JP5154773B2 - Antireflection film - Google Patents
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Description
本発明は反射防止フィルム、さらに詳しくは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にプラズマディスプレイ用として好適な反射防止フィルムに関するものである。 The present invention is an antireflection film. More specifically, it has near infrared absorption performance and antireflection performance, is excellent in scratch resistance and antistatic properties, has a simple layer structure and is low in cost, and is particularly suitable for a plasma display. The present invention relates to an antireflection film.
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの画像表示装置においては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して表示画像を見難くすることがあり、特に近年、ディスプレイの大型化に伴い、上記問題を解決することが、ますます重要な課題となってきている。
このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。その一つとして反射防止フィルムを各種のディスプレイに使用することが行われている。
この反射防止フィルムは、従来、蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質（ＭｇＦ2）を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質［ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＴｉＯ2など］と屈折率の低い物質（ＭｇＦ2、ＳｉＯ2など）を交互に積層する方法などで作製されている。しかしながら、このようなドライプロセス法で作製された反射防止フィルムは、製造コストが高くつくのを免れないという問題があった。
そこで、近年、ウエットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止フィルムを作製することが試みられている。しかしながら、このウエットプロセス法により作製された反射防止フィルムにおいては、前記のドライプロセス法による反射防止フィルムに比べて、表面の耐擦傷性に劣るという問題が生じる。
そこで、ウエットプロセス法における前記問題を解決するために、電離放射線硬化型樹脂組成物を用いて硬化層（ハードコート層）を形成することが行われている。例えば基材フィルム上に、（１）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、電離放射線による硬化樹脂と、アンチモンドープ酸化錫を含む少なくとも２種の金属酸化物を含み、屈折率が１.６５〜１.８０の範囲にある厚さ６０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及びシロキサン系ポリマーを含み、屈折率が１.３７〜１.４７の範囲にある厚さ８０〜１８０ｎｍの低屈折率層を順次積層してなる光学用フィルム（例えば、特許文献１参照）、（２）金属酸化物と、熱又は電離放射線による硬化物とを含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、及び多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーとを含み、屈折率が１.３０〜１.４５の範囲にある厚さ４０〜２００ｎｍの低屈折率層を順次積層してなる光学用フィルム（例えば、特許文献２参照）などが開示されている。
これらの光学用フィルムは、画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止すると共に、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムである。
ところで、ＰＤＰは、電極間のプラズマ放電により封入されているキセノンガスの分子を励起し、発生する紫外線で蛍光物質を励起し、可視光領域の光を発光させ映像を表示する装置である。このＰＤＰにおいては、発光は、プラズマ放電を利用していることから、周波数帯域が３０〜１３０ＭＨｚ程度の不要な電磁波が外部に漏洩するため、他の機器（例えば情報処理装置など）へ悪影響を与えないように、電磁波を極力抑制することが要求される。
また、ＰＤＰにおいては、近赤外線を発することが知られている。この近赤外線は、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に作用し、正常な動作を阻害するおそれがあり、この近赤外線を極力遮断することが要求される。
さらに、ＰＤＰにおいては、表示面が平面であるため、外光が差し込んだ際に、広い範囲で反射した光が同時に目に入り、画面が見えにくくなる場合があり、外光の反射防止が必要である。また、ＰＤＰの発光を所定の分光透過率で透過させて、良好な画面表示をすることや、発光色の色調補正をすることも重要である。
ＰＤＰにおいては、これらの要求に対して、一般に表示画面に、（１）電磁波遮断フィルム、（２）近赤外線吸収フィルム及び（３）反射防止フィルムの少なくとも３枚の機能性フィルムを有する前面板を、該反射防止フィルムが、最表面（観察者側）になるように配置する処置が講ぜられている（例えば、特許文献３参照）。この場合、少なくとも３枚の機能性フィルムを別々に作製して、それらを貼合しなければならず、コストが高くつくのを免れない。
これに対し、近年、コストダウンの面から、最表面の反射防止フィルムにおいて、その基材の反射防止層とは反対側の面に近赤外線吸収層を設けることにより、１枚のフィルムで、反射防止性能と近赤外線吸収性能を兼ね備えた機能性フィルムが開発されている。このような機能性フィルムを製造する場合、（１）反射防止フィルムの裏面への近赤外線吸収層の形成、及び（２）近赤外線吸収フィルムの裏面への反射防止層の形成、の２つの方法があるが、いずれの場合も、フィルムのロスが発生するため、コストダウンの効果は小さい。
一方、反射防止フィルムにおいては、埃や塵などの付着を防止するために、持続性に優れる帯電防止性能が要求される。
In order to solve such a problem, various antireflection treatments and antiglare treatments have been taken for various displays so far. As one of them, an antireflection film is used for various displays.
Conventionally, this antireflection film is formed by a method of thinning a low refractive index substance (MgF 2 ) on a base film by a dry process method such as vapor deposition or sputtering, or a high refractive index substance [ITO (tin-doped Indium oxide), TiO 2, etc.] and a material having a low refractive index (MgF 2 , SiO 2, etc.) are alternately stacked. However, the antireflection film produced by such a dry process method has a problem that the production cost is unavoidable.
Therefore, in recent years, an attempt has been made to produce an antireflection film by a wet process method, that is, coating. However, the antireflection film produced by the wet process method has a problem that the surface is inferior in scratch resistance as compared with the antireflection film by the dry process method.
Therefore, in order to solve the above problems in the wet process method, a cured layer (hard coat layer) is formed using an ionizing radiation curable resin composition. For example, on a base film, (1) a hard coat layer having a thickness of 2 to 20 μm containing a cured resin by ionizing radiation, a cured resin by ionizing radiation, and at least two kinds of metal oxides containing antimony-doped tin oxide, A high refractive index layer having a refractive index in the range of 1.65 to 1.80 and a thickness of 60 to 160 nm, and a siloxane-based polymer having a refractive index in the range of 1.37 to 1.47. Optical film formed by sequentially laminating low refractive index layers of 180 nm (see, for example, Patent Document 1), (2) hard coat having a thickness of 2 to 20 μm, including a metal oxide and a cured product by heat or ionizing radiation An optical film comprising a layer, and a low refractive index layer having a thickness of 40 to 200 nm and having a refractive index in the range of 1.30 to 1.45, including porous silica and a polysiloxane polymer (for example, , Patent Reference 2) is disclosed.
These optical films are antireflection films that effectively prevent reflection of light on the surface of the image display element and are excellent in scratch resistance.
By the way, the PDP is an apparatus that excites xenon gas molecules enclosed by plasma discharge between electrodes, excites a fluorescent substance with generated ultraviolet rays, emits light in the visible light region, and displays an image. In this PDP, since light emission uses plasma discharge, unnecessary electromagnetic waves having a frequency band of about 30 to 130 MHz leak to the outside, which adversely affects other devices (for example, information processing devices). It is required to suppress electromagnetic waves as much as possible.
Also, it is known that PDP emits near infrared rays. This near-infrared ray may affect peripheral electronic devices such as cordless phones and video decks that use a near-infrared remote control device, and may interfere with normal operation. It is required to block this near-infrared ray as much as possible. .
Furthermore, in the PDP, since the display surface is flat, when outside light is inserted, the light reflected in a wide range may enter the eyes at the same time, making the screen difficult to see, and it is necessary to prevent reflection of outside light. It is. It is also important to transmit the PDP light with a predetermined spectral transmittance to display a good screen and to correct the color tone of the light emission color.
In the PDP, in response to these requirements, a front plate having at least three functional films of (1) an electromagnetic wave shielding film, (2) a near infrared ray absorbing film, and (3) an antireflection film is generally provided on the display screen. Measures have been taken to arrange the antireflection film so as to be the outermost surface (observer side) (see, for example, Patent Document 3). In this case, at least three functional films must be prepared separately and bonded together, which is inevitable in cost.
On the other hand, in recent years, from the viewpoint of cost reduction, in the outermost antireflection film, a near-infrared absorbing layer is provided on the surface opposite to the antireflection layer of the base material, thereby reflecting with one film. Functional films that have both prevention performance and near infrared absorption performance have been developed. When manufacturing such a functional film, two methods of (1) formation of the near-infrared absorption layer on the back surface of the antireflection film and (2) formation of the antireflection layer on the back surface of the near-infrared absorption film However, in any case, film loss occurs, so the cost reduction effect is small.
On the other hand, the antireflection film is required to have antistatic performance with excellent sustainability in order to prevent adhesion of dust and the like.
本発明は、このような事情のもとで、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にＰＤＰ用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することを目的としてなされたものである。 Under such circumstances, the present invention has near-infrared absorption performance and antireflection performance, is excellent in scratch resistance and antistatic properties, and has a simple layer structure and low cost. The object of the present invention is to provide an antireflection film by a suitable wet process method.
本発明者らは、前記の好ましい性質を有する反射防止フィルムを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、基材フィルムの一方の面に、導電性を有する樹脂層、近赤外線吸収剤を含むハードコート層及び活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む低屈折率層を、それぞれ所定の厚さで順次積層してなり、かつ少なくとも波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率がある値以下である反射防止フィルムが、その目的に適合し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
（１）基材フィルムの一方の面に、（Ａ）有機導電性ポリマー又は無機導電性化合物並びにアクリル系樹脂を含む厚さ５０〜５００ｎｍの導電性樹脂層、（Ｂ）弗素又は珪素を含有しない多官能アクリレートと近赤外線吸収剤を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、及び（Ｃ）弗素又は珪素を含有しない多官能アクリレート及び多孔性シリカ６０〜７５質量％含有し、屈折率が１.４３以下の厚さ５０〜２００ｎｍの低屈折率層が順次積層され、かつ波長５００ｎｍ、６００ｎｍ及び７００ｎｍにおける反射率が３％以下であって、波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率が２０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム、
（２）（Ｂ）層が、さらに有機及び／又は無機フィラーを含み、防眩機能が付与されてなる上記（１）項に記載の反射防止フィルム、
（３）（Ｂ）層に含まれる近赤外線吸収剤が、酸化タングステン系化合物である上記（１）又は（２）項に記載の反射防止フィルム、
（４）酸化タングステン系化合物が、セシウム含有酸化タングステンである上記（３）項に記載の反射防止フィルム、
（５）（Ｂ）層中の酸化タングステン系化合物の含有量が５〜５０質量％である上記（３）又は（４）項に記載の反射防止フィルム、
（６）有機導電性ポリマーが、ポリチオフェン系化合物である上記（１）項に記載の反射防止フィルム、
（７）無機導電性化合物が、酸化錫系化合物である上記（１）項に記載の反射防止フィルム、
（８）（Ａ）層の表面抵抗率が、５×１０８Ω／□以下である上記（１）〜（７）項のいずれかに記載の反射防止フィルム、
（９）基材フィルムの他方の面に、厚さ５〜５０μｍの粘着剤層を有する上記（１）〜（８）項のいずれかに記載の反射防止フィルム、及び
（１０）プラズマディスプレイ用である上記（１）〜（９）項のいずれかに記載の反射防止フィルム、
を提供するものである。
As a result of earnest research to develop an antireflection film having the above-mentioned preferable properties, the present inventors have found that a hard coat containing a conductive resin layer and a near-infrared absorber on one surface of the base film. An antireflective layer comprising a layer and a low refractive index layer containing a cured resin by irradiation with active energy rays, each of which is sequentially laminated with a predetermined thickness, and has a spectral transmittance of a certain value or less in the entire region of at least a wavelength of 800 to 1200 nm. It has been found that the film can be adapted to its purpose. The present invention has been completed based on such findings.
That is, the present invention
(1) On one surface of the base film, (A) a conductive resin layer having a thickness of 50 to 500 nm containing an organic conductive polymer or inorganic conductive compound and an acrylic resin, and (B) does not contain fluorine or silicon. A hard coat layer having a thickness of 2 to 20 μm containing a polyfunctional acrylate and a near infrared absorber, and (C) a polyfunctional acrylate containing no fluorine or silicon and 60 to 75% by mass of porous silica, and having a refractive index of 1. A low-refractive index layer having a thickness of 43 to 50 and a thickness of 50 to 200 nm is sequentially laminated, and the reflectance at wavelengths of 500 nm, 600 nm, and 700 nm is 3% or less, and the spectral transmittance in the entire region of wavelengths 800 to 1200 nm is 20%. An antireflective film characterized by:
(2) The antireflection film as described in (1) above, wherein the layer (B) further contains an organic and / or inorganic filler and has an antiglare function,
(3) The anti-reflection film according to (1) or (2), wherein the near-infrared absorber contained in the (B) layer is a tungsten oxide compound,
(4) The antireflection film as described in (3) above, wherein the tungsten oxide compound is cesium-containing tungsten oxide,
(5) The antireflection film as described in (3) or (4) above, wherein the content of the tungsten oxide compound in the layer (B) is 5 to 50% by mass,
(6) The antireflective film according to (1), wherein the organic conductive polymer is a polythiophene compound,
(7) The antireflection film as described in (1) above, wherein the inorganic conductive compound is a tin oxide compound,
(8) The antireflection film as described in any one of (1) to (7) above, wherein the surface resistivity of the (A) layer is 5 × 10 8 Ω / □ or less,
(9) The antireflection film according to any one of (1) to (8) above, which has an adhesive layer having a thickness of 5 to 50 μm on the other surface of the base film, and (10) For plasma display The antireflection film according to any one of (1) to (9) above,
Is to provide.
本発明によれば、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にＰＤＰ用として好適なウエットプロセス法による反射防止フィルムを提供することができる。 According to the present invention, it has near-infrared absorption performance and antireflection performance, is excellent in scratch resistance and antistatic properties, has a simple layer structure and is low in cost, and is particularly suitable for reflection by a wet process method for PDP. A prevention film can be provided.
本発明の反射防止フィルムは、ウエットプロセス法により、基材フィルムの一方の面に、（Ａ）導電性を有する厚さ５０〜５００ｎｍの樹脂層（以下、（Ａ）層と称す）、（Ｂ）活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層（以下、（Ｂ）層と称す）、及び（Ｃ）活性エネルギー線照射による硬化樹脂を含む、屈折率が１.４３以下の厚さ５０〜２００ｎｍの低屈折率層（以下、（Ｃ）層と称す）が順次積層された構造を有している。
本発明の反射防止フィルムにおける基材フィルムについては特に制限はなく、従来反射防止フィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等を挙げることができる。
The antireflection film of the present invention is obtained by applying a wet-process method on one surface of a base film with (A) a conductive resin layer having a thickness of 50 to 500 nm (hereinafter referred to as (A) layer), (B ) Refraction including a hard resin layer (hereinafter referred to as (B) layer) having a thickness of 2 to 20 μm containing a cured resin and near-infrared absorber by irradiation with active energy rays, and (C) a cured resin by irradiation with active energy rays. It has a structure in which low refractive index layers (hereinafter referred to as (C) layer) having a refractive index of 1.43 or less and a thickness of 50 to 200 nm are sequentially laminated.
There is no restriction | limiting in particular about the base film in the antireflection film of this invention, It can select suitably from well-known plastic films as a base material of a conventional antireflection film, and can use it. Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, acetyl cellulose butyrate films, and polychlorinated. Vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone film, polyetherimide film , Polyimide film, fluororesin film, Li amide film, acrylic resin film, norbornene resin film, a cycloolefin resin film.
これらの基材フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。
これらの基材フィルムの厚さは特に制限はなく、適宜選定されるが、通常１５〜２５０μｍ、好ましくは３０〜２００μｍの範囲である。また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。また、片面又は両面にプライマー処理を施したものも用いることができる。
本発明の反射防止フィルムにおいては、前記基材フィルムの一方の面に、まず導電性を有する（Ａ）層が設けられる。
（Ａ）層としては、有機導電性ポリマー及び／又は無機導電性化合物を含む樹脂層を好ましく挙げることができる。
ここで、有機導電性ポリマーとしては、特に制限はなく、従来公知の有機導電性ポリマーの中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。例えばトランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリジアセチレンなどのポリアセチレン系；ポリ(ｐ−フェニレン)やポリ(ｍ−フェニレン)などのポリ(フェニレン)系；ポリチオフェン、ポリ(３−アルキルチオフェン)、ポリ(３−チオフェン−β−エタンスルホン酸)、ポリアルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホネートとの混合物などのポリチオフェン系；ポリアニリン、ポリメチルアニリン、ポリメトキシアニリンなどのポリアニリン系；ポリピロール、ポリ３−メチルピロール、ポリ３−オクチルピロールなどのポリピロール系；ポリ(ｐ−フェニレンビニレン)などのポリ(フェニレンビニレン)系；ポリ(ビニレンスルフィド)系；ポリ(ｐ−フェニレンスルフィド)系；ポリ(チエニレンビニレン)系化合物などが用いられる。これらの中で、性能及び入手の容易さなどの観点から、ポリアセチレン系、ポリチオフェン系、ポリアニリン系、ポリピロール系及びポリ(フェニレンビニレン)系化合物が好ましく、ポリチオフェン系化合物がより好ましい。
これらの有機導電性ポリマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
These base films may be either transparent or translucent, may be colored, or may be uncolored, and may be appropriately selected depending on the application.
The thickness of these substrate films is not particularly limited and is appropriately selected, but is usually 15 to 250 μm, preferably 30 to 200 μm. Moreover, this base film can be surface-treated by an oxidation method, a concavo-convex method, or the like on one side or both sides as desired for the purpose of improving adhesion to a layer provided on the surface. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and examples of the unevenness method include a sand blast method, a solvent, and the like. Treatment methods and the like. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the base film, but generally, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability. Moreover, what gave the primer process to the single side | surface or both surfaces can also be used.
In the antireflection film of the present invention, a conductive (A) layer is first provided on one surface of the base film.
(A) As a layer, the resin layer containing an organic conductive polymer and / or an inorganic conductive compound can be mentioned preferably.
Here, there is no restriction | limiting in particular as an organic conductive polymer, Arbitrary things can be suitably selected and used from conventionally well-known organic conductive polymers. For example, polyacetylene series such as trans-type polyacetylene, cis-type polyacetylene, polydiacetylene; poly (phenylene) series such as poly (p-phenylene) and poly (m-phenylene); polythiophene, poly (3-alkylthiophene), poly (3 -Thiophene-β-ethanesulfonic acid), polythiophene systems such as polyalkylenedioxythiophene and polystyrene sulfonate mixtures; polyaniline systems such as polyaniline, polymethylaniline, polymethoxyaniline; polypyrrole, poly-3-methylpyrrole, poly-3 -Polypyrrole systems such as octylpyrrole; poly (phenylene vinylene) systems such as poly (p-phenylene vinylene); poly (vinylene sulfide) systems; poly (p-phenylene sulfide) systems; poly (thienylene vinylene) compounds, etc. Used The Of these, polyacetylene-based, polythiophene-based, polyaniline-based, polypyrrole-based, and poly (phenylene vinylene) -based compounds are preferable, and polythiophene-based compounds are more preferable from the viewpoints of performance and availability.
These organic conductive polymers may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
一方、無機導電性化合物としては、透明性を有するものであれば、特に制限はなく、従来公知の透明性無機導電性化合物の中から任意のものを適宜選択して用いることができる。例えば、アンチモンをドーパントとして含む酸化錫（ＡＴＯ）やフッ素をドーパントとして含む酸化錫などの酸化錫系化合物、アルミニウムをドーパントとして含む酸化亜鉛やガリウムをドーパントとして含む酸化亜鉛などの酸化亜鉛系化合物、錫をドーパントとして含む酸化インジウム（ＩＴＯ）やタングステンを含む酸化インジウム焼結体などの酸化インジウム系化合物等を挙げることができる。これらの中で、性能及び経済性などの観点から、酸化錫系化合物が好適である。これらの無機導電性化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、本発明においては、前記の有機導電性ポリマー１種以上と、無機導電性化合物１種以上とを併用してもよい。
なお、本発明においては、前記無機導電性化合物は、通常平均粒径が５〜１５０ｎｍ程度、好ましくは１０〜１００ｎｍ、より好ましくは２０〜５０ｎｍの粉末として用いることができる。
（Ａ）層において、前記の有機導電性ポリマーや無機導電性化合物の含有量は、用いる導電性物質の種類に応じて異なるが、（Ａ）層の表面抵抗率が、通常５×１０8Ω／□以下、好ましくは１×１０8Ω／□以下、より好ましくは８×１０6Ω／□以下になるような値であればよい。有機導電性ポリマーとして、例えばポリチオフェンを用いる場合には、（Ａ）層中の含有量は、通常１０〜６０質量％程度、好ましくは２０〜５０質量％、より好ましくは３０〜４０質量％である。また、無機導電性化合物として、ＡＴＯを用いる場合には、（Ａ）層中の含有量は、通常４０〜８５質量％程度、好ましくは５０〜８０質量％、より好ましくは６０〜７５質量％である。
On the other hand, the inorganic conductive compound is not particularly limited as long as it has transparency, and any one of conventionally known transparent inorganic conductive compounds can be appropriately selected and used. For example, tin oxide compounds such as tin oxide (ATO) containing antimony as a dopant, tin oxide compounds such as tin oxide containing fluorine as a dopant, zinc oxide compounds such as zinc oxide containing aluminum as a dopant and zinc oxide containing gallium as a dopant, tin And indium oxide compounds such as indium oxide (ITO) containing tungsten as a dopant and an indium oxide sintered body containing tungsten. Among these, tin oxide compounds are preferable from the viewpoints of performance and economy. These inorganic electroconductive compounds may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
In the present invention, one or more organic conductive polymers and one or more inorganic conductive compounds may be used in combination.
In the present invention, the inorganic conductive compound can be used as a powder having an average particle size of usually about 5 to 150 nm, preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 50 nm.
In the (A) layer, the content of the organic conductive polymer or inorganic conductive compound varies depending on the type of conductive material used, but the surface resistivity of the (A) layer is usually 5 × 10 8 Ω. / □ or less, preferably 1 × 10 8 Ω / □ or less, more preferably 8 × 10 6 Ω / □ or less. For example, when polythiophene is used as the organic conductive polymer, the content in the layer (A) is usually about 10 to 60% by mass, preferably 20 to 50% by mass, more preferably 30 to 40% by mass. . When ATO is used as the inorganic conductive compound, the content in the layer (A) is usually about 40 to 85% by mass, preferably 50 to 80% by mass, more preferably 60 to 75% by mass. is there.
（Ａ）層においては、前記の有機導電性ポリマーや無機導電性化合物のマトリックスとして、樹脂が用いられる。この樹脂は、熱可塑性樹脂であってもよく、エネルギー硬化型樹脂組成物の硬化物であってもよい。
熱可塑性樹脂としては、透明性を有するものが好ましく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの芳香族ポリエステル系や脂肪族ポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
この熱可塑性樹脂を用いる場合には、例えば該熱可塑性樹脂、前記の有機導電性ポリマーや無機導電性化合物、適当な溶媒及び所望により用いられる酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含む塗工液を調製し、前記基材フィルムの一方の面に、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、所定の乾燥厚さになるように塗布し、７０〜１１０℃程度で、３０秒〜２分間程度乾燥すればよい。
一方、エネルギー硬化型樹脂組成物には、熱硬化型と活性エネルギー線硬化型がある。
熱硬化型樹脂組成物としては、アルキド樹脂組成物、熱硬化型アクリル系樹脂組成物、ウレタン樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物などを挙げることができ、１種又は２種以上選び用いることができる。
当該熱硬化型樹脂組成物において、所望により用いられる各種添加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、架橋剤などを挙げることができる。
この熱硬化型樹脂組成物に、前記の有機導電性ポリマーや無機導電性化合物、所望により適当な溶媒を加えて塗工液を調製し、前記基材フィルムの一方の面に、従来公知の方法、例えばナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、所定の乾燥厚さになるように塗布し、通常８０〜１５０℃程度、好ましくは１００〜１３０℃の温度で、３０秒から２分間程度加熱処理することにより、当該（Ａ）層を形成することができる。
In the layer (A), a resin is used as a matrix of the organic conductive polymer or inorganic conductive compound. This resin may be a thermoplastic resin or a cured product of an energy curable resin composition.
As the thermoplastic resin, those having transparency are preferable, for example, aromatic polyester-based or aliphatic polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polycycloolefin, etc. Polyolefin resin, cellulose resin such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polystyrene resin, polycarbonate resin, acrylic resin And polyamide-based resins. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
When this thermoplastic resin is used, for example, the thermoplastic resin, the organic conductive polymer or the inorganic conductive compound, an appropriate solvent, an antioxidant used as desired, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and the like. A coating liquid containing an additive is prepared, and a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method or the like is applied to one surface of the base film. Is applied to a predetermined dry thickness and dried at about 70 to 110 ° C. for about 30 seconds to 2 minutes.
On the other hand, the energy curable resin composition includes a thermosetting type and an active energy ray curable type.
Examples of the thermosetting resin composition include alkyd resin compositions, thermosetting acrylic resin compositions, urethane resin compositions, epoxy resin compositions, and the like, and one or more can be selected and used. .
In the thermosetting resin composition, various additives used as desired include, for example, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent, a colorant, and a crosslinking agent. .
To the thermosetting resin composition, an organic conductive polymer, an inorganic conductive compound, and an appropriate solvent as necessary are added to prepare a coating solution. For example, using a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method or the like, it is applied so as to have a predetermined dry thickness, and is usually about 80 to 150 ° C., preferably 100 to 130 ° C. The (A) layer can be formed by heat treatment at a temperature of 30 seconds to 2 minutes.
また、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを照射することにより、架橋、硬化する樹脂組成物を指す。活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には、ラジカル型とカチオン型があり、それぞれモノマーとプレポリマータイプがある。
活性エネルギー線ラジカル重合性モノマーとしては、例えばシクロヘキシル(メタ)アクリレート、２−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレート；１,４−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。一方、活性エネルギー線ラジカル重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。また、(メタ)アクリル酸エステル系共重合体の側鎖に、(メタ)アクリロイル基などのエネルギー線硬化性基を有する化合物も用いることができる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
The active energy ray-curable resin composition refers to a resin composition having an energy quantum in an electromagnetic wave or a charged particle beam, that is, a resin composition that is crosslinked and cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams. The active energy ray-curable resin composition includes a radical type and a cation type, and there are a monomer type and a prepolymer type, respectively.
Examples of the active energy ray radical polymerizable monomer include monofunctional acrylates such as cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate; 4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxy Pivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate , Ethylene oxide modified di (meth) acrylate phosphate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Examples thereof include polyfunctional acrylates such as pentaerythritol hexa (meth) acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. On the other hand, examples of the active energy ray radical polymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. A compound having an energy ray curable group such as a (meth) acryloyl group in the side chain of the (meth) acrylic acid ester copolymer can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.
さらに、活性エネルギー線カチオン重合性モノマーとしては、例えばインデン、クマロンなどのアルキル置換アルケン、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン誘導体、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテルなどのビニルエーテル類、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテルなどのグリシジルエーテル類、３−エチル−３−ヒドロキシエチルオキセタン、１,４−ビス[(３−エチル−３−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼンなどのオキセタン類、３,４−エポキシシクロヘキシルメチル(３,４−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、ビス(３,４−エポキシシクロヘキシル)アジペートなどの脂環式エポキシ類、Ｎ−ビニルカルバゾールなどを挙げることができる。
カチオン重合型の活性エネルギー線重合性プレポリマーとしては、例えばエポキシ系樹脂、オキセタン樹脂、ビニルエーテル樹脂などが挙げられる。ここで、エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
Furthermore, examples of the active energy ray cationically polymerizable monomer include alkyl-substituted alkenes such as indene and coumarone, styrene derivatives such as styrene and α-methylstyrene, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, butanediol divinyl ether, and diethylene glycol. Vinyl ethers such as divinyl ether, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, and ethylene glycol diglycidyl ether, 3-ethyl-3-hydroxyethyl oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl -3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene and other oxetanes, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexane Kishireto, alicyclic epoxy such as bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, etc. N- vinylcarbazole and the like.
Examples of the cationic polymerization type active energy ray polymerizable prepolymer include epoxy resins, oxetane resins, and vinyl ether resins. Here, the epoxy resin is obtained by oxidizing a compound obtained by epoxidizing polyhydric phenols such as bisphenol resin or novolak resin with epichlorohydrin, etc., a linear olefin compound or a cyclic olefin compound with a peroxide or the like. And the like.
所望により用いられる光重合開始剤としては、活性エネルギー線重合性のプレポリマーやモノマーの中でラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２,２−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、４−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル−２(ヒドロキシ−２−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の光重合性モノマーやプレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、前記光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマー１００質量部に対して、通常０.２〜１０質量部の範囲で選ばれる。 As photopolymerization initiators used as desired, among active energy ray polymerizable prepolymers and monomers, radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers include, for example, benzoin, benzoin methyl ether, Benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy- 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl ] -2 Morpholinopropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal Acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate, and the like. Further, as a photopolymerization initiator for a cationic polymerization type photopolymerizable monomer or prepolymer, for example, onium such as aromatic sulfonium ion, aromatic oxosulfonium ion, aromatic iodonium ion, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, Examples thereof include compounds composed of anions such as hexafluoroantimonate and hexafluoroarsenate. These may be used singly or in combination of two or more, and the amount is usually 0 with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable monomer and / or photopolymerizable prepolymer. It is selected in the range of 0.2 to 10 parts by mass.
当該活性エネルギー線硬化型樹脂組成物において、所望により用いられる各種添加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、架橋剤などを挙げることができる。
このようにして調製された活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
このエネルギー線硬化型樹脂組成物に、前記の有機導電性ポリマーや無機導電性化合物を加えて塗工液を調製し、前記基材フィルムの一方の面に、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、所定の乾燥厚さになるように塗布して塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ａ）層を形成することができる。また、適当な溶媒を、必要に応じ加えてもよい。
熱可塑性樹脂あるいはエネルギー硬化型樹脂組成物及び有機導電性ポリマーや無機導電性化合物などにより、（Ａ）層用塗工液を調製する際に必要に応じて用いる適当な溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
本発明の反射防止フィルムにおける（Ａ）層の厚さは、５０〜５００ｎｍである。この厚さが５０ｎｍ未満では（Ａ）層の表面抵抗率が５×１０8Ω／□以下になりにくく、５００ｎｍを超えると厚みによる（Ａ）層の表面抵抗率低減に関するそれ以上の効果が得られにくくなる。（Ａ）層の好ましい厚さは１００〜４００ｎｍである。
また、（Ａ）層の表面抵抗率は、５×１０8Ω／□以下であることが好ましい。この表面抵抗率が５×１０8Ω／□以下であれば、本発明の反射防止フィルムは、良好な帯電防止性能を発揮することができる。より好ましい表面抵抗率は１×１０8Ω／□以下、さらに好ましくは８×１０6Ω／□以下である。この表面抵抗率の下限については特に制限はないが、通常５×１０5Ω／□程度である。
In the active energy ray-curable resin composition, various additives used as desired include, for example, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent, a colorant, and a crosslinking agent. Can do.
The concentration and viscosity of the active energy ray-curable resin composition thus prepared are not particularly limited as long as the concentration and viscosity can be coated, and can be appropriately selected according to the situation.
The organic conductive polymer or inorganic conductive compound is added to the energy ray curable resin composition to prepare a coating liquid, and a conventionally known method such as a bar coating method is applied to one surface of the base film. Using a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, etc., a coating film is formed by applying to a predetermined dry thickness, and after drying, active energy rays are applied thereto. Can be formed by curing the coating film. Moreover, you may add a suitable solvent as needed.
As a suitable solvent used as needed when preparing the coating solution for the layer (A) with a thermoplastic resin or an energy curable resin composition and an organic conductive polymer or an inorganic conductive compound, for example, hexane, Aliphatic hydrocarbons such as heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2 -Ketones such as pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, cellosolve solvents such as ethyl cellosolve and the like.
The thickness of the (A) layer in the antireflection film of the present invention is 50 to 500 nm. If the thickness is less than 50 nm, the surface resistivity of the (A) layer is unlikely to be 5 × 10 8 Ω / □ or less, and if it exceeds 500 nm, a further effect on reducing the surface resistivity of the (A) layer due to the thickness is obtained. It becomes difficult to be. (A) The preferable thickness of a layer is 100-400 nm.
Further, the surface resistivity of the layer (A) is preferably 5 × 10 8 Ω / □ or less. When the surface resistivity is 5 × 10 8 Ω / □ or less, the antireflection film of the present invention can exhibit good antistatic performance. The surface resistivity is more preferably 1 × 10 8 Ω / □ or less, and further preferably 8 × 10 6 Ω / □ or less. The lower limit of the surface resistivity is not particularly limited, but is usually about 5 × 10 5 Ω / □.
本発明の反射防止フィルムにおいては、前記（Ａ）層の上に、（Ｂ）層として、活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤を含むハードコート層が設けられる。
この活性エネルギー線照射による硬化樹脂と近赤外線吸収剤とを含む（Ｂ）層は、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、前記の近赤外線吸収剤と、所望により光重合開始剤などを含む（Ｂ）層用塗工液を、前述の（Ａ）層上にコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。
（Ｂ）層に用いられる活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば活性エネルギー線重合性プレポリマー及び／又は活性エネルギー線重合性モノマーを挙げることができる。
前記活性エネルギー線重合性プレポリマー、活性エネルギー線重合性モノマー及び光重合開始剤の詳細については、前述の（Ａ）層で説明された活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の説明と同様であり、（Ａ）層の活性エネルギー線硬化型組成物で挙げられた配合、物性と同じ範囲より選択される。
一方、（Ｂ）層に含有させる近赤外線吸収剤については、少なくとも波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率が３０％以下である反射防止フィルムを与えることのできるものであればよく、特に制限されず、様々な種類のものを、適宜選択して用いることができる。
当該近赤外線吸収剤は、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤に大別するができる。ここで、有機系近赤外線吸収剤としては、例えばシアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、ナフタロシアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、さらにはＮ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス(ｐ−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル)−ｐ−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩、フェニレンジアミニウムの塩素塩、フェニレンジアミニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ化ホウ素酸塩、フェニレンジアミニウムのフッ素塩、フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩などのアミノ化合物、銅化合物とビスチオウレア化合物、リン化合物と銅化合物、リン酸エステル化合物と銅化合物との反応により得られるリン酸エステル銅化合物などが挙げられる。
In the antireflection film of the present invention, a hard coat layer containing a cured resin by irradiation with active energy rays and a near-infrared absorber is provided as the (B) layer on the (A) layer.
The (B) layer containing the curable resin and the near-infrared absorber by irradiation with the active energy ray contains, for example, an active energy ray-curable compound, the near-infrared absorber, and a photopolymerization initiator if necessary (B The coating liquid for layer) is coated on the above-mentioned layer (A) to form a coating film, irradiated with active energy rays and cured to form the coating film.
Examples of the active energy ray-curable compound used for the layer (B) include an active energy ray polymerizable prepolymer and / or an active energy ray polymerizable monomer.
The details of the active energy ray polymerizable prepolymer, the active energy ray polymerizable monomer and the photopolymerization initiator are the same as those described for the active energy ray curable resin composition described in the layer (A) above. (A) It selects from the same range as the mixing | blending and physical property quoted by the active energy ray hardening-type composition of the layer.
On the other hand, the near-infrared absorber to be contained in the layer (B) is not particularly limited as long as it can provide an antireflection film having a spectral transmittance of 30% or less in at least the entire wavelength region of 800 to 1200 nm. Instead, various types can be appropriately selected and used.
The said near-infrared absorber can be divided roughly into an organic near-infrared absorber and an inorganic near-infrared absorber. Here, examples of the organic near-infrared absorber include cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex compounds, naphthalocyanine compounds, phthalocyanine compounds, triallylmethane compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, Furthermore, N, N, N ′, N′-tetrakis (p-di-n-butylaminophenyl) -p-phenylenediaminium perchlorate, phenylenediaminium chloride, phenylenedianium hexafluoroantimony Amino compounds such as acid salts, fluorinated boronates of phenylene diaminium, fluorine salts of phenylene diaminium, perchlorates of phenylene diaminium, copper compounds and bisthiourea compounds, phosphorus compounds and copper compounds, phosphate ester compounds Obtained by reaction of copper with copper compounds Examples include phosphate ester copper compounds.
これらの中では、チオールニッケル錯塩系化合物（特開平９−２３０１３４号公報など）及びフタロシアニン系化合物が好ましく、特に、特開２０００−２６７４８号公報などに開示されているフッ素含有フタロシアニン化合物が、有機系近赤外線吸収剤の中で、可視光線分光透過率が高く、かつ耐熱性、耐光性、耐候性などの特性に優れることから、好適である。
また、無機系近赤外線吸収剤としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化セシウム、硫化亜鉛さらにはＬａＢ6、ＣｅＢ6、ＰｒＢ6、ＮｄＢ6、ＧｄＢ6、ＴｂＢ6、ＤｙＢ6、ＨｏＢ6、ＹＢ6、ＳｍＢ6、ＥｕＢ6、ＥｒＢ6、ＴｍＢ6、ＹｂＢ6、ＬｕＢ6、ＳｒＢ6、ＣａＢ6、(Ｌａ，Ｃｅ)Ｂ6などの六ホウ化物等が挙げられる。これらの中では、近赤外線の吸収率が高く、かつ可視光線の分光透過率が高いことから、酸化タングステン系化合物が好ましい。この酸化タングステン系化合物としては、セシウム含有酸化タングステン、特に式（１）
Ｃｓ0.2〜0.4ＷＯ3 …（１）
で表されるセシウム含有酸化タングステンが好適である。
一般に、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤を比較した場合、近赤外線の吸収能力は有機系の方が優れているが、耐光性や耐候性については、無機系の方が格段に優れている。また、有機系のものは着色しやすいという欠点も有しており、実用性の点からは、無機系近赤外線吸収剤の方が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンの使用が好ましい。この無機系赤外線吸収剤は、可視光領域において吸収が少なく、かつ透明なコート層を形成するには、好ましくは０.５μｍ以下、より好ましくは０.１μｍ以下の粒径を有するものが有利である。
Among these, a thiol nickel complex salt compound (JP-A-9-230134, etc.) and a phthalocyanine compound are preferable. In particular, a fluorine-containing phthalocyanine compound disclosed in JP-A-2000-26748 is an organic compound. Among near-infrared absorbers, it is preferable because it has a high visible light spectral transmittance and excellent properties such as heat resistance, light resistance, and weather resistance.
Examples of the inorganic near infrared absorber include tungsten oxide compounds, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, and antimony-doped oxide. Tin (ATO), cesium oxide, zinc sulfide and also LaB 6 , CeB 6 , PrB 6 , NdB 6 , GdB 6 , TbB 6 , DyB 6 , HoB 6 , YB 6 , SmB 6 , EuB 6 , ErB 6 , TmB 6 , YbB 6 , LuB 6 , SrB 6 , CaB 6 , (La, Ce) B 6, and the like. Of these, tungsten oxide compounds are preferred because they have a high near-infrared absorptivity and a high visible light spectral transmittance. Examples of the tungsten oxide-based compound include cesium-containing tungsten oxide, particularly the formula (1)
Cs 0.2-0.4 WO 3 (1)
The cesium containing tungsten oxide represented by these is suitable.
In general, when comparing organic near-infrared absorbers with inorganic near-infrared absorbers, the near-infrared absorption capacity is superior to organic ones, but inorganic ones are far superior in terms of light resistance and weather resistance. Is excellent. In addition, organic materials have a drawback that they are easily colored, and from the viewpoint of practicality, inorganic near infrared absorbers are preferred, and the use of cesium-containing tungsten oxide is particularly preferred. In order to form a transparent coat layer with a small absorption in the visible light region, this inorganic infrared absorber preferably has a particle size of preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. is there.
本発明においては、前記無機系近赤外線吸収剤を１種用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよく、また、無機系近赤外線吸収剤と有機系近赤外線吸収剤を併用することもできる。
なお、近赤外線吸収剤を単独使用した場合、たとえ波長８００〜１２００ｎｍの領域で分光透過率が３０％を超える部分があったとしても、２種以上を併用することにより、波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率が３０％以下であればよい。
この近赤外線吸収剤の使用量は、（Ｂ）層の膜厚にもよるが、酸化タングステン系化合物、例えば前記式（１）で表されるセシウム含有酸化タングステンを用いる場合、（Ｂ）層中のその含有量が、通常５〜５０質量％、好ましくは１５〜３０質量％になるように選定される。
反射防止フィルムは、その用途において防眩性を要求される場合がある。本発明においては、（Ｂ）層には、反射防止フィルムに防眩性を付与させるための防眩性付与剤として、有機及び／又は無機フィラーを含有させることができる。有機フィラーとしては、例えばメラミン系樹脂粒子、アクリル系樹脂粒子、アクリル−スチレン系共重合体粒子、ポリカーボネート系粒子、ポリエチレン系粒子、ポリスチレン系粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子などが挙げられる。これらの有機フィラーの平均粒径は、通常２〜１０μｍ程度である。
また、無機フィラーとしては、例えば平均粒径が０.５〜１０μｍ程度のシリカ粒子や、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒径が０.５〜１０μｍ程度のものなどを挙げることができる。
これらの防眩性付与剤は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。防眩性を付与する場合において、（Ｂ）層中の防眩性付与剤の含有量は、通常２〜１５質量％、好ましくは３〜８質量％である。（Ｂ）層に防眩性付与剤を含有させることにより、本発明の反射防止フィルムの６０°グロス値は、通常３０〜１２０程度となる。
In the present invention, one kind of inorganic near infrared absorber may be used, or two or more kinds may be used in combination, and an inorganic near infrared absorber and an organic near infrared absorber are used in combination. You can also.
In addition, when the near infrared absorber is used alone, even if there is a portion where the spectral transmittance exceeds 30% in the wavelength range of 800 to 1200 nm, the total wavelength of 800 to 1200 nm can be obtained by using two or more types in combination. The spectral transmittance in the region may be 30% or less.
The amount of the near infrared absorber used depends on the thickness of the layer (B), but when a tungsten oxide compound, for example, a cesium-containing tungsten oxide represented by the formula (1) is used, The content thereof is usually 5 to 50% by mass, preferably 15 to 30% by mass.
The antireflection film may be required to have an antiglare property in its application. In the present invention, the layer (B) can contain an organic and / or inorganic filler as an antiglare imparting agent for imparting antiglare properties to the antireflection film. Examples of the organic filler include melamine resin particles, acrylic resin particles, acrylic-styrene copolymer particles, polycarbonate particles, polyethylene particles, polystyrene particles, and benzoguanamine resin particles. These organic fillers usually have an average particle size of about 2 to 10 μm.
Examples of the inorganic filler include silica particles having an average particle diameter of about 0.5 to 10 μm, and aggregates of colloidal silica particles with an amine compound having an average particle diameter of about 0.5 to 10 μm. Can be mentioned.
One of these antiglare agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. In the case of imparting antiglare properties, the content of the antiglare property imparting agent in the layer (B) is usually 2 to 15% by mass, preferably 3 to 8% by mass. By including an anti-glare imparting agent in the layer (B), the 60 ° gloss value of the antireflection film of the present invention is usually about 30 to 120.
本発明において用いられるこの（Ｂ）層用塗工液は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、近赤外線吸収剤と、所望により用いられる前記の光重合開始剤、防眩性付与剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
次に、前述の（Ａ）層上に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ｂ）層が形成される。
（Ｂ）層の形成に使用される活性エネルギー線については、前述の（Ａ）層の説明と同様であり、特に紫外線が好適である。
本発明においては、（Ｂ）層の厚さは２〜２０μｍの範囲である。この厚さが２μｍ未満では得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が十分に発揮されないおそれがあるし、また２０μｍを超えるとハードコート層にクラックが発生することがある。このハードコート層の好ましい厚さは３〜１５μｍの範囲であり、特に５〜１０μｍの範囲が好適である。
本発明の反射防止フィルムにおいては、この（Ｂ）層の屈折率は、通常１.４７〜１.６０、好ましくは１.４９〜１.５５の範囲である。
The coating liquid for layer (B) used in the present invention, if necessary, in the appropriate solvent, the active energy ray-curable compound, the near infrared absorber, and the photopolymerization used as desired. By adding an initiator, an antiglare agent, and various other additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. at a predetermined ratio, and dissolving or dispersing them. Can be prepared.
Examples of the solvent used in this case include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol, butanol, Examples include alcohols such as 1-methoxy-2-propanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone, and isophorone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and cellosolv solvents such as ethyl cellosolve.
The concentration and viscosity of the coating solution thus prepared are not particularly limited as long as the concentration and viscosity can be coated, and can be appropriately selected depending on the situation.
Next, the above-mentioned coating solution is applied onto the above-described layer (A) by using a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure coating method. Then, coating is performed to form a coating film, and after drying, the coating film is cured by irradiating the active energy ray to form a layer (B).
(A) About the active energy ray used for formation of a layer, it is the same as that of description of the above-mentioned (A) layer, and an ultraviolet-ray is especially suitable.
In the present invention, the thickness of the (B) layer is in the range of 2 to 20 μm. If the thickness is less than 2 μm, the resulting antireflection film may not exhibit sufficient scratch resistance, and if it exceeds 20 μm, cracks may occur in the hard coat layer. The preferred thickness of the hard coat layer is in the range of 3 to 15 μm, and particularly in the range of 5 to 10 μm.
In the antireflection film of the present invention, the refractive index of the layer (B) is usually from 1.47 to 1.60, preferably from 1.49 to 1.55.
本発明の反射防止フィルムにおいては、（Ｂ）層上に、（Ｃ）層が設けられる。
この（Ｃ）層は、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、好ましくは多孔性シリカ粒子と、所望により光重合開始剤などを含む低屈折率層形成用塗工液を、（Ｂ）層上にコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。
（Ｃ）層に用いられる活性エネルギー線硬化性化合物及び所望により用いられる光重合開始剤の詳細については、前述の（Ａ）層で説明された活性エネルギー線硬化性化合物及び光重合開始剤と同様であり、その配合、物性と同じ範囲より選択できる。
（Ｃ）層に含まれる多孔性シリカ粒子としては、比重が１.７〜１.９、屈折率が１.２５〜１.３６及び平均粒径が２０〜１００ｎｍの範囲にあるものが好ましく用いられる。このような性状を有する多孔性シリカ粒子を用いることにより、反射防止性能に優れる反射防止層が１層タイプの反射防止フィルムを得ることができる。
本発明においては、この（Ｃ）層中の多孔性シリカ粒子の含有量は、好ましくは３０〜８０質量％の範囲で選定され、さらに好ましい含有量は、５０〜８０質量％であり、特に６０〜７５質量％の範囲が好ましい。該多孔性シリカ粒子の含有量が上記範囲にあれば、（Ｃ）層は所望の低屈折率を有する層となり、得られる反射防止フィルムは、反射防止性に優れたものとなる。
（Ｃ）層は、厚さが５０〜２００ｎｍであって、屈折率が、１.４３以下、好ましくは１.３０〜１.４２の範囲にある。当該（Ｃ）層の厚さや屈折率が上記範囲にあれば、反射防止性能、及び耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを得ることができる。（Ｃ）層の厚さは、好ましくは７０〜１３０ｎｍであり、屈折率は、好ましくは１.３５〜１.４０の範囲である。
In the antireflection film of the present invention, the (C) layer is provided on the (B) layer.
This (C) layer comprises, for example, a coating solution for forming a low refractive index layer containing an active energy ray-curable compound, preferably porous silica particles, and a photopolymerization initiator, if desired, on the (B) layer. It can be formed by coating to form a coating film, irradiating with active energy rays and curing the coating film.
(C) About the detail of the active energy ray-curable compound used in the layer and the photopolymerization initiator used as desired, it is the same as the active energy ray-curable compound and photopolymerization initiator explained in the layer (A) above. It can be selected from the same range as the blending and physical properties.
As the porous silica particles contained in the layer (C), those having a specific gravity of 1.7 to 1.9, a refractive index of 1.25 to 1.36 and an average particle size of 20 to 100 nm are preferably used. It is done. By using porous silica particles having such properties, an antireflection film having a single layer type antireflection layer having excellent antireflection performance can be obtained.
In the present invention, the content of the porous silica particles in the layer (C) is preferably selected in the range of 30 to 80% by mass, and more preferably 50 to 80% by mass, particularly 60 A range of ˜75 mass% is preferred. When the content of the porous silica particles is in the above range, the (C) layer becomes a layer having a desired low refractive index, and the resulting antireflection film has excellent antireflection properties.
The (C) layer has a thickness of 50 to 200 nm and a refractive index of 1.43 or less, preferably 1.30 to 1.42. When the thickness and refractive index of the (C) layer are in the above ranges, an antireflection film excellent in antireflection performance and scratch resistance can be obtained. The thickness of the (C) layer is preferably 70 to 130 nm, and the refractive index is preferably in the range of 1.35 to 1.40.
本発明において用いられるこの（Ｃ）層用塗工液は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前記の活性エネルギー線硬化性化合物と、好ましくは多孔性シリカ粒子と、所望により用いられる前記の光重合開始剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶媒については、前述の（Ｂ）層の説明で挙げられた溶媒と同等の範囲より選択できる。
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
（Ｂ）層上に、（Ｃ）層用塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ｃ）層が形成される。
（Ｃ）層の形成に使用される活性エネルギー線については、前述の（Ａ）層の説明と同様である。
本発明においては、前記の（Ａ）層、（Ｂ）層及び（Ｃ）層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利である。
まず、基材フィルムの一方の面に、（Ａ）層を形成するが、この（Ａ）層を、有機導電性ポリマーや無機導電性化合物を含む、熱可塑性樹脂組成物あるいは、熱硬化型樹脂組成物を用いて形成する場合、（Ａ）層の形成は前述のとおりである。一方、（Ａ）層を、有機導電性ポリマーや無機導電性化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いて形成する場合、基材フィルムの一方の面に、この組成物からなる塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は通常５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ2程度である。
The coating liquid for layer (C) used in the present invention, if necessary, in the appropriate solvent, the active energy ray-curable compound, preferably porous silica particles, and the above-mentioned optionally used. A photopolymerization initiator and further various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. are respectively added at a predetermined ratio and prepared by dissolving or dispersing. Can do.
About the solvent used in this case, it can select from the range equivalent to the solvent mentioned by description of the above-mentioned (B) layer.
The concentration and viscosity of the coating solution thus prepared are not particularly limited as long as the concentration and viscosity can be coated, and can be appropriately selected depending on the situation.
On the (B) layer, the coating solution for the (C) layer is used by a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, etc. A coating film is formed by coating, and after drying, the coating film is cured by irradiating this with an active energy ray, whereby the (C) layer is formed.
(C) About the active energy ray used for formation of a layer, it is the same as that of description of the above-mentioned (A) layer.
In the present invention, the formation of the (A) layer, the (B) layer, and the (C) layer is advantageously performed by the following method.
First, the (A) layer is formed on one surface of the base film, and the (A) layer is formed from a thermoplastic resin composition or a thermosetting resin containing an organic conductive polymer or an inorganic conductive compound. When forming using a composition, formation of (A) layer is as above-mentioned. On the other hand, when the layer (A) is formed using an active energy ray-curable resin composition containing an organic conductive polymer or an inorganic conductive compound, a coating made of this composition is applied to one surface of the base film. The liquid is coated to form a coating film, which is irradiated with active energy rays and cured to a half-cured state. In this case, when irradiating with ultraviolet rays, the amount of light is usually about 50 to 150 mJ / cm 2 .
次いで、このようにして形成された（Ａ）層又はハーフキュア状態の（Ａ）層上に、（Ｂ）層用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ2程度である。次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、（Ｃ）層用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、活性エネルギー線を十分に照射し、前記ハーフキュア状態の硬化層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常４００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。なお、（Ａ）層及び／又は（Ｂ）層及び／又は（Ｃ）層を完全に硬化させる際は、酸素による硬化阻害を防ぐために、窒素ガスなどの雰囲気下で、活性エネルギー線を照射することができる。この場合、酸素濃度は低い方がよく、２容量％以下が好ましい。
このように、活性エネルギー線照射で複層を積層する場合、下層をハーフキュアさせてから上層を設け、その後完全硬化させることにより、両層は極めて強固な密着性を示す。
Next, the (B) layer coating liquid is coated on the (A) layer or the half-cured (A) layer formed in this way to form a coating film, and irradiated with active energy rays. Cured to a half-cure state. In this case, when irradiating with ultraviolet rays, the amount of light is usually about 50 to 150 mJ / cm 2 . Next, a coating film is formed by coating the (C) layer coating solution on the half-cured cured layer formed in this way, and the active energy rays are sufficiently irradiated to form the half-cured state. Completely cured with cured layer. Under the present circumstances, when irradiating an ultraviolet-ray, a light quantity is about 400-1000mJ / cm < 2 > normally. When the (A) layer and / or (B) layer and / or (C) layer is completely cured, active energy rays are irradiated in an atmosphere of nitrogen gas or the like in order to prevent curing inhibition by oxygen. be able to. In this case, the oxygen concentration is preferably low and is preferably 2% by volume or less.
Thus, when laminating | stacking a multilayer by active energy ray irradiation, both layers show very strong adhesiveness by providing an upper layer after half-curing a lower layer, and making it harden | cure after that.
このようにして作製された本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率が３０％以下であることを要す。該分光透過率が３０％以下であれば、本発明の反射防止フィルムをＰＤＰの前面板に用いた場合に、該ＰＤＰから発生する近赤外線による周辺電子機器（例えば、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど）の誤作動を抑制することができる。前記分光透過率は、好ましくは２０％以下である。
また、波長５００〜７００ｎｍにおける反射率は、通常３％以下であり、全光線透過率は、通常４０％以上、好ましくは５０％以上である。また、ヘイズ値は、通常３％未満であり、（Ｂ）層に防眩性付与剤を含有させた場合は、３〜３０％程度である。
さらに、（Ｃ）層形成後における反射防止フィルムの表面抵抗率は、通常５×１０13Ω／□以下、好ましくは８×１０12Ω／□以下、より好ましくは２×１０12Ω／□以下である。この表面抵抗率の下限については特に制限はないが、通常２×１０8Ω／□程度である。
本発明の反射防止フィルムにおいては、前記（Ｃ）層上に防汚コート層を設けることができる。この防汚コート層は、一般にフッ素系樹脂を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、（Ｃ）層上にコーティングし、塗膜を形成させ、乾燥処理することにより、形成することができる。
この防汚コート層の厚さは、通常１〜１０ｎｍ、好ましくは３〜８ｎｍの範囲である。該防汚コート層を設けることにより、得られる反射防止フィルムは、表面の滑り性が良くなると共に、より一層汚れにくくなる。
本発明の反射防止フィルムにおいては、基材フィルムの（Ａ）〜（Ｃ）層とは反対側の面に、前面板におけるＰＤＰパネルなどの被着体に貼着させるための粘着剤層を形成させることができる。この粘着剤層を構成する粘着剤としては、光学用途用のもの、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられる。この粘着剤層の厚さは、通常５〜５０μｍの範囲である。本発明の反射防止フィルムをＰＤＰ用反射防止フィルムとして用いる場合には、この粘着剤層には、表示装置の発光色を色調補正するために、染料や顔料を含有させることができる。
さらに、この粘着剤層の上に、剥離フィルムを設けることができる。この剥離フィルムとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。この剥離フィルムの厚さについては特に制限はないが、通常２０〜１５０μｍ程度である。
このようにして作製された本発明の反射防止フィルムは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を兼備すると共に、耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低いなどの特徴を有している。この反射防止フィルムは、特にＰＤＰ用の反射防止フィルムとして、ＰＤＰの前面板に好適に用いられる。
In the antireflection film of the present invention thus produced, it is necessary that the spectral transmittance in the entire region of at least a wavelength of 800 to 1200 nm is 30% or less. If the spectral transmittance is 30% or less, when the antireflection film of the present invention is used for the front plate of the PDP, peripheral electronic devices using near infrared rays generated from the PDP (for example, cordless phones, near infrared remote control devices) Malfunctions of video decks that use). The spectral transmittance is preferably 20% or less.
The reflectance at a wavelength of 500 to 700 nm is usually 3% or less, and the total light transmittance is usually 40% or more, preferably 50% or more. Further, the haze value is usually less than 3%, and is about 3 to 30% when the antiglare imparting agent is contained in the layer (B).
Further, the surface resistivity of the antireflection film after the formation of the (C) layer is usually 5 × 10 13 Ω / □ or less, preferably 8 × 10 12 Ω / □ or less, more preferably 2 × 10 12 Ω / □ or less. It is. The lower limit of the surface resistivity is not particularly limited, but is usually about 2 × 10 8 Ω / □.
In the antireflection film of the present invention, an antifouling coating layer can be provided on the (C) layer. This antifouling coating layer is generally obtained by applying a coating solution containing a fluororesin using a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure coating method. (C) It can form by coating on a layer, forming a coating film, and drying-processing.
The thickness of the antifouling coating layer is usually in the range of 1 to 10 nm, preferably 3 to 8 nm. By providing the antifouling coating layer, the resulting antireflection film has improved surface slipperiness and becomes more difficult to be stained.
In the antireflection film of the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer for adhering to an adherend such as a PDP panel on the front plate is formed on the surface opposite to the (A) to (C) layers of the base film. Can be made. As an adhesive which comprises this adhesive layer, the thing for optical uses, for example, an acrylic adhesive, a urethane type adhesive, and a silicone type adhesive, are used preferably. The thickness of this pressure-sensitive adhesive layer is usually in the range of 5 to 50 μm. When the antireflection film of the present invention is used as an antireflection film for PDP, this pressure-sensitive adhesive layer can contain a dye or a pigment in order to correct the color tone of the display device.
Furthermore, a release film can be provided on this pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the release film include paper such as glassine paper, coated paper, and laminate paper, and various plastic films coated with a release agent such as silicone resin. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of this peeling film, Usually, it is about 20-150 micrometers.
The antireflection film of the present invention produced in this way has both near-infrared absorption performance and antireflection performance, is excellent in scratch resistance and antistatic properties, and has a simple layer structure and low cost. have. This antireflection film is suitably used for the front plate of PDP, particularly as an antireflection film for PDP.
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例で得られた反射防止フィルムの物性は、以下に示す方法に従って測定した。
（１）波長５００ｎｍ、６００ｎｍ及び７００ｎｍにおける反射率
分光光度計［(株)島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」］により、波長５００ｎｍ、６００ｎｍ及び７００ｎｍにおける反射率を測定した。
（２）波長８００〜１２００ｎｍにおける分光透過率
分光光度計［(株)島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」］により、波長８００ｎｍから１２００ｎｍにおける分光透過率を測定し、波長８００ｎｍ、８５０ｎｍ、９００ｎｍ、１０００ｎｍ、１１００ｎｍ、及び１２００ｎｍの測定値を求めた。
（３）全光線透過率及びヘイズ値
日本電色工業社製ヘイズメーター「ＮＤＨ ２０００」を使用し、ＪＩＳ Ｋ ６７１４に準拠して測定した。
（４）６０°グロス値
日本電色工業社製グロスメーター「ＶＧ ２０００」を使用し、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定した。
（５）耐擦傷性
スチールウール＃００００を使用し、荷重９.８×１０-3Ｎ／ｍｍ2で５往復擦った後に目視観察を行い、下記の判定基準で評価した。
○：傷が付かない。
△：やや傷が付く。
×：傷が付く。
（６）屈折率
アッベ屈折計［アタゴ社製、品名「アッベ屈折計４Ｔ」、Ｎａ光源、波長：約５９０ｎｍ］により測定した。
（７）各層の厚さ
松下インターテクノ社製「フィルメトリクスＦ−２０」を用いて測定した。
（８）表面抵抗率
試料を２３℃、湿度５０％の条件下で２４時間調湿後、表面層の表面抵抗率を、三菱化学社製「ハイレスター」にて、印加電圧１００Ｖで測定した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
In addition, the physical property of the antireflection film obtained in each example was measured according to the method shown below.
(1) Reflectance at wavelengths of 500 nm, 600 nm, and 700 nm The reflectance at wavelengths of 500 nm, 600 nm, and 700 nm was measured with a spectrophotometer [manufactured by Shimadzu Corporation “UV-3101PC”].
(2) Spectral transmittance at a wavelength of 800 to 1200 nm Using a spectrophotometer [“UV-3101PC” manufactured by Shimadzu Corporation], the spectral transmittance at a wavelength of 800 nm to 1200 nm was measured, and the wavelengths of 800 nm, 850 nm, 900 nm, 1000 nm, The measured values at 1100 nm and 1200 nm were obtained.
(3) Total light transmittance and haze value A haze meter “NDH 2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used and measured according to JIS K 6714.
(4) 60 ° gloss value A gloss meter “VG 2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used and measured according to JIS K 7105.
(5) Scratch resistance Steel wool # 0000 was used, and after rubbed 5 times with a load of 9.8 × 10 −3 N / mm 2 , visual observation was performed, and evaluation was performed according to the following criteria.
○: Not scratched.
Δ: Slightly scratched.
×: Scratched.
(6) Refractive index Measured with an Abbe refractometer [manufactured by Atago Co., Ltd., product name “Abbe refractometer 4T”, Na light source, wavelength: about 590 nm].
(7) Thickness of each layer It measured using "Filmetrics F-20" by Matsushita Intertechno.
(8) Surface resistivity After the sample was conditioned for 24 hours under the conditions of 23 ° C. and 50% humidity, the surface resistivity of the surface layer was measured with “High Lester” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation at an applied voltage of 100V.
実施例１
（１）（Ａ）層（導電性樹脂層）用塗工液
導電性ポリチオフェンをアクリル系熱可塑性樹脂に分散させたコート剤［出光テクノファイン社製、商品名「ＥＬｃｏａｔＴＡ−２０１０（２）」のＡｐａｃｋ（アクリル系熱可塑性樹脂）とＢｐａｃｋ（ポリチオフェン）の等量混合物、固形分濃度２.１３質量％］を使用する。
（２）（Ｂ）層（ハードコート層）用塗工液の調製
活性エネルギー線硬化性化合物として多官能アクリレート混合物［荒川化学(株)製、商品名「ビームセット５７７ＣＢ」、固形分濃度１００％］１００質量部に、光重合開始剤（２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン）［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］２質量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ−０１」、セシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１０質量％懸濁液、全固形分濃度１４質量％］３００質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で希釈して、（Ｂ）層用塗工液を調製した。
（３）（Ｃ）層（低屈折率層）用塗工液の調製
多官能アクリレート混合物［荒川化学(株)製、商品名「ビームセット５７７ＣＢ」、固形分濃度１００％］１００質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］５質量部を添加し、次いで多孔性シリカ粒子のメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）分散体［触媒化成工業(株)製、商品名「ＥＬＣＯＭ ＲＴ−１００２ＳＩＶ」、固形分濃度２１質量％、多孔性シリカ粒子：比重１.８、屈折率１.３０、平均粒径６０ｎｍ］１２００質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が２質量％になるようにＭＩＢＫで希釈して、（Ｃ）層用塗工液を調製した。
（４）反射防止フィルムの作製
基材フィルムとして厚さ１００μｍの両面易接着処理ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４３００」］表面に、前記（１）で得た（Ａ）層用塗工液を乾燥後の厚さが２００ｎｍになるように、マイヤーバーＮｏ．８で塗布したのち、８０℃で１分間乾燥して（Ａ）層を形成した。この（Ａ）層の表面抵抗率は６×１０6Ω／□であった。
次いで、（Ｂ）層用塗工液を乾燥後の厚さが６μｍになるようにマイヤーバーＮｏ．１６で塗布し、９０℃で１分間乾燥後、紫外線を光量１００ｍＪ／ｃｍ2で照射してハーフキュア状態に硬化させた。
次に、ハーフキュアしたコート表面に（Ｃ）層用塗工液を、硬化後の厚さが１００ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ．４で塗布した。次いで、８０℃で１分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０.５容量％）で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、完全硬化させ、ＰＥＴフィルム上に、導電性樹脂層〔（Ａ）層〕、屈折率１.５４の近赤外線吸収性ハードコート層〔（Ｂ）層〕及び屈折率１.３８の低屈折率層〔（Ｃ）層〕を順次形成させることにより、反射防止フィルムを作製した。
このようにして作製された反射防止フィルムの物性を第１表に示す。この反射防止フィルムの波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率は３０％以下であった。
実施例２
実施例１（１）において、（Ａ）層用塗工液の調製を、下記のように変更した以外は、実施例１と同様に実施し、反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。
＜（Ａ）層用塗工液の調製＞
導電剤として、酸化錫系化合物であるＡＴＯのトルエン分散体［石原産業(株)製、商品名「ＳＮ−１００Ｐ」、固形分濃度３０質量％］１００質量部と、ポリエステル樹脂の溶解品［東洋紡績(株)製、商品名「バイロン２０ＳＳ」固形分濃度３０質量％］３０質量部を混合し、濃度が４.５質量％になるようにシクロヘキサノンとトルエンの等量混合溶媒で希釈した。
実施例３
実施例１（２）において、（Ｂ）層用塗工液の調製を下記のように変更した以外は、実施例１と同様に実施し、反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。
＜（Ｂ）層用塗工液の調製＞
多官能アクリレート混合物［荒川化学(株)製、商品名「ビームセット５７７ＣＢ」、固形分濃度１００％］１００質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」］２質量部を添加し、次いで近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ−０１」、セシウム含有酸化タングステン（モル比でＣｓ：Ｗ：Ｏ＝０.３３：１：３）含有量１０質量％懸濁液、全固形分濃度１４質量％］３００質量部を混合し、さらに防眩性付与剤としてシリカ粒子［東ソー・シリカ(株)製、商品名「ニップシールＥ−２００」、平均粒径３μｍ］５質量部を加えたのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにＭＩＢＫで希釈して（Ｂ）層用塗工液を調製した。
このようにして作製した反射防止フィルムの物性を第１表に示す。この反射防止フィルムの波長８００〜１２００ｎｍの全領域における分光透過率は３０％以下であった。なお、（Ｂ）層の屈折率は、１.５３であった。
Example 1
(1) Coating liquid for layer (conductive resin layer) (A) Coating agent in which conductive polythiophene is dispersed in an acrylic thermoplastic resin [manufactured by Idemitsu Techno Fine Co., Ltd., trade name “ELcoat TA-2010 (2)” A mixture of equal amount of Apack (acrylic thermoplastic resin) and Bpack (polythiophene), solid content concentration 2.13 mass%] is used.
(2) Preparation of coating liquid for (B) layer (hard coat layer) Polyfunctional acrylate mixture [trade name “Beamset 577CB”, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., solid content concentration 100% as an active energy ray curable compound ] In 100 parts by mass, a photopolymerization initiator (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one) [manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Irgacure 907” ] 2 parts by mass, and then a near-infrared absorber [manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., trade name “YMF-01”, cesium-containing tungsten oxide (Cs: W: O = 0.33: 1 in molar ratio] : 3) Content 10 mass% suspension, total solid content 14 mass%] After mixing 300 mass parts, dilute with methyl isobutyl ketone (MIBK) so that the total solid content concentration becomes 30 mass% The (B) The coating liquid for layers was prepared.
(3) Preparation of coating liquid for (C) layer (low refractive index layer) Multifunctional acrylate mixture [Arakawa Chemical Co., Ltd., trade name “Beamset 577CB”, solid content concentration 100%] 5 parts by mass of a photopolymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals, trade name “Irgacure 907”] was added, and then a methyl isobutyl ketone (MIBK) dispersion of porous silica particles [manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., Product name “ELCOM RT-1002 SIV”, solid content concentration 21% by mass, porous silica particles: specific gravity 1.8, refractive index 1.30, average particle size 60 nm] After mixing 1200 parts by mass, the total solid content concentration Was diluted with MIBK so as to be 2% by mass to prepare a coating solution for layer (C).
(4) Production of antireflection film Obtained on (1) above on the surface of 100 μm thick double-sided easy-adhesion-treated polyethylene terephthalate (PET) film [trade name “A4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd.] as a base film (A) The Meyer bar No. was adjusted so that the thickness of the layer coating solution after drying was 200 nm. After coating at 8, it was dried at 80 ° C. for 1 minute to form a layer (A). The surface resistivity of this (A) layer was 6 × 10 6 Ω / □.
Subsequently, the (B) layer coating liquid was dried so that the thickness after drying was 6 μm. 16 and dried at 90 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays at a light amount of 100 mJ / cm 2 to be cured in a half-cured state.
Next, the (C) layer coating solution is applied to the half-cured coat surface so that the thickness after curing is 100 nm. 4 was applied. Next, after drying at 80 ° C. for 1 minute, the film is completely cured by irradiating with ultraviolet light at a light quantity of 500 mJ / cm 2 in a nitrogen gas atmosphere (oxygen concentration 0.5 vol%), and a conductive resin layer is formed on the PET film. By sequentially forming a ((A) layer], a near-infrared absorbing hard coat layer ((B) layer) having a refractive index of 1.54 and a low refractive index layer ((C) layer) having a refractive index of 1.38, An antireflection film was produced.
Table 1 shows the physical properties of the antireflection film thus prepared. The spectral transmittance of this antireflection film in the entire range of wavelengths from 800 to 1200 nm was 30% or less.
Example 2
In Example 1 (1), an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the preparation of the coating solution for layer (A) was changed as follows. Table 1 shows the physical properties of this antireflection film.
<(A) Preparation of coating liquid for layer>
As a conductive agent, a toluene dispersion of ATO, which is a tin oxide compound [manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name “SN-100P”, solid content concentration 30% by mass], 100 parts by mass, and a polyester resin dissolved product [Toyo 30 parts by mass of a product name “Byron 20SS” manufactured by Spinning Co., Ltd., and a solid content concentration of 30% by mass] were mixed and diluted with a mixed solvent of equal amounts of cyclohexanone and toluene so that the concentration became 4.5% by mass.
Example 3
In Example 1 (2), except having changed the preparation of the coating liquid for (B) layers as follows, it implemented similarly to Example 1 and produced the antireflection film. Table 1 shows the physical properties of this antireflection film.
<Preparation of (B) layer coating solution>
Multi-functional acrylate mixture [trade name “Beamset 577CB”, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., solid content concentration 100%] 100 parts by mass, photopolymerization initiator [trade name “Irgacure 907” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] 2 parts by mass, and then a near infrared absorber [manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., trade name “YMF-01”, cesium-containing tungsten oxide (Cs: W: O = 0.33: 1 in molar ratio] 3) Content of 10% by mass suspension, total solid content concentration of 14% by mass] 300 parts by mass were mixed, and silica particles [manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., trade name “Nipseal E- 200 ”, average particle size 3 μm], 5 parts by mass were added, and diluted with MIBK so that the total solid content concentration was 30% by mass to prepare a coating solution for layer (B).
Table 1 shows the physical properties of the antireflection film thus prepared. The spectral transmittance of this antireflection film in the entire range of wavelengths from 800 to 1200 nm was 30% or less. The refractive index of the layer (B) was 1.53.
比較例１
実施例１において、（Ａ）層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様に実施し、反射防止フィルムを作製した。この反射防止フィルムの物性を第１表に示す。
比較例２
実施例１（２）における（Ｂ）層用塗工液の調製において、近赤外線吸収剤を用いなかったこと以外は、実施例１と同様に実施して、反射防止フィルムを作製した。ただし、（Ｂ）層（ハードコート層）の屈折率は１.５３であった。
このようにして作製した反射防止フィルムの物性を第１表に示す。
比較例３
実施例１（２）の（Ｂ）層用塗工液の調製において、光重合開始剤「イルガキュア９０７」の使用量を５質量部に変更した以外は、実施例１（２）と同様にして、（Ｂ）層用塗工液を調製した。
次に、実施例１と同様にして形成した（Ａ）層上に、前記（Ｂ）層用塗工液を乾燥後の厚さが６μｍになるようにマイヤーバーＮｏ．１６で塗布し、９０℃で１分間乾燥後、紫外線を光量２５０ｍＪ／ｃｍ2で照射して完全硬化させ、反射防止フィルムの（Ｃ）層をもたないハードコートフィルムを作製した。
このようにして作製されたハードコートフィルムの物性を第１表に示す。
Comparative Example 1
In Example 1, except having not formed (A) layer, it implemented similarly to Example 1 and produced the anti-reflective film. Table 1 shows the physical properties of this antireflection film.
Comparative Example 2
In the preparation of the coating solution for layer (B) in Example 1 (2), an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the near-infrared absorber was not used. However, the refractive index of the layer (B) (hard coat layer) was 1.53.
Table 1 shows the physical properties of the antireflection film thus prepared.
Comparative Example 3
In the preparation of the coating liquid for layer (B) in Example 1 (2), the same procedure as in Example 1 (2) was conducted except that the amount of the photopolymerization initiator “Irgacure 907” was changed to 5 parts by mass. (B) The coating liquid for layers was prepared.
Next, on the (A) layer formed in the same manner as in Example 1, the above-mentioned (B) layer coating solution was dried so that the thickness after drying was 6 μm. After coating at 16 ° C. and drying at 90 ° C. for 1 minute, the film was completely cured by irradiation with ultraviolet light at a light intensity of 250 mJ / cm 2 to prepare a hard coat film without the (C) layer of the antireflection film.
The physical properties of the hard coat film thus prepared are shown in Table 1.
本発明の反射防止フィルムは、近赤外線吸収性能と反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性及び帯電防止性に優れる上、層構成が簡単でコストが低く、特にＰＤＰ用として好適である。 The antireflection film of the present invention has near-infrared absorption performance and antireflection performance, is excellent in scratch resistance and antistatic properties, has a simple layer structure and is low in cost, and is particularly suitable for PDP use.
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