the vertical or horizontal direction of the left and right of the wafer support member and the spacer alternately arranged in the upward and downward directions and an electric signal from the sensing means And a pneumatic block provided with a plurality of outlets selectively opened and closed in accordance with a signal of the controller. 2. A wafer processing apparatus comprising a wafer purging cassette for removing process gas remaining on a wafer. 제 5항에 있어서,
상기 감지수단은, 광학 센서(Optics Senser)인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 상에 잔존하는 공정가스를 제거하는 웨이퍼 퍼징 카세트를 갖춘 웨이퍼 처리장치.6. The method of claim 5,
Characterized in that the sensing means is an optical sensor. A wafer processing apparatus comprising a wafer purging cassette for removing process gases remaining on a wafer.
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