JPWO2010114084A1 - Transparent conductive film - Google Patents
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Abstract
基材フィルム上に、（Ａ）層及び（Ｂ）層が順に積層されてなる透明導電フィルムであって、前記（Ａ）層が、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂と、平均粒径２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子とを含む光学調整層であり、かつ前記（Ｂ）層が、導電性有機高分子層であることを特徴とする透明導電フィルム。この透明導電フィルムは、高価なレアメタルであるインジウムを用いたＩＴＯを使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適である。A transparent conductive film in which a (A) layer and a (B) layer are laminated in order on a base film, wherein the (A) layer is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an active energy ray curable resin. An optical adjustment layer comprising at least one binder resin selected from the group consisting of metal oxide particles having an average particle size of 200 nm or less, and the layer (B) is a conductive organic polymer layer. A transparent conductive film characterized. This transparent conductive film has the same electrical characteristics and transmittance as ITO without using ITO, which is an expensive rare metal indium, and is suitable as a transparent electrode for display, particularly as a touch panel electrode. .
Description
本発明は透明導電フィルムに関し、さらに詳しくは、高価なレアメタルであるインジウムを用いた錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適な透明導電フィルムに関するものである。 The present invention relates to a transparent conductive film. More specifically, the present invention has electrical characteristics and transmittance equivalent to those of ITO without using tin-doped indium oxide (ITO) using indium, which is an expensive rare metal, and is used for display. The present invention relates to a transparent conductive film which is suitable as an electrode for a touch panel such as a transparent electrode.
従来、無機導電材料として、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛などが知られており、そして、これらの中で、透明性及び電気特性に特に優れるＩＴＯを用いた透明導電フィルムが、液晶ディスプレイや、透明タッチパネルなどの透明電極等として多用されている。
このような透明導電フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやトリアセチルセルロースフィルムなどの透明フィルム表面に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などのドライプロセスによって、ＩＴＯ膜を設けたものがよく知られている（例えば、特許文献１及び２参照）。
ところで、タッチパネルは、現在約９割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明プラスチック基材の片面にＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜を積層したタッチ側プラスチック基板と、ガラスなどの透明基材の片面にＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜を積層したディスプレイ側透明基板とを、絶縁スペーサを介して、各透明導電性薄膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。
そして、入力は、ペンや指でタッチ側プラスチック基板のタッチ入力面（透明導電性薄膜側とは反対側の面をいう。）を押圧し、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜と、ディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜とを接触させて行う。
しかしながら、このような抵抗膜方式タッチパネルにおいては、入力操作を繰り返すことにより、すなわちタッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜との接触を繰り返すことにより、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜が摩耗したり、クラックが発生したり、さらには基材から剥離してしまうなどの問題が生じる。そこで、このような問題を解決するために、一般に透明プラスチック基板と透明導電性薄膜との間に、硬化樹脂からなるハードコート層を設けることが行われている。また、該透明プラスチック基板の透明導電性薄膜とは反対側の表面にもハードコート層を設けることが、よく行われている。
しかしながら、このような透明導電フィルムや透明導電プラスチック基板上に透明導電薄膜として用いられるＩＴＯは、レアメタルであるインジウムを用いているため高価であり、薄膜形成には、特殊なプロセスが必要となる。また硬くて脆いためハンドリングが悪いという問題がある。したがって、これらの問題を解決するために、導電性有機高分子化合物を使用することが検討されている（例えば、特許文献３及び４参照）。
しかしながら、導電性有機高分子化合物は、ＩＴＯと同等の電気特性を得ることが可能であるものの、得られた導電フィルムなどの透過率が低下するのを免れず、実用化に至っていないのが実状である。
このように、導電性有機高分子化合物は、ＩＴＯと同等の電気特性を得ようとした場合にＩＴＯに比べ透過率が低くなり、透過率を上げた場合には電気特性が悪化する（電気特性、透過率は膜厚依存性がある）。透過率が低い場合には、ディスプレイとしての視認性が低下する恐れがある。Conventionally, tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide, and the like are known as inorganic conductive materials, and among these, transparency and electrical properties are known. Transparent conductive films using particularly excellent ITO are widely used as transparent electrodes such as liquid crystal displays and transparent touch panels.
Such transparent conductive films are well known in which an ITO film is provided on the surface of a transparent film such as a polyethylene terephthalate film or a triacetylcellulose film by a dry process such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating. (For example, see
By the way, about 90% of touch panels currently employ a resistive film system. The resistive film type touch panel generally includes a touch side plastic substrate in which a transparent conductive thin film such as an ITO film is laminated on one side of a transparent plastic base material, and a transparent conductive thin film such as an ITO film on one side of a transparent base material such as glass. And a display-side transparent substrate laminated with each other through an insulating spacer so that the transparent conductive thin films face each other.
Then, the input is performed by pressing the touch input surface of the touch side plastic substrate (referred to as the surface opposite to the transparent conductive thin film side) with a pen or a finger, and the transparent conductive thin film on the touch side plastic substrate and the display side. The contact is made with the transparent conductive thin film of the transparent substrate.
However, in such a resistive film type touch panel, the touch side plastic is obtained by repeating the input operation, that is, by repeating the contact between the transparent conductive thin film of the touch side plastic substrate and the transparent conductive thin film of the display side transparent substrate. Problems arise such that the transparent conductive thin film of the substrate is worn, cracks are generated, and further, the substrate is peeled off from the substrate. Therefore, in order to solve such problems, generally, a hard coat layer made of a cured resin is provided between the transparent plastic substrate and the transparent conductive thin film. Further, it is often performed to provide a hard coat layer on the surface of the transparent plastic substrate opposite to the transparent conductive thin film.
However, ITO used as a transparent conductive thin film on such a transparent conductive film or transparent conductive plastic substrate is expensive because indium, which is a rare metal, is used, and a special process is required for forming the thin film. Moreover, since it is hard and brittle, there exists a problem that handling is bad. Therefore, in order to solve these problems, use of a conductive organic polymer compound has been studied (see, for example,
However, although it is possible for conductive organic polymer compounds to obtain electrical properties equivalent to those of ITO, it is inevitable that the transmittance of the obtained conductive film, etc. is lowered, and it has not yet been put into practical use. It is.
As described above, the conductive organic polymer compound has a lower transmittance than that of ITO when an electrical property equivalent to that of ITO is obtained, and the electrical property is deteriorated when the transmittance is increased (electrical property). The transmittance is dependent on the film thickness). When the transmittance is low, the visibility as a display may be reduced.
本発明は、このような状況下になされたものであり、高価なレアメタルであるインジウムを用いたＩＴＯを使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適な透明導電フィルムを提供することを目的とするものである。 The present invention has been made under such circumstances, and has the same electrical characteristics and transmittance as ITO without using ITO using indium, which is an expensive rare metal, and is a transparent electrode for display. In particular, the object is to provide a transparent conductive film suitable as an electrode for a touch panel.
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、基材フィルム上に、特定の樹脂と平均粒径がある値以下の金属酸化物粒子とを含む高屈折率の光学調整層を設け、その上に、該光学調整層よりも屈折率の低い導電性有機高分子層を設けることにより、表面の反射を抑え、電気特性を維持したまま、透過率を向上させることが可能であり、ＩＴＯを用いた導電フィルムと同等の電気特性と透過率を有する透明導電フィルムが得られることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
（１）基材フィルム上に、（Ａ）層及び（Ｂ）層が順に積層されてなる透明導電フィルムであって、前記（Ａ）層が、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂と、平均粒径２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子とを含む光学調整層であり、かつ前記（Ｂ）層が、導電性有機高分子層であることを特徴とする透明導電フィルム、
（２）表面抵抗率が３００〜８００Ω／□であり、全光線透過率が８６％以上である、上記（１）項に記載の透明導電フィルム、
（３）（Ｂ）導電性有機高分子層表面における、波長５５０ｎｍの反射率が５％以下である、上記（１）又は（２）項に記載の透明導電フィルム、
（４）（Ｂ）導電性有機高分子層の屈折率が、（Ａ）光学調整層の屈折率よりも低い、上記（１）〜（３）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、
（５）（Ｂ）導電性有機高分子層を構成する導電性有機高分子化合物が、ポリチオフェン系、ポリアニリン系及びポリピロール系化合物の中から選ばれる少なくとも１種である、上記（１）〜（４）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、
（６）（Ａ）光学調整層が、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂１００質量部に対して、平均粒径２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子を１〜７００質量部の割合で含む、上記（１）〜（５）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、
（７）（Ａ）光学調整層が、バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂及び／又は活性エネルギー線硬化性樹脂を含み、かつ金属酸化物粒子として、酸化チタン粒子及び／又はアンチモンドープ酸化錫粒子を含む、上記（１）〜（６）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、
（８）基材フィルムの裏面に、ハードコート層が設けられてなる、上記（１）〜（７）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、及び
（９）基材フィルムと、（Ａ）光学調整層との間に、ハードコート層が設けられてなる、上記（１）〜（８）項のいずれかに記載の透明導電フィルム、
を提供するものである。As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a high refractive index optical material containing a specific resin and metal oxide particles having an average particle size of a certain value or less on a base film. By providing an adjustment layer and a conductive organic polymer layer having a refractive index lower than that of the optical adjustment layer on the adjustment layer, the reflection can be suppressed and the transmittance can be improved while maintaining the electrical characteristics. It was found that a transparent conductive film having electrical characteristics and transmittance equivalent to those of a conductive film using ITO was obtained. The present invention has been completed based on such findings.
That is, the present invention
(1) A transparent conductive film in which a layer (A) and a layer (B) are sequentially laminated on a base film, wherein the layer (A) is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an active energy ray. It is an optical adjustment layer containing at least one binder resin selected from curable resins and metal oxide particles having an average particle size of 200 nm or less, and the layer (B) is a conductive organic polymer layer. A transparent conductive film characterized in that,
(2) The transparent conductive film according to (1), wherein the surface resistivity is 300 to 800 Ω / □, and the total light transmittance is 86% or more,
(3) (B) The transparent conductive film according to (1) or (2) above, wherein the reflectance at a wavelength of 550 nm on the surface of the conductive organic polymer layer is 5% or less,
(4) The transparent conductive film according to any one of (1) to (3), wherein the refractive index of the conductive organic polymer layer (B) is lower than the refractive index of the optical adjustment layer (A),
(5) The above (1) to (4), wherein the conductive organic polymer compound constituting the conductive organic polymer layer (B) is at least one selected from polythiophene, polyaniline, and polypyrrole compounds. ) Transparent conductive film according to any one of items
(6) (A) The optical adjustment layer has an average particle size of 200 nm or less with respect to 100 parts by mass of at least one binder resin selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an active energy ray curable resin. The transparent conductive film according to any one of (1) to (5) above, comprising metal oxide particles in a proportion of 1 to 700 parts by mass,
(7) (A) The optical adjustment layer contains a thermoplastic resin and / or an active energy ray-curable resin as a binder resin, and contains titanium oxide particles and / or antimony-doped tin oxide particles as metal oxide particles. The transparent conductive film according to any one of (1) to (6) above,
(8) The transparent conductive film according to any one of (1) to (7) above, wherein a hard coat layer is provided on the back surface of the base film, and (9) the base film, and (A) The transparent conductive film according to any one of (1) to (8) above, wherein a hard coat layer is provided between the optical adjustment layer and
Is to provide.
本発明によれば、高価なレアメタルであるインジウムを用いたＩＴＯを使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適な透明導電フィルムを提供することができる。 According to the present invention, without using ITO using indium which is an expensive rare metal, it has the same electrical characteristics and transmittance as ITO, and is suitable for use as a transparent electrode for display, particularly as a touch panel electrode. A conductive film can be provided.
Ｆｉｇ．１は本発明の透明導電フィルムの一例の構成を示す断面模式図、Ｆｉｇ．２は本発明の透明導電フィルムの別の例の構成を示す断面模式図、Ｆｉｇ．３は本発明の透明導電フィルムの別の異なる例の構成を示す断面模式図、Ｆｉｇ．４は本発明の透明導電フィルムの別のさらに異なる例の構成を示す断面模式図である。図中、符号１は基材フィルム、２は光学調整層、３は導電性有機高分子層、４−ａ及び４−ｂはハードコート層、１０、２０、３０及び４０は透明導電フィルムを表す。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of the transparent conductive film of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of another example of the transparent conductive film of the present invention, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of another different example of the transparent conductive film of the present invention, FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of still another example of the transparent conductive film of the present invention. In the figure,
本発明の透明導電フィルムは、基材フィルム上に、下記の性状を有する（Ａ）光学調整層及び（Ｂ）導電性有機高分子層が順に積層されてなることを特徴とする。
［基材フィルム］
本発明の透明導電フィルムにおいて用いられる基材フィルムに特に制限はなく、従来光学用フィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宣選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等を挙げることができる。
これらの基材フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。
これらの基材フィルムの厚さは特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常１５〜３００μｍ程度、好ましくは３０〜２００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍの範囲である。また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
［（Ａ）光学調整層］
本発明の透明導電フィルムにおいて、前述の基材フィルム上に、（Ａ）層として光学調整層が設けられる。この光学調整層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種のバインダー樹脂と、平均粒径２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子とを含む層である。
当該光学調整層は、その屈折率を、該層の上に設けられる後述の（Ｂ）層である導電性有機高分子層の屈折率よりも高くすることによって、表面の反射率を小さくすることにより、全光線透過率を高くして、透明性を向上させる機能を有している。
（バインダー樹脂）
当該光学調整層においては、バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種の樹脂が用いられる。
＜熱可塑性樹脂＞
上記熱可塑性樹脂としては、透明性を有するものが好ましく、例えば芳香族ポリエステル系や脂肪族ポリエステル系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
＜熱硬化性樹脂＞
熱硬化性樹脂とは、熱を加えることにより、重合、架橋、硬化する熱硬化性化合物の硬化物を指す。熱硬化性樹脂としては、例えば熱硬化付加反応型シリコーン樹脂を用いることができる。この付加反応型シリコーン樹脂としては、例えば分子中に官能基としてアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンの中から選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。上記の分子中に官能基としてアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンの好ましいものとしては、ビニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン、ヘキセニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン及びこれらの混合物などが挙げられる。
架橋剤としては、例えば一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有するポリオルガノシロキサン、具体的には、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ポリ（メチルハイドロジェンシロキサン）、ポリ（ハイドロジェンシルセスキオキサン）などが挙げられる。架橋剤の使用量は、付加反応型シリコーン樹脂１００質量部に対し、通常０．１〜１００質量部、好ましくは０．３〜５０質量部の範囲で選定される。
触媒としては、通常白金系化合物が用いられる。この白金系化合物の例としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム触媒などが挙げられる。触媒の使用量は、付加反応型シリコーン樹脂及び架橋剤の合計量に対し、白金系金属として１〜１０００ｐｐｍ程度である。
この熱硬化付加反応型シリコーン樹脂は、７０〜１６０℃程度の温度に加熱することにより、硬化させることができる。
＜活性エネルギー線硬化性樹脂＞
活性エネルギー線硬化性樹脂とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などのエネルギー線を照射することにより、重合、架橋、硬化する活性エネルギー線硬化性化合物の硬化物を指す。
このような活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えばラジカル重合型の光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーを挙げることができる。ラジカル重合型の光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、光重合性モノマーとしては、例えば１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性プレポリマーと併用してもよい。
本発明においては、前記の光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーは、所望により、従来公知の各種光重合開始剤を併用することができる。
その配合量は、前記光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００質量部に対して、通常０．２〜１０質量部の範囲で選ばれる。
このような光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー及び所望により光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性化合物は、活性エネルギー線、例えば紫外線を照射することにより、硬化させることができる。なお、活性エネルギー線として、電子線を照射する場合には、光重合開始剤は必要としない。
本発明において、（Ａ）層の光学調整層を構成するバインダー樹脂としては、前記例示したものの中で熱可塑性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂が好適である。付加反応型シリコーン樹脂を用いる熱硬化性樹脂は、コストが高くつく上、その上に設けられる（Ｂ）層の導電性有機高分子層との密着性に難点がある。また、当該光学調整層は薄膜で塗工するため、活性エネルギー線（紫外線）硬化性樹脂は、硬化の際、酸素阻害の影響を受けるおそれがあるので、特に熱可塑性樹脂が好ましい。
（金属酸化物粒子）
当該光学調整層には、屈折率調整のために金属酸化物粒子が用いられる。この金属酸化物粒子としては、例えば酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）などの高屈折率金属酸化物粒子を挙げることができる。当該金属酸化物は、屈折率調整のために用いられているため、導電性を得るために、フィルム上に導電薄膜として用いられる従来のものに比べて、金属酸化物の使用量は極力少ない。
この金属酸化物粒子は、平均粒径が２００ｎｍ以下であることを要する。該平均粒径が２００ｎｍを超えるとヘーズ値の増大を招き透明性が低下する。好ましい平均粒径は１５０ｎｍ以下である。また、その下限値は製造性の面から２ｎｍ程度である。
なお、上記金属酸化物粒子の平均粒径は、動的散乱法で測定した値である。
また、前記金属酸化物粒子の配合量は、前述したバインダー樹脂１００質量部に対して、１〜７００質量部程度が好ましい。この配合量が１質量部未満では屈折率の向上が困難であり、７００質量部を超えると金属酸化物量が多く塗膜が弱くなり、金属酸化物の脱落が発生するおそれがある。より好ましい配合量は１０〜６００質量部、さらに好ましくは１００〜４００質量部である。
当該光学調整層の屈折率が、その上に設けられる（Ｂ）層の導電性有機高分子層の屈折率よりも高くない場合には十分な反射防止効果が得られず、全光線透過率の向上が期待できない。前記金属酸化物粒子は、屈折率、透明性及び価格などを考慮して適宜選択すればよく、酸化チタン粒子、酸化錫粒子、アンチモンドープ酸化錫粒子が好適であり、特に酸化チタン粒子及び／又はアンチモンドープ酸化錫粒子が好適である。
（光学調整層の形成）
本発明の透明導電フィルムにおいては、前述した基材フィルム上に、（Ａ）層として光学調整層を設けるが、そのためには、まず、光学調整層形成用塗工液を調製する。
適当な媒体中に、バインダー樹脂となる熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂の中から選ばれる少なくとも１種と、金属酸化物粒子とを所定の割合で溶解又は分散させてなる、固形分濃度０．１〜１０質量％程度の光学調整層形成用塗工液を調製する。
次いで、基材フィルム上に、上記光学調整層形成用塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、所定の乾燥厚さになるように塗布し、７０〜１１０℃程度で、３０秒〜２分間程度乾燥する。さらに必要に応じて熱硬化や、活性エネルギー線の照射による硬化処理を行う。バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂のみを用いる場合には、乾燥処理だけでよく、熱硬化や活性エネルギー線の照射による硬化処理を施さなくてもよく、操作が簡便で好ましい。
このようにして、厚さが５０〜５００ｎｍ程度、好ましくは１００〜２００ｎｍの光学調整層を形成することができる。この光学調整層の屈折率は、通常１．６０〜２．００程度、好ましくは１．６５〜１．９０である。
［（Ｂ）導電性有機高分子層］
本発明の透明導電フィルムにおいては、前述のようにして形成された（Ａ）層の光学調整層上に、（Ｂ）層として導電性有機高分子層が設けられる。
（導電性有機高分子化合物）
（Ｂ）層の導電性有機高分子層を構成する導電性有機高分子化合物としては、導電性を有し、適当な溶媒に溶解又は分散し得る高分子化合物であればよく、特に制限されず、例えばトランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリジアセチレンなどのポリアセチレン系；ポリ（ｐ−フェニレン）やポリ（ｍ−フェニレン）などのポリ（フェニレン）系；ポリチオフェン、ポリ（３−アルキルチオフェン）、ポリ（３−チオフェン−β−エタンスルホン酸）、ポリアルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホネートとの複合体などのポリチオフェン系；ポリアニリン、ポリメチルアニリン、ポリメトキシアニリンなどのポリアニリン系；ポリピロール、ポリ３−メチルピロール、ポリ３−オクチルピロールなどのポリピロール系；ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）などのポリ（フェニレンビニレン）系；ポリ（ビニレンスルフィド）系；ポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）系；ポリ（チエニレンビニレン）系化合物などが用いられる。これらの中で、性能及び入手の容易さなどの観点から、ポリチオフェン系、ポリアニリン系及びポリピロール系化合物が好ましく、着色性、導電性の観点から、ポリチオフェン系化合物がより好ましい。前記ポリアルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホネートとの複合体は例えば、ポリスチレンスルホン酸またはその塩と３価の鉄イオンの存在下、ペルオキソ二硫酸ナトリウムを酸化剤として、水性媒体中で酸化重合させることにより水性分散体として得られ、下記式（１）の構造を有する（例えば、［非特許文献１］及び［非特許文献２］参照）。
上記ポリアルキレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホネートとの複合体またはその配合品の市販品としては、例えば、「ＳＥＰＬＥＧＹＤＡ」［商品名、信越ポリマー（株）製］や、「ＣＬＥＶＩＯＳ Ｐ」［商品名、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製］などが挙げられる。
これらの導電性有機高分子化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Base film]
There is no restriction | limiting in particular in the base film used in the transparent conductive film of this invention, It can select and use suitably from well-known plastic films as a base material of the film for conventional optics. Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, acetyl cellulose butyrate films, and polychlorinated. Vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone film, polyetherimide film , Polyimide film, fluororesin film, Li amide film, acrylic resin film, norbornene resin film, a cycloolefin resin film.
These base films may be either transparent or translucent, may be colored, or may be uncolored, and may be appropriately selected depending on the application.
The thickness of these base films is not particularly limited and is appropriately selected depending on the situation, but is usually about 15 to 300 μm, preferably 30 to 200 μm, more preferably 50 to 200 μm. Moreover, this base film can be surface-treated by an oxidation method, a concavo-convex method, or the like on one side or both sides as desired for the purpose of improving adhesion to a layer provided on the surface. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and examples of the unevenness method include a sand blast method, a solvent, and the like. Treatment methods and the like. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the base film, but generally, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.
[(A) Optical adjustment layer]
In the transparent conductive film of the present invention, an optical adjustment layer is provided as the (A) layer on the above-mentioned base film. This optical adjustment layer is a layer containing at least one binder resin selected from thermoplastic resins, thermosetting resins and active energy ray curable resins, and metal oxide particles having an average particle size of 200 nm or less. .
The optical adjustment layer reduces the surface reflectance by making the refractive index higher than the refractive index of a conductive organic polymer layer (B) described later provided on the layer. Therefore, it has the function of increasing the total light transmittance and improving the transparency.
(Binder resin)
In the optical adjustment layer, at least one resin selected from thermoplastic resins, thermosetting resins and active energy ray curable resins is used as the binder resin.
<Thermoplastic resin>
As the thermoplastic resin, those having transparency are preferable, for example, aromatic polyester-based or aliphatic polyester-based resin, polyester urethane-based resin, polyolefin-based resin such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polycycloolefin, and diacetyl. Cellulose resins such as cellulose, triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl alcohol resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, acrylic resins, polyamide resins, etc. Can be mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
<Thermosetting resin>
The thermosetting resin refers to a cured product of a thermosetting compound that is polymerized, crosslinked, and cured by applying heat. As the thermosetting resin, for example, a thermosetting addition reaction type silicone resin can be used. Examples of the addition reaction type silicone resin include at least one selected from polyorganosiloxanes having an alkenyl group as a functional group in the molecule. Preferred examples of the polyorganosiloxane having an alkenyl group as a functional group in the molecule include polydimethylsiloxane having a vinyl group as a functional group, polydimethylsiloxane having a hexenyl group as a functional group, and a mixture thereof. .
Examples of the crosslinking agent include polyorganosiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule, specifically, a dimethylhydrogensiloxy group end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy. Examples thereof include a group-end-capped dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-end-capped poly (methylhydrogensiloxane), and poly (hydrogensilsesquioxane). The usage-amount of a crosslinking agent is selected in the range of 0.1-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of addition reaction type silicone resins, Preferably it is 0.3-50 mass parts.
As the catalyst, a platinum compound is usually used. Examples of the platinum compound include fine platinum, fine platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, palladium, rhodium catalyst, and the like. . The usage-amount of a catalyst is about 1-1000 ppm as a platinum-type metal with respect to the total amount of an addition reaction type silicone resin and a crosslinking agent.
This thermosetting addition reaction type silicone resin can be cured by heating to a temperature of about 70 to 160 ° C.
<Active energy ray curable resin>
An active energy ray-curable resin has an energy quantum in an electromagnetic wave or a charged particle beam, that is, an active energy ray-curing property that polymerizes, crosslinks, and cures when irradiated with an energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It refers to the cured product of the compound.
Examples of such active energy ray-curable compounds include radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and / or photopolymerizable monomers. Examples of the radical polymerization type photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified diphosphate ( (Meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) Chryrate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta Examples include polyfunctional acrylates such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more thereof, or may be used in combination with the photopolymerizable prepolymer.
In the present invention, the photopolymerizable prepolymer and / or photopolymerizable monomer may be used in combination with various conventionally known photopolymerization initiators as desired.
The blending amount is usually selected in the range of 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable prepolymer and / or photopolymerizable monomer.
Such an active energy ray-curable compound containing a photopolymerizable prepolymer and / or a photopolymerizable monomer and optionally a photopolymerization initiator can be cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. In addition, when irradiating an electron beam as an active energy ray, a photoinitiator is not required.
In the present invention, as the binder resin constituting the optical adjustment layer of the (A) layer, a thermoplastic resin and an active energy ray curable resin are preferable among those exemplified above. A thermosetting resin using an addition reaction type silicone resin is expensive and has a problem in adhesion to the conductive organic polymer layer of the (B) layer provided thereon. In addition, since the optical adjustment layer is coated with a thin film, the active energy ray (ultraviolet ray) curable resin is particularly preferably a thermoplastic resin because it may be affected by oxygen inhibition during curing.
(Metal oxide particles)
In the optical adjustment layer, metal oxide particles are used for adjusting the refractive index. Examples of the metal oxide particles include high refractive index metal oxide particles such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, niobium oxide, hafnium oxide, tin oxide, and antimony-doped tin oxide (ATO). Since the said metal oxide is used for refractive index adjustment, in order to acquire electroconductivity, compared with the conventional thing used as a conductive thin film on a film, the usage-amount of a metal oxide is as much as possible.
The metal oxide particles are required to have an average particle size of 200 nm or less. When the average particle diameter exceeds 200 nm, the haze value is increased and the transparency is lowered. A preferable average particle diameter is 150 nm or less. Moreover, the lower limit is about 2 nm from the viewpoint of manufacturability.
The average particle size of the metal oxide particles is a value measured by a dynamic scattering method.
Moreover, the compounding amount of the metal oxide particles is preferably about 1 to 700 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin described above. When the amount is less than 1 part by mass, it is difficult to improve the refractive index. When the amount exceeds 700 parts by mass, the amount of metal oxide is large and the coating film becomes weak, and the metal oxide may fall off. A more preferable blending amount is 10 to 600 parts by mass, and more preferably 100 to 400 parts by mass.
When the refractive index of the optical adjustment layer is not higher than the refractive index of the conductive organic polymer layer (B) provided thereon, a sufficient antireflection effect cannot be obtained, and the total light transmittance I cannot expect improvement. The metal oxide particles may be appropriately selected in consideration of refractive index, transparency, price, etc., and titanium oxide particles, tin oxide particles, and antimony-doped tin oxide particles are suitable, and particularly titanium oxide particles and / or Antimony-doped tin oxide particles are preferred.
(Formation of optical adjustment layer)
In the transparent conductive film of the present invention, an optical adjustment layer is provided as the (A) layer on the above-described base film. For this purpose, first, an optical adjustment layer forming coating solution is prepared.
In a suitable medium, at least one selected from a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an active energy ray curable resin as a binder resin, and metal oxide particles are dissolved or dispersed at a predetermined ratio. An optical adjustment layer forming coating solution having a solid content concentration of about 0.1 to 10% by mass is prepared.
Next, on the base film, the above-mentioned coating liquid for forming an optical adjustment layer is formed using a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, or the like. Then, it is applied so as to have a predetermined dry thickness, and is dried at about 70 to 110 ° C. for about 30 seconds to 2 minutes. Furthermore, if necessary, curing is performed by heat curing or irradiation with active energy rays. When only a thermoplastic resin is used as the binder resin, only a drying process may be performed, and it is not necessary to perform a curing process by thermal curing or irradiation with an active energy ray, and the operation is simple and preferable.
In this manner, an optical adjustment layer having a thickness of about 50 to 500 nm, preferably 100 to 200 nm can be formed. The refractive index of this optical adjustment layer is usually about 1.60 to 2.00, preferably 1.65 to 1.90.
[(B) Conductive organic polymer layer]
In the transparent conductive film of the present invention, a conductive organic polymer layer is provided as the (B) layer on the optical adjustment layer of the (A) layer formed as described above.
(Conductive organic polymer compound)
The conductive organic polymer compound constituting the conductive organic polymer layer of the (B) layer is not particularly limited as long as it is conductive and can be dissolved or dispersed in an appropriate solvent. For example, polyacetylene series such as trans-type polyacetylene, cis-type polyacetylene, and polydiacetylene; poly (phenylene) series such as poly (p-phenylene) and poly (m-phenylene); polythiophene, poly (3-alkylthiophene), poly ( 3-thiophene-β-ethanesulfonic acid), polythiophene systems such as polyalkylene dioxythiophene and polystyrene sulfonate complexes; polyaniline systems such as polyaniline, polymethylaniline, polymethoxyaniline; polypyrrole, poly-3-methylpyrrole, Polypyrrole, such as poly-3-octylpyrrole ; Poly (p- phenylene vinylene) such as poly (phenylene vinylene) system; poly (vinyl sulfide) system; poly (p- phenylene sulfide) system; poly (thienylene vinylene) compounds and the like are used. Among these, polythiophene-based, polyaniline-based, and polypyrrole-based compounds are preferable from the viewpoint of performance and availability, and polythiophene-based compounds are more preferable from the viewpoint of colorability and conductivity. The complex of polyalkylenedioxythiophene and polystyrene sulfonate is obtained, for example, by oxidative polymerization in an aqueous medium using sodium peroxodisulfate as an oxidizing agent in the presence of polystyrene sulfonic acid or a salt thereof and trivalent iron ions. It is obtained as an aqueous dispersion and has the structure of the following formula (1) (see, for example, [Non-Patent Document 1] and [Non-Patent Document 2]).
As a commercial item of the composite of the said polyalkylene dioxythiophene and polystyrene sulfonate, or its compounding product, for example, “SEPLEGYDA” [trade name, manufactured by Shin-Etsu Polymer Co., Ltd.] and “CLEVIOS P” [trade name, H . C. Starck] and the like.
These conductive organic polymer compounds may be used alone or in combination of two or more.
前記導電性有機高分子化合物自体が、良好な製膜性を有するものであれば、バインダー樹脂を用いなくてもよいが、製膜性に劣る場合には、バインダー樹脂と併用することができる。
このバインダー樹脂としては熱可塑性樹脂が好ましく、例えは芳香族ポリエステル系や脂肪族ポリエステル系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（導電性有機高分子層の形成）
導電性有機高分子層の形成には、まず導電性有機高分子層形成用塗工液を調製する。
適当な溶媒中に、前述した導電性有機高分子化合物、好ましくはポリチオフェン系、ポリアニリン系及びポリピロール系化合物の中から選ばれる少なくとも１種と、必要に応じて用いられるバインダー樹脂、好ましくは前述した熱可塑性樹脂及び、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含む塗工液を調製し、前記光学調整層上に、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、所定の乾燥厚さになるように塗布し、７０〜１３０℃程度で、３０秒〜２分間程度乾燥することにより、導電性有機高分子層を形成することができる。
このようにして形成された（Ｂ）層の導電性有機高分子層の屈折率は、前述した理由から、前記（Ａ）層の光学調整層の屈折率よりも低くすることが肝要であり、その厚さは、通常５０〜５００ｎｍ程度、好ましくは、１８０〜２５０ｎｍである。また、その表面における波長５５０ｎｍの反射率は５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。
この反射率が５％を超えると、反射光が増大し、透明導電フィルムの全光線透過率が低下し、透明性が悪くなる。
さらに、本発明の透明導電フィルムにおいては、表面抵抗率が３００〜８００Ω／□であり、かつ全光線透過率が８６％以上であることが好ましい。導電性有機高分子層の厚さと表面抵抗率には相関関係があり、層の厚さが大きくなるほど表面抵抗率が低くなる傾向がある。表面抵抗率が３００Ω／□未満の場合は、全光線透過率が低く視認性が悪化する可能性があるためディスプレイとして不向きである。表面抵抗率が８００Ω／□を超える場合には、電極として不十分でありタッチパネルを駆動させることが困難である。また、全光線透過率が８６％未満の場合は、視認性が悪化するためディスプレイとして不向きである。より好ましい表面抵抗率は４００〜７００Ω／□であり、さらに好ましくは５００〜６００Ω／□である。より好ましい全光線透過率は８７％以上であり、さらに好ましくは８８％以上である。
なお、上記の反射率、全光線透過率及び表面抵抗率の測定方法については後で詳述する。
［ハードコート層］
本発明の透明導電フィルムには、耐擦傷性を付与するために、必要に応じ、基材フィルムの裏面に、あるいは基材フィルムと、（Ａ）光学調整層との間にハードコート層を設けることができる。なお、基材フィルムの裏面に設けられるハードコート層には、防眩機能を付与してもよい。
このハードコート層を形成するには、まず、ハードコート層形成用塗工液を調製する。
（ハードコード層形成用塗工液）
本発明において、基材フィルムの裏面に設けられる防眩機能を有するハードコート層形成用塗工液としては、例えば活性エネルギー線硬化性化合物と、無機微粒子や有機微粒子を含むものを用いることができる。
上記活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えばラジカル重合型の光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーを挙げることができる。これらについては、前述の（Ａ）光学調整層における活性エネルギー線硬化性化合物の説明において、例示したものと同じものを用いることができる。
上記無機微粒子としては、透明性の観点からシリカ系微粒子が好ましい。また、有機微粒子としては、例えばシリコーン系微粒子、メラミン系樹脂微粒子、アクリル系樹脂微粒子、アクリル−スチレン系共重合体微粒子、ポリカーボネート系微粒子、ポリエチレン系微粒子、ポリスチレン系微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子などが挙げられる。
また、無機微粒子や有機微粒子の形状は特に制限されないが、球状、針状、不定形などのものが用いられる。防眩性能の観点からは、不定形のものが好ましい。
さらに、その平均粒径は、防眩性能の観点から、６〜１０μｍであることが好ましく、粒度分布は平均粒径±２μｍ以内の範囲の重量分率が７０％以上であるものが好ましい。なお、上記微粒子の平均粒径及び粒度分布は、コールターカウンター法で測定した値をいう。
本発明において、この無機微粒子や有機微粒子は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組合わせて用いてもよく、また、その配合量は、防眩性能の観点から、前記の活性エネルギー線硬化性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部である。
本発明で用いるハードコート層形成用塗工液は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前述した活性エネルギー線硬化性化合物、無機微粒子や有機微粒子、及び所望により用いられる光重合開始剤や各種添加成分、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、シラン系カップリング剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。
このようにして調製されたハードコート層形成用塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能なものであればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
このようにして調製されたハードコート層形成用塗工液を、基材フィルムの裏面に、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、防眩機能をもつハードコート層が形成される。
活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線などが挙げられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどで得られ、照射量は、通常１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２であり、一方電子線は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常１５０〜３５０ｋＶである。この活性エネルギー線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、光重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
このようにして形成されたハードコート層の厚さは、本発明においては、使用した有機微粒子の平均粒径よりも大きいことが好ましく、したがって、下限は２μｍ程度であり、上限はハードコート層の硬化収縮によってハードコートフィルムがカールすることを防止する観点から２０μｍ程度である。好ましい厚さは５〜１５μｍの範囲であり、特に好ましい厚さは、８〜１２μｍである。
本発明の透明導電フィルムに対して、さらに防眩性が要求される場合には、ＪＩＳ Ｋ ５６００に準拠して測定される６０°鏡面光沢度は、１００以下が好ましく、８０以下がより好ましい。１００を超えると防眩効果が十分に発揮されない。
一方、基材フィルムと（Ａ）光学調整層との間にハードコート層を設ける場合には、例えば前述した防眩性機能をもつハードコート層形成用塗工液から、シリカ微粒子や有機微粒子を除いた塗工液を調製し、この塗工液を基材フィルム上に、前記と同様にしてコーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層を形成する。次いでこのハードコート層上に、前述と同様にして、（Ａ）層の光学調整層を形成すればよい。
本発明の透明導電フィルムにおいては、基材フィルムの裏面に設けられたハードコート層上に、必要に応じて、防汚コート層を設けることができる。この防汚コート層は、一般にフッ素系樹脂を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、該ハードコート層上にコーティングし、塗膜を形成させ、乾燥処理することにより、形成することができる。
この防汚コート層の厚さは、通常１〜１０ｎｍ、好ましくは３〜８ｎｍの範囲である。
次に、本発明の透明導電フィルムにおける構成の異なる例について、Ｆｉｇ．１〜Ｆｉｇ．４により説明する。
Ｆｉｇ．１〜Ｆｉｇ．４は、それぞれ本発明の透明導電フィルムの構成の異なる例を示す断面模式図であって、Ｆｉｇ．１は、基材フィルム１上に、（Ａ）光学調整層２及び（Ｂ）導電性有機高分子層３が順に積層された構成の透明導電フィルム１０を示し、Ｆｉｇ．２は、上記Ｆｉｇ．１において、基材フィルム１の裏面に、さらにハードコート層４−ａが積層された構成の透明導電フィルム２０を示す。
Ｆｉｇ．３は、上記Ｆｉｇ．１において、基材フィルム１と（Ａ）光学調整層２との間に、さらにハードコート層４−ｂが設けられた構成の透明導電フィルム３０を示し、Ｆｉｇ．４は、上記Ｆｉｇ．１において、基材フィルム１の裏面及び基材フィルム１と（Ａ）光学調整層２との間に、それぞれ、さらにハードコート層４−ａ及び４−ｂが設けられた構成の透明導電フィルム４０を示す。
このような本発明の透明導電フィルムは、高価なレアメタルであるインジウムを用いた錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適に用いられる。If the conductive organic polymer compound itself has good film-forming properties, it is not necessary to use a binder resin, but if it is inferior in film-forming properties, it can be used in combination with a binder resin.
The binder resin is preferably a thermoplastic resin, for example, an aromatic polyester-based or aliphatic polyester-based resin, a polyester urethane-based resin, a polyolefin-based resin such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, or polycycloolefin, diacetylcellulose, Examples thereof include cellulose resins such as acetylcellulose and acetylcellulose butyrate, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl alcohol resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, acrylic resins, polyamide resins, and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
(Formation of conductive organic polymer layer)
In forming the conductive organic polymer layer, first, a conductive organic polymer layer-forming coating solution is prepared.
In a suitable solvent, at least one selected from the above-mentioned conductive organic polymer compounds, preferably polythiophene-based, polyaniline-based and polypyrrole-based compounds, and a binder resin used as necessary, preferably the above-mentioned heat A coating liquid containing various additives such as a plastic resin and an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer is prepared, and a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, Using a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, etc., it is applied to a predetermined dry thickness, and dried at about 70 to 130 ° C. for about 30 seconds to 2 minutes. A functional organic polymer layer can be formed.
The refractive index of the conductive organic polymer layer of the (B) layer formed in this way is important to be lower than the refractive index of the optical adjustment layer of the (A) layer for the reasons described above. The thickness is usually about 50 to 500 nm, preferably 180 to 250 nm. The reflectance at a wavelength of 550 nm on the surface is preferably 5% or less, and more preferably 3% or less.
When this reflectance exceeds 5%, reflected light increases, the total light transmittance of a transparent conductive film falls, and transparency worsens.
Furthermore, in the transparent conductive film of this invention, it is preferable that surface resistivity is 300-800 ohms / square and total light transmittance is 86% or more. There is a correlation between the thickness of the conductive organic polymer layer and the surface resistivity, and the surface resistivity tends to decrease as the layer thickness increases. When the surface resistivity is less than 300Ω / □, the total light transmittance is low and the visibility may be deteriorated, so that it is not suitable as a display. If the surface resistivity exceeds 800Ω / □, it is insufficient as an electrode and it is difficult to drive the touch panel. Further, when the total light transmittance is less than 86%, the visibility deteriorates, so that it is unsuitable as a display. A more preferable surface resistivity is 400 to 700 Ω / □, and a more preferable range is 500 to 600 Ω / □. A more preferable total light transmittance is 87% or more, and still more preferably 88% or more.
In addition, the measuring method of said reflectance, total light transmittance, and surface resistivity is explained in full detail later.
[Hard coat layer]
In order to impart scratch resistance to the transparent conductive film of the present invention, a hard coat layer is provided on the back surface of the base film or between the base film and (A) the optical adjustment layer as necessary. be able to. In addition, you may provide a glare-proof function to the hard-coat layer provided in the back surface of a base film.
In order to form this hard coat layer, first, a coating liquid for forming a hard coat layer is prepared.
(Coating fluid for forming hard cord layer)
In the present invention, as the hard coat layer-forming coating liquid having an antiglare function provided on the back surface of the base film, for example, an active energy ray-curable compound and a liquid containing inorganic fine particles or organic fine particles can be used. .
Examples of the active energy ray-curable compound include a radical polymerization type photopolymerizable prepolymer and / or a photopolymerizable monomer. About these, the same thing as what was illustrated in description of the active energy ray hardening compound in the above-mentioned (A) optical adjustment layer can be used.
The inorganic fine particles are preferably silica-based fine particles from the viewpoint of transparency. Examples of the organic fine particles include silicone fine particles, melamine resin fine particles, acrylic resin fine particles, acrylic-styrene copolymer fine particles, polycarbonate fine particles, polyethylene fine particles, polystyrene fine particles, and benzoguanamine resin fine particles. It is done.
In addition, the shape of the inorganic fine particles or organic fine particles is not particularly limited, but spherical, acicular, irregular shapes, and the like are used. From the viewpoint of antiglare performance, an amorphous one is preferable.
Furthermore, the average particle diameter is preferably 6 to 10 μm from the viewpoint of antiglare performance, and the particle size distribution is preferably such that the weight fraction within the range of the average particle diameter ± 2 μm is 70% or more. The average particle size and particle size distribution of the fine particles are values measured by a Coulter counter method.
In the present invention, these inorganic fine particles and organic fine particles may be used singly or in combination of two or more, and the blending amount is the above-mentioned from the viewpoint of antiglare performance. Preferably it is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of active energy ray-curable compounds, More preferably, it is 1-20 mass parts.
The coating liquid for forming a hard coat layer used in the present invention may be prepared by adding the above-described active energy ray-curable compound, inorganic fine particles and organic fine particles, and a photopolymerization initiator used as required, in various solvents as necessary. An additive component such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoaming agent, and the like can be added and dissolved or dispersed at a predetermined ratio. .
Examples of the solvent used here include aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol. And ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and ether solvents such as ethyl cellosolve and propylene glycol monomethyl ether.
The concentration and viscosity of the hard coat layer forming coating solution thus prepared are not particularly limited as long as they can be coated, and can be appropriately selected according to the situation.
The hard coat layer forming coating solution thus prepared is applied to the back surface of the base film by a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure. A hard coat layer having an antiglare function is formed by coating using a coating method or the like to form a coating film, drying, and irradiating the coating with an active energy ray to cure the coating film.
Examples of the active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. The ultraviolet rays are obtained with a high-pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp or the like, and the irradiation amount is usually 100 to 500 mJ / cm 2 , while the electron beam is obtained with an electron beam accelerator or the like. The amount is usually 150 to 350 kV. Among these active energy rays, ultraviolet rays are particularly preferable. In addition, when using an electron beam, a cured film can be obtained, without adding a photoinitiator.
In the present invention, the thickness of the hard coat layer thus formed is preferably larger than the average particle diameter of the organic fine particles used. Therefore, the lower limit is about 2 μm, and the upper limit is that of the hard coat layer. From the viewpoint of preventing the hard coat film from curling due to curing shrinkage, it is about 20 μm. A preferable thickness is in the range of 5 to 15 μm, and a particularly preferable thickness is 8 to 12 μm.
When the antiglare property is further required for the transparent conductive film of the present invention, the 60 ° specular gloss measured in accordance with JIS K 5600 is preferably 100 or less, and more preferably 80 or less. If it exceeds 100, the antiglare effect is not sufficiently exhibited.
On the other hand, when a hard coat layer is provided between the base film and the optical adjustment layer (A), for example, silica fine particles and organic fine particles are extracted from the hard coat layer forming coating liquid having the antiglare function described above. A coating solution was prepared, and the coating solution was coated on the base film in the same manner as described above to form a coating film. After drying, the coating film was irradiated with active energy rays, Is hardened to form a hard coat layer. Next, an optical adjustment layer (A) may be formed on the hard coat layer in the same manner as described above.
In the transparent conductive film of the present invention, an antifouling coat layer can be provided on the hard coat layer provided on the back surface of the base film, if necessary. This antifouling coating layer is generally obtained by applying a coating solution containing a fluororesin using a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or a gravure coating method. It can be formed by coating on the hard coat layer, forming a coating film, and drying treatment.
The thickness of the antifouling coating layer is usually in the range of 1 to 10 nm, preferably 3 to 8 nm.
Next, for examples of different configurations in the transparent conductive film of the present invention, FIG. 1 to FIG. 4 will be described.
FIG. 1 to FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing different examples of the structure of the transparent conductive film of the present invention. 1 shows a transparent
FIG. 3 corresponds to FIG. 1 shows a transparent
Such a transparent conductive film of the present invention has electrical characteristics and transmittance equivalent to those of ITO without using tin-doped indium oxide (ITO) using indium which is an expensive rare metal, and is transparent for display. It is preferably used as an electrode, particularly as an electrode for a touch panel.
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例における諸特性は、以下に示す方法に従って測定した。
（１）透明導電フィルムの表面抵抗率
ＪＩＳ Ｋ ７１９４に準拠して試験片を作成し、三菱化学（株）製、表面抵抗率計「ロレスターＥＰ（四探針プローブ）」を用い、導電性有機高分子層面が測定面になるように試験片を置いて表面抵抗率を測定した。
（２）透明導電フィルムの全光線透過率
日本電色工業（株）製、ヘーズメーター「ＮＤＨ２０００」を用い、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準拠して測定した。
（３）透明導電フィルムの反射率
（株）島津製作所製、紫外可視分光光度計「ＵＶ−３１０１ＰＣ」を用い、導電性有機高分子層面が入射光側になるように試験片を黒アクリル板に固定した後、５５０ｎｍの波長における反射率を測定した。
（４）（Ａ）層及び（Ｂ）層の屈折率
フィルメトリクス（株）製、薄膜測定装置「Ｆ２０」を用い測定した。
（５）透明導電フィルムの６０°鏡面光沢度
日本電色工業（株）製、グロスメーター「ＶＧ２０００」を使用し、導電性有機高分子層の反対面が入射光側になるように試験片を置き、ＪＩＳ Ｋ ５６００に準拠して測定した。
（６）金属酸化物粒子の平均粒径
動的散乱法により測定した。
実施例１
（１）（Ａ）光学調整層の形成
ポリエステル樹脂［東洋紡績（株）製、「バイロナールＭＤ１２４５」、固形分濃度３０質量％、水希釈］１００質量部と、酸化チタン水分散体［テイカ（株）製、「ＮＤ１４６」、平均粒径１０ｎｍ、固形分濃度２５質量％］２４０質量部と、精製水５６６質量部を均一に混合して、固形分濃度１．５質量％の光学調整層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面にマイヤーバーで塗工した後、１００℃で１分間乾燥して厚さ２００ｎｍの光学調整層を形成した。
（２）（Ｂ）導電性有機高分子層の形成
ポリチオフェンコート［信越ポリマー（株）製、「ＳＥＰＬＥＧＹＤＡ」、固形分濃度２．４質量％］１００質量部を、上記（１）で形成した光学調整層表面に、マイヤーバーを用いて塗工したのち、１３０℃で１分間乾燥して厚さ２００ｎｍの導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
実施例２
（１）（Ａ）光学調整層の形成
ポリエステル樹脂［東洋紡績（株）製、「バイロン２０ＳＳ」、固形分３０質量％、トルエン／メチルエチルケトン希釈］１００質量部と、アンチモンドープ酸化錫トルエン分散体［石原産業（株）製、「ＳＮＳ−１０Ｔ」、平均粒径９０ｎｍ、固形分３０質量％］２００質量部と、トルエン２７０質量部を均一に混合して、固形分濃度３質量％の光学調整層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面にマイヤーバーで塗工した後、１００℃で１分間乾燥して厚さ２００ｎｍの光学調整層を形成した。
（２）（Ｂ）導電性有機高分子層の形成
実施例１（２）と同様にして、上記（１）で形成した光学調整層表面に導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
実施例３
（１）（Ａ）光学調整層の形成
紫外線硬化型コート剤［大日精化工業（株）製、「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分１００％］１００質量部と、アンチモンドープ酸化錫トルエン分散体「ＳＮＳ−１０Ｔ」（前出）４００質量部と、トルエン４５０質量部とを均一に混合して、固形分濃度３質量％の光学調整層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面にマイヤーバーで塗工した後、８０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプで５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚さ２００ｎｍの光学調整層を形成した。
（２）（Ｂ）導電性有機高分子層の形成
実施例１（２）と同様にして、上記（１）で形成した光学調整層表面に導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
実施例４
実施例１で得られた透明導電フィルムにおける基材のＰＥＴフィルムの裏面に、紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業（株）製、「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分１００％］１００質量部と、トルエン１００質量部とを均一に混合して得られた固形分濃度５０質量％のハードコート剤をマイヤーバーで塗工した後、８０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプで２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚さ５μｍのハードコート層を有する透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
実施例５
（１）防眩性ハードコート層の形成
紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業（株）製、「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分１００％］１００質量部と、不定形シリコーンビーズ［モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、「トスパール２４０」］５質量部と、エチルセロソルブ７５質量部と、イソブタノール７５質量部とを均一に混合し、固形分濃度４０質量％の防眩性ハードコート剤を調製した。このハードコート剤を、実施例１で得られた透明導電フィルムにおける基材のＰＥＴフィルムの裏面に、マイヤーバーで塗工した後、８０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプで２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚さ４μｍの防眩性ハードコート層を有する透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
実施例６
（１）クリアハードコート層の形成
紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業（株）製、「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分１００％］１００質量部と、トルエン１００質量部とを均一に混合し、固形分濃度５０質量％のハードコート剤を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面にマイヤーバーで塗工した後、８０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプで２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
（２）（Ａ）光学調整層の形成
実施例１と同様にして、上記（１）で形成したハードコート層表面に、光学調整層を形成した。
（３）（Ｂ）導電性有機高分子層の形成
上記（２）で得た光学調整層表面に、実施例１（２）と同様にして導電性有機高分子層を形成した。
（４）クリアハードコート層の形成
基材のＰＥＴフィルムの裏面に、上記（１）と同様にしてハードコート層を形成することにより、基材フィルムの両面にハードコート層が設けられた透明導電フィルムを得た。諸特性の評価結果を第１表に示す。
比較例１
「ポリチオフェンコート」（前出）１００質量部を、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面にマイヤーバーで塗工した後、１３０℃で１分間乾燥して、厚さ２００ｎｍの導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
比較例２
（１）ポリエステル樹脂層の形成
ポリエステル樹脂［東洋紡績（株）製、「バイロン２０ＳＳ」、固形分３０質量％、トルエン／メチルエチルケトン希釈］１００質量部と、トルエン７２０質量部と、メチルエチルケトン１８０質量部とを均一に混合し、固形分濃度３質量％のポリエステル樹脂層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面に、上記塗工液をマイヤーバーで塗工した後、１００℃で１分間乾燥して厚さ２００ｎｍのポリエステル樹脂層を形成した。
（２）導電性有機高分子層の形成
「ポリチオフェンコート」（前出）１００質量部を、上記（１）で形成したポリエステル樹脂層表面に、マイヤーバーを用いて積層した後、１３０℃で１分間乾燥して、厚さ２００ｎｍの導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを得た。諸特性の測定結果を第１表に示す。
参考例１
（１）光学調整層の形成
ポリエステル樹脂［東洋紡績（株）製、「バイロン２０ＳＳ」、固形分３０質量％。トルエン／メチルエチルケトン希釈］１００質量部と、アンチモンドープ酸化錫トルエン分散体［石原産業（株）製、「ＳＮＳ−１０Ｔ」、平均粒径９０ｎｍ、固形分３０質量％］９００質量部と、トルエン９０００質量部を均一に混合して、固形分濃度３質量％の光学調整層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績（株）製、「Ａ４３００」］の表面に、上記塗工液をマイヤーバーで塗工した後、１００℃で１分間乾燥して厚さ２００ｎｍの光学調整層を形成した。
（２）（Ｂ）導電性有機高分子層の形成
実施例１（２）と同様にして、上記（１）で形成した光学調整層表面に導電性有機高分子層を形成することにより、透明導電フィルムを作製しようとしたが、この導電性有機高分子層積層時に、光学調整層中の金属酸化物の脱落が多く、良好な面状態の導電性有機高分子層が形成するのが難しかった。なお（１）で形成した光学調整層の屈折率は１．７８であった。
Various characteristics in each example were measured according to the following methods.
(1) Surface resistivity of transparent conductive film A test piece was prepared in accordance with JIS K 7194, and the surface resistivity meter “Lorester EP (four-probe probe)” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used. The test piece was placed so that the polymer layer surface became the measurement surface, and the surface resistivity was measured.
(2) Total light transmittance of transparent conductive film It measured based on JISK7361-1 using the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. make and haze meter "NDH2000".
(3) Reflectivity of transparent conductive film Using a UV-visible spectrophotometer “UV-3101PC” manufactured by Shimadzu Corporation, the test piece was placed on a black acrylic plate so that the conductive organic polymer layer surface was on the incident light side. After fixing, the reflectance at a wavelength of 550 nm was measured.
(4) Refractive index of (A) layer and (B) layer It measured using the film metrics Co., Ltd. product and thin film measuring apparatus "F20."
(5) 60 ° specular gloss of transparent conductive film Use a gloss meter “VG2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., and place the test piece so that the opposite surface of the conductive organic polymer layer is on the incident light side. It was measured according to JIS K 5600.
(6) Average particle diameter of metal oxide particles It was measured by a dynamic scattering method.
Example 1
(1) (A) Formation of optical adjustment layer 100 parts by mass of polyester resin [Toyobo Co., Ltd., “Vironal MD1245”,
Next, the film was coated on the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Meyer bar, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to form an optical adjustment layer having a thickness of 200 nm. did.
(2) (B) Formation of conductive organic polymer layer 100 parts by mass of polythiophene coat [manufactured by Shin-Etsu Polymer Co., Ltd., “SEPLEGYDA”, solid concentration 2.4 mass%] formed in (1) above A transparent conductive film was obtained by coating the surface of the adjustment layer using a Meyer bar and then drying at 130 ° C. for 1 minute to form a conductive organic polymer layer having a thickness of 200 nm. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Example 2
(1) (A) Formation of optical adjustment layer 100 parts by mass of polyester resin [Toyobo Co., Ltd., “Byron 20SS”,
Next, the film was coated on the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Meyer bar, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to form an optical adjustment layer having a thickness of 200 nm. did.
(2) (B) Formation of conductive organic polymer layer In the same manner as in Example 1 (2), the conductive organic polymer layer is formed on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above, thereby forming a transparent A conductive film was obtained. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Example 3
(1) (A) Formation of optical adjustment layer 100 parts by mass of an ultraviolet curable coating agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., “Seika Beam EXF-01L (NS)”, solid content 100%], and antimony-doped tin oxide Toluene dispersion “SNS-10T” (supra) 400 parts by mass and 450 parts by mass of toluene were uniformly mixed to prepare a coating solution for forming an optical adjustment layer having a solid content concentration of 3% by mass.
Next, the film was coated on the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Meyer bar, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then 500 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. An optical adjustment layer having a thickness of 200 nm was formed by irradiation with ultraviolet rays.
(2) (B) Formation of conductive organic polymer layer In the same manner as in Example 1 (2), the conductive organic polymer layer is formed on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above, thereby forming a transparent A conductive film was obtained. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Example 4
On the back surface of the base PET film of the transparent conductive film obtained in Example 1, an ultraviolet curable hard coat agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., “Seika Beam EXF-01L (NS)”, solid content: 100% After applying a hard coat agent with a solid content concentration of 50% by mass obtained by uniformly mixing 100 parts by mass and 100 parts by mass of toluene with a Meyer bar, drying at 80 ° C. for 1 minute, a high pressure mercury lamp Was irradiated with ultraviolet rays of 250 mJ / cm 2 to obtain a transparent conductive film having a hard coat layer having a thickness of 5 μm. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Example 5
(1) Formation of an antiglare hard coat layer 100 parts by mass of an ultraviolet curable hard coat agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., “SEICA BEAM EXF-01L (NS)”, solid content 100%], and amorphous silicone 5 parts by mass of beads [Mothive Performance Materials Japan GK, “Tospearl 240”], 75 parts by mass of ethyl cellosolve, and 75 parts by mass of isobutanol were mixed uniformly, and the solid content concentration was 40% by mass. An antiglare hard coat agent was prepared. The hard coat agent was applied to the back surface of the base PET film of the transparent conductive film obtained in Example 1 with a Meyer bar, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then 250 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. The transparent conductive film which has a 4 micrometer-thick anti-glare hard-coat layer was irradiated. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Example 6
(1) Formation of a clear hard coat layer 100 parts by mass of an ultraviolet curable hard coat agent [manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., “Seika Beam EXF-01L (NS)”, solid content 100%], and 100 parts by mass of toluene Were mixed uniformly to prepare a hard coating agent having a solid concentration of 50% by mass.
Next, after coating with a Meyer bar on the surface of a 188 μm thick polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”], drying at 80 ° C. for 1 minute, and 250 mJ / cm 2 with a high pressure mercury lamp. A 5 μm thick hard coat layer was formed by irradiation with ultraviolet rays.
(2) (A) Formation of optical adjustment layer In the same manner as in Example 1, an optical adjustment layer was formed on the surface of the hard coat layer formed in (1) above.
(3) (B) Formation of conductive organic polymer layer A conductive organic polymer layer was formed on the surface of the optical adjustment layer obtained in (2) in the same manner as in Example 1 (2).
(4) Formation of clear hard coat layer A transparent conductive film having a hard coat layer provided on both sides of the base film by forming a hard coat layer on the back surface of the base PET film in the same manner as in (1) above. A film was obtained. The evaluation results of various properties are shown in Table 1.
Comparative Example 1
100 parts by weight of “polythiophene coat” (supra) was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Mayer bar, and then dried at 130 ° C. for 1 minute. Thus, a transparent conductive film was obtained by forming a conductive organic polymer layer having a thickness of 200 nm. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Comparative Example 2
(1) Formation of polyester resin layer 100 parts by mass of polyester resin [Toyobo Co., Ltd., “Byron 20SS”,
Next, the coating liquid was applied on the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Mayer bar, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to a thickness of 200 nm. A polyester resin layer was formed.
(2) Formation of conductive organic polymer layer 100 parts by mass of “polythiophene coat” (supra) is laminated on the surface of the polyester resin layer formed in the above (1) using a Mayer bar, and then 1 at 130 ° C. A transparent conductive film was obtained by drying for a minute and forming a conductive organic polymer layer having a thickness of 200 nm. The measurement results of various characteristics are shown in Table 1.
Reference example 1
(1) Formation of optical adjustment layer Polyester resin [Toyobo Co., Ltd., “Byron 20SS”,
Next, the coating liquid was applied on the surface of a polyethylene terephthalate film [Toyobo Co., Ltd., “A4300”] having a thickness of 188 μm with a Mayer bar, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to a thickness of 200 nm. The optical adjustment layer was formed.
(2) (B) Formation of conductive organic polymer layer In the same manner as in Example 1 (2), the conductive organic polymer layer is formed on the surface of the optical adjustment layer formed in (1) above, thereby forming a transparent An attempt was made to produce a conductive film, but when the conductive organic polymer layer was laminated, the metal oxide in the optical adjustment layer was often removed, making it difficult to form a conductive organic polymer layer having a good surface state. . The refractive index of the optical adjustment layer formed in (1) was 1.78.
本発明の透明導電フィルムは、高価なレアメタルであるインジウムを用いた錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を使用することなく、該ＩＴＯと同等の電気特性と透過率を有し、ディスプレイ用透明電極など、特にタッチパネル用電極として好適に用いられる。 The transparent conductive film of the present invention has the same electrical properties and transmittance as the ITO without using tin-doped indium oxide (ITO) using indium which is an expensive rare metal, such as a transparent electrode for display, In particular, it is suitably used as a touch panel electrode.
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