KR101426840B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

피처리용 기판이 위치하고 적어도 일 측벽에 슬릿을 갖는 공정실과, 상기 공정실 내에 위치하고 상기 기판에 처리 매체를 토출시키는 토출 유닛과, 상기 공정실 외에 위치하고 상기 슬릿을 통해 상기 토출 유닛과 연결되며 상기 토출 유닛을 상기 기판의 면 방향으로 이동시키는 구동 유닛과, 상기 토출 유닛과 구동 유닛의 사이에 개재되고 상기 구동 유닛을 상기 공정실 내부의 분위기로부터 밀봉하는 밀봉 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

Description

기판 처리 장치{Treating apparatus for substrate}
기판 처리 장치에 관한 것이다.
박막 트랜지스터를 포함한 디스플레이용 기판이나, 반도체 소자용 기판은 그 표면의 실리콘 산화막을 제거하거나 실리콘막 표면을 평탄화시키기 위한 기판 표면 처리 공정을 거친다.
이러한 기판 표면 처리 공정은 기판의 표면에 에칭액과 같은 처리액을 포함하는 처리 매체를 제공하여 행해진다.
이러한 기판 처리 장치는 공정이 행해지는 공정실 내부 및/또는 외부가 처리액을 포함하는 처리 매체에 의해 쉽게 오염될 수 있기 때문에 공정실 내에 설치되는 장비는 처리 매체에 의해 부식되기 쉽다. 이 때문에 공정실 내부 및 외부에 설치되는 장비들은 내부식성 및 내약품성이 높은 재질로 만들어진다. 그런데 이는 장비 원가를 지나치게 상승시킬 뿐 아니라 재질의 한계로 인하여 복잡한 승강 시스템과 같은 설비들이 공정실 내외에 설치되기 어려운 한계가 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제 및/또는 한계를 극복하기 위한 것으로, 공정실 내부 및/또는 외부에 저렴하고 내구성이 높도록 설비를 구성할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 데에 목적이 있다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 피처리용 기판이 위치하고 적어도 일 측벽에 슬릿을 갖는 공정실과, 상기 공정실 내에 위치하고 상기 기판에 처리 매체를 토출시키는 토출 유닛과, 상기 공정실 외에 위치하고 상기 슬릿을 통해 상기 토출 유닛과 연결되며 상기 토출 유닛을 상기 기판의 면 방향으로 이동시키는 구동 유닛과, 상기 토출 유닛과 구동 유닛의 사이에 개재되고 상기 구동 유닛을 상기 공정실 내부의 분위기로부터 밀봉하는 밀봉 유닛을 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 밀봉 유닛은, 상기 슬릿에 인접하게 위치하고 물이 채워지도록 구비된 워터 재킷과, 단부가 상기 워터 재킷의 물에 잠기도록 상기 워터 재킷 위에 배치되는 커버 부재와, 상기 커버 부재와 상기 구동 유닛을 연결하는 제1연결 부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 워터 재킷은, 상기 슬릿의 일측에 인접하게 연장되고 물이 수용되도록 구비된 제1수용부와, 상기 슬릿의 타측에 인접하게 연장되고 상기 제1수용부에 대향되게 위치하는 연장부와, 상기 연장부로부터 연장되어 물이 수용되도록 구비된 제2수용부를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 커버 부재는, 상기 제1연결 부재가 결합된 제1커버 부재와, 상기 제1커버 부재와 결합된 제2커버 부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제1커버 부재는 견고한 재질로 구비되고, 상기 제2커버 부재는 상기 슬릿의 길이방향을 따라 신축 가능하도록 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제2커버 부재는 벨로우즈를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제1커버 부재와 상기 워터 재킷 사이에 위치하는 적어도 하나의 베어링을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제1커버 부재와 상기 토출 유닛에 결합된 제2연결 부재를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 구동 유닛은, 상기 슬릿의 길이방향을 따라 연장된 레일과 상기 레일을 따라 선형 운동하는 이동자를 포함하고, 상기 제1연결 부재는 상기 이동자에 연결될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제1연결부재 및 제2연결부재 내에 위치하고 상기 토출 유닛에 상기 처리 매체를 공급하는 공급관을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 공정실 내에 위치하고 상기 기판이 놓이는 제1테이블과, 상기 제1테이블에 연결된 복수의 지지대와, 상기 지지대들 중 적어도 하나와 연결되어 상기 제1테이블을 승강 운동시키도록 구비된 승강 유닛을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 슬릿의 길이는 제1테이블의 길이보다 길고, 슬릿의 일단은 제1테이블의 일단으로부터 적어도 토출 유닛의 폭 이상 이격된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 공정실 내에서 상기 제1테이블과 대향되도록 고정되게 배치되며 상기 지지대들 중 적어도 하나가 관통하도록 구비된 제2테이블과, 상기 제1테이블과 상기 제2테이블의 사이에 위치하고 상기 지지대들을 각각 둘러 싸며 신축 가능하도록 구비된 복수의 보호 부재를 더 포함할 수 있다.
상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 공정실 내부의 가스 등이 공정실 외부로 유출되어 시스템 및/또는 구동 유닛을 오염 및/또는 손상시키는 것을 방지할 수 있다.
또, 습식 처리 장치로 사용할 때에 시스템의 내구성을 향상시킬 수 있다.
인라인 상으로 배열된 기판 표면 처리 시스템에서 기판의 방향을 전환시키는 방향 전환 장치로서 사용될 수 있다.
테이블을 승강 운동시킬 수 있는 승강 시스템인 지지대들과 승강 유닛이 처리 매체로부터 보호받을 수 있기 때문에, 이들 구성요소를 고가의 내부식성 및 내약품성이 높은 재질로 형성할 필요가 없어 원가를 줄일 수 있다.
그리고 공정실 내에 습식 처리부가 설치되어 있음에도 불구하고, 공정실 내에 승강 시스템을 설치할 수 있다.
처리 매체의 비산으로부터 공정실의 상부면이나 바닥면을 보호할 수 있다.
처리 매체의 배출이 더욱 원활해질 수 있고, 처리 매체의 처리에도 더욱 유용해, 환경 오염을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 측면 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 정면 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 3은 밀봉 유닛 및 구동 유닛의 일 예를 도시한 부분 단면도,
도 4는 밀봉 유닛 및 구동 유닛의 일 예를 도시한 부분 평면도,
도 5는 밀봉 유닛 및 구동 유닛의 다른 일 예를 도시한 부분 평면도,
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 측면 구성을 개략적으로 도시한 구성도.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 실시예들에 대하여 보다 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 1에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 공정실(2)과, 공정실(2) 내에 위치하는 테이블(3) 및 토출 유닛(4)을 포함한다.
공정실(2) 내에 위치한 테이블(3) 위에는 피처리용 기판(1)이 위치한다.
상기 공정실(2)은 기판(1)에 대하여 처리가 이뤄지는 챔버가 되는 데, 습식 처리가 이뤄질 수 있다. 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공정실(2)에는 상기 기판(1)의 유입 및 유출이 가능하도록 도어가 구비될 수 있다.
상기 공정실(2)의 일 측벽(21)에는 도 1 및 도 2에서 볼 수 있듯이, 슬릿(22)이 길게 형성되어 있다. 이 슬릿(22)을 따라 토출 유닛(4)이 직선 왕복 운동을 하게 되며, 토출 유닛(4)으로부터 처리 매체가 기판(1)으로 노출되어 기판(1) 표면을 처리한다. 상기 슬릿(22)은 적어도 기판(1)의 길이보다 길게 형성되는 것이 바람직하다. 이에 따라 토출 유닛(4)이 기판(1)의 전체 길이에 걸쳐서 왕복 운동하면서 기판(1)의 표면에 처리 매체를 토출할 수 있게 된다.
도 2에서 볼 수 있듯이, 상기 토출 유닛(4)은 기판(1)의 표면으로부터 일정 간격 이격된 상방에 위치하며, 적어도 하부의 기판(1)을 향해 처리 매체를 토출시킬 수 있도록 토출구(41)를 구비한다. 상기 토출구(41)의 전체 길이는 상기 기판(1)의 폭보다 길도록 하는 것이 바람직하다. 이에 따라 토출구(41)에서의 처리 매체의 토출에 의해 기판(1)의 폭 전체에 걸쳐 표면 처리가 이뤄질 수 있다. 도 1 및 도 2에서는 상기 토출 유닛(4)이 하나인 것만을 도시하였으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 복수의 토출 유닛(4)이 공정실(2) 내에 위치할 수 있다. 그리고 하나의 토출 유닛(4)가 복수의 동질 및/또는 이질의 처리 매체를 동시 및/또는 이시에 토출시키도록 구비될 수 있다.
상기 공정실(2)의 외측에는 구동 유닛(5)이 위치한다. 상기 구동 유닛(5)은 상기 슬릿(22)을 통해 상기 토출 유닛(4)과 연결되며 상기 토출 유닛(4)을 상기 슬릿(22)의 길이방향을 따라 상기 기판(1)의 면 방향으로 이동시킨다. 상기 구동 유닛(5)은 상기 토출 유닛(4)을 슬릿(22)의 길이방향을 따라 이동시킬 수 있는 것이면 어떠한 것이든 적용될 수 있는 데, 리니어 모션 시스템, 체인 구동 시스템, 또는 자기 부상 시스템 등 다양한 선형 구동 시스템이 적용될 수 있다.
상기 토출 유닛(4)을 통해 토출되는 처리 매체는 순수, 오존수, 불산, 및 액절 공기 중 적어도 하나일 수 있는 데, 기판(1)의 표면에 분사될 수는 다양한 매체가 사용될 수 있다.
상기 토출 유닛(4)과 상기 구동 유닛(5)과의 사이에는 밀봉 유닛(6)이 개재된다. 상기 밀봉 유닛(6)에 의해 적어도 상기 구동 유닛(5)은 상기 공정실(2) 내부의 분위기로부터 밀봉될 수 있다. 본 명세서에서 밀봉이란 공정실(2) 내부와 외부와의 일체의 유체 소통이 전면적으로 차단된 제한적 밀봉에 한정되는 것은 아니고, 공정실(2) 내부와 외부의 압력 조건 등이 동일하게 유지될 수 있고 일정 정도의 공기 소통이 가능한 비제한적 밀봉을 포함한다.
상기 밀봉 유닛(6)은 슬릿(22)에 인접하게 위치하는 데, 바람직하게는 공정실(2) 측벽(21) 외측에 인접하게 위치한다.
상기 토출 유닛(4)은 연결 블록(42)을 통해 상기 밀봉 유닛(6)에 연결된다.
상기 공정실(2) 외측에는 저장 탱크(45)가 위치하는 데, 토출 유닛(4)은 저장 탱크(45)와 제1공급관(43) 및 제2공급관(44)을 통해 연결된다. 상기 제1공급관(43) 및 제2공급관(44) 중 적어도 하나에는 밸브(46)가 연결되어 있고, 상기 밸브(46)를 통해 저장 탱크(45)로부터 상기 제1공급관(43) 및 제2공급관(44) 중 적어도 하나에 처리 매체의 공급을 단속할 수 있다. 상기 밸브(46)는 별도의 제어 유닛에 의해 구동하는 전자변일 수 있다.
도 3은 상기 구동 유닛(5) 및 밀봉 유닛(6)의 일 예를 도시한 단면도이고, 도 4는 그 평면도이다.
먼저, 슬릿(22)에 인접하게 공정실(2) 측벽(21)의 외측에 워터 재킷(61)이 위치한다. 상기 워터 재킷(61)에는 물(60)이 채워져 있다.
상기 워터 재킷(61)은 제1수용부(611), 연장부(613) 및 제2수용부(612)를 포함할 수 있다.
상기 제1수용부(611)는 상기 슬릿(22)의 상측 단부로부터 공정실(2) 외측으로 연장되어 상방으로 절곡되도록 형성되며, 이에 따라 그 내부에 물(60)이 수용되도록 구비된다. 상기 제1수용부(611)는 적어도 슬릿(22)의 길이에 걸쳐 형성될 수 있다. 상기 제1수용부(611)에 의해 상기 워터 재킷(61)의 한 쪽 재킷이 형성될 수 있다.
상기 연장부(613)는 상기 슬릿(22)의 하측 단부로부터 공정실(2) 외측으로 연장되어 상기 제1수용부(611)와 소정 간격으로 이격되며 상기 제1수용부(611)와 대향되게 연장되어 상방으로 절곡된다.
상기 제2수용부(612)는 상기 연장부(613)의 외측면으로부터 수평으로 연장된 후 상방으로 절곡되어 그 내부에 물(60)이 수용되도록 구비된다.
상기 연장부(613) 및 제2수용부(612)는 적어도 슬릿(22)의 길이에 걸쳐 형성될 수 있다. 상기 연장부(613) 및 제2수용부(612)에 의해 상기 워터 재킷(61)의 다른 한 쪽 재킷이 형성될 수 있다.
이러한 워터 재킷(61) 위에 커버 부재(62)가 배치된다. 상기 커버 부재(62)는 하방으로 향한 양단(623)(624)을 가지며, 이들 하향 형성된 양단(623)(624)이 각각 워터 재킷(61)의 물(60)에 잠기도록 배치된다. 따라서 공정실(2) 내부에서 발생된 에칭용 가스, 습기, 먼지, 파티클 등(이하, "가스 등"이라 함)이 슬릿(22)을 거쳐 구동 유닛(5)으로 갈 때에는 반드시 워터 재킷(61)의 물(60)을 거쳐야 하고, 이 물(60)에 의해 전달이 차단되기 때문에 구동 유닛(5)을 오염시키는 것을 줄일 수 있다.
상기 커버 부재(62)는 도 4에서 볼 수 있듯이, 제1커버 부재(621)와 제2커버 부재(622)를 포함할 수 있다.
상기 제1커버 부재(621)는 금속과 같은 견고한 소재로 형성된다. 상기 제1커버 부재(621)의 상면에는 상기 구동 유닛(5)과 연결된 제1연결 부재(631)가 결합되고, 상기 제1커버 부재(621)의 하면에는 연결 블록(42)과 연결된 제2연결 부재(632)가 결합된다.
상기 제1연결 부재(631) 내에는 제1공급관(43)이, 상기 제2연결 부재(632) 내에는 제2공급관(44)이 각각 위치하고, 상기 제1공급관(43)과 제2공급관(44)은 서로 연결되어 있다. 도 3 및 도 4에는 하나의 제1공급관(43) 및 제2공급관(44)이 각각 제1연결 부재(631) 및 제2연결 부재(632) 내에 배치되는 것을 나타내었으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 토출 유닛(4)에 의해 토출되는 처리 매체의 종류 및 수에 따라 공급관의 개수가 증가될 수 있음은 물론이다.
도 3에서 볼 수 있듯이, 상기 제1커버 부재(621)와 상기 워터 재킷(61)의 사이에는 복수의 베어링(614)이 설치되어 상기 제1커버 부재(621)가 구동 유닛(5)의 작동에 의해 상기 슬릿(22)의 길이방향을 따라 이동할 때에 워터 재킷(61)과의 사이에서 마찰을 줄일 수 있다. 예컨대, 상기 베어링들(614)은 상기 제1커버 부재(621)의 하양 단부(623)(624)와 제1수용부(611) 및 연장부(613)의 사이, 제1커버 부재(621)의 수평면 부분과 제1수용부(611) 및 연장부(613)의 상향 단부들 사이에 각각 위치할 수 있다.
상기 워터 재킷(61)에 수용된 물(60)은 외측으로 흘러 넘칠 수 있도록 채워지고, 별도의 공급 장치(미도시)로부터 워터 재킷(61)에 연속적으로 물(60)을 공급하도록 할 수 있다. 이에 따라 공정실(2) 내부의 가스 등에 오염된 물을 연속적으로 외부로 배출시키고, 공정실(2) 내부 가스 등이 공정실(2) 밖으로 유출되는 것을 방지할 수 있다.
상기 구동 유닛(5)은 슬릿(22)의 길이 방향을 따라 연장된 레일(51)과 이 레일(51) 위를 이동하는 이동자(52)를 포함할 수 있다. 레일(51)과 이동자(52)는 리니어 모션 시스템이 적용될 수 있으나, 전술한 바와 같이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 제1연결 부재(631)는 구동 유닛(5)의 이동자(52)에 결합되어 이동자(52)가 레일(51)을 따라 선형 이동함과 동시에 제1커버 부재(621)를 선형 이동시킬 수 있다.
한편 제2커버 부재(622)는 제1커버 부재(621)에 결합되는 것으로, 상기 슬릿(22)의 길이 방향을 따라 신축 가능하도록 구비될 수 있다. 예컨대 상기 제2커버 부재(622)는 벨로우즈로 구비될 수 있다. 이에 따라 제1커버 부재(621)가 이동자(52)의 선형 이동과 동시에 선형 이동됨에 따라 제2커버 부재(622)는 공정실(2) 내부의 밀봉을 유지하면서 신축을 반복할 수 있다. 도면에 도시하지 않았지만 상기 제2커버 부재(622)의 하향 단부도 워터 재킷(61)에 수용되어 공정실(2) 내부의 가스 등이 외부로 유출되어 공정실(2) 외부를 오염시키거나 구동 유닛(5)을 손상시키는 것을 방지할 수 있다.
도 5는 또 다른 일 실시예를 도시한 평면도이다. 도 5에 따른 실시예에서 두 개의 제1커버 부재들(621a)(621b)이 서로 나란하게 배치되어 있고, 각 제1커버 부재들(621a)(621b) 사이로 제2커버 부재들(622)이 연결되어 있다.
각 제1커버 부재들(621a)(621b) 위에는 두 개의 제1연결 부재들(631a)(631b)의 일단들이 결합되어 있고, 각 제1연결 부재들(631a)(631b)의 타단들은, 레일(51) 위에 위치한 두 개의 이동자들(52a)(52b)에 결합되어 있다. 이러한 구조에서는 두 개의 이동자들(52a)(52b)이 순차 이동함에 따라 두 개의 제1커버 부재들(621a)(621b)이 순차 이동하게 된다.
도면에 도시하지는 않았지만, 제1커버 부재들(621a)(621b)에는 각각 별개의 토출 유닛들이 연결될 수 있으며, 서로 다른 처리 매체를 토출시킬 수 있다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 측면 구성도를 도시한 것이다.
도 6을 참조하면, 공정실(2) 내에 제1테이블(31) 및 제2테이블(32)이 위치한다. 제1테이블(31) 위에는 기판(1)이 놓이고, 제2테이블(32)은 제1테이블(31)의 하부에 고정되게 위치한다. 제2테이블(32)은 공정실(2)의 하부를 밀봉하며, 그 아래 쪽에 배치된 승강 유닛(7)으로, 기판(1) 표면으로 토출된 처리 매체들이 떨어지지 않도록 한다.
공정실(2)의 일단 벽에는 기판(1)이 유입 및 유출되는 제1게이트(231)와 제2게이트(232)가 형성된다. 제1게이트(231)가 유입구, 제2게이트(232)가 유출구가 될 수 있는 데, 서로 바뀌어도 무방하다. 상기 제2게이트(232)는 제1게이트(231)의 직하부에 배치될 수 있다. 그러나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 제1게이트(231)가 공정실(2)의 한쪽 측벽의 위쪽에 배치되고, 상기 제2게이트(232)가 공정실(2)의 다른 한쪽 측벽의 아래쪽에 배치될 수 있다. 그리고 상기 제1게이트(231)가 공정실(2)의 한쪽 측벽의 아래쪽에 배치되고, 상기 제2게이트(222)가 공정실(2)의 다른 한쪽 측벽의 위쪽에 배치될 수 있다.
상기 공정실(2)의 하부에는 승강 유닛(7)이 설치되어 있다. 이 승강 유닛(7)에는 복수의 지지대들(71)이 연결된다. 지지대들(71)의 상단은 제1테이블(31)의 하면에 결합되어 있다. 상기 승강 유닛(7)은 상기 지지대들(71)을 동시에 또는 이시에 승강(또는 신축) 구동시키며, 이에 따라 제1테이블(31)이 공정실(2) 내에서 승강 운동되도록 한다. 상기 승강 유닛(7) 및 지지대들(71)은 실린더 장치나 또는 모터 및 기어장치로 구비될 수 있다.
한편, 상기 제2테이블(32)에는 상기 지지대들(71)이 관통하도록 통공들(321)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 통공들(321)의 주위로 상기 제1테이블(31)의 하면과 상기 제2테이블(32)의 상면 사이에는 신축 가능하도록 구비된 복수의 보호 부재들(72)이 설치된다. 이 보호 부재들(72)은 지지대들(71)을 감싸도록 설치되며, 그 단부들이 상기 통공들(321) 외측에 위치하도록 한다. 따라서 기판(1)에 대한 처리 매체가 제2테이블(32)로 떨어졌다고 하더라도 통공들(321)을 통해 승강 유닛(7)으로 떨어지게 되어 승강 유닛(7)을 오염시킬 염려가 없다. 상기 보호 부재들(72) 신축성 있기 그 길이가 가변될 수 있는 부재로 형성되는 것이 바람직한데, 벨로우즈로 형성될 수 있다. 상기 제2테이블(32)에는 별도의 배수 장치가 설치되어 기판(1)에 대한 처리 매체를 외부로 배출시키도록 할 수 있다.
이러한 구조에서는 상기 승강 유닛(7)에 의해 제1테이블(31)이 승강 이동할 수 있으며, 따라서 기판(1)이 제1게이트(231) 및 제2게이트(232) 중 하나를 통해 공정실(2)로 유입된 후 처리 매체로 처리된 다음 진행 방향이 전환되어 공정실(2) 밖으로 토출될 수 있다.
이러한 실시예에서 상기 슬릿(22)의 길이는 제1테이블(31)의 길이보다 길게 형성한다. 또 슬릿(22)의 일단(221)과 제1테이블(31)의 일단(311) 사이의 간격(D)은 적어도 토출 유닛(4)의 폭(W) 이상 이격되는 것이 바람직하다. 이에 따라 제1테이블(31)의 승강 시 토출 유닛(4)이 간섭되지 않을 수 있다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
1: 기판 2: 공정실
3: 테이블 4: 토출 유닛
5: 구동 유닛 6: 밀봉 유닛
7: 승강 유닛 21: 측벽
22: 슬릿 31: 제1테이블
32: 제2테이블 41: 토출구
42: 연결 블록 43: 제1공급관
44: 제2공급관 45: 저장 탱크
46: 밸브 51: 레일
52: 이동자 60: 물
61: 워터 재킷 62: 커버 부재
71: 지지대 72: 보호 부재
611: 제1수용부 612: 제2수용부
613: 연장부 614: 베어링
621: 제1커버 부재 622: 제2커버 부재
631: 제1연결 부재 632: 제2연결 부재

Claims (13)

  1. 삭제
  2. 피처리용 기판이 위치하고 적어도 일 측벽에 슬릿을 갖는 공정실;
    상기 공정실 내에 위치하고 상기 기판에 처리 매체를 토출시키는 토출 유닛;
    상기 공정실 외에 위치하고 상기 슬릿을 통해 상기 토출 유닛과 연결되며 상기 토출 유닛을 상기 기판의 면 방향으로 이동시키는 구동 유닛; 및
    상기 토출 유닛과 구동 유닛의 사이에 개재되고 상기 구동 유닛을 상기 공정실 내부의 분위기로부터 밀봉하는 밀봉 유닛;을 포함하고,
    상기 밀봉 유닛은,
    상기 슬릿에 인접하게 위치하고 물이 채워지도록 구비된 워터 재킷;
    단부가 상기 워터 재킷의 물에 잠기도록 상기 워터 재킷 위에 배치되는 커버 부재; 및
    상기 커버 부재와 상기 구동 유닛을 연결하는 제1연결 부재;를 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 워터 재킷은,
    상기 슬릿의 일측에 인접하게 연장되고 물이 수용되도록 구비된 제1수용부;
    상기 슬릿의 타측에 인접하게 연장되고 상기 제1수용부에 대향되게 위치하는 연장부; 및
    상기 연장부로부터 연장되어 물이 수용되도록 구비된 제2수용부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    커버 부재는,
    상기 제1연결 부재가 결합된 제1커버 부재; 및
    상기 제1커버 부재와 결합된 제2커버 부재;를 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1커버 부재는 견고한 재질로 구비되고, 상기 제2커버 부재는 상기 슬릿의 길이방향을 따라 신축 가능하도록 구비된 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2커버 부재는 벨로우즈를 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1커버 부재와 상기 워터 재킷 사이에 위치하는 적어도 하나의 베어링을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 제1커버 부재와 상기 토출 유닛에 결합된 제2연결 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 구동 유닛은, 상기 슬릿의 길이방향을 따라 연장된 레일과 상기 레일을 따라 선형 운동하는 이동자를 포함하고, 상기 제1연결 부재는 상기 이동자에 연결된 기판 처리 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1연결부재 및 제2연결부재 내에 위치하고 상기 토출 유닛에 상기 처리 매체를 공급하는 공급관을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 제2항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공정실 내에 위치하고 상기 기판이 놓이는 제1테이블;
    상기 제1테이블에 연결된 복수의 지지대; 및
    상기 지지대들 중 적어도 하나와 연결되어 상기 제1테이블을 승강 운동시키도록 구비된 승강 유닛;을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 슬릿의 길이는 제1테이블의 길이보다 길고, 슬릿의 일단은 제1테이블의 일단으로부터 적어도 토출 유닛의 폭 이상 이격된 기판 처리 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 공정실 내에서 상기 제1테이블과 대향되도록 고정되게 배치되며 상기 지지대들 중 적어도 하나가 관통하도록 구비된 제2테이블; 및
    상기 제1테이블과 상기 제2테이블의 사이에 위치하고 상기 지지대들을 각각 둘러 싸며 신축 가능하도록 구비된 복수의 보호 부재;를 더 포함하는 기판 처리 장치.
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