KR101417556B1 - 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브 - Google Patents

마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브에 관한 것이다. 본 발명의 양태에 따르면, 조명 시스템(610)은 마스크 검사 장치의 작동시에 센트로이드 광선을 갖는 조명 광선 다발(615)로 마스크(630)를 조명하고, 상기 센트로이드 광선은 상기 마스크(630)상의 조명 광선 다발(615)의 입사 위치에 따른 방향을 갖는다.

Description

마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브 {ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS}
본 발명은 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브에 관한 것이다.
마이크로리소그래피는, 예컨대, 집적 회로 또는 LCD와 같은 마이크로구조의 부품들의 제조를 위해 사용된다. 마이크로리소그래피 프로세스는, 조명 시스템 및 투영 오브젝티브(projection objective)를 갖는 투영 노광 장치로 칭해지는 것에서 행해진다. 조명 시스템에 의해 조명되는 마스크(= 레티클(reticle))의 이미지가, 감광층(포토레지스트(photoresist))으로 코팅되고 투영 오브젝티브의 이미지 면(image plane)에 배열된 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼)상으로, 상기 기판상의 감광 코팅상으로 상기 마스크 구조를 전사하기 위해, 투영 오브젝티브에 의해 투영된다. 미러(mirror)들이, 적절한 반투명의 굴절 재료의 가용성의 결여로 인해서, EUV 범위 - 즉, 예컨대, 13 nm 또는 약 7 nm의 파장에서의 - 용으로 설계된 투영 오브젝티브에서의 이미징 프로세스용의 광학 구성 요소로서 사용된다.
리소그래피 프로세스에 있어서, 마스크상의 원치 않는 흠결들이 특히 유해한 효과를 가지므로, 그것들이 각각의 조명 스텝에서 재현될 수 있고, 따라서 최악 사례의 시나리오로서 반도체 부품들의 전체 제조가 사용될 수 없는 위험이 있다. 그것은, 따라서, 대량 제조에 있어서, 그것의 사용 전에, 충분한 이미징 성능에 대해 체크될 마스크에 대한 매우 중요한 문제이다. 그에 관하여, VUV 시스템으로부터 EUV 시스템으로의 전환은 사용되는 재료 및 프로세스 스텝들에 있어서의 변경에만 연결되지 않고, 일반적인 VUV 마스크와 비교하여, 위상적인 흠결들에 관하여, 반사적으로 설계된 EUV 마스크의 더 높은 민감도(일반적으로 4배 만큼)에 대해서도 연결된다.
그에 관하여, 그 중에서도 실제에서 나타나는 문제가, 이미징될 구조에 관하여 흠결의 개개의 형태 및 그 위치에 따라, 마스크게 있어서, 예견되기 어려운 일탈들이 이미징 프로세스에서 나타난다는 것이다. 따라서, 있음직한 흠결 위치들의 이미징 효과의 직접적인 분석이 마스크 흠결들을 최소하기 위해서 그리고 성공적인 마스크 수선을 구현하기 위해서 이상적이다. 따라서, 신속하게 그리고 용이하게, 투영 노광 장치에서 실제적으로 나타나는 것과 동일한 조건하에서 가능한 한 보다 구체적으로 테스트될 마스크에 대한 필요가 있다. 광의 상이한 코히어런스(coherence) 정도들, 상이한 조명 설정들 및 NA = 0.35의 값을 포함하는 더 크고 더 큰 개구수들이 그에 관하여 관찰되어지고, 상기의 것들이, 마스크 검사에 있어서 투영 노광 장치의 이미징 프로시져의 에뮬레이션(emulation) 또는 재현의 관점에서 실제에서 벅찬 도전을 나타내는, 현재의 EUV 시스템들의 조명 시스템에 있어서 설정된다.
상기 배경을 유념하여, 본 발명의 목적은 투영 노광 장치에서 나타나는 조건들의 보다 정밀한 에뮬레이션을 가능케 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브를 제공하는 것이다.
그 목적은 독립 청구항들의 특징들에 의해 달성된다.
일 양태에 있어서, 본 발명은 마스크 검사 장치의 조명 시스템에 관하며, 상기 조명 시스템은 상기 마스크 검사 장치의 작동시에 센트로이드 광선(centroid ray)을 갖는 조명 광선 다발로 마스크를 조명하고, 상기 센트로이드 광선은 상기 마스크에 대한 상기 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른 방향을 갖는다.
그에 관하여, ‘센트로이드 광선’이라는 용어는 빔의 모든 서브광선(subray)에 걸쳐 평균인 에너지를 나타내는 통상적 용어법에 따라 사용된다.
본 발명에 따라, 조명 광선 다발의 센트로이드 광선이 마스크상의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른 방향인 사실이, 후술되는 바와 같이, 투영 오브젝티브의 동공 조명에 대해서 보다 정확하게 에뮬레이트될 수 있게 한다. 더 큰 이해를 위해서, 본 발명의 기초 개념을 설명하기 위해 이하에서는 도 1 내지 도 3에 먼저 주목한다.
본 발명에 따라, 마스크상의 위치에 따른 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화에 대한 참조는 마스크상의 상이한 위치들에 입사하는 2개의 광선 다발들의 센트로이드 광선들 사이의 최대 각도가 적어도 1°인 변화를 나타내는데 바람직하게 사용된다. 일 실시예에 있어서, 마스크상의 상이한 위치들에 입사하는 2개의 광선 다발들의 센트로이드 광선들 사이의 최대 각도가 적어도 3°, 특히 적어도 5°, 더 특히 적어도 10° 그리고 더 특히 적어도 15°이다.
다른 접근법으로서, 마스크의 상이한 위치들에 입사하는 2개의 광선 다발들의 입사 평면들 사이의 최대 각도가 적어도 3°, 특히 적어도 5°, 더 특히 적어도 10° 그리고 더 특히 적어도 15°이다.
일 실시예에 있어서, 상기 마스크 검사장치의 작동시에 분석되는 마스크는 투영 노광 장치에서 링의 세그먼트(segment)의 형태의 조명 영역과 사용하기 위해 설계되어 있다.
리소그래피 프로세스에 있어서, 전체 마스크는, 일반적인 (VUV) 시스템인 경우에 일반적으로 직사각형의 기하학적 구조이지만 EUV 시스템의 경우에 링의 세그먼트의 형태의 기하학적 구조인 스캐너 슬롯에 의해 스캔된다. 여기서 배경은, EUV 광학 시스템이 회전 가능한 대칭적 광학 설계를 갖는 것이지만, 리소그래피 프로세스에서는, 광학 축으로부터 비교적 멀리 떨어져 있는, 그 고리모양 필드의 작은 부분만이 사용된다. 또한, 반사성 EUV 마스크를 사용하는 경우에, 조명 시스템과 투영 오브젝티브를 분리하기 위해서, 마스크 또는 레티클상에, 그 경우에(본 발명이 그에 한정되지 않고) 마스크상의 표면 법선에 대한 센트로이드 광선에 관한 일반적인 각도가 현재의 스캐너들에서 6°일 수 있는, 유한의 입사 각도로 지향될 조명 광선 다발에 대한 필요가 있다는 것이 알려져 있다.
도 1 내지 도 3은 이미징될 구조들을 가진 영역(102)을 갖는 마스크(101)상에, 링의 세그먼트의 형태의 오브젝트 필드(object field)(100)를 각각 나타낸다. 도 1에 있어서, 현재 조명되는 위치가 오브젝트 필드(110)의 중앙인 반면에, 도 2에 현재 조명되는 위치는 오브젝트 필드(110)의 좌측 에지의 영역에 있고, 도 3에서는 그 우측 에지의 영역에 있다.
따라서, 투영 대물렌즈는 또한, 마스크(101)의 표면 법선에 관하여 동일한 값인 주 광선(principal ray) 각도(또는 주요 광선(chief ray) 각도)를 가진 광 또는 관찰 광선 다발을 수광한다. 지금도 그렇듯이, 스캐너내의 광학 시스템 및 특히 투영 광학 시스템은, 광학 축과, 각도가, 대칭의 이유 때문에, 마스크(101)의 바로 관찰되고 있는 오브젝트 포인트에 의해 형성되는 그 평면(또는 투영 광학 시스템의 오브젝트 평면)에 항상 있어야 하는, 회전 대칭 구성이다.
개별적으로 관찰되는 오브젝트 포인트에서 반사되는 광선 다발은 한 (주 광선) 각도(본 예에서는, 6°)로 투영 오브젝티브에 또한 입사하지만, 그 각도는 이제, 투영 오브젝티브의 광학 축과 더불어 형성되는 평면내에 있도록 배향된다. 이제 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 다양한 포인트들이 마스크(101)상의, 링의 세그먼트의 형태로, 오브젝트 필드(110)를 따르는 것으로 간주되면, 투영 오브젝티브내로 패스되는 광선들 모두가 서로 대략적으로 나란하게 연장하지 않고, 오히려 도 1 내지 도 3으로부터 알 수 있듯이, 링의 세그먼트의 형태로, 오브젝트 필드(110)에 항상 수직하다.
도 2 및 3에서의 상황과 도 1에서의 상황 사이의 비교는 따라서, 각각 오브젝트 필드(110)의 좌측 및 우측 위치들에 있어서, 조명 센트로이드 광선이 마스크(101)로부터 투영 오브젝티브내로 패스하는 (주) 광선과 더불어 형성하는 평면(즉, 마스크(101)에 입사하고 마스크(101)에 의해 반사되는 광선 다발로부터의 평면)이 도 1에서의 상황(조명 위치가 오브젝트 필드(110)의 중앙에 있는)과 비교하여 바꾸어지는 것을 나타내며, 그것은 투영 노광 장치 또는 스캐너의 광학 축을 항상 포함한다. 따라서, 링의 세그먼트의 형태로 오브젝트 필드(110)를 따르는 움직임은 그와 더불어 또한 바꾸어질 상기한 평면을 요구한다.
일 실시예에 있어서, 마스크의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화가,
Figure 112012066447947-pct00001
의 조건을 따르며,
여기서,
x, y는 마스크 평면의 좌표들을 나타내고,
R은 링 필드(ring field)의 반경을 나타내며,
α은 (상기 조명 시스템으로부터 상기 마스크에 입사하는 센트로이드 광선 및 상기 마스크에 의해 반사되는 센트로이드 광선에 의해 형성되는) 입사 평면과 y = 0 평면 사이의 각도를 나타낸다.
일 실시예에 있어서, 조명 시스템은 EUV 모드에서의 작동을 위해 설계되어 있다.
본 발명의 실시예들에 있어서 EUV용으로 설계된 마스크 검사 장치에서 구현이 달성될지라도, 본 발명은 그에 한정되지 않는다. 따라서, 본 발명은, 향상된 마스크 검사가, 더 높은 작업 파장(예컨대, 193nm)의 마스크 검사 장치에도 적용될 수 있음으로써 - 조명에 있어서의 각도 차이가 그러한 파장에 관하여 또한 나타날 수 있으므로 -, 마스크의 위치에 따른 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 본 발명에 따른 변화에 의해 또한 가능성 있게 달성될 수 있다.
또한, 본 발명은 주 광선(즉, 마스크에서의 반사 후에 광학 축쪽으로 패스하는 주 광선)에 대해서 수렴 구성을 수반하는 시스템들 및 발산 주 광선들을 수반하는 시스템들과 모두 관련하여 실시될 수 있다는 것이 지적된다. 주 광선이 투영 오브젝티브내로 발산적으로 패스하는 시스템은, 예컨대, US 2005/0088760 A1(US 2005/0088760 A1의 도 91 및 도 93 참조)로부터 알려져 있다.
일 실시예에 있어서, 마스크에 대한 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 센트로이드 광선의 방향에서의 변화는, 센트로이드 광선과 마스크의 표면 법선 사이의 각도의 크기가 유지되도록 되어 있다.
일 실시예에 있어서, 마스크의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에서의 변화의 조정을 위한 미리 정해진 움직임 평면에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 블레이드(blade)(또는 개구 조리개)가 제공되어 있다.
본 발명의 실시예들에 있어서, 여기서 또는 이하에서 논의되는 블레이드는 통상적인 방식으로, 요구되는 조명 설정에 따라 설계된 홀(hole)들이 제공되어 있고 다른 면에서 비투과적인 디스크 또는 판의 형태일 수 있다. 하지만, 본 발명은 그에 한정되지 않는다. 따라서, 추가적인 실시예들에 있어서, 개구 디스크 또는 판을 대신하여, 부분적으로 투과적인 및/또는 부분적으로 편광의 구성 요소들을 사용하는 것이 또한 가능하다. 그것은, 예컨대, 동공 좌표의 함수로서 스캐너의 투과도에 있어서의 변화가 에뮬레이트되거나, 조명에 있어서 조명 강도에서의 변화가 조명 동공에 걸쳐서 또는 (EUV) 스캐너 또는 투영 노광 장치에서의 편광 구성 요소들의 에뮬레이션에 대해서도 조정되는 경우에, 유리하다. 개구수의 연속적인 조정을 위해, 블레이드 그 자체가, 예컨대, 아이리스(iris)(또는 아이리스 블레이드)의 덕택으로 그 자신의 형태에 있어서 가변적일 수도 있다.
또한, 물리적인 블레이드를 대신하여, 조명 광선의 입사 방향을 조정하기 위한 다른 적절한 디바이스, 예컨대, 그 자체로 알려진, 서로 상이하게 조정될 수 있는 다수의 (마이크로) 미러 구성 요소를 가진, 다수-미러 어레이(MMA로 칭해짐)를 사용하는 것이 또한 가능하다.
일 실시예에 있어서, 상기한 미리 정해진 움직임 평면(plane of movement)은 마스크의 평면과 실질적으로 공면 관계(coplanar relationship)이다.
일 실시예에 있어서, 마스크에 대한 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 방향에서의 변화의 조정을 위해 블레이드가 움직일 수 있는, 움직임 평면의 영역이 실질적으로 잠두형 윤곽(reniform contour)을 갖는다.
일 실시예에 있어서, 블레이드는 다음의 조명 설정들: 4극자 조명 설정, 쌍극자 조명 설정, 고리모양 조명 설정 및 일반적인 조명 설정 중 하나 이상의 조정을 위해 설계되어 있다. 그에 관하여, 통상적인 용어법에 따라, 일반적인 용어 설정이라는 용어는 원(circle)내에서 가능한 균일한 강도를 가진 원형 조명을 나타내는데 사용된다.
일 실시예에 있어서, 블레이드가 회전 가능하게 배열되고, 그것은 에뮬레이트될 투영 노광 장치의 개개의 특정 구성에 따라 유리할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 블레이드는 다양하게 조정될 수 있는 블레이드 장치(blade arrangement)의 형태이며, 그 블레이드 장치의 조정에 의해, EUV 투영 노광 장치의 조명 동공의 휘도 분포에 있어서 서브구조가 보존될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 블레이드 장치는 서로 상대적으로 움직일 수 있는 적어도 2개의 블레이드들을 갖는다. 그 블레이드들은 특히 상이한 형태 및/또는 크기의 블레이드 개구들을 가질 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로 그 블레이드들 중 하나가 아포다이징 아암(apodising arm)을 가질 수 있다.
일 실시예에 있어서, 마스크는 회전 가능하게 배열되어 있다. 그 경우에 있어서, 조명 시스템 및 어쩌면 투영 오브젝트의 평면의 필드-종속 변위(field-dependent displacement)는 상이한 경사 각도들(예컨대, 6°, 9° 등)을 조정하는 데만 여전히 요구된다.
본 발명의 추가적인 양태에 있어서, 본 발명은 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브에 또한 관련하며, 마스크 검사 장치의 작동시에 투영 오브젝티브는 주 광선(principal ray)을 갖는 관찰 광선 다발로 마스크를 관찰하며, 상기 주 광선은 마스크상의 관찰 광선 다발의 개시 위치(starting location)에 따른 방향을 갖는다.
일 실시예에 있어서, 마스크상의 관찰 광선 다발의 개시 위치에 따른, 주 광선의 방향에 있어서의 변화의 조정을 위해 미리 정해진 움직임 평면에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 블레이드가 제공되어 있다.
일 실시예에 있어서, 마스크상의 관찰 광선 다발의 개시 위치에 따른, 주 광선의 방향에 있어서의 변화의 조정을 위해 블레이드가 움직일 수 있는 움직임 평면의 그 영역이 실질적으로 잠두형 윤곽을 갖는다.
일 실시예에 있어서, 움직임의 평면은 마스크의 평면과 실질적으로 공면의 관계로 연장한다.
추가적인 양태에 있어서, 본 발명은, 상기한 특징들을 갖는 투영 오브젝티브 및 노광 시스템을 갖는 마스크 검사 장치에 또한 관련된다.
그에 관하여, 일 실시에에 있어서, 조명 시스템의 블레이드 및 투영 오브젝티브의 블레이드는 반대 방향으로 상호 동기적 관계로 움직일 수 있다.
추가적인 양태에 있어서, 본 발명은 또한 마스크 검사 장치를 작동시키는 방법에 또한 관련되며, 여기서, 마스크 검사 장치의 작동시에, 조명 시스템은 센트로이드 광선을 갖는 조명 광선 다발로 마스크를 조명하고, 투영 오브젝티브는 주 광선을 갖는 관찰 광선 다발로 마스크를 관찰하며, 상기 센트로이드 광선의 방향 및 상기 주 광선의 방향은 마스크의 위치에 따라 각각 변화된다.
본 발명의 추가적인 양태에 있어서, 조명 동공이, 그 휘도 분포에 있어서, (쌍극자 또는 4극자 조명 설정에 관하여 일반적으로 기초를 형성하는) 이상적인 형태로부터 일탈한 서브구조(substructure)들을 갖는 상황들이 또한 고려된다. 그러한 서브구조는 특히, 조명 시스템에 있어서, 마스크의 평면에 중첩된 다수의 광 통로(light passage)들을 생성하는 허니컴 컨덴서(honeycomb condenser)를 사용하여 관리될 수 있다. 그 광 통로들이 이제는 공동을 완전하게 채우지 않음으로써, 개별적인 스폿(spot)들 또는 ‘조명 피크(illumination peak)들’을 보는 것이 가능하다.
그것을 고려하여, 본 발명에 따르면, 블레이드의 평면에 있어서, 예컨대, 이상적인 또는 균질한 쌍극자 또는 4극자를 조명 설정에 있어서 생성하는 것만이 아니고, 블레이드의 평면내에 보존하는 대신에, 완전한 ‘서브구조화된’ 조명 분포를 생성하는 것도 또한 가능하다.
일 양태에 따르면, 따라서, 본 발명은 마스크 검사 장치의 조명 시스템에 관련되며, 상기 조명 시스템은 적어도 하나의 블레이드 장치 - 그 블레이드 장치의 조정에 의해 EUV 투영 노광 장치의 조명 동공의 휘도 분포에 있어서 서브구조가 보존될 수 있도록, 가변적으로 조정될 수 있음 - 를 갖는다.
일 실시예에 있어서, 블레이드 장치는 서로 상대적으로 움직일 수 있는 적어도 2개의 블레이드들을 갖는다. 그 블레이드들은 특히 상이한 형태 및/또는 크기의 블레이드 개구들을 갖는다. 대안적으로 또는 추가적으로 그 블레이드들 중 하나가 아포다이징 아암을 가질 수 있다.
본 발명의 추가적인 구성들은 상세한 설명 및 첨부되는 청구 범위에서 발견되어진다.
본 발명은 투영 노광 장치에서 나타나는 조건들의 보다 정밀한 에뮬레이션을 가능케 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브를 제공할 수 있다.
본 발명은 다음의 첨부 도면들에 예로서 예시된 실시예들에 의해 이하에서 매우 상세히 설명된다.
도 1 내지 도 5는 본 발명의 원리를 예시 및 설명하기 위한 개략도를 나타낸다.
도 6은 EUV용으로 설계되고 본 발명이 실시되는 마스크 검사 장치의 개략도를 나타낸다.
도 7a 내지 도 7b는 본 발명을 설명하기 위한 추가적인 개략도들을 나타내고, 그리고
도 8 내지 도 11은 본 발명의 추가적인 양태에 따른 실시예들을 설명하기 위한 개략도를 나타낸다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치에 있어서, 투영 노광 장치 또는 스캐너에 의해 구현되는 상기한 조명 조건들(즉, 투영 광학 시스템에 의해 수집되는 광 및 조명 시스템으로부터 입사되는 광의 방향에 있어서의 변화)이 가능한 잘 재현되는 방식을 설명하기 위해 도 4 내지 도 7에 대해 언급된다.
도 6에 개략적으로만 예시되어 있는 바와 같이, 마스크 검사 장치(600)는 조명 시스템(610) 및 투영 오브젝티브(620)를 포함하며, EUV 광원(601)의 광은 조명 시스템내로 패스되고, 조명 광선 다발(615)은 투영 오브젝티브(620)의 오브젝트 평면에 배열된 마스크(630)의 오브젝트 필드 또는 개별적으로 조명되는 영역에 지향되며, 그 오브젝트 필드는 투영 오브젝티브(620)에 의해 카메라(CCD 센서 장치)(640)에 (관찰 광선 다발(625)에 의해) 이미징된다.
도 4 내지 도 7을 참조로 예시로서 설명된 실시예에 따르면, 개개의 블레이드(650 및 660)는 후술되는 바와 같이, 조명 시스템(610)에서 그리고 마스크 검사 장치(600)의 투영 오브젝티브(620)에서도, 양쪽에서 사용된다; 개개의 블레이드(650 및 660)는 마스크(630)상의 조명 광선 다발(615)의 입사 위치에 따른, 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화를 조정하기 위해 미리 정해진 움직임의 평면에서 각각 움직일 수 있다.
그 블레이드들(650, 660)은, 차례로 바람직하게 동공 면에 각각 위치되고, 측 방향(즉, 예시된 좌표계에서 x-방향 및 y-방향)으로 각각 움직인다.
도 4 및 도 5를 참조하여 이하에서 설명되는 바와 같이, 개개의 센트로이드 광선은 투영 오브젝티브(620) 및 조명 시스템(610)내의 블레이드들(650, 660)에 의해 각각 영향을 받는다. 그 경우에, 조명 시스템의 각도(즉, 마스크에 입사하는 조명 광선 다발의 센트로이드 광선의 각도)는 조명 시스템(620)에 관하여 제공되는 블레이드(650)의 부분에 의해 조정되고, 투영 오브젝티브내로 패스되는 이미징 광 경로내의 (관찰) 광선 다발의 주요 광선 또는 센트로이드 광선의 각도는 투영 오브젝티브에 관하여 제공되는 블레이드(660)의 위치에 의해 조정된다. 조명 시스템(610) 및 투영 오브젝티브(620)의 다른 구성 요소들(즉, 특히, 따라서, EUV 광원, 미러, 카메라 등)은 대조적으로 그 목적을 위해 반드시 움직이지는 않는다. 2개의 블레이드들(650, 660)이 각각 마스크 평면과 공면 관계로 그리고 나란히 연장하여 움직인다(본 발명은 이에 한정되지 않음).
도 4 및 6에 나타내어진 바와 같이, 블레이드(650)는 요구되는 조명 설정(예시된 예에 있어서 4극자 조명 설정)에 대응하는 개구들(651 내지 654)을 갖고 설정될 요구되는 각도에 따라 움직임의 평면내에서 움직여지며, 예시된 예에 있어서 그 움직임의 평면은 마스크의 평면과 나란하다). 참조 번호 ‘410’은 블레이드(650)의 전체 움직임의 동안에 사용되고 도 4에 도시된 바와 같이 잠두의 기하학적 구조(reniform geometry)일 수 있는 영역을 나타낸다. 그에 관하여, 예컨대, 조명되는 블레이드(650)는 NA = 0.5의 개구수에 대해 적절할 수 있는 반면에, 도 4에 또한 도시된 더 안쪽으로 배치된 또는 더 작은 잠두형 영역들(411, 412)는 더 작은 동공 또는 개구수(예컨대, 영역(411)에 대해서 NA = 0.32 그리고 영역(412)에 대해서 NA = 0.25)를 가진 시스템에 대응한다. 잠두형 영역(410)(또는 각각 411 또는 412)는 또한, 블레이드(650)의 사용 전에, 블레이드(650)가 작동되는 경우에 또는 작동되기 전에, 광으로 채워져야하는 영역을 나타낸다. 그것은, 광학 시스템이 일반적으로 더 큰 고리모양 영역(즉, 더 큰 개구수)용으로 설계됨을 의미한다.
도 5는, 도 6에 도시된 바와 같이 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템에서 사용되지만, 원형의 기하학적 구조를 갖고, 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템(투영 대물렌즈(620))의 동공 면내에서 결국 유사하게 움직이는, 블레이드(660)에 대한 유사한 상황을 나타낸다.
따라서, 본 발명에 따르면, 마스크에 이미징될 그리고 투영 노광 장치의 조건들하에서 그것들이 정밀하게 잘 ‘기능’하도록 기입된 구조들이 마스크 검사 장치에서와 가능한 동일한 조건들 하에서 관찰되며, 이제 매우 작은 필드만이 사용될 수 있고 마스크가 투영 오브젝티브에 상대적으로 스캐너 방향으로만이 아니고 그에 관하여 횡단하여서도(즉, 좌측으로부터 우측으로) 움직인다는 사실이 고려된다.
또한, 상기한 상황은 도 7a 내지 도 7b를 참조하여 얼마간 상이한 뷰(view)로서 설명된다.
그에 관하여, 도 7에 있어서, 페이퍼(paper)의 평면에 수직으로 연장하는 스캐너의 투영 광학 시스템의 광학 축이 OAp로 식별된다. 도면은 또한, 링의 세그먼트의 형태이고 광학 축(OAp) 주위로 집중하여 연장되는(그래서 광학 축(OAp)이 링의 세그먼트의 형태로 오브젝트 필드(631)의 굴곡의 중심 포인트에 있는) 오브젝트 필드(631) 또는 스캐너 슬롯을 나타낸다.
도 7은 또한, 좌측 및 우측 에지에 대해서 그리고 또한 링의 세그먼트의 형태의 오브젝트 필드의 중심에 대해서도, 각각이 페이퍼의 평면에 수직하게 또한 연장하고 광학 축(OAp)과 교차하는, 입사 ‘A’, ‘B’ 및 ‘C’의 평면의 개개의 구성을 각각 나타낸다. 투영 오브젝티브(즉, 마스크 검사장치의 투영 광학 시스템) 및 조명 시스템의 동공면의 각각에 배치되고, 본 발명에 따른 입사 ‘A’, ‘B’ 및 ‘C’의 평면의 개개의 구성을 구현하는 블레이드들(650 및 660)이 여기에 평면도로서 나타내어져 있다.
도 7b는 OAM이 마스크 검사 장치의 광학 축을 나타내는 대응 측면도를 도시하는데, 여기서, (여기서 단면으로 보여지는) 링의 세그먼트의 형태의 오브젝트 필드(631)가 투영 노광 장치의 광학 축으로부터 간격 R에 배치되고 폭 b이다. 조명 시스템 또는 투영 오브젝티브의 블레이드들은 각각 (즉, 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템) ASill and ASob로 여기서 각각 나타내어진다.
본 발명은, 마스크 검사 도중에 마스크(630)의 움직임 동안에, 광의 입사의 유효한 방향을 시뮬레이트(simulate)하기 위해, 여기서 기술되는 실시예에 있어서, 개별적으로 또한 움직이는 마스크 검사 장치의 투영 대물렌즈(620)(투영 광학 시스템) 및 조명 시스템(610)에 배열되는 블레이드들(650, 660)에 의해 실행되는 개념에 기초한다. 그것은, 도 7에 도시된 바와 같이, 마스크(630)상의 링의 세그먼트의 형태로 오브젝트 필드(631)를 조명하는 역할을 하는 광선 다발이, 영역(410)의 우측 부분에서, 마스크(630)상의 관찰되는 위치가 오브젝트 필드(631) 또는 마스크(630)의 좌측 영역에 있는 순간에 ‘정지’해야하고, 이에 반하여 대응하는 방식으로 광학 이미징 시스템(마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템)내로 패스하는 광선 다발이 영역(510)의 우측 부분에 ‘정지’해야한다는 것을 의미한다.
이제, 마스크 검사 도중에, 검사되는 개개의 위치가, 예컨대, 마스크(630) 위에서 좌측으로부터 우측으로 움직이는 동안에, 블레이드들(650 및 660)의 움직임이, 도 7a에서의 좌측에 도시된 상황이 도 7a의 우측에 도시된 미러-이미지 상황으로 점진적으로 변경되도록, 동기적으로 그리고 상호 반대 방향으로 실행되며, 거기서, 마스크(630)를 조명하는 역할을 하는 광선 다발이 영역(410)의 우측 부분에 정지하고, 대응하는 방식으로 광학 이미징 시스템이 영역(510)의 좌측 부분에 정지한다.
환언하면, 따라서, 스캐닝 프로시져 동안에, 블레이드들(650, 660)이, 현재 검사되고 있는 개개의 마스크 위치에 따라, 센트로이드 광선의 상이한 방향들이 광학 축에 관하여 설정되도록, 마스크에 걸치어 움직인다. 따라서, 블레이드 움직임은 센트로이드 광선의 위치에서의 요구되는 변화를 정밀하게 달성하며, 여기서, 조명 설정은 동일한 블레이드를 이용하는 결과로서 개별적으로 유지된다.
그에 관하여, 마스크상의 하나의 위치로부터 다른 위치로의 센트로이드 광선의 위치에 있어서의 변화에 의해, 입사 센트로이드 광선과 마스크의 표면 법선 사이의 각도의 크기에 있어서의 무 변화(no variation)가 의도되지만, 오히려 센트로이드 광선 또는 그 각도의 방향에 있어서 변화가 있다는 것이 주목되어 진다(그에 관하여, 마스크의 표면 법선에 관하여 예컨대, 6 °의 크기에 의하여 각도를 지정하는 것은 ‘입사 방향들의 원뿔체’를 형성하며, 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화가 그 원뿔체를 따라 일어난다는 것이 명심되어 진다). 따라서, 본 발명에 따른 변화에 의해, 마스크상의 표면 법선과 센트로이드 광선 사이의 각도의 크기가 바람직하게 유지된다.
전조에, 각각의 경우에 있어서 투영 오브젝티브(즉, 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템) 또는 조명 시스템의 개개의 동공 면의 블레이드들의 장치에 대해 각각 언급되었을지라도, 본 발명은 동공 면내의 정밀 장치에 한정되지 않는다. 오히려, 현미경내의 오브젝트 필드의 매우 작은 크기에 유념하면, 양호한 정도의 어림셈을 위해, 오브젝트 평면 또는 마스크로부터 멀리 떨어진 각각의 평면이 동공 면으로서 보여질 수 있다. 용이한 구현을 위해(그리고 본 발명은 그에 한정되지 않음), 그것은, 따라서, 마스크(630)에 관하여 상대적으로 큰 간격으로 각각이 배열될 그리고 도 6에 개략적으로 도시된 바와 같이 투영 오브젝티브(620)(즉, 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템) 및 조명 시스템(610)의 나머지 광학 장치의 외측에 배치될 블레이드들(650, 660)에 어울리며, 그에 관하여, 특히, 블레이드(650) 및 블레이드(660)의 각각과 투영 오브젝티브(마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템) 및 조명 시스템의 각각 사이에 임의의 추가적인 이미징 광학 수단을 가져야할 필요가 없다. 하지만, 본 발명은, 그에 한정되지 않고, 그래서 다른 실시예들에 있어서, 추가적인 (이미징) 광학 시스템이 또한 블레이드와 마스크 검사 장치의 투영 광학 시스템 또는 조명 시스템 사이에 제공될 수 있다.
블레이드들(650 및 660)이 움직이는 개개의 평면들에 관하여, 이것은 동일 평면 또는 상호 공면의 평면들도 수반할 수 있다. 또한, 그 평면들이 오브젝트 평면 및 마스크 평면 각각에 관하여 공면일 수 있다. 본 발명은 하지만, 그에 한정되지 않으며, 즉, 몇몇의 상황하에서, 그것은, 레티클과 비교하여 그리고/또는 서로에 관하여 틸트될 그 평면들에 또한 어울릴 수도 있다.
마스크 상의 위치에 따른 센트로이드 광선에 있어서의 본 발명에 따른 변화의 수학적 기술은 다음과 같을 수 있다: x 및 y가 마스크 평면의 좌표를 나타내는데 사용되고 y는 마스크 평면에 수직한 좌표를 나타내는데 사용되는 경우, 그리고 그에 관하여 x가 스캐닝이 그곳을 따라 실행되는 좌표를 나타내는데 사용되는 경우에, 마스크의 활성 표면은 y 방향으로 -b/2로부터 +b/2까지 연장하며, b는 (예컨대, 104mm의 값일 수 있는) 스캐너 슬롯 폭을 나타낸다.
조명 광선 다발의 센트로이드 광선의 방향은, 벡터(cx, cy, cz)에 의해 규정될 수 있고, cx 2+cy 2+cz 2 = 1 및 cx는 x 축 상으로의 투영 등등(= 소위 표준화된 방향 벡터 c를 가진 ‘방향성 코사인 묘사(directional cosine representation)’)을 나타낸다.
(투영 오브젝티브의 광학 축으로부터의 링 필드 중심의 간격으로서 정의되는) 링 필드 반경 R로, 결과적인 식은 다음과 같다:
Figure 112012066447947-pct00002
및
Figure 112012066447947-pct00003
여기서, cz는 6°와 약 8~9° 또는 그 이상(더 높은 개구수에 대해서) 사이에 현재 시간에서의 일반적인 값들을 수반할 수 있는 입사각의 코사인에 대응한다.
마스크의 에지에 대한 계산의 일 예는 다음과 같을 수 있다: y에 대한 최대 값: yMax = 52 mm, R (=링 필드 반경) = 100 mm 및 cx = 0.089, cy = 0.054 및 cz = cos(6°) = 0.995.
(조명 시스템으로부터 마스크상에 입사하는 그리고 나오는, 즉 투영 오브젝티브에 들어가는 광선에 의해 형성되는) 입사 평면이 y = 0 평면에 포함되는 각도 α는,
Figure 112012066447947-pct00004
에 의해 주어지거나,
Figure 112012066447947-pct00005
에 의해서도 주어지며,
여기서, 상기 예에 있어서, α = 31.2도이다.
본 발명의 추가적인 양태에 따라, 조명 동공이 그 휘도 분포에서 이상적인 형태로부터 일탈하는 서브구조를 갖는 상황들이 또한 고려된다. 그러한 구조는 마스크의 평면에 중첩된 다수의 광 통로들을 생성하는 허니컴 컨덴서를 조명 장치에서 사용하는 것에 의해 특히 통제될 수 있다. 그 광 통로들이 이제는 동공을 완전하게 채우지 않음으로써, 개별적인 스폿들 또는 ‘조명 피크들’을 볼 수 있다.
도 8은 그에 관하여 2개의 상이한 필드 포인트들에서의 일반적인 EUV 공동의 일예를 나타낸다. 백색 원들에 각각 나타내어진 개수들은 동공 꾸러미들의 휘도의 상이한 레벨들 및 그것들의 필드 종속을 나타낸다.
상기 상황을 고려하여, 본 발명에 따라 마스크 검사 장치의 개구 평면내의 이상적인 조명 분포들(예컨대, 균질한 쌍극자 또는 4극자 설정들에 의한)만을 생성하는 것만이 가능한 것이 아니고, 개구 평면내에 완전한 ‘서브구조화된’조명 분포를 보존하는 것이 또한 가능하다.
마스크 검사에서의 강도의 변동을 포함하는 동공 조명의 상기한 꾸러미를 재현하는 역할을 하는 실시예들을 설명하기 위한 이하에서는 도 9 내지 도 11을 이제 참조할 것이다.
그 목적을 위해, 몇몇의 실시예들에 있어서, 일반적인 원-파트(one-part) 블레이드 대신에, 블레이드 장치가 적어도 2개의 블레이드들이(추가적인 실시예들에서는 따라서, 3개, 4개 또는 그 이상의 블레이드들이 또한) 사용되며, 그 블레이드들은 말하자면 ‘직렬로 연결되며’ 그리고 블레이드들의 상대 변위 및/또는 회전이 동공 꾸러미들의 유효한 개구를 조정할 수 있게 하고, 따라서 그것의 전체 휘도 또는 광 효율성을 조정할 수 있게 하는 그러한 설계 구성이다.
도 9a 및 9b를 참조하면, 블레이드 장치는 광 통과 방향에 있어서 연속하여 배열되고 각각이 3개의 홀(911~913 및 921~923)을 각각 갖는(예컨대, 각각의 동공 꾸러미에 대해서 개별적인 홀) 2개의 블레이드(910, 920)로 이루어지며, 하지만 양쪽 블레이드들(910, 920)이 상이한 형태의 홀들을 갖는다. 따라서, 개략적으로만 도시되어 있는 제1 블레이드(110)가 예컨대 3개의 원형 홀(911~913)을 갖는데 반하여, 제2 블레이드(920)는 2개의 세장의(elongate) 홀(921 및 923)을 갖는다. 블레이드 장치의 개별적인 블레이드들은 반드시 직접적으로 연속적인 관계로 배열되어야 할 필요는 없다.
도 9c, 9d 및 9e에 도시된 바와 같이, 각각의 동공 꾸러미에 대한 유효한 홀 크기 및 따라서 전체의 휘도의 조정 또는 광 효율성에 있어서의 변화가 수평 방향의 블레이드들(910, 920)의 상대 변위에 의해 달성될 수 있다. 예컨대, 제1 블레이드(910)의 홀들(911~913)의 크기가 (개념상의) 값 3으로 수량화되면, 예컨대 홀 크기가 표 1에 지정된 바와 같이 수평 변위의 함수로 보여질 수 있다:
좌측으로의 변위 변위 없음 우측으로의 변위
상부 좌측 3 3 2
상부 중앙 2 3 2
상부 우측 2 3 3
따라서, 본 발명에 따라, 마스크 검사 장치에 있어서의 동공 조명의 앞서 설명된 바와 같은 서브구조화가 될 수 있다.
도 10에 개략적으로 예시된 추가적인 실시예에 있어서, 홀 개구를 부분적으로 커버하고 따라서 홀의 크기에 있어서의 유효한 감소를 이끄는 적어도 하나의 아포다이징 아암(여기서는, 도 10b에 나타낸 제2 블레이드(960))을 갖는 적어도 2개의 블레이드들(950, 960) 중 적어도 하나의 블레이드에 의해, 가변적인 홀 크기를 제공하는 것이 또한 가능하고, 따라서 동공 꾸러미들의 유효한 개구 및 따라서 전체 휘도 또는 광 효율성에서의 변화를 제공할 수 있다. 따라서, 유효한 홀 크기는, 도 10a의 제1 블레이드(950)에 상대적인 제2 블레이드(960)의 상대 변위에 의해, 제1 블레이드(950)에 있어서의 홀 크기가 그것을 덮고 있는 아암의 영역에 의해 감소되는 것에 의해 변화되는 통로-와이즈(passage-wise)이다.
도 11은 블레이드(970)상의 아암의 추가적인 가능성 있는 구성들을 나타내는 단지 개략적인 도면이다.
추가적인 실시예에 있어서, 상기한 서브동공들 또는 서브구조들에 있어서의 강도의 가변적인 조정을 위한 블레이드 장치가 또한, 적절한 액츄에이터들에 의해 그 전체로 또는 개별적으로 조정될 수 있는 가변적으로 조정될 수 있는 다수의 아이리스 블레이드들을 갖는 (싱글-스테이지(single-stage)의) 블레이드로 또한 구현될 수 있다.
마스크 검사 장치내의 완전한 ‘서브구조화된’ 조명 분포를 제공하는 상기한 개념이 마스크상의 위치에 따라 센트로이드 광선의 방향을 변화시키는 본 발명에 따른 개념과는 독립적으로 또한 구현될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 추가적인 양태에 따르면, 따라서, 본 발명은, 바람직하게 적절한 블레이드 장치를 이용하여, 동시에, 또한 구현되는 마스크상의 위치에 따른 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화없이, 조명 분포의 서브구조가 주어지는 마스크 검사 장치에 또한 관련된다.
본 발명이 특정 실시예들에 의해 설명되었을지라도, 다양한 변경들 그리고 대안적인 실시예들이, 예컨대, 개별적인 실시예들의 특징들의 조합 및/또는 교환에 의해, 당업자에게 명백해질 것이다. 따라서, 당업자라면 그러한 변경들 그리고 대안적인 실시예들이 본 발명에 의해 또한 포함되고, 본 발명의 권리 범위가 첨부된 청구범위 및 그와 등가의 것들의 관점에서만 한정된다는 것을 이해할 것이다.

Claims (27)

  1. 마스크 검사 장치의 조명 시스템으로서,
    ·상기 조명 시스템(610)은 상기 마스크 검사 장치의 작동시에 센트로이드 광선(centroid ray)을 갖는 조명 광선 다발(615)로 마스크(630)를 조명하고;
    ·상기 조명 시스템(610)은, 상기 마스크 검사 장치의 작동시에, 상기 센트로이드 광선의 방향이 상기 마스크(630)상의 상기 조명 광선 다발(615)의 입사 위치에 따라 변화하도록, 구성되어 있는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 마스크(630)의 상이한 위치들에 입사하는 2개의 광선 다발들의 입사 평면들 사이의 최대 각도가 적어도 3°인 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 마스크(630)의 상이한 위치들에 입사하는 2개의 광선 다발들의 센트로이드 광선들 사이의 최대 각도가 적어도 3°인 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 마스크 검사 장치의 작동시에 분석되는 마스크(630)는 투영 노광 장치에서 링의 세그먼트(segment)의 형태의 조명 영역과 사용하기 위해 설계되는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에 있어서의 변화가,
    Figure 112012066565601-pct00019

    의 조건을 따르며,
    여기서,
    x, y는 상기 마스크 평면의 좌표들을 나타내고,
    R은 링 필드(ring field)의 반경을 나타내며,
    α는 (상기 조명 시스템으로부터 상기 마스크에 입사하는 센트로이드 광선과 상기 마스크에 의해 반사되는 센트로이드 광선에 의해 형성되는) 입사 평면과 y = 0 평면 사이의 각도를 나타내는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 조명 시스템(610)은 EUV 모드의 작동용으로 설계되는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 상기 조명 광선 다발(615)의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에서의 변화는, 상기 센트로이드 광선과 상기 마스크(630)상의 표면 법선 사이의 각도의 크기가 유지되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  8. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에서의 변화의 조정을 위한 미리 정해진 움직임 평면에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 블레이드(blade)(650)가 제공되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  9. 마스크 검사 장치의 조명 시스템으로서,
    ·상기 조명 시스템(610)은 상기 마스크 검사 장치의 작동시에 센트로이드 광선을 갖는 조명 광선 다발(615)로 마스크(630)를 조명하고;
    ·상기 조명 시스템(610)은, 상기 마스크 검사 장치의 작동시에, 상기 센트로이드 광선의 방향이 상기 마스크(630)상의 상기 조명 광선 다발(615)의 입사 위치에 따라 변화하도록, 구성되어 있으며,
    ·상기 마스크 검사 장치의 작동시에, 상기 마스크(630)상의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에서의 변화의 조정을 위한 미리 정해진 움직임 평면에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 블레이드(650)가 제공되어 있는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 움직임 평면은 상기 마스크 평면과 공면의 관계(coplanar relationship)로 연장하는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  11. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 조명 광선 다발의 입사 위치에 따른, 상기 센트로이드 광선의 방향에서의 변화의 조정을 위해 상기 블레이드(650)가 움직일 수 있는, 상기 움직임 평면의 영역(410)이 잠두형 윤곽(reniform contour)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  12. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 블레이드(650)가,
    다음의 조명 설정들:
    4극자 조명 설정, 쌍극자 조명 설정, 고리모양 조명 설정 및 일반적인 조명 설정 중 하나 이상의 조정을 위해 적응되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  13. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 블레이드(650)는 회전 가능하게 배열되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  14. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 블레이드는 가변적으로 조정될 수 있는 블레이드 장치(blade arrangement)의 형태이며, 상기 블레이드 장치의 조정에 의해, 상기 마스크 검사 장치의 EUV 투영 노광 장치의 조명 동공의 휘도 분포에 있어서 서브구조(substructure)가 주어질 수 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 블레이드 장치는, 서로 상대적으로 움직일 수 있는 적어도 2개의 블레이드들(910, 920; 950, 960)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 블레이드들(910, 920; 950, 960)은 상이한 형태 및/또는 크기의 블레이드 개구들(911~913; 921~923; 951~953; 961~963)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  17. 청구항 15에 있어서,
    상기 블레이드들 중 적어도 하나(960)가 아포다이징 아암(apodising arm)을 갖는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  18. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 9, 또는 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스크(630)는 회전 가능하게 배열되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
  19. 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브(projection objective)로서,
    상기 투영 오브젝티브(620)는 상기 마스크 검사 장치의 작동시에 주 광선(principal ray)을 갖는 관찰 광선 다발(625)로 마스크(630)를 관찰하며, 상기 투영 오브젝티브는, 상기 마스크 검사 장치의 작동시에, 상기 주 광선이 상기 마스크(630)상의 상기 관찰 광선 다발(625)의 개시 위치(starting location)에 따른 방향을 갖도록, 구성되어 있는, 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 투영 오브젝티브(620)는 EUV 모드의 작동용으로 설계되어 있는, 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브.
  21. 청구항 19 또는 청구항 20에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 관찰 광선 다발(625)의 개시 위치에 따른, 상기 주 광선의 방향에 있어서의 변화의 조정을 위해 미리 정해진 움직임 평면에서 움직일 수 있는 적어도 하나의 블레이드(660)가 제공되어 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 마스크(630)상의 상기 관찰 광선 다발(625)의 개시 위치에 따른, 상기 주 광선의 방향에 있어서의 변화의 조정을 위해 상기 블레이드(660)가 움직일 수 있는 상기 움직임 평면의 영역(510)이 잠두형 윤곽을 갖는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브.
  23. 청구항 21에 있어서,
    상기 움직임 평면은 상기 마스크 평면과 공면의 관계로 연장하는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치의 투영 오브젝티브.
  24. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 9 또는 청구항 10 중 어느 한 항에 기재된 조명 시스템 및 청구항 19 또는 청구항 20에 기재된 투영 오브젝티브를 포함하는 마스크 검사 장치.
  25. 청구항 24에 있어서,
    상기 조명 시스템(610)의 블레이드(650) 및 상기 투영 오브젝티브(620)의 블레이드(660)가 서로에 대해 반대 방향으로 동기적으로 움직일 수 있는 것을 특징으로 하는, 마스크 검사 장치.
  26. 마스크 검사 장치를 작동시키는 방법으로서,
    상기 마스크 검사 장치의 작동시에, 조명 시스템(610)은 센트로이드 광선을 갖는 조명 광선 다발(615)로 마스크(630)를 조명하고, 투영 오브젝티브(620)는 주 광선을 갖는 관찰 광선 다발(625)로 상기 마스크(630)를 관찰하며, 마스크 검사 도중에 상기 마스크(630)의 움직임 동안에, 상기 센트로이드 광선의 방향 및 상기 주 광선의 방향은 상기 마스크(630)상의 위치에 따라 각각 변화되는, 마스크 검사 장치의 작동 방법.
  27. 마스크 검사 장치의 조명 시스템으로서,
    상기 조명 시스템은 적어도 하나의 블레이드 장치 - 상기 블레이드 장치의 조정에 의해 EUV 투영 노광 장치의 조명 동공의 휘도 분포에 있어서 서브구조가 주어질 수 있도록, 가변적으로 조정될 수 있음 - 를 갖는, 마스크 검사 장치의 조명 시스템.
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