KR101408013B1 - Electrically-conductive transparent film - Google Patents

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Abstract

기재 필름 상에, (A)층 및 (B)층이 순서대로 적층되어서 이루어진 투명 도전 필름으로서, 상기 (A)층이 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 바인더 수지와, 평균 입자직경 200㎚ 이하의 금속산화물 입자를 포함하는 광학조정층이며, 또한 상기 (B)층이 도전성 유기 고분자층인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름. 이 투명 도전 필름은, 고가의 희소 금속인 인듐을 이용한 ITO를 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지녀, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직하다.A transparent conductive film obtained by laminating a layer (A) and a layer (B) on a base film in this order, wherein the layer (A) comprises at least one kind of binder resin selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an active energy ray- And an optical adjustment layer comprising metal oxide particles having an average particle diameter of 200 nm or less, and the layer (B) is a conductive organic polymer layer. This transparent conductive film has electrical characteristics and transmittance equal to those of ITO without using ITO using indium, which is an expensive rare metal, and is preferable as a transparent electrode for displays, particularly, an electrode for a touch panel.

Description

투명 도전 필름{ELECTRICALLY-CONDUCTIVE TRANSPARENT FILM}ELECTRICALLY-CONDUCTIVE TRANSPARENT FILM

본 발명은 투명 도전 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 고가의 희소금속(rare metal)인 인듐을 이용한 주석 도핑 산화인듐(ITO)을 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지니고, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직한 투명 도전 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductive film, and more particularly, to a transparent conductive film having electrical characteristics and transmittance equal to those of ITO without using indium tin oxide (ITO) using indium, which is a rare metal, , A transparent electrode for display, and the like, particularly, a transparent conductive film preferable as an electrode for a touch panel.

종래, 무기 도전 재료로서, 주석 도핑 산화인듐(ITO), 산화주석, 산화인듐, 산화아연, 알루미늄을 도핑한 산화아연 등이 알려져 있고, 그리고, 이들 중에서, 투명성 및 전기 특성이 특히 우수한 ITO를 이용한 투명 도전 필름이 액정 디스플레이나, 투명 터치패널 등의 투명전극 등으로서 많이 이용되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, as an inorganic conductive material, tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zinc oxide doped with aluminum, and the like have been known. Among them, ITO BACKGROUND ART Transparent conductive films are widely used as liquid crystal displays, transparent electrodes such as transparent touch panels, and the like.

이러한 투명 도전 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이나 트라이아세틸셀룰로스 필름 등의 투명 필름 표면에, 진공증착법, 스퍼터링법, 이온 도금법 등의 드라이 프로세스에 의해서, ITO막을 형성한 것이 잘 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 및 2 참조).As such a transparent conductive film, it is well known that an ITO film is formed on the surface of a transparent film such as a polyethylene terephthalate film or a triacetyl cellulose film by a dry process such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method (for example, Patent Documents 1 and 2).

그런데, 터치패널은, 현재 약 9할이 저항막 방식을 채용하고 있다. 해당 저항막 방식의 터치패널은, 일반적으로 투명 플라스틱 기재의 한 면에 ITO막 등의 투명 도전성 박막을 적층한 터치측 플라스틱 기판과, 유리 등의 투명 기재의 한 면에 ITO막 등의 투명 도전성 박막을 적층한 디스플레이측 투명 기판을, 절연 스페이서를 개재해서, 각 투명 도전성 박막이 마주 향하도록 대향 배치시킨 구조를 지니고 있다.By the way, the touch panel adopts the resistance film method at present about 90%. The resistance film type touch panel generally includes a touch-side plastic substrate on which a transparent conductive thin film such as an ITO film is laminated on one surface of a transparent plastic substrate, and a transparent conductive thin film such as an ITO film on one surface of a transparent substrate such as glass Side transparent substrates are arranged opposite to each other with the transparent spacers facing each other with an insulating spacer interposed therebetween.

그리고, 입력은, 펜이나 손가락으로 터치측 플라스틱 기판의 터치 입력면(투명 도전성 박막 측과는 반대쪽의 면을 의미함)을 가압하여, 터치측 플라스틱 기판의 투명 도전성 박막과, 디스플레이측 투명 기판의 투명 도전성 박막을 접촉시켜서 행한다.The input is performed by pressing a touch input surface (the surface opposite to the transparent conductive thin film side) of the touch-side plastic substrate with a pen or a finger to form a transparent conductive thin film of the touch- And the transparent conductive thin film is brought into contact with each other.

그러나, 이러한 저항막 방식 터치패널에 있어서는, 입력 조작을 반복함으로써, 즉, 터치측 플라스틱 기판의 투명 도전성 박막과 디스플레이측 투명 기판의 투명 도전성 박막과의 접촉을 반복함으로써, 터치측 플라스틱 기판의 투명 도전성 박막이 마모되거나, 균열이 발생하거나, 또한 기재로부터 박리되어 버리는 등의 문제가 생긴다. 그래서, 이러한 문제를 해결하기 위해서, 일반적으로 투명 플라스틱 기판과 투명 도전성 박막 사이에 경화 수지로 이루어진 하드 코트층을 형성하는 것이 행해지고 있다. 또한, 해당 투명 플라스틱 기판의 투명 도전성 박막과는 반대쪽의 표면에도 하드 코트층을 형성하는 것이 잘 행해지고 있다.However, in such a resistive-type touch panel, the input operation is repeated, that is, the contact between the transparent conductive thin film of the touch-side plastic substrate and the transparent conductive thin film of the display-side transparent substrate is repeated, There arises a problem that the thin film is worn, cracked, or peeled off from the substrate. Therefore, in order to solve such a problem, generally, a hard coat layer made of a cured resin is formed between the transparent plastic substrate and the transparent conductive thin film. In addition, a hard coat layer is often formed on the surface of the transparent plastic substrate opposite to the transparent conductive thin film.

그러나, 이러한 투명 도전 필름이나 투명 도전 플라스틱 기판 상에 투명 도전 박막으로서 이용되는 ITO는, 희소 금속인 인듐을 이용하고 있기 때문에 고가이고, 박막 형성에는, 특수한 프로세스가 필요해진다. 또, 단단하여 취약하기 때문에 취급성이 나쁘다고 하는 문제가 있다. 따라서, 이들 문제를 해결하기 위해서, 도전성 유기 고분자 화합물을 사용하는 것이 검토되고 있다(예를 들어, 특허문헌 3 및 4 참조).However, ITO used as a transparent conductive thin film on such a transparent conductive film or a transparent conductive plastic substrate is expensive because indium, which is a rare metal, is used, and a special process is required for forming a thin film. In addition, there is a problem that it is poor in handleability because it is hard and weak. Therefore, in order to solve these problems, it has been studied to use a conductive organic polymer compound (see, for example, Patent Documents 3 and 4).

그러나, 도전성 유기 고분자 화합물은, ITO와 동등한 전기 특성을 얻는 것이 가능하지만, 얻어진 도전 필름 등의 투과율이 저하하는 것을 모면할 수 없어, 실용화에 이르고 있지 않은 것이 현실정이다.However, although it is possible to obtain electric characteristics equivalent to those of ITO in the conductive organic polymer compound, it is practically impossible to reduce the transmittance of the obtained conductive film or the like so that it can not be put to practical use.

이와 같이, 도전성 유기 고분자 화합물은, ITO와 동등한 전기 특성을 얻고자 한 경우에 ITO에 비해서 투과율이 낮아지고, 투과율을 올렸을 경우에는 전기 특성이 악화된다(전기 특성, 투과율은 막 두께 의존성이 있다). 투과율이 낮을 경우에는, 디스플레이로서의 시인성(視認性)이 저하할 우려가 있다.As described above, the conductive organic polymer compound has a lower transmittance than that of ITO in the case of obtaining an electric characteristic equivalent to that of ITO, and deteriorates in electrical characteristics when the transmittance is increased (electrical characteristics and transmittance depend on film thickness) . When the transmittance is low, there is a fear that the visibility as a display is lowered.

JPJP 2006-2162662006-216266 AA JPJP 2007-1338392007-133839 AA JPJP 2002-1799542002-179954 AA WO2006/082944 AWO2006 / 082944A

본 발명은, 이러한 상황 하에 이루어진 것으로, 고가의 희소 금속인 인듐을 이용한 ITO를 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지니며, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직한 투명 도전 필름을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.The present invention has been made under such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a transparent electrode for display, which is preferably used as an electrode for a touch panel, having an electric characteristic and a transmittance equal to that of the ITO without using ITO using an expensive rare metal indium It is an object of the present invention to provide a transparent conductive film.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 연구를 거듭한 결과, 기재 필름 상에, 특정 수지와 평균 입자직경이 소정 값 이하인 금속산화물 입자를 포함하는 고굴절률의 광학조정층을 설치하고, 그 위에, 해당 광학조정층보다도 굴절률이 낮은 도전성 유기 고분자층을 설치함으로써, 표면의 반사를 억제하고, 전기 특성을 유지한 채, 투과율을 향상시키는 것이 가능하여, ITO를 이용한 도전 필름과 동등한 전기 특성과 투과율을 지니는 투명 도전 필름이 얻어지는 것을 찾아내었다. 본 발명은 이러한 지견에 기초해서 완성된 것이다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have made intensive studies in order to achieve the above object and as a result have found that an optical adjusting layer having a high refractive index including a specific resin and metal oxide particles having an average particle diameter of a predetermined value or less is provided on the base film, , It is possible to improve the transmittance while suppressing the reflection of the surface and maintaining the electrical characteristics by providing the conductive organic polymer layer having a refractive index lower than that of the optical adjustment layer. Thus, it is possible to improve the electrical characteristics and transmittance Of the transparent conductive film. The present invention has been completed on the basis of such findings.

즉, 본 발명은,That is,

(1) 기재 필름 상에, (A)층 및 (B)층이 순서대로 적층되어서 이루어진 투명 도전 필름으로서, 상기 (A)층이 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 바인더 수지와, 평균 입자직경이 200㎚ 이하인 금속산화물 입자를 포함하는 광학조정층이며, 또한 상기 (B)층이 도전성 유기 고분자층인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름;(1) A transparent conductive film obtained by laminating a layer (A) and a layer (B) on a base film in this order, wherein the layer (A) is a thermoplastic resin, , And a metal oxide particle having an average particle diameter of 200 nm or less, wherein the layer (B) is a conductive organic polymer layer;

(2) 표면저항률이 300 내지 800Ω/□이며, 전광선투과율이 86% 이상인, 상기 (1)항에 기재의 투명 도전 필름;(2) The transparent conductive film as described in (1) above, wherein the surface resistivity is 300 to 800? / ?, and the total light transmittance is 86% or more;

(3) (B) 도전성 유기 고분자층의 표면에 있어서의 파장 550㎚의 반사율이 5%이하인, 상기 (1) 또는 (2)항에 기재의 투명 도전 필름;(3) The transparent conductive film described in (1) or (2) above, wherein (B) the reflectance at a wavelength of 550 nm on the surface of the conductive organic polymer layer is 5% or less;

(4) (B) 도전성 유기 고분자층의 굴절률이 (A) 광학조정층의 굴절률보다도 낮은, 상기 (1) 내지 (3)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름;(4) The transparent conductive film according to any one of (1) to (3) above, wherein (B) the refractive index of the conductive organic polymer layer is lower than (A) the refractive index of the optical adjusting layer;

(5) (B) 도전성 유기 고분자층을 구성하는 도전성 유기 고분자 화합물이 폴리티오펜계, 폴리아닐린계 및 폴리피롤계 화합물 중에서 선택된 적어도 1종인, 상기 (1) 내지 (4)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름;(5) The conductive polymer composition according to any one of (1) to (4) above, wherein the conductive organic polymer compound constituting the conductive organic polymer layer (B) is at least one selected from the group consisting of a polythiophene type, a polyaniline type, Transparent conductive film;

(6) (A) 광학조정층이, 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 바인더 수지 100질량부에 대해서, 평균 입자직경이 200㎚ 이하인 금속산화물 입자를 1 내지 700질량부의 비율로 포함하는, 상기 (1) 내지 (5)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름;(6) The optical recording medium according to any one of the above items (1) to (5), wherein the optical adjustment layer (A) contains metal oxide particles having an average particle diameter of 200 nm or less in an amount of 1 to 700 A transparent conductive film according to any one of (1) to (5) above, wherein the transparent conductive film is contained at a ratio of the mass part to the transparent conductive film.

(7) (A) 광학조정층이, 바인더 수지로서, 열가소성 수지 및/또는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하고, 또한 금속산화물 입자로서, 산화티타늄 입자 및/또는 안티몬 도핑된 산화주석입자를 포함하는, 상기 (1) 내지 (6)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름;(7) The optical recording medium according to (7), wherein the optical adjustment layer (A) comprises a thermoplastic resin and / or an active energy ray-curable resin as the binder resin and further contains titanium oxide particles and / or antimony- , The transparent conductive film described in any one of (1) to (6) above;

(8) 기재 필름의 이면에 하드 코트층이 설치되어서 이루어진, 상기 (1) 내지 (7)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름; 및(8) The transparent conductive film according to any one of (1) to (7) above, wherein a hard coat layer is provided on the back surface of the base film; And

(9) 기재 필름과 (A) 광학조정층 사이에 하드 코트층이 설치되어서 이루어진, 상기 (1) 내지 (8)항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전 필름(9) The transparent conductive film according to any one of (1) to (8), wherein a hard coat layer is provided between the base film and the optical adjustment layer.

을 제공하는 것이다..

본 발명에 따르면, 고가의 희소 금속인 인듐을 이용한 ITO를 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지니고, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직한 투명 도전 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film having electrical characteristics and transmittance equal to those of the ITO, which is preferable as an electrode for a display panel, such as a transparent electrode for a display, without using ITO using an expensive rare metal indium .

도 1은 본 발명의 투명 도전 필름의 일례의 구성을 나타낸 단면 모식도;
도 2는 본 발명의 투명 도전 필름의 다른 예의 구성을 나타낸 단면 모식도;
도 3은 본 발명의 투명 도전 필름의 또 다른 예의 구성을 나타낸 단면 모식도;
도 4는 본 발명의 투명 도전 필름의 더욱 다른 예의 구성을 나타낸 단면 모식도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an exemplary structure of a transparent conductive film of the present invention;
2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of another example of the transparent conductive film of the present invention;
3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of another example of the transparent conductive film of the present invention;
4 is a schematic cross-sectional view showing a structure of still another example of the transparent conductive film of the present invention.

본 발명의 투명 도전 필름은, 기재 필름 상에, 하기의 성상을 지니는 (A) 광학조정층 및 (B) 도전성 유기 고분자층이 순서대로 적층되어서 이루어진 것을 특징으로 한다.The transparent conductive film of the present invention is characterized in that an optical adjustment layer (A) having the following characteristics and a conductive organic polymer layer (B) are sequentially laminated on a base film.

[기재 필름][Base film]

본 발명의 투명 도전 필름에 있어서 이용되는 기재 필름에 특별히 제한은 없고, 종래 광학용 필름의 기재로서 공지의 플라스틱 필름 중에서 적절하게 선택해서 이용할 수 있다. 이러한 플라스틱 필름으로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 다이아세틸셀룰로스 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름, 아세틸셀룰로스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 폴리스타이렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터에터케톤 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리에터이미드 필름, 폴리이미드 필름, 불소수지 필름, 폴리아마이드 필름, 아크릴수지 필름, 노보넨계 수지 필름, 사이클로올레핀 수지 필름 등을 들 수 있다. 이들 기재 필름은, 투명 혹은 반투명의 어느 것이어도 되며, 또한, 착색되어 있어도 되거나 혹은 무착색의 것이라도 되며, 용도에 따라서 적당히 선택하면 된다.The base film used in the transparent conductive film of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected from known plastic films as a substrate of conventional optical films. Examples of such a plastic film include a polyester film such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, a polyethylene film, a polypropylene film, a cellophane, a diacetylcellulose film, a triacetylcellulose film, an acetylcellulose butyrate A polyvinyl chloride film, a polyvinyl alcohol film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, a polystyrene film, a polycarbonate film, a polymethylpentene film, a polysulfone film, a polyetheretherketone film, A polyetherimide film, a polyimide film, a fluorine resin film, a polyamide film, an acrylic resin film, a norbornene resin film, a cycloolefin resin film and the like. These base films may be either transparent or semitransparent, and may be colored or non-colored, and may be appropriately selected depending on the application.

이들 기재 필름의 두께는 특별히 제한은 없고, 상황에 따라서 적당히 선정되지만, 통상 15 내지 300㎛ 정도, 바람직하게는 30 내지 200㎛, 보다 바람직하게는 50 내지 200㎛의 범위이다. 또, 이 기재 필름은, 그 표면에 설치되는 층과의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 필요에 따라 한 면 또는 양면에, 산화법이나 요철화법 등에 의해 표면 처리를 실시할 수 있다. 상기 산화법으로서는, 예를 들어, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 크롬산처리(습식), 화염처리, 열풍처리, 오존·자외선 조사 처리 등을 들 수 있고, 또한, 요철화법으로서는, 예를 들어, 샌드 블라스트(sand blast)법, 용제처리법 등을 들 수 있다. 이들 표면처리법은 기재 필름의 종류에 따라서 적절하게 선택되지만, 일반적으로는 코로나 방전 처리법이 효과 및 조작성 등의 면으로부터 바람직하게 이용된다.The thickness of the base film is not particularly limited and may be appropriately selected according to the circumstances, but is usually in the range of about 15 to 300 mu m, preferably 30 to 200 mu m, more preferably 50 to 200 mu m. The base film may be surface-treated on one side or both sides by an oxidation method, an irregularity method or the like, if necessary, for the purpose of improving the adhesion with the layer provided on the surface of the base film. Examples of the oxidation method include a corona discharge treatment, a plasma treatment, a chromic acid treatment (wet), a flame treatment, a hot air treatment, an ozone / ultraviolet ray irradiation treatment and the like. a sand blast method, a solvent treatment method, and the like. These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of the substrate film, but generally, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

[(A) 광학조정층][(A) Optical adjustment layer]

본 발명의 투명 도전 필름에 있어서, 전술한 기재 필름 상에 (A)층으로서 광학조정층이 설치된다. 이 광학조정층은, 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 바인더 수지와, 평균 입자직경이 200㎚ 이하인 금속산화물 입자를 포함하는 층이다.In the transparent conductive film of the present invention, the optical adjustment layer is provided as the (A) layer on the base film described above. The optical adjustment layer is a layer containing at least one kind of binder resin selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an active energy ray-curable resin, and metal oxide particles having an average particle diameter of 200 nm or less.

상기 광학조정층은, 그 굴절률을, 해당 층 위에 설치되는 후술하는 (B)층인 도전성 유기 고분자층의 굴절률보다도 높게 하는 것에 의해서, 표면의 반사율을 작게 함으로써, 전광선투과율을 높게 해서, 투명성을 향상시키는 기능을 지니고 있다.The refractive index of the optical adjustment layer is made higher than the refractive index of the conductive organic polymer layer (B), which will be described later, provided on the layer to reduce the reflectance of the surface, thereby increasing the total light transmittance and improving the transparency Function.

(바인더 수지)(Binder resin)

상기 광학조정층에 있어서는, 바인더 수지로서, 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 수지가 이용된다.In the optical adjustment layer, at least one resin selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an active energy ray-curable resin is used as the binder resin.

<열가소성 수지>&Lt; Thermoplastic resin &

상기 열가소성 수지로서는, 투명성을 지니는 것이 바람직하고, 예를 들어, 방향족 폴리에스터계나 지방족 폴리에스터계 수지, 폴리에스터 우레탄계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리사이클로올레핀 등의 폴리올레핀계 수지, 다이아세틸셀룰로스, 트라이아세틸셀룰로스, 아세틸셀룰로스부티레이트 등의 셀룰로스계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리스타이렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아마이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 된다.The thermoplastic resin preferably has transparency. Examples of the thermoplastic resin include aromatic polyester resins, aliphatic polyester resins, polyester urethane resins, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene and polycycloolefin, Cellulose resins such as acetyl cellulose, triacetyl cellulose and acetyl cellulose butyrate, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl alcohol resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, acrylic resins, polyamide resins Resins and the like. These may be used singly or in combination of two or more kinds.

<열경화성 수지>&Lt; Thermosetting resin &

열경화성 수지란, 열을 가함으로써, 중합, 가교, 경화하는 열경화성 화합물의 경화물을 가리킨다. 열경화성 수지로서는, 예를 들어, 열경화 부가 반응형 실리콘 수지를 이용할 수 있다. 이 부가 반응형 실리콘 수지로서는, 예를 들어, 분자 중에 작용기로서 알케닐기를 지니는 폴리오가노실록산 중에서 선택된 적어도 1종을 들 수 있다. 상기 분자 중에 작용기로서 알케닐기를 지니는 폴리오가노실록산의 바람직한 것으로서는, 비닐기를 작용기로 하는 폴리다이메틸실록산, 헥세닐기를 작용기로 하는 폴리다이메틸실록산 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.The thermosetting resin refers to a cured product of a thermosetting compound which is polymerized, crosslinked and cured by application of heat. As the thermosetting resin, for example, a thermosetting addition reaction-type silicone resin can be used. As the addition reaction-type silicone resin, for example, at least one selected from polyorganosiloxanes having an alkenyl group as a functional group in the molecule may be mentioned. Preferable examples of the polyorganosiloxane having an alkenyl group as a functional group in the molecule include polydimethylsiloxane having a vinyl group as a functional group, polydimethylsiloxane having a hexenyl group as a functional group, and mixtures thereof.

가교제로서는, 예를 들어, 1분자 중에 적어도 2개의 규소원자 결합 수소원자를 지니는 폴리오가노실록산, 구체적으로는, 다이메틸하이드로젠실록시기말단봉쇄 다이메틸실록산-메틸하이드로젠실록산 공중합체, 트라이메틸실록시기말단봉쇄 다이메틸실록산-메틸하이드로젠실록산 공중합체, 트라이메틸실록시기말단봉쇄 폴리(메틸하이드로젠실록산), 폴리(하이드로젠실세스퀴옥산) 등을 들 수 있다. 가교제의 사용량은, 부가 반응형 실리콘 수지 100질량부에 대해서, 통상 0.1 내지 100질량부, 바람직하게는 0.3 내지 50질량부의 범위에서 선정된다.Examples of the crosslinking agent include a polyorganosiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in a molecule, specifically, a dimethylhydrogensiloxy end-blocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, End-blocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy-terminated poly (methylhydrogensiloxane), poly (hydrogenosilsesquioxane), and the like. The amount of the crosslinking agent to be used is generally selected in the range of 0.1 to 100 parts by mass, preferably 0.3 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the addition reaction type silicone resin.

촉매로서는, 통상 백금계 화합물이 이용된다. 이 백금계 화합물의 예로서는, 미립자 형태 백금, 탄소분말 담체 상에 흡착된 미립자 형태 백금, 염화백금산, 알코올 변성 염화백금산, 염화백금산의 올레핀 착체, 팔라듐, 로듐 촉매 등을 들 수 있다. 촉매의 사용량은, 부가 반응형 실리콘 수지 및 가교제의 합계량에 대해서, 백금계 금속으로서 1 내지 1000ppm 정도이다.As the catalyst, a platinum compound is generally used. Examples of the platinum-based compound include particulate platinum, particulate platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complex of chloroplatinic acid, palladium, rhodium catalyst and the like. The amount of the catalyst to be used is about 1 to 1000 ppm as the platinum-group metal with respect to the total amount of the addition reaction type silicone resin and the crosslinking agent.

이 열경화 부가 반응형 실리콘 수지는 70 내지 160℃ 정도의 온도에서 가열함으로써 경화시킬 수 있다.The reaction-type silicone resin can be cured by heating at a temperature of about 70 to 160 ° C.

<활성 에너지선 경화성 수지>&Lt; Active energy ray curable resin &

활성 에너지선 경화성 수지란, 전자파 또는 하전입자선 중에서 에너지 양자를 지니는 것, 즉, 자외선 또는 전자선 등의 에너지선을 조사함으로써, 중합, 가교, 경화하는 활성 에너지선 경화성 화합물의 경화물을 가리킨다.The active energy ray curable resin refers to a cured product of an active energy ray curable compound which has both energy in an electromagnetic wave or a charged particle beam, that is, an energy ray such as ultraviolet rays or electron rays is irradiated to polymerize, crosslink and cure.

이러한 활성 에너지선 경화성 화합물로서는, 예를 들어, 라디컬 중합형의 광중합성 프레폴리머 및/또는 광중합성 모노머를 들 수 있다. 라디컬 중합형의 광중합성 프레폴리머로서는, 예를 들어, 폴리에스터아크릴레이트계, 에폭시아크릴레이트계, 우레탄아크릴레이트계, 폴리올아크릴레이트계 등을 들 수 있다. 이들 광중합성 프레폴리머는 1종 이용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 된다.Examples of such active energy ray-curable compounds include radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and / or photopolymerizable monomers. Examples of the radical polymerization type photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

또, 광중합성 모노머로서는, 예를 들어, 1,4-부탄다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 아디페이트 다이(메타)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 다이사이클로펜타닐다이(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이사이클로펜테닐다이(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산 다이(메타)아크릴레이트, 알릴화 사이클로헥실다이(메타)아크릴레이트, 아이소사이아누레이트 다이(메타)아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로판 트라이(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트, 프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 다작용성 아크릴레이트를 들 수 있다. 이들 광중합성 모노머는 1종 이용해도 되거나, 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 되거나, 또는, 상기 광중합성 프레폴리머와 병용해도 된다.Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate (Meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, dicyclohexylmethane di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, (Meth) acrylates such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylol propane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta And polyfunctional acrylates such as erythritol hexa (meth) acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These photopolymerizable monomers may be used alone, or two or more of them may be used in combination, or may be used in combination with the photopolymerizable prepolymer.

본 발명에 있어서는, 상기 광중합성 프레폴리머 및/또는 광중합성 모노머는, 필요에 따라, 종래 공지의 각종 광중합개시제를 병용할 수 있다.In the present invention, the photopolymerizable prepolymer and / or the photopolymerizable monomer may be used in combination with various conventionally known photopolymerization initiators, if necessary.

그 배합량은, 상기 광중합성 프레폴리머 및/또는 광중합성 모노머 100질량부에 대해서, 통상 0.2 내지 10질량부의 범위이다.The blending amount thereof is usually in the range of 0.2 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the photopolymerizable prepolymer and / or the photopolymerizable monomer.

이러한 광중합성 프레폴리머 및/또는 광중합성 모노머 및 필요에 따라 광중합개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 화합물은, 활성 에너지선, 예를 들어, 자외선을 조사함으로써 경화시킬 수 있다. 또한, 활성 에너지선으로서, 전자선을 조사할 경우에는, 광중합개시제는 필요로 하지 않는다.The active energy ray-curable compound containing such a photopolymerizable prepolymer and / or photopolymerizable monomer and, if necessary, a photopolymerization initiator can be cured by irradiation with active energy rays, for example, ultraviolet rays. When an electron beam is irradiated as an active energy ray, a photopolymerization initiator is not required.

본 발명에 있어서, (A)층의 광학조정층을 구성하는 바인더 수지로서는, 상기 예시한 것 중에서 열가소성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지가 바람직하다. 부가 반응형 실리콘 수지를 이용하는 열경화성 수지는, 비용이 높아지는데다가, 그 위에 설치되는 (B)층의 도전성 유기 고분자층과의 밀착성에 난점이 있다. 또한, 해당 광학조정층은 박막으로 도공하므로, 활성 에너지선(자외선) 경화성 수지는, 경화 시, 산소저해의 영향을 받을 우려가 있으므로, 특히 열가소성 수지가 바람직하다.In the present invention, as the binder resin constituting the optical adjustment layer of the layer (A), a thermoplastic resin and an active energy ray-curable resin are preferable among those exemplified above. The thermosetting resin using the addition reaction type silicone resin is disadvantageous in that the cost is increased and the adhesion with the conductive organic polymer layer of the layer (B) provided thereon is increased. Since the optical adjustment layer is coated with a thin film, the active energy ray (ultraviolet ray) curable resin is particularly preferably a thermoplastic resin because it may be affected by oxygen inhibition during curing.

(금속산화물 입자)(Metal oxide particles)

상기 광학조정층에는, 굴절률 조정을 위하여 금속산화물 입자가 이용된다. 이 금속산화물 입자로서는, 예를 들어, 산화티타늄, 산화탄탈, 산화지르코늄, 산화니오브, 산화하프늄, 산화주석, 안티몬 도핑된 산화주석(ATO) 등의 고굴절률 금속산화물 입자를 들 수 있다. 해당 금속산화물은, 굴절률 조정을 위하여 이용되고 있으므로, 도전성을 얻기 위하여, 필름 상에 도전박막으로서 이용되는 종래의 것에 비해서, 금속산화물의 사용량은 매우 적다.For the optical adjustment layer, metal oxide particles are used for adjusting the refractive index. Examples of the metal oxide particles include high refractive index metal oxide particles such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, niobium oxide, hafnium oxide, tin oxide, and antimony doped tin oxide (ATO). Since the metal oxide is used for adjusting the refractive index, the amount of the metal oxide to be used is very small as compared with the conventional one used as a conductive thin film on the film in order to obtain conductivity.

이 금속산화물 입자는, 평균 입자직경이 200㎚ 이하인 것을 필요로 한다. 해당 평균 입자직경이 200㎚를 초과하면 헤이즈값의 증대를 초래하여 투명성이 저하한다. 바람직한 평균 입자직경은 150㎚ 이하이다. 또한, 그 하한값은 제조성의 면으로부터 2㎚ 정도이다.This metal oxide particle needs to have an average particle diameter of 200 nm or less. When the average particle diameter exceeds 200 nm, the haze value is increased and the transparency is lowered. The preferred average particle diameter is 150 nm or less. The lower limit value is about 2 nm from the viewpoint of manufacturability.

또, 상기 금속산화물 입자의 평균 입자직경은 동적 산란법으로 측정한 값이다.The average particle diameter of the metal oxide particles is a value measured by a dynamic scattering method.

또한, 상기 금속산화물 입자의 배합량은, 전술한 바인더 수지 100질량부에 대해서, 1 내지 700질량부 정도가 바람직하다. 이 배합량이 1질량부 미만이면 굴절률의 향상이 곤란하고, 700 질량부를 넘으면 금속산화물량이 많아 도막이 약해져, 금속산화물의 탈락이 발생할 우려가 있다. 보다 바람직한 배합량은 10 내지 600질량부, 보다 바람직하게는 100 내지 400질량부이다.The blending amount of the metal oxide particles is preferably about 1 to 700 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. When the blending amount is less than 1 part by mass, it is difficult to improve the refractive index. When the blending amount exceeds 700 parts by mass, the amount of the metal oxide is large and the coating film is weakened. A more preferable blending amount is 10 to 600 parts by mass, more preferably 100 to 400 parts by mass.

상기 광학조정층의 굴절률이 그 위에 설치되는 (B)층의 도전성 유기 고분자층의 굴절률보다도 높지 않을 경우에는, 충분한 반사 방지 효과가 얻어지지 않아, 전광선투과율의 향상을 기대할 수 없다. 상기 금속산화물 입자는, 굴절률, 투명성 및 가격 등을 고려해서 적절하게 선택하면 되고, 산화티타늄 입자, 산화주석입자, 안티몬 도핑된 산화주석입자가 바람직하며, 특히 산화티타늄 입자 및/또는 안티몬 도핑된 산화주석입자가 바람직하다.When the refractive index of the optical adjusting layer is not higher than the refractive index of the conductive organic polymer layer of the layer (B) provided thereon, a sufficient antireflection effect can not be obtained and improvement of the total light transmittance can not be expected. The metal oxide particles may be appropriately selected in consideration of the refractive index, transparency and price, and are preferably titanium oxide particles, tin oxide particles, and antimony-doped tin oxide particles, and particularly titanium oxide particles and / or antimony- Tin particles are preferred.

(광학조정층의 형성)(Formation of optical adjustment layer)

본 발명의 투명 도전 필름에 있어서는, 전술한 기재 필름 상에, (A)층으로서 광학조정층을 설치하지만, 그를 위해서는, 우선, 광학조정층 형성용 도공액을 조제한다.In the transparent conductive film of the present invention, the optical adjustment layer is provided as the layer (A) on the above-mentioned base film. For this purpose, first, a coating solution for forming an optical adjustment layer is prepared.

적당한 매체 중에, 바인더 수지로 되는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종과, 금속산화물 입자를 소정의 비율로 용해 또는 분산시켜서 이루어진, 고형분 농도 0.1 내지 10질량% 정도의 광학조정층 형성용 도공액을 조제한다.A method for producing an optical recording medium which comprises an appropriate medium containing at least one selected from a thermoplastic resin as a binder resin, a thermosetting resin and an active energy ray-curable resin, and metal oxide particles dissolved or dispersed at a predetermined ratio and having a solid content of about 0.1 to 10 mass% To prepare a coating solution for forming an adjustment layer.

이어서, 기재 필름 상에, 상기 광학조정층 형성용 도공액을, 종래 공지의 방법, 예를 들어, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 그라비어 코트법 등을 이용해서, 소정의 건조 두께로 되도록 도포하여, 70 내지 110℃ 정도에서 30초 내지 2분 정도 건조시킨다. 또한 필요에 따라서 열경화나, 활성 에너지선의 조사에 의한 경화 처리를 행한다. 바인더 수지로서, 열가소성 수지만을 이용할 경우에는, 건조 처리만으로 충분하여, 열경화나 활성 에너지선의 조사에 의한 경화 처리를 실시하지 않아도 되어, 조작이 간편해서 바람직하다.The coating liquid for forming an optical adjustment layer is then coated on the base film by a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method To a predetermined dry thickness, and dried at about 70 to 110 DEG C for about 30 seconds to about 2 minutes. In addition, if necessary, curing treatment is carried out by thermal curing or irradiation of active energy rays. When only the thermoplastic resin is used as the binder resin, it is sufficient that the drying treatment is sufficient, and the curing treatment by irradiation of the thermosetting or active energy ray does not need to be performed, which is preferable because the operation is simple.

이와 같이 해서, 두께가 50 내지 500㎚ 정도, 바람직하게는 100 내지 200㎚인 광학조정층을 형성할 수 있다. 이 광학조정층의 굴절률은, 통상 1.60 내지 2.00 정도, 바람직하게는 1.65 내지 1.90이다.In this way, an optical adjustment layer having a thickness of about 50 to 500 nm, preferably 100 to 200 nm, can be formed. The refractive index of the optical adjusting layer is usually about 1.60 to 2.00, preferably 1.65 to 1.90.

[(B) 도전성 유기 고분자층][(B) Conductive Organic Polymer Layer]

본 발명의 투명 도전 필름에 있어서는, 전술한 바와 같이 해서 형성된 (A)층의 광학조정층 상에, (B)층으로서 도전성 유기 고분자층이 설치된다.In the transparent conductive film of the present invention, a conductive organic polymer layer is provided as the (B) layer on the optical adjustment layer of the layer (A) formed as described above.

(도전성 유기 고분자 화합물)(Conductive organic polymer compound)

(B)층의 도전성 유기 고분자층을 구성하는 도전성 유기 고분자 화합물로서는, 도전성을 지니고, 적절한 용매에 용해 또는 분산될 수 있는 고분자 화합물이면 되고, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 트랜스형 폴리아세틸렌, 시스형 폴리아세틸렌, 폴리다이아세틸렌 등의 폴리아세틸렌계; 폴리(p-페닐렌)이나 폴리(m-페닐렌) 등의 폴리(페닐렌)계; 폴리티오펜, 폴리(3-알킬티오펜), 폴리(3-티오펜-β-에탄설폰산), 폴리알킬렌다이옥시티오펜과 폴리스타이렌설포네이트와의 복합체 등의 폴리티오펜계; 폴리아닐린, 폴리메틸아닐린, 폴리메톡시아닐린 등의 폴리아닐린계; 폴리피롤, 폴리3-메틸피롤, 폴리3-옥틸피롤 등의 폴리피롤계; 폴리(p-페닐렌비닐렌) 등의 폴리(페닐렌비닐렌)계; 폴리(비닐설파이드)계; 폴리(p-페닐렌설파이드)계; 폴리(티에닐렌비닐렌)계 화합물 등이 이용된다. 이들 중에서, 성능 및 입수의 용이함 등의 관점에서, 폴리티오펜계, 폴리아닐린계 및 폴리피롤계 화합물이 바람직하며, 착색성, 도전성의 관점에서, 폴리티오펜계 화합물이 보다 바람직하다. 상기 폴리알킬렌다이옥시티오펜과 폴리스타이렌설포네이트와의 복합체는, 예를 들어, 폴리스타이렌 설폰산 또는 그 염과 3가의 철 이온의 존재 하, 퍼옥소이황산나트륨을 산화제로 해서, 수성 매체 중에서 산화 중합시킴으로써 수성 분산체로서 얻어지고, 하기 식 1의 구조를 지닌다(예를 들어, [비특허문헌 1] 및 [비특허문헌 2] 참조).The conductive organic polymer compound constituting the conductive organic polymer layer of the layer (B) is not particularly limited and may be any polymeric compound having conductivity and dissolvable or dispersible in a suitable solvent. Examples thereof include trans-type polyacetylene, Polyacetylene type such as sheath type polyacetylene and polydiacetylene; Poly (phenylene) based materials such as poly (p-phenylene) and poly (m-phenylene); Polythiophene series such as polythiophene, poly (3-alkylthiophene), poly (3-thiophene-beta-ethane sulfonic acid), complex of polyalkylene dioxythiophene and polystyrene sulfonate; Polyaniline series such as polyaniline, polymethylaniline and polymethoxyaniline; Polypyrroles such as polypyrrole, poly 3-methylpyrrole and poly 3-octylpyrrole; Poly (phenylene vinylene) based polymers such as poly (p-phenylenevinylene); Poly (vinylsulfide) system; Poly (p-phenylene sulfide) system; And poly (thienylenevinylene) -based compounds. Of these, polythiophene-based, polyaniline-based, and polypyrrole-based compounds are preferable from the standpoints of performance and ease of availability, and polythiophene-based compounds are more preferable from the viewpoints of colorability and conductivity. The complex of the polyalkylene dioxythiophene and polystyrene sulfonate can be obtained by, for example, oxidizing and polymerizing polystyrene sulfonic acid or its salt and an aqueous medium using an oxidizing agent of peroxosulfuric acid in the presence of a trivalent iron ion, (See, for example, [Non-Patent Document 1] and [Non-Patent Document 2]).

[식 1][Formula 1]

Figure 112011075596648-pct00001
Figure 112011075596648-pct00001

[폴리(3,4-에틸렌다이옥시티오펜)폴리(스타이렌설폰산) 수성 분산체][Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrene sulfonic acid) aqueous dispersion]

상기 폴리알킬렌다이옥시티오펜과 폴리스타이렌설포네이트와의 복합체 또는 그 배합품의 시판품으로서는, 예를 들어, 「SEPLEGYDA」[상품명, 신에츠폴리머(주) 제품]나, 「CLEVIOS P」[상품명, H. C. Starck사 제품] 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of the polyalkylene dioxythiophene / polystyrene sulfonate complex or a product thereof include "SEPLEGYDA" (trade name, product of Shin-Etsu Polymer Co., Ltd.), "CLEVIOS P" Products].

이들 도전성 유기 고분자 화합물은, 1종을 단독으로 이용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 된다.These conductive organic polymer compounds may be used singly or in combination of two or more.

비특허문헌 1: Stephan Kirchmeyer & Knud Reuter, J. Mater . Chem ., 2005, 15, 2077-2088Non-Patent Document 1: Stephan Kirchmeyer & Knud Reuter, J. Mater . Chem . , 2005, 15, 2077-2088

비특허문헌 2: H. C. Starck사 팜플렛, Product InformationNon-Patent Document 2: H. C. Starck Pamphlet, Product Information

상기 도전성 유기 고분자 화합물 자체가, 양호한 제막성을 지니는 것이면, 바인더 수지를 이용하지 않아도 되지만, 제막성이 뒤떨어질 경우에는, 바인더 수지와 병용할 수 있다.If the conductive organic polymer compound itself has good film-forming properties, it is not necessary to use a binder resin, but when the film-forming property is poor, it can be used in combination with a binder resin.

이 바인더 수지로서는 열가소성 수지가 바람직하며, 그 예로서, 방향족 폴리에스터계나 지방족 폴리에스터계 수지, 폴리에스터 우레탄계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리사이클로올레핀 등의 폴리올레핀계 수지, 다이아세틸셀룰로스, 트라이아세틸셀룰로스, 아세틸셀룰로스부티레이트 등의 셀룰로스계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리스타이렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아마이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 된다.The binder resin is preferably a thermoplastic resin. Examples of the binder resin include aromatic polyester resins, aliphatic polyester resins, polyester urethane resins, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene and polycycloolefin, Based resin, polyvinyl alcohol-based resin, polyvinyl alcohol-based resin, polystyrene-based resin, polycarbonate-based resin, acrylic-based resin, polyamide-based resin, etc. . These may be used singly or in combination of two or more kinds.

(도전성 유기 고분자층의 형성)(Formation of Conductive Organic Polymer Layer)

도전성 유기 고분자층의 형성에는, 우선 도전성 유기 고분자층 형성용 도공액을 조제한다.To form the conductive organic polymer layer, a coating solution for forming a conductive organic polymer layer is first prepared.

적당한 용매 중에, 전술한 도전성 유기 고분자 화합물, 바람직하게는, 폴리티오펜계, 폴리아닐린계 및 폴리피롤계 화합물 중에서 선택된 적어도 1종과, 필요에 따라서 이용되는 바인더 수지, 바람직하게는, 전술한 열가소성 수지 및, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제 등의 각종 첨가제를 포함하는 도공액을 조제하고, 상기 광학조정층 상에, 종래 공지의 방법, 예를 들어, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 그라비어 코트법 등을 이용해서, 소정의 건조 두께로 되도록 도포하고, 70 내지 130℃ 정도에서 30초 내지 2분 정도 건조시킴으로써, 도전성 유기 고분자층을 형성할 수 있다.The conductive organic polymer compound, preferably at least one selected from the group consisting of polythiophene-based, polyaniline-based and polypyrrole-based compounds, and a binder resin to be used as required, preferably the aforementioned thermoplastic resin and the above- , An antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and the like, and then applying a coating solution on the optical adjustment layer by a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, The conductive organic polymer layer can be formed by applying the coating solution so as to have a predetermined dry thickness using a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, or the like, and drying at about 70 to 130 DEG C for about 30 seconds to 2 minutes.

이와 같이 해서 형성된 (B)층의 도전성 유기 고분자층의 굴절률은, 전술한 이유로부터, 상기 (A)층의 광학조정층의 굴절률보다도 낮게 하는 것이 긴요하며, 그 두께는, 통상 50 내지 500㎚ 정도, 바람직하게는, 180 내지 250㎚이다. 또, 그 표면에 있어서의 파장 550㎚의 반사율은 5% 이하인 것이 바람직하며, 3% 이하인 것이 보다 바람직하다.The refractive index of the conductive organic polymer layer of the layer (B) thus formed is required to be lower than the refractive index of the optical adjustment layer of the layer (A) for the reasons described above, and its thickness is usually about 50 to 500 nm , Preferably 180 to 250 nm. In addition, the reflectance at a wavelength of 550 nm on the surface thereof is preferably 5% or less, more preferably 3% or less.

이 반사율이 5%를 초과하면, 반사광이 증대하고, 투명 도전 필름의 전광선투과율이 저하하여, 투명성이 나빠진다.When the reflectance exceeds 5%, the reflected light increases, the total light transmittance of the transparent conductive film decreases, and transparency deteriorates.

또한, 본 발명의 투명 도전 필름에 있어서는, 표면저항률이 300 내지 800Ω/□이며, 또한 전광선투과율이 86% 이상인 것이 바람직하다. 도전성 유기 고분자층의 두께와 표면저항률에는 상관 관계가 있어, 층의 두께가 커질수록 표면저항률이 낮아지는 경향이 있다. 표면저항률이 300Ω/□ 미만인 경우에는, 전광선투과율이 낮아 시인성이 악화될 가능성이 있으므로 디스플레이로서 적합하지 않다. 표면저항률이 800Ω/□를 초과할 경우에는, 전극으로서 불충분하여 터치패널을 구동시키는 것이 곤란하다. 또한, 전광선투과율이 86% 미만인 경우에는, 시인성이 악화되므로 디스플레이로서 적합하지 않다. 보다 바람직한 표면저항률은 400 내지 700Ω/□이며, 보다 바람직하게는 500 내지 600Ω/□이다. 보다 바람직한 전광선투과율은 87% 이상이며, 보다 바람직하게는 88% 이상이다.In the transparent conductive film of the present invention, it is preferable that the surface resistivity is 300 to 800? / ?, and the total light transmittance is 86% or more. There is a correlation between the thickness of the conductive organic polymer layer and the surface resistivity, and as the thickness of the layer increases, the surface resistivity tends to decrease. When the surface resistivity is less than 300? / ?, the visible light transmittance is low and the visibility may deteriorate, so that it is not suitable as a display. When the surface resistivity exceeds 800 OMEGA / &amp; squ &amp;, it is difficult to drive the touch panel because it is insufficient as an electrode. In addition, when the total light transmittance is less than 86%, the visibility is deteriorated, so that it is not suitable as a display. A more preferable surface resistivity is 400 to 700? / ?, more preferably 500 to 600? / ?. More preferably, the total light transmittance is 87% or more, and more preferably 88% or more.

또한, 상기 반사율, 전광선투과율 및 표면저항률의 측정 방법에 대해서는 나중에 상술한다.The method of measuring the reflectance, total light transmittance and surface resistivity will be described in detail later.

[하드 코트층][Hard coat layer]

본 발명의 투명 도전 필름에는, 내찰상성을 부여하기 위하여, 필요에 따라서, 기재 필름의 이면에, 혹은 기재 필름과 (A) 광학조정층 사이에 하드 코트층을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름의 이면에 설치되는 하드 코트층에는 방현기능을 부여해도 된다.In order to impart scratch resistance to the transparent conductive film of the invention, a hard coat layer may be formed on the back surface of the base film or between the base film and the optical adjustment layer, if necessary. The hard coat layer provided on the back surface of the substrate film may be provided with an antiglare function.

이 하드 코트층을 형성하기 위해서는, 우선, 하드 코트층 형성용 도공액을 조제한다.In order to form the hard coat layer, a coating solution for forming a hard coat layer is first prepared.

(하드 코드층 형성용 도공액)(Coating liquid for hard-cord layer formation)

본 발명에 있어서, 기재 필름의 이면에 설치되는 방현기능을 지니는 하드 코트층 형성용 도공액으로서는, 예를 들어, 활성 에너지선 경화성 화합물과, 무기 미립자나 유기 미립자를 포함하는 것을 이용할 수 있다.In the present invention, as the coating solution for forming a hard coat layer having an antiglare function provided on the back surface of the base film, for example, an active energy ray curable compound and inorganic fine particles or organic fine particles may be used.

상기 활성 에너지선 경화성 화합물로서는, 예를 들어, 라디컬 중합형의 광중합성 프레폴리머 및/또는 광중합성 모노머를 들 수 있다. 이들에 대해서는, 전술한 (A) 광학조정층에 있어서의 활성 에너지선 경화성 화합물의 설명에 있어서, 예시한 것과 같은 것을 이용할 수 있다.Examples of the active energy ray-curable compound include a radical polymerizable type photopolymerizable prepolymer and / or a photopolymerizable monomer. As for these, the same ones as exemplified in the description of the above-mentioned (A) active energy ray-curable compound in the optical adjustment layer can be used.

상기 무기 미립자로서는, 투명성의 관점에서 실리카계 미립자가 바람직하다. 또, 유기 미립자로서는, 예를 들어, 실리콘계 미립자, 말레민계 수지 미립자, 아크릴계 수지 미립자, 아크릴-스타이렌계 공중합체 미립자, 폴리카보네이트계 미립자, 폴리에틸렌계 미립자, 폴리스타이렌계 미립자, 벤조구아나민계 수지 미립자 등을 들 수 있다.As the inorganic fine particles, silica-based fine particles are preferable from the viewpoint of transparency. Examples of the organic fine particles include silicone fine particles, maleic acid resin fine particles, acrylic resin fine particles, acryl-styrene copolymer fine particles, polycarbonate fine particles, polyethylene fine particles, polystyrene fine particles, benzoguanamine based resin fine particles .

또한, 무기 미립자나 유기 미립자의 형상은 특별히 제한되지 않지만, 구 형상, 바늘 형상, 부정형 등의 것이 이용된다. 방현 성능의 관점에서는 부정형인 것이 바람직하다.The shapes of the inorganic fine particles and the organic fine particles are not particularly limited, but spherical, needle-like, amorphous or the like is used. From the viewpoint of the anti-glare performance, it is preferable that the shape is irregular.

또, 그 평균 입자직경은, 방현 성능의 관점에서, 6 내지 10㎛인 것이 바람직하며, 입도 분포는 평균 입자직경±2㎛ 이내의 범위의 중량분률이 70% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 미립자의 평균 입자직경 및 입도 분포는 콜터 카운터법에 의해 측정한 값을 말한다.The average particle diameter is preferably 6 to 10 μm from the viewpoint of the anti-glare performance, and the particle size distribution is preferably 70% or more in the weight fraction within the average particle diameter ± 2 μm. The average particle diameter and the particle size distribution of the fine particles refer to values measured by the Coulter counter method.

본 발명에 있어서, 이 무기 미립자나 유기 미립자는 1종을 단독으로 이용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 되며, 또한, 그 배합량은, 방현 성능의 관점에서, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1 내지 30질량부, 보다 바람직하게는 1 내지 20질량부이다.In the present invention, the inorganic fine particles and the organic fine particles may be used singly or in combination of two or more kinds. In addition, from the viewpoint of the anti-glare performance, the compounding amount of the active energy ray- Is preferably from 0.1 to 30 parts by mass, more preferably from 1 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass.

본 발명에서 이용하는 하드 코트층 형성용 도공액은, 필요에 따라서, 적당한 용매 중에, 전술한 활성 에너지선 경화성 화합물, 무기 미립자나 유기 미립자, 및 필요에 따라 이용되는 광중합개시제나 각종 첨가 성분, 예를 들어, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 실란계 커플링제, 광안정제, 레벨링제, 소포제 등을, 각각 소정의 비율로 첨가하여, 용해 또는 분산시킴으로써 조제할 수 있다.The coating solution for forming a hard coat layer used in the present invention may contain, if necessary, the above-mentioned active energy ray-curable compound, inorganic fine particles and organic fine particles, and a photopolymerization initiator and various additive components, For example, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, a light stabilizer, a leveling agent, a defoaming agent and the like may be added at predetermined ratios, respectively, and dissolved or dispersed.

이때 이용하는 용매로서는, 예를 들어, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 염화메틸렌, 염화에틸렌 등의 할로겐화 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 등의 알코올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 2-펜타논, 아이소포론, 사이클로헥사논 등의 케톤, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스터, 에틸셀로솔브, 프로필렌글라이콜 모노메틸에터 등의 에터계 용제 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, Ketones such as ethyl ketone, 2-pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ether solvents such as ethyl cellosolve and propylene glycol monomethyl ether, and the like .

이와 같이 해서 조제된 하드 코트층 형성용 도공액의 농도, 점도로서는, 코팅 가능한 것이면 되고, 특별히 제한되지 않으며, 상황에 따라서 적절하게 선정할 수 있다.The concentration and viscosity of the coating solution for forming a hard coat layer prepared as described above are not particularly limited and may be suitably selected in accordance with the circumstances.

이와 같이 해서 조제된 하드 코트층 형성용 도공액을, 기재 필름의 이면에, 종래 공지의 방법, 예를 들어, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 그라비어 코트법 등을 이용해서, 코팅해서 도막을 형성시키고, 건조 후, 이것에 활성 에너지선을 조사해서 해당 도막을 경화시킴으로써, 방현기능을 지니는 하드 코트층이 형성된다.The coating solution for forming a hard coat layer prepared as described above is applied to the back surface of a base film by a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, A hard coat layer having an antiglare function is formed by coating a coating film using a coating method, drying, and then irradiating an active energy ray to cure the coating film.

활성 에너지선으로서는, 예를 들어, 자외선이나 전자선 등을 들 수 있다. 상기 자외선은, 고압 수은 램프, 무전극 램프, 메탈할라이드 램프, 제논 램프 등에 의해 얻어지고, 조사량은, 통상 100 내지 500mJ/㎠이며, 한편 전자선은, 전자선 가속기 등에 의해서 얻어지고, 조사량은 통상 150 내지 350kV이다. 이 활성 에너지선 중에서는, 특히 자외선이 바람직하다. 또한, 전자선을 사용할 경우에는, 광중합개시제를 첨가하는 일 없이, 경화막을 얻을 수 있다.Examples of the active energy ray include ultraviolet rays and electron beams. The ultraviolet ray is obtained by a high-pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc., and the irradiation amount is usually 100 to 500 mJ / cm 2, while the electron beam is obtained by an electron beam accelerator or the like, 350kV. Among these active energy rays, ultraviolet rays are particularly preferable. When an electron beam is used, a cured film can be obtained without adding a photopolymerization initiator.

이와 같이 해서 형성된 하드 코트층의 두께는, 본 발명에 있어서는, 사용한 유기 미립자의 평균 입자직경보다도 큰 것이 바람직하고, 따라서, 하한은 2㎛ 정도이며, 상한은 하드 코트층의 경화 수축에 의해서 하드 코트 필름이 컬(curl)되는 것을 방지하는 관점에서 20㎛ 정도이다. 바람직한 두께는 5 내지 15㎛의 범위이며, 특히 바람직한 두께는 8 내지 12㎛이다.The thickness of the hard coat layer thus formed is preferably larger than the average particle diameter of the organic fine particles used in the present invention. Therefore, the lower limit is about 2 탆, and the upper limit is set by hardening and shrinking of the hard coat layer, Which is about 20 mu m from the viewpoint of preventing curling of the film. A preferable thickness is in the range of 5 to 15 占 퐉, and a particularly preferable thickness is 8 to 12 占 퐉.

본 발명의 투명 도전 필름에 대해서, 더욱 방현성이 요구될 경우에는, JIS K 5600에 준거해서 측정되는 60°경면광택도는, 100 이하가 바람직하고, 80 이하가 보다 바람직하다. 100을 넘으면 방현효과가 충분히 발휘되지 않는다.When the transparent conductive film of the present invention is required to have further improved flame retardance, the 60 占 specular gloss measured according to JIS K 5600 is preferably 100 or less, more preferably 80 or less. If it exceeds 100, the antiglare effect is not sufficiently exhibited.

한편, 기재 필름과 (A) 광학조정층 사이에 하드 코트층을 설치할 경우에는, 예를 들어, 전술한 방현성 기능을 지니는 하드 코트층 형성용 도공액으로부터, 실리카 미립자나 유기 미립자를 제외한 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재 필름 상에, 상기와 마찬가지로 해서 코팅해서 도막을 형성시키고, 건조 후, 이것에 활성 에너지선을 조사하여, 해당 도막을 경화시킴으로써, 하드 코트층을 형성한다. 이어서, 이 하드 코트층 상에, 전술한 바와 마찬가지로 해서, (A)층의 광학조정층을 형성하면 된다.On the other hand, when a hard coat layer is provided between the base film and the optical adjustment layer, for example, a coating liquid for forming a hard coat layer having the above-mentioned anti-scattering function, a coating liquid excluding fine silica particles and organic fine particles And the coating solution is coated on the base film in the same manner as described above to form a coating film. After drying, the coating film is irradiated with an active energy ray to cure the coating film to form a hard coat layer. Subsequently, the optical adjustment layer of the layer (A) may be formed on the hard coat layer in the same manner as described above.

본 발명의 투명 도전 필름에 있어서는, 기재 필름의 이면에 설치된 하드 코트층 상에, 필요에 따라서, 방오코트층을 형성할 수 있다. 이 방오코트층은, 일반적으로 불소계 수지를 포함하는 도공액을, 종래 공지의 방법, 예를 들어, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 다이 코트법, 그라비어 코트법 등을 이용해서, 해당 하드 코트층 상에 코팅하여, 도막을 형성시키고, 건조 처리함으로써, 형성할 수 있다.In the transparent conductive film of the present invention, an antifouling coat layer can be formed on the hard coat layer provided on the back surface of the base film, if necessary. The antifouling coat layer can be formed by applying a coating liquid containing a fluorine resin to the antireflection coating layer by a known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, To form a coating film on the hard coat layer, followed by drying treatment.

이 방오코트층의 두께는, 통상 1 내지 10㎚, 바람직하게는 3 내지 8㎚의 범위이다.The thickness of the antifouling coat layer is usually in the range of 1 to 10 nm, preferably 3 to 8 nm.

다음에, 본 발명의 투명 도전 필름에 있어서의 구성의 다른 예에 대해서, 도 1 내지 도 4에 의해 설명한다.Next, another example of the constitution of the transparent conductive film of the present invention will be described with reference to Figs. 1 to 4. Fig.

도 1 내지 도 4는 각각 본 발명의 투명 도전 필름의 구성의 다른 예를 나타낸 단면 모식도로서, 도 1은 기재 필름(1) 상에, (A) 광학조정층(2) 및 (B) 도전성 유기 고분자층(3)이 순서대로 적층된 구성의 투명 도전 필름(10)을 나타내고, 도 2는, 상기 도 1에 있어서, 기재 필름(1)의 이면에, 더욱 하드 코트층(4-a)이 적층된 구성의 투명 도전 필름(20)을 나타낸다.1 to 4 are sectional schematic views showing another example of the constitution of the transparent conductive film of the present invention. Fig. 1 is a cross-sectional view of the transparent conductive film of the present invention, 2 shows a structure in which the hard coat layer 4-a is further formed on the back surface of the base film 1 in FIG. 1, and the hard coat layer 4-a is formed on the back surface of the base film 1 And a transparent conductive film 20 having a laminated structure.

도 3은, 상기 도 1에 있어서, 기재 필름(1)과 (A) 광학조정층(2) 사이에, 더욱 하드 코트층(4-b)이 설치된 구성의 투명 도전 필름(30)을 나타내고, 도 4는, 상기 도 1에 있어서, 기재 필름(1)의 이면 및 기재 필름(1)과 (A) 광학조정층(2)과의 사이에, 각각, 더욱 하드 코트층(4-a) 및 (4-b)이 설치된 구성의 투명 도전 필름(40)을 나타낸다.3 shows a transparent conductive film 30 having a configuration in which a hard coat layer 4-b is further provided between the base film 1 and the optical adjustment layer 2 in FIG. 1, 4 is a schematic view showing the hard coat layers 4-a and 4-b between the back surface of the base film 1 and the substrate film 1 and the optical adjustment layer 2, respectively, (4-b).

이러한 본 발명의 투명 도전 필름은, 고가의 희소 금속인 인듐을 이용한 주석 도핑 산화인듐(ITO)을 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지녀, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직하게 이용된다.The transparent conductive film of the present invention has electric characteristics and transmittance equal to those of the ITO without using tin-doped indium oxide (ITO) using indium, which is an expensive rare metal, It is preferably used as an electrode for use.

실시예Example

다음에, 본 발명을 실시예에 의해, 더욱 상세에 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 하등 한정되는 것은 아니다.EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited in any way by these examples.

또, 각 예에 있어서의 각종 특성은 이하에 나타낸 방법에 따라서 측정하였다.In addition, various characteristics in each example were measured according to the following methods.

(1) 투명 도전 필름의 표면 저항률(1) Surface resistivity of transparent conductive film

JIS K 7194에 준거해서 시험편을 작성하고, 미츠비시카가쿠(주) 제품인 표면 저항률계 「롤레스터(ロレスタ-) EP(4탐침 프로브)」를 이용해서, 도전성 유기 고분자층면이 측정면으로 되도록 시험편을 놓고 표면저항률을 측정하였다.A test piece was prepared in accordance with JIS K 7194 and a test piece was prepared so that the surface of the conductive organic polymer layer was measured using a surface resistivity meter &quot; Rollester (EP) probe (4 probe probe) &quot; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation And the surface resistivity was measured.

(2) 투명 도전 필름의 전광선투과율(2) Total light transmittance of the transparent conductive film

닛폰덴쇼쿠코교(주)(日本電色工業(株)) 제품인 헤이즈메타 「NDH2000」을 이용해서, JIS K 7361-1에 준거해서 측정하였다.Was measured in accordance with JIS K 7361-1 using a haze meter &quot; NDH2000 &quot; manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

(3) 투명 도전 필름의 반사율(3) Reflectance of the transparent conductive film

(주)시마즈세이사쿠쇼((株)島津製作所) 제품인 자외가시분광 광도계 「UV-3101PC」를 이용해서, 도전성 유기 고분자층면이 입사광 측으로 되도록 시험편을 흑색 아크릴판에 고정한 후, 550㎚의 파장에 있어서의 반사율을 측정하였다.The test piece was fixed on a black acrylic plate so that the conductive organic polymer layer surface was on the incident light side using a spectrophotometer "UV-3101PC" manufactured by Shimadzu Corporation (Shimazu Seisakusho Co., Ltd.) Was measured.

(4) (A)층 및 (B)층의 굴절률(4) The refractive index of the layer (A) and the layer (B)

필메트릭스(주) 제품인 박막측정장치 「F20」을 이용해서 측정하였다.Was measured using a thin film measuring apparatus "F20" manufactured by Phil Matrix Co., Ltd.

(5) 투명 도전 필름의 60°경면광택도(5) 60 ° specular gloss of transparent conductive film

닛폰덴쇼쿠코교(주) 제품인 그로스미터 「VG2000」을 사용해서, 도전성 유기 고분자층의 반대면이 입사광 측으로 되도록 시험편을 놓고, JIS K 5600에 준거해서 측정하였다.VG2000 "manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., and the test piece was placed so that the opposite surface of the conductive organic polymer layer was on the side of the incident light, and measured according to JIS K 5600.

(6) 금속산화물 입자의 평균 입자직경(6) Average particle diameter of metal oxide particles

동적 산란법에 의해 측정하였다.Was measured by a dynamic scattering method.

실시예Example 1 One

(1) (A) 광학조정층의 형성(1) (A) Formation of optical adjustment layer

폴리에스터 수지[토요보세키(東洋紡績)(주) 제품인 「바이로날(Vylonal) MD1245」, 고형분 농도 30질량%, 물 희석] 100질량부와, 산화티타늄 수분산체[테이카(주) 제품인 「ND146」, 평균 입자직경 10㎚, 고형분 농도 25질량%] 240질량부와, 정제수 566질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 1.5질량%의 광학조정층 형성용 도공액을 조제하였다.100 parts by mass of a polyester resin ("Vylonal MD1245", a solid content concentration of 30% by mass, water dilution, manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) and 100 parts by mass of a titanium oxide water dispersion 240 parts by mass of "ND146", average particle diameter of 10 nm, solid content concentration of 25% by mass) and 566 parts by mass of purified water were uniformly mixed to prepare a coating liquid for forming an optical adjusting layer having a solid content concentration of 1.5% by mass.

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에 마이야 바(Meyer Bar)로 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜 두께 200㎚의 광학조정층을 형성하였다.Next, a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm was coated with a Meyer Bar, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain an optical adjustment Layer.

(2) (B) 도전성 유기 고분자층의 형성(2) Formation of conductive organic polymer layer (B)

폴리티오펜 코트[신에츠폴리머(주) 제품인 「SEPLEGYDA」, 고형분 농도 2.4질량%] 100질량부를, 상기 (1)에서 형성한 광학조정층의 표면에, 마이야 바를 이용해서 도공한 후, 130℃에서 1분간 건조시켜 두께 200㎚의 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.100 parts by mass of polythiophene coat (SEPLEGYDA, a product of Shin-Etsu Polymer Co., Ltd., solid content concentration: 2.4% by mass) were coated on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) And dried for 1 minute to form a conductive organic polymer layer having a thickness of 200 nm to obtain a transparent conductive film. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1 below.

실시예Example 2 2

(1) (A) 광학조정층의 형성(1) (A) Formation of optical adjustment layer

폴리에스터 수지[토요보세키(주) 제품인 「바이론(Vylon) 20SS」, 고형분 30질량%, 톨루엔/메틸에틸케톤 희석] 100질량부와, 안티몬 도핑된 산화주석 톨루엔 분산체[이시하라산교(石原産業)(주) 제품인 「SNS-10T」, 평균 입자직경 90㎚, 고형분 30질량%] 200질량부와, 톨루엔 270질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 3질량%의 광학조정층 형성용 도공액을 조제하였다.100 parts by mass of a polyester resin ("Vylon 20SS", a solid content 30% by mass, diluted with toluene / methyl ethyl ketone), and an antimony-doped tin oxide dispersion [Ishihara Sangyo 200 parts by mass of "SNS-10T", average particle diameter 90 nm, solid content 30% by mass) and 270 parts by mass of toluene were uniformly mixed to obtain a coating liquid for forming an optical adjusting layer having a solid content concentration of 3% Lt; / RTI &gt;

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에 마이야 바로 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜 두께 200㎚의 광학조정층을 형성하였다.Next, a Maya bar was coated on the surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an optical adjustment layer having a thickness of 200 nm.

(2) (B) 도전성 유기 고분자층의 형성(2) Formation of conductive organic polymer layer (B)

실시예 1의 (2)와 마찬가지로 해서, 상기 (1)에서 형성한 광학조정층의 표면에 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.A transparent conductive film was obtained by forming a conductive organic polymer layer on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above, in the same manner as in (2) of Example 1. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

실시예Example 3 3

(1) (A) 광학조정층의 형성(1) (A) Formation of optical adjustment layer

자외선 경화형 코트제[다이이치세이카코교(大日精化工業)(주) 제품인 「세이카빔 EXF-01L(NS)」, 고형분 100%] 100질량부와, 안티몬 도핑된 산화주석 톨루엔 분산체 「SNS-10T」(위에서 기재함) 400질량부와, 톨루엔 450질량부를 균일하게 혼합하고, 고형분 농도 3질량%의 광학조정층 형성용 도공액을 조제하였다., 100 parts by mass of a UV curable coating agent ("Seika Beam EXF-01L (NS)", 100% by solid content, manufactured by Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd.) and an antimony doped tin oxide toluene dispersion "SNS- , 400 parts by mass of 10T (described above) and 450 parts by mass of toluene were uniformly mixed to prepare a coating liquid for forming an optical adjusting layer having a solid content concentration of 3% by mass.

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에 마이야 바로 도공한 후, 80℃에서 1분간 건조 후, 고압 수은 램프로 500mJ/㎠의 자외선을 조사해서 두께 200㎚의 광학조정층을 형성하였다.Then, the coating was applied to a surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm and dried at 80 ° C. for 1 minute. Ultraviolet rays of 500 mJ / To thereby form an optical adjustment layer having a thickness of 200 nm.

(2) (B) 도전성 유기 고분자층의 형성(2) Formation of conductive organic polymer layer (B)

실시예 1의 (2)와 마찬가지로 해서, 상기 (1)에서 형성한 광학조정층의 표면에 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.A transparent conductive film was obtained by forming a conductive organic polymer layer on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above, in the same manner as in (2) of Example 1. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

실시예Example 4 4

실시예 1에서 얻어진 투명 도전 필름에 있어서의 기재의 PET 필름의 이면에, 자외선 경화형 하드 코트제[다이이치세이카코교(주) 제품인 「세이카빔 EXF-01L(NS)」, 고형분 100%] 100질량부와, 톨루엔 100질량부를 균일하게 혼합해서 얻어진 고형분 농도 50질량%의 하드 코트제를 마이야 바로 도공한 후, 80℃에서 1분간 건조 후, 고압 수은 램프로 250mJ/㎠의 자외선을 조사해서 두께 5㎛의 하드 코트층을 지니는 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.100 parts by mass of "100 parts by mass" of "SEIKA BAY EXF-01L (NS)", a product of Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd., solid content: 100%) was placed on the back surface of the base PET film of the transparent conductive film obtained in Example 1 And 100 parts by mass of toluene were uniformly mixed to obtain a hard coat agent having a solid content concentration of 50% by mass, which was then dried at 80 ° C for 1 minute, irradiated with ultraviolet rays of 250 mJ / A transparent conductive film having a 탆 hard coat layer was obtained. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

실시예Example 5 5

(1) 방현성 하드 코트층의 형성(1) Formation of a flash-resistant hard coat layer

자외선 경화형 하드 코트제[다이이치세이카코교(주) 제품인 「세이카빔 EXF-01L(NS)」, 고형분 100%] 100질량부와, 부정형 실리콘 비즈[모멘티브·퍼포먼스·저팬 합동회사 제품, 「토스펄 240」] 5질량부와, 에틸셀로솔브 75질량부와, 아이소부탄올 75질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 40질량%의 방현성 하드 코트제를 조제하였다. 이 하드 코트제를, 실시예 1에서 얻어진 투명 도전 필름에 있어서의 기재의 PET 필름의 이면에, 마이야 바로 도공한 후, 80℃에서 1분간 건조 후, 고압 수은 램프로 250mJ/㎠의 자외선을 조사해서 두께 4㎛의 방현성 하드 코트층을 지니는 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.100 parts by mass of a solid content of 100% by mass of a hard coat type ultraviolet curable hard coat ("Seika Beam EXF-01L (NS)", a product of Daiichi Seika Corporation) and amorphous silicon beads [manufactured by Momentive Performance Japan Co., Quot; Pearl 240 &quot;), 75 parts by mass of ethyl cellosolve and 75 parts by mass of isobutanol were uniformly mixed to prepare a water-repellent hard coat agent having a solid content concentration of 40% by mass. This hard coat agent was coated on the back side of the PET film of the base material of the transparent conductive film obtained in Example 1, followed by drying at 80 DEG C for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays of 250 mJ / Thereby obtaining a transparent conductive film having a light-scattering hard coat layer having a thickness of 4 占 퐉. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

실시예Example 6 6

(1) 클리어 하드 코트층의 형성(1) Formation of clear hard coat layer

자외선 경화형 하드 코트제[다이이치세이카코교(주) 제품인 「세이카빔 EXF-01L(NS)」, 고형분 100%] 100질량부와, 톨루엔 100질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 50질량%의 하드 코트제를 조제하였다., 100 parts by mass of a solid content of 100%] and 100 parts by mass of toluene were mixed uniformly to prepare a hard coat layer having a solid content concentration of 50% by mass (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., A coating agent was prepared.

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에 마이야 바로 도공한 후, 80℃에서 1분간 건조 후, 고압 수은 램프로 250mJ/㎠의 자외선을 조사해서 두께 5㎛의 하드 코트층을 형성하였다.Next, after coating the surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm with Maiya Bar, drying at 80 ° C. for 1 minute, ultraviolet rays of 250 mJ / And a hard coat layer having a thickness of 5 탆 was formed.

(2) (A) 광학조정층의 형성(2) (A) Formation of optical adjustment layer

실시예 1과 마찬가지로 해서, 상기 (1)에서 형성한 하드 코트층의 표면에 광학조정층을 형성하였다.In the same manner as in Example 1, an optical adjustment layer was formed on the surface of the hard coat layer formed in (1) above.

(3) (B) 도전성 유기 고분자층의 형성(3) (B) Formation of Conductive Organic Polymer Layer

상기 (2)에서 얻어진 광학조정층의 표면에 실시예 1의 (2)와 마찬가지로 해서 도전성 유기 고분자층을 형성하였다.On the surface of the optical adjustment layer obtained in (2) above, a conductive organic polymer layer was formed in the same manner as in (2) of Example 1.

(4) 클리어 하드 코트층의 형성(4) Formation of clear hard coat layer

기재의 PET 필름의 이면에 상기 (1)과 마찬가지로 해서 하드 코트층을 형성함으로써, 기재 필름의 양면에 하드 코트층이 설치된 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.A hard coat layer was formed on the back surface of the base PET film in the same manner as in the above (1) to obtain a transparent conductive film provided with hard coat layers on both sides of the base film. Table 1 shows the evaluation results of various characteristics.

비교예Comparative Example 1 One

「폴리티오펜 코트」(위에서 기재함) 100질량부를, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에 마이야 바로 도공한 후, 130℃에서 1분간 건조시켜, 두께 200㎚의 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.100 parts by mass of "polythiophene coat" (described above) was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm and dried at 130 ° C. for 1 minute To form a conductive organic polymer layer having a thickness of 200 nm to obtain a transparent conductive film. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

비교예Comparative Example 2 2

(1) 폴리에스터 수지층의 형성(1) Formation of a polyester resin layer

폴리에스터 수지[토요보세키(주) 제품인 「바이론 20SS」, 고형분 30질량%, 톨루엔/메틸에틸케톤 희석] 100질량부와, 톨루엔 720질량부와, 메틸에틸케톤 180질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 3질량%의 폴리에스터 수지층 형성용 도공액을 조제하였다., 100 parts by mass of a polyester resin (Vylon 20SS, solid content 30% by mass, toluene / methyl ethyl ketone dilution), 720 parts by mass of toluene and 180 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed uniformly, To prepare a coating solution for forming a polyester resin layer having a solid content concentration of 3% by mass.

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에, 상기 도공액을 마이야 바로 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜 두께 200㎚의 폴리에스터 수지층을 형성하였다.Next, the coating solution was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a polyester having a thickness of 200 nm Thereby forming a resin layer.

(2) 도전성 유기 고분자층의 형성(2) Formation of Conductive Organic Polymer Layer

「폴리티오펜 코트」(위에서 기재함) 100질량부를, 상기 (1)에서 형성한 폴리에스터 수지층의 표면에, 마이야 바를 이용해서 적층한 후, 130℃에서 1분간 건조시켜, 두께 200㎚의 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 얻었다. 각종 특성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.100 parts by mass of "polythiophene coat" (described above) were laminated on the surface of the polyester resin layer formed in the above (1) using a Maya bar, and then dried at 130 ° C for 1 minute to obtain a A transparent conductive film was obtained by forming a conductive organic polymer layer. Table 1 shows the measurement results of various characteristics.

참고예Reference example 1 One

(1) 광학조정층의 형성(1) Formation of optical adjusting layer

폴리에스터 수지[토요보세키(주) 제품인 「바이론 20SS」, 고형분 30질량%. 톨루엔/메틸에틸케톤 희석] 100질량부와, 안티몬 도핑된 산화주석 톨루엔 분산체[이시하라산교(주) 제품인 「SNS-10T」, 평균 입자직경 90㎚, 고형분 30질량%] 900질량부와, 톨루엔 9000질량부를 균일하게 혼합하여, 고형분 농도 3질량%의 광학조정층 형성용 도공액을 조제하였다.Polyester resin ("VYLON 20SS" manufactured by Toyoboseki Co., Ltd., solid content 30% by mass). , 900 parts by mass of an antimony-doped tin oxide dispersion ("SNS-10T" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd .; average particle diameter 90 nm, solid content 30% by mass)] and 100 parts by mass of toluene 9000 parts by mass were uniformly mixed to prepare a coating liquid for forming an optical adjusting layer having a solid content concentration of 3% by mass.

다음에, 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름[토요보세키(주) 제품인 「A4300」]의 표면에, 상기 도공액을 마이야 바로 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜 두께 200㎚의 광학조정층을 형성하였다.Next, the coating solution was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film ("A4300" manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 188 μm and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain an optical adjustment Layer.

(2) (B) 도전성 유기 고분자층의 형성(2) Formation of conductive organic polymer layer (B)

실시예 1의 (2)와 마찬가지로 해서, 상기 (1)에서 형성한 광학조정층의 표면에 도전성 유기 고분자층을 형성함으로써, 투명 도전 필름을 제작하려고 했지만, 이 도전성 유기 고분자층의 적층 시, 광학조정층 중의 금속산화물의 탈락이 많아, 양호한 면 상태의 도전성 유기 고분자층을 형성하는 것이 어려웠다. 또 (1)에서 형성한 광학조정층의 굴절률은 1.78이었다.The transparent conductive film was formed by forming the conductive organic polymer layer on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above in the same manner as in (2) of Example 1, but in the case of laminating the conductive organic polymer layer, It is difficult to form a conductive organic polymer layer having a good surface state because metal oxides in the adjustment layer are often removed. The refractive index of the optical adjusting layer formed in (1) was 1.78.

Figure 112011075596648-pct00002
Figure 112011075596648-pct00002

본 발명의 투명 도전 필름은, 고가의 희소 금속인 인듐을 이용한 주석 도핑 산화인듐(ITO)을 사용하는 일 없이, 해당 ITO와 동등한 전기 특성과 투과율을 지니고, 디스플레이용 투명전극 등, 특히 터치패널용 전극으로서 바람직하게 이용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The transparent conductive film of the present invention has electrical characteristics and transmittance equal to those of ITO without using tin-doped indium oxide (ITO) using indium, which is an expensive rare metal, It can be preferably used as an electrode.

1: 기재 필름 2: 광학조정층
3: 도전성 유기 고분자층 4-a 및 4-b: 하드 코트층
10, 20, 30 및 40: 투명 도전 필름
1: base film 2: optical adjusting layer
3: conductive organic polymer layer 4-a and 4-b: hard coat layer
10, 20, 30 and 40: transparent conductive film

Claims (10)

기재 필름 상에 (A)층 및 (B)층이 순서대로 적층되어 이루어진 투명 도전 필름으로서,
상기 (A)층이 열가소성 수지 및 활성 에너지선 경화성 수지 중에서 선택된 적어도 1종의 바인더 수지와, 평균 입자직경이 200㎚ 이하인 금속산화물 입자를 포함하는 광학조정층이고, 또한 상기 (B)층이 도전성 유기 고분자층으로서,
상기 금속산화물입자가 산화티탄 및 안티몬 도핑된 산화주석, 또는 산화티탄 또는 안티몬 도핑된 산화주석이고,
상기 바인더수지 100질량부 중에 상기 금속산화물 입자를 100 ~ 400질량부 포함하고,
상기 (A)층의 굴절률이 1.65 ~ 1.90이고, 상기 (B)층의 굴절률이 상기 (A)층의 굴절률 보다 낮은 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름.
A transparent conductive film comprising a base film on which a layer (A) and a layer (B) are laminated in order,
Wherein the layer (A) is an optical control layer comprising at least one binder resin selected from a thermoplastic resin and an active energy ray-curable resin and metal oxide particles having an average particle diameter of 200 nm or less, and the layer (B) As the organic polymer layer,
Wherein the metal oxide particles are titanium oxide and antimony-doped tin oxide, or titanium oxide or antimony-doped tin oxide,
100 to 400 parts by mass of the metal oxide particles are contained in 100 parts by mass of the binder resin,
Wherein the refractive index of the layer (A) is 1.65 to 1.90 and the refractive index of the layer (B) is lower than the refractive index of the layer (A).
제1항에 있어서, 표면저항률이 300 내지 800Ω/□이며, 전(全)광선투과율이 86% 이상인 투명 도전 필름.The transparent conductive film according to claim 1, which has a surface resistivity of 300 to 800? / ?, and a total light transmittance of 86% or more. 제1항 또는 제2항에 있어서, (B) 도전성 유기 고분자층의 표면에 있어서의, 파장 550㎚의 반사율이 5% 이하인 것인 투명 도전 필름.The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the (B) surface of the conductive organic polymer layer has a reflectance of 550 nm or less at 5% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, (B) 도전성 유기 고분자층을 구성하는 도전성 유기 고분자 화합물이 폴리티오펜계, 폴리아닐린계 및 폴리피롤계 화합물 중에서 선택된 적어도 1종인 것인 투명 도전 필름. The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the conductive organic polymer compound (B) constituting the conductive organic polymer layer is at least one selected from a polythiophene-based, polyaniline-based, and polypyrrole-based compound. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기재 필름의 이면에 하드 코트층이 설치되어서 이루어진 것인 투명 도전 필름.The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein a hard coat layer is provided on the back surface of the base film. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기재 필름과 (A) 광학조정층 사이에 하드 코트층이 설치되어서 이루어진 것인 투명 도전 필름.The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein a hard coat layer is provided between the base film and the optical adjustment layer (A). 제1항에 있어서, 상기 열가소성 수지가, 방향족 폴리에스터계 수지, 지방족 폴리에스터계 수지, 폴리에스터 우레탄계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리사이클로올레핀, 다이아세틸셀룰로스, 트라이아세틸셀룰로스, 아세틸셀룰로스부티레이트 등의 셀룰로스계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리스타이렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 아크릴계 수지 및 폴리아마이드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름.The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is selected from the group consisting of an aromatic polyester resin, an aliphatic polyester resin, a polyester urethane resin, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polycycloolefin, diacetylcellulose, At least one selected from the group consisting of a cellulose-based resin such as polyvinyl chloride-based resin, a cellulose-based resin and a cellulose butyrate, a polyvinyl chloride resin, a polyvinylidene chloride resin, a polyvinyl alcohol resin, a polystyrene resin, a polycarbonate resin, Wherein the transparent conductive film is a transparent conductive film. 제1항에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화성 수지가, 광중합성 프레폴리머 및 광중합성 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름.The transparent conductive film according to claim 1, wherein the active energy ray-curable resin is at least one selected from the group consisting of a photopolymerizable prepolymer and a photopolymerizable monomer. 제8항에 있어서, 상기 광중합성 프레폴리머가, 폴리에스터아크릴레이트계 프레폴리머, 에폭시아크릴레이트계 프레폴리머, 우레탄아크릴레이트계 프레폴리머 및 폴리올아크릴레이트계 프레폴리머로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름.The photopolymerizable prepolymer according to claim 8, wherein the photopolymerizable prepolymer is at least one selected from the group consisting of a polyester acrylate prepolymer, an epoxy acrylate prepolymer, a urethane acrylate prepolymer and a polyol acrylate prepolymer A transparent conductive film characterized by: 제8항에 있어서, 상기 광중합성 모노머가, 1,4-부탄다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 아디페이트 다이(메타)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 다이사이클로펜타닐다이(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이사이클로펜테닐 다이(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산 다이(메타)아크릴레이트, 알릴화 사이클로헥실 다이(메타)아크릴레이트, 아이소사이아누레이트 다이(메타)아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로판 트라이(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트, 프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 다작용성 아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 투명 도전 필름.The method of claim 8, wherein the photopolymerizable monomer is selected from the group consisting of 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, Acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylcyclohexyldi (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) (Meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, (Meth) acrylate, propylene oxide-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta Is at least one polyfunctional acrylate selected from the group consisting of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (metha) acrylate.
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