KR101317946B1 - 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 관한 것으로, 특히 피 인쇄물에 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명인 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 이루는 구성수단은, 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 있어서, 글라스 상에 제1 금속 물질을 이용하여 제1 금속 마스크 패턴을 형성시키되, 상기 제1 금속 마스크 패턴에 의하여 상기 글라스가 노출되는 제1 개방부와 상기 제1 개방부의 너비보다 더 큰 너비를 가지는 제2 개방부를 형성시키는 제1 금속 마스크 패턴 형성 단계, 상기 글라스와 상기 제1 금속 마스크 패턴 상에 제2 금속 물질을 이용하여 상기 제2 개방부만 노출되도록 제2 금속 마스크 패턴을 형성시키는 단계, 상기 제2 개방부를 통하여 노출된 글라스 부분만 식각하는 제1차 패턴 형성 단계, 상기 제1차 패턴 형성 단계 후, 상기 제1 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 제2 개방부와 상기 제1 개방부에 의하여 노출된 글라스 부분을 동시에 식각함으로써, 상기 글라스에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들을 형성시키는 제2차 패턴 형성 단계, 상기 글라스 상의 제1 금속 마스크 패턴을 제거하여 클리세를 완성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

Description

리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법{method for manufacturing cliche used in reverse offset printing method}
본 발명은 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 관한 것으로, 특히 피 인쇄물에 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 관한 것이다.
리버스 오프셋 인쇄(reverse off-set printing)는 간접 인쇄 방식인 오프셋 인쇄의 하나로, 판에서 직접 기재(피인쇄물)로 인쇄를 하지 않고, 중개 구실을 하는 탄성 블랭킷에 잉크를 도포한 후, 불필요한 부분을 음각으로 패터닝된 클리세(cliche)로 떼어낸 뒤, 탄성 블랭킷에 남은 잉크를 기재에 인쇄하는 인쇄법이다. 오프셋인쇄는 탄성 블랭킷을 매개로 사용하기 때문에, 직접 인쇄법을 적용하기 힘든 금속과 유리 등의 하드 기판에도 적용 가능하다.
도 1은 종래의 리버스 오프셋 인쇄에 의한 인쇄 과정을 모식적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하여 그 인쇄 과정에 대해 살펴보면, 먼저 인쇄용 잉크(1)를 탄성 블랭킷(2)에 도포하고, 잉크(1)가 도포된 탄성 블랭킷(2)을 클리세(100)에 압착하여 클리세(100)의 상대적으로 돌출된 양각부분(101)과 맞닿는 부분의 잉크를 탄성 블랭킷(2) 면으로부터 클리세(100)의 양각부분(101)으로 제거(off)한다.
결과적으로, 상기 탄성 블랭킷(2)의 면에 도포된 잉크(1)의 일부(1b)는 상기 클리세(100)의 양각 부분(101)에 의하여 제거(off)되고, 나머지 잉크(1a)는 상기 탄성 블랭킷(2)의 면에 남아서 셋(set)된 상태로 잔존한다.
다음으로, 탄성 블랭킷(2) 면에 남은 잉크(1a)를 기판(3)에 전사하여 미세패턴을 형성한다. 그 후, 이와 같은 인쇄 과정을 반복하기 위하여, 클리세(100)에 묻어 있는 잉크(1)를 제거하기 위해 클리세(100)의 세척 및 건조 공정을 거치게 된다.
이와 같은 리버스 오프셋 인쇄 방식을 통하여 기판에 미세 패턴을 형성하는 과정에서, 상기 기판에 형성되는 미세 패턴들은 서로 선폭이 일정할 수도 있지만, 서로 다른 선폭을 가질 수도 있다. 상기 기판에 인쇄될 미세 패턴의 선폭이 서로 다른 경우에, 상기 클리세(100)의 양각 부분(101)의 이격 거리를 서로 다르게 형성할 필요가 있다. 즉, 음각 부분의 너비를 서로 다르게 형성할 필요가 있다.
예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 기판에 인쇄될 미세 패턴들이 서로 다른 선폭을 가지는 경우에, 상기 클리세(100)의 음각 부분(102)들은 서로 다른 너비를 가질 필요가 있다.
그런데, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 클리세(100)의 음각 부분(102)의 너비를 서로 다르게 형성한 후, 상기 탄성 블랭킷(2)을 상기 클리세(100)에 압착하여 상기 클리세(100)의 양각 부분에 맞닿는 잉크를 제거하는 과정에서, 상기 탄성 블랭킷(2)의 표면이 상기 클리세(100)의 음각 부분(102)에 접촉됨으로써, 제거되서는 안될 잉크가 제거되는 문제가 발생한다. 결과적으로, 원하는 미세 패턴을 상기 기판에 정확하게 인쇄할 수 없는 문제점이 발생한다.
이러한 문제점은 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴들을 형성하고자 하는 경우, 상기 클리세(100)의 음각 부분(102)의 너비만 넓게 하고, 깊이는 일정하게 유지하기 때문에 발생한다. 따라서, 이와 같은 문제점을 해결하기 위해서는 상기 클리세의 음각 부분의 너비가 증가함에 따라, 그 깊이도 증가하는 형상을 가지는 클리세가 제작되어야 한다.
또한, 터치 스크린 등에 형성되는 터치 패턴의 구조를 보면, 내부 터치 패턴은 저항이 작아도 되기 때문에, 회로 선폭이 매우 좁게 형성되어도 무관하지만, 이러한 내부 터치 패턴들이 연결되어 모이는 외부 터치 패턴들은 많은 전류가 흐르기 때문에, 그만큼 저항이 커지는 문제점이 발생한다. 따라서, 외부 터치 패턴들의 저항을 감소시키기 위하여 그 선폭을 크게 할 필요성이 있다.
이와 같은, 선폭이 상대적으로 작은 패턴, 그리고 선폭이 상대적으로 컨 패턴들을 함께 가지고 있는 회로 패턴들을 리버스 오프셋 프린팅 방법으로 형성하고자 하는 경우, 역시 음각 부분의 너비가 커지고 깊이가 커진 부분을 포함하는 클리세가 제작될 필요성이 있다.
한편, 클리세의 구조 및 제조 방법에 관련된 선행기술문헌은 공개특허공보 제10-2003-0058162호(잉크인쇄용 클리체 및 그 제조방법)가 있다. 이 선행기술문헌에도 역시 서로 다른 선폭 및 깊이를 가지는 미세 패턴에 대해서 제시하지 못하고 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 피 인쇄물에 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
본 발명은 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷이 클리세의 양각 부분에 의하여 제거되고, 음각 부분(오목부)에 의하여 제거될 가능성이 배제됨으로써, 정확한 인쇄 패턴을 피 인쇄물에 인쇄할 수 있도록 하는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
본 발명은 클리세의 음각 부분(오목부)들이 서로 다른 너비를 가지고 있고, 너비가 길어짐에 따라 그 깊이도 동시에 깊어지게 형성됨으로써, 서로 다른 선폭을 가지는 인쇄 패턴을 정확하게 피 인쇄물에 인쇄할 수 있도록 하는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명인 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 이루는 구성수단은, 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 있어서, 글라스 상에 제1 금속 물질을 이용하여 제1 금속 마스크 패턴을 형성시키되, 상기 제1 금속 마스크 패턴에 의하여 상기 글라스가 노출되는 제1 개방부와 상기 제1 개방부의 너비보다 더 큰 너비를 가지는 제2 개방부를 형성시키는 제1 금속 마스크 패턴 형성 단계, 상기 글라스와 상기 제1 금속 마스크 패턴 상에 제2 금속 물질을 이용하여 상기 제2 개방부만 노출되도록 제2 금속 마스크 패턴을 형성시키는 단계, 상기 제2 개방부를 통하여 노출된 글라스 부분만 식각하는 제1차 패턴 형성 단계, 상기 제1차 패턴 형성 단계 후, 상기 제1 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 제2 개방부와 상기 제1 개방부에 의하여 노출된 글라스 부분을 동시에 식각함으로써, 상기 글라스에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들을 형성시키는 제2차 패턴 형성 단계, 상기 글라스 상의 제1 금속 마스크 패턴을 제거하여 클리세를 완성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
여기서, 제1 금속 마스크 패턴 형성 단계는, 상기 글라스 상에 제1 금속 물질을 증착시키는 과정, 상기 제1 금속 물질 상에 포토레지스트를 증착하는 과정, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제1 개방부 및 제2 개방부에 대응되는 상기 제1 금속 물질 부분을 노출시키는 과정, 상기 노출된 상기 제1 금속 물질을 에칭으로 제거하여 상기 제1 개방부 및 제2 개방부를 형성하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제1 금속 물질은 크롬(Cr)인 것이 바람직하다.
또한, 상기 제2 금속 마스크 패턴을 형성시키는 단계는, 상기 제1 금속 마스크 패턴 및 글라스 상에 상기 제2 금속 물질을 증착시키는 과정, 상기 제2 금속 물질 상에 포토레지스트를 증착하는 과정, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제2 개방부에 대응되는 상기 제2 금속 물질 부분만을 노출시키는 과정, 상기 노출된 상기 제2 금속 물질을 에칭으로 제거하여 상기 제2 개방부만을 노출시키는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제2 금속 물질은 몰리브덴(Mo)인 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1차 패턴 형성 단계에서의 상기 제2 개방부를 통하여 노출된 글라스에 대한 식각은 습식 식각 또는 건식 식각에 의하여 수행되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제2차 패턴 형성 단계는, 상기 제2 금속 마스크 패턴 상의 포토레지스트를 모두 제거하는 과정, 상기 제2 금속 마스크 패턴을 모두 제거하는 과정, 상기 글라스 상에 잔존하는 상기 제1 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 노출된 글라스 부분을 식각하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 글라스에 형성되는 오목부들은 각 오목부들의 너비(L)와 깊이(H)의 관계가 아래 수식을 만족하도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
Figure 112012042474862-pat00001
여기서, H는 상기 오목부의 깊이이고, L은 상기 오목부의 너비이며, R은 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷의 단면 반지름임.
상기와 같은 과제 및 해결 수단을 가지는 본 발명인 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 의하면, 피 인쇄물에 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄할 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷이 클리세의 양각 부분에 의하여 제거되고, 음각 부분(오목부)에 의하여 제거될 가능성이 배제되기 때문에, 정확한 인쇄 패턴을 피 인쇄물에 인쇄할 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 클리세의 음각 부분(오목부)들이 서로 다른 너비를 가지고 있고, 너비가 길어짐에 따라 그 깊이도 동시에 깊어지게 형성됨으로써, 서로 다른 선폭을 가지는 인쇄 패턴을 정확하게 피 인쇄물에 인쇄할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 종래의 일반적인 리버스 오프셋 프린팅 방법을 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 종래의 일반적인 리버스 오프셋 프린팅용 클리세의 문제점을 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법을 설명하기 위한 제조 공정도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 공정 중, 제1 금속 마스크 패턴 형성 공정의 세부 공정도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 공정 중, 제2 금속 마스크 패턴 형성 공정의 세부 공정도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 공정 중, 제2차 패턴 형성 공정의 세부 공정도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 리버스 오프셋 프린팅용 클리세의 오목부에 대한 너비와 깊이의 관계를 설명하기 위한 이해도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 리버스 오프셋 프린팅용 클리세를 이용하여 서로 다른 선폭을 가지는 인쇄 패턴을 형성하는 절차를 설명하기 위한 개략 공정도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 상기와 같은 과제, 해결수단 및 효과를 가지는 본 발명인 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 관한 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
이 과정에서 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 한다.
본 발명에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법은 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 피 인쇄물(기재)에 인쇄하기 위한 방법인 리버스 오프셋 프린팅 방법에 사용되는 클리세를 제조하는 방법에 관한 것이다. 즉, 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 기재에 인쇄하는 방법으로서, 리버스 오프셋 프린팅 방법을 사용하는 경우, 기재에 인쇄할 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 제외한 잉크 부분을 오프(제거)하기 위한 클리세를 제조하는 방법에 관한 것이다.
도 3은 이와 같은 본 발명에 따른 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세를 제조하는 공정을 도시한 도면이다.
본 발명에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법은 먼저, 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 클리세를 제조하기 위한 기재에 해당하는 글라스(10) 상에 제1 금속 물질을 이용하여 제1 금속 마스크 패턴(20)을 형성시킨다. 이와 같은 제1 금속 마스크 패턴(20)은 후술하겠지만, 상기 글라스(10)에 제2차 패턴을 형성할 때, 마스크로서 사용된다.
상기 제1 금속 마스크 패턴(20)은 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10)가 노출되는 제1 개방부(b)와 상기 제1 개방부(b)의 너비보다 더 큰 너비를 가지는 제2 개방부(a)가 형성되도록 패터닝되어 형성된다. 즉, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)에 의하여 상기 글라스(10)가 노출되는 제1 개방부(b)와 상기 제1 개방부(b)의 너비보다 더 큰 너비를 가지는 제2 개방부(a)를 형성시키는 제1 금속 마스크 패턴 형성 단계를 수행한다.
상기 제1 개방부(b) 및 제2 개방부(a)의 너비는 피 인쇄물(기재)에 인쇄될 패턴들의 선폭과 동일하다. 따라서, 상기 제1 개방부(b)와 제2 개방부(a)의 너비는 서로 다르게 형성되기 때문에, 상기 피 인쇄물에 인쇄될 패턴의 선폭 역시 서로 다르게 형성될 수 있다. 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 개방부(b)의 너비가 L2이고, 상기 제2 개방부(a)의 너비가 L1인 경우, L1은 L2보다 더 큰 값을 가진다.
도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10) 상에 제1 금속 마스크 패턴(20)을 형성한 후에는, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10)와 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 제2 금속 물질을 이용하여 상기 제2 개방부(a)만 노출되도록 제2 금속 마스크 패턴(30)을 형성시키는 단계를 수행한다.
상기 제2 금속 마스크 패턴(30)은 상기 제2 개방부(a)만 노출될 수 있도록 패터닝된다. 이와 같은 제2 금속 마스크 패턴(30)은 상기 제2 개방부(a)에 의하여 노출되는 상기 글라스(10) 부분만 식각하기 위하여 마스크로서 사용된다. 즉, 상대적으로 더 큰 너비를 가지는 상기 제2 개방부(a)에 의하여 노출되는 상기 글라스(10)의 부분만을 1차적으로 먼저 식각하기 위하여 상기 제2 마스크 패턴(30)을 형성시킨다.
도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)을 형성한 후에는 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 제1 금속 마스크 패턴(20) 및 제2 금속 마스크 패턴(30)에 의하여 노출되는 상기 글라스(10)의 부분만을 식각하여 1차 패턴을 상기 글라스(10)에 형성한다. 즉, 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 개방부(a)를 통하여 노출된 상기 글라스(10) 부분만 식각하는 제1차 패턴 형성 단계를 수행한다. 이와 같은 제1차 패턴 형성 단계를 수행함으로써, 상기 글라스(10)에 1차 오목부(11a)가 형성된다.
상기 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 개방부(a)만을 통하여 노출된 글라스 부분만을 식각하여 1차 패턴을 형성한 후에는, 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)을 마스크로 하여 상기 제2 개방부(a) 및 제1 개방부(b)에 의하여 노출된 글라스 부분을 동시에 식각하여 제2차 패턴을 형성하는 단계를 수행한다.
구체적으로, 상기 제1차 패턴 형성 단계 후, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)을 마스크로 하여 상기 제2 개방부(a)와 상기 제1 개방부(b)에 의하여 노출된 상기 글라스(10) 부분을 동시에 식각함으로써, 상기 글라스(10)에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들(11a', 11b)을 형성시키는 제2차 패턴 형성 단계를 수행한다.
이와 같은 2차 패턴 형성 단계를 수행함으로써, 상기 글라스(10)에는 서로 다른 깊이를 가지는 오목부들이 형성된다. 즉, 상기 제2 개방부(a)에 대응되는 상기 글라스 부분에 상대적으로 깊이가 더 깊은 오목부(11a')가 형성되고, 상기 제1 개방부(b)에 대응되는 상기 글라스 부분에 상대적으로 깊이가 더 얕은 오목부(11b)가 형성된다.
더 구체적으로 설명하면, 상기 글라스(10)에 형성되는 오목부들 중, 상대적으로 너비가 더 큰 오목부의 깊이는 상대적으로 너비가 더 작은 오목부의 깊이보다 더 깊게 형성되고, 반대로, 상대적으로 너비가 더 작은 오목부의 깊이는 상대적으로 너비가 더 큰 오목부의 깊이보다 더 얕게 형성된다.
상기 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10)에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들(11a', 11b)을 형성시키는 제2 패턴 형성 단계를 수행한 후에는, 도 3의 (e)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스 상의 제1 금속 마스크 패턴(20)을 제거하여 최종적으로 클리세(100)를 완성하는 단계를 수행한다.
이상에서 설명한 제조 공정에 의하여 제조된 클리세(100)는 리버스 오프셋 프린팅 방법을 통하여 피 인쇄물(기재)에 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용된다.
구체적으로, 도 3에 도시된 공정에 의하여 제조된 클리세(100)는 서로 다른 너비와 깊이를 가지는 오목부를 구비하기 때문에, 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷이 상기 클리세(100)에 압착되어 지나가는 경우, 상기 탄성 블랭킷에는 서로 다른 길이를 가지는 인쇄용 잉크들이 셋(set)되어 잔존하게 된다. 그리고, 이 탄성 블랭킷을 피 인쇄물에 전사시키면 상기 피 인쇄물에는 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴들이 인쇄될 수 있다.
이상에서 설명한 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 대한 세부 공정을 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명에 따른 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 공정 중, 도 3의 (a)에 도시된 제1 금속 마스크 패턴(20)을 글라스(10) 상에 형성하는 세부 공정을 보여준다.
이에 대하여 구체적으로 설명하면, 먼저 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 글라스(10)를 준비한 후, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10) 상에 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)을 형성하기 위한 제1 금속 물질(21)을 증착시킨다.
이와 같은 상기 제1 금속 물질(21)은 스핀 코팅 등 다양한 증착 방법을 이용하여 상기 글라스(10) 상에 증착된다. 상기 제1 금속 물질(21)은 상술한 제2차 패턴 형성 단계를 수행하는 과정에서 상기 글라스를 에칭하기 위한 마스크로서 기능을 수행할 수 있고, 상기 글라스(10) 상에 증착될 수 있는 금속 물질이면 다양하게 채택될 수 있지만, 본 발명에서의 상기 제1 금속 물질(21)은 크롬(Cr)인 것이 바람직하다.
상기와 같이 상기 글라스(10) 상에 크롬과 같은 제1 금속 물질(21)을 증착한 후에는 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 금속 물질(21) 상에 포토레지스트(41)를 증착한다. 상기 포토레지스트(41)는 상기 제1 금속 물질(21) 상에서 이탈되는 성질이 아니고, 상기 제1 금속 물질(21)의 일부분을 에칭으로 제거하기 위한 마스크로서 기능을 수행할 수 있다면 다양한 물질로 형성될 수 있다.
상기와 같이 상기 제1 금속 물질(21) 상에 상기 포토레지스트(41)를 증착한 후에는, 도 4의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트(41)에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 포토레지스트 패턴(41a)을 형성한다. 구체적으로, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제1 개방부(b) 및 제2 개방부(a)에 대응되는 상기 제1 금속 물질(21) 부분을 노출시키는 과정을 수행한다.
그런 다음, 도 4의 (e)에 도시된 바와 같이, 상기 노출된 상기 제1 금속 물질(21)을 에칭으로 제거하여 상기 제1 개방부(b) 및 제2 개방부(a)를 형성하는 과정을 수행한다. 이와 같은 에칭 과정을 통하여 상기 글라스 상에 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)이 형성되고, 서로 다른 너비를 가지는 상기 제1 개방부(b)와 상기 제2 개방부(a)가 상기 글라스(10) 상에 형성된다.
그런 다음, 도 4의 (f)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 잔존하는 포토레지스트 패턴(41a)을 제거함으로써, 최종적으로 원하는 제1 금속 마스크 패턴(20)을 상기 글라스(10) 상에 형성할 수 있다.
이상과 같이, 도 4에 도시된 공정을 통하여 상기 글라스(10) 상에 제1 금속 마스크 패턴(20)을 형성한 후에는, 상술한 바와 같이, 상기 글라스(10)와 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 제2 금속 물질을 이용하여 상기 제2 개방부(a)만 노출시키는 제2 금속 마스크 패턴(30)을 형성시키는 단계를 수행한다.
상기 제2 금속 마스크 패턴(30)을 형성시키는 세부 공정에 대하여 도 5를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10) 상에 상기 제1 개방부(b) 및 제2 개방부(a)들을 가지는 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)이 형성되면, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 및 상기 글라스(10) 상에 상기 제2 금속 물질(31)을 증착시키는 과정을 수행한다.
상기 제2 금속 물질(31)은 스핀 코팅 등 다양한 증착 방법을 이용하여 상기 글라스(10) 및 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 증착된다. 상기 제2 금속 물질(31)은 상술한 제1차 패턴 형성 단계를 수행하는 과정에서 상기 글라스를 에칭하기 위한 마스크로서 기능을 수행할 수 있고, 상기 글라스(10) 및 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 증착될 수 있는 금속 물질이면 다양하게 채택될 수 있지만, 본 발명에서의 상기 제2 금속 물질(31)은 몰리브덴(Mo)인 것이 바람직하다.
상기와 같이 상기 글라스(10) 및 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 몰리브덴과 같은 제2 금속 물질(31)을 증착한 후에는 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 금속 물질(31) 상에 포토레지스트(43)를 증착한다. 상기 포토레지스트(43)는 상기 제2 금속 물질(31) 상에서 이탈되는 성질이 아니고, 상기 제2 금속 물질(31)의 일부분을 에칭으로 제거하기 위한 마스크로서 기능을 수행할 수 있다면 다양한 물질로 형성될 수 있다.
상기와 같이 상기 제2 금속 물질(31) 상에 상기 포토레지스트(43)를 증착한 후에는, 도 5의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트(43)에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 포토레지스트 패턴(43a)을 형성한다. 구체적으로, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제2 개방부(a)에 대응되는 상기 제2 금속 물질(31) 부분을 노출시키는 과정을 수행한다.
그런 다음, 도 5의 (e)에 도시된 바와 같이, 상기 노출된 상기 제2 금속 물질(31)을 에칭으로 제거하여 상기 제2 개방부(a)만을 노출시키는 과정을 수행한다. 이와 같은 에칭 과정을 통하여 상기 글라스(10) 및 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)이 형성되고, 서로 다른 너비를 가지는 상기 제1 개방부(b)와 상기 제2 개방부(a) 중, 상대적으로 너비가 더 큰 제2 개방부(a)만이 외부로 노출되게 된다.
이상에서 설명한 공정을 통하여, 상기 글라스(10) 및 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)이 형성되고, 이 제2 금속 마스크 패턴(30)은 상기 제2 개방부(a)를 통하여 상기 글라스(10)의 일부분만 외부로 노출되도록 형성된다.
이와 같이, 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)이 형성된 후에는, 상술한 바와 같이, 상기 제2 개방부(a)를 통하여 외부로 노출된 상기 글라스(10) 부분만 식각하는 제1차 패턴 형성 단계를 수행한다. 즉, 도 5의 (f)에 도시된 바와 같이, 에칭 공정을 통하여 상기 제2 개방부(a)를 통하여 외부로 노출된 상기 글라스(10) 부분이 식각되어 1차 오목부(11a)가 상기 글라스(10)에 형성되도록 한다.
상기 글라스(10)에 1차 오목부(11a)를 형성하는 상기 제1차 패턴 형성 단계에서의 식각은 등방성 식각을 가능하게 하는 습식 식각과 이방성 식각을 가능하게 하는 건식 식각 중 어느 하나를 이용할 수 있다. 즉, 상기 1차 패턴 형성 단계에서의 상기 제2 개방부(a)를 통하여 노출된 상기 글라스에 대한 식각은 습식 식각 또는 건식 식각에 의하여 수행될 수 있다.
물론, 상기 습식 식각 또는 건식 식각에 의하여 형성되는 상기 1차 오목부(11a)의 너비와 깊이는 사전에 정해진 범위의 값을 가질 수 있어야 한다. 따라서, 상기 습식 식각 또는 건식 식각 공정은 상기 1차 오목부의 너비와 깊이가 사전에 정해진 범위의 값을 가질 수 있도록, 식각 속도 및 식각률 등이 조절되어야 한다.
상기와 같이 1차 패턴 형성 단계에 의하여 1차 오목부(11a)가 상기 글라스(10)에 형성된 후에는 상술한 바와 같이, 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)을 마스크로 하여 상기 제2 개방부(a)와 상기 제1 개방부(b)에 의하여 노출된 상기 글라스 부분을 동시에 식각함으로써, 상기 글라스(10)에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 최종 오목부들을 형성시키는 제2차 패턴 형성 단계를 수행한다.
상기와 같이 최종 오목부를 형성시키는 상기 제2차 패턴 형성 단계에 관한 세부 공정에 대하여 첨부된 도 6을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 제1차 패턴 형성 단계를 통해 상기 1차 오목부(11a)를 형성시킨 후에는, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 제2 금속 마스크 패턴(30) 상의 포토레지스트 패턴(43a)을 모두 제거하는 과정을 수행한다. 그런 다음, 도 6의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10) 및 상기 제1 금속 마스크 패턴(20) 상에 잔존하는 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)을 모두 제거하는 과정을 수행한다.
상기와 같은 포토레지스트 패턴(43a) 및 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)에 대한 스트립 공정은 각각의 공정에서 상기 포토레지스트 패턴과 제2 금속 마스크 패턴만이 반응하여 제거될 수 있는 스트립 용액(박리제)을 이용하여 제거한다.
상기와 같이 포토레지스트 패턴(43a)과 상기 제2 금속 마스크 패턴(30)이 순차적으로 박리되면, 도 6의 (d)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스(10) 상에 잔존하는 상기 제1 금속 마스크 패턴(10)을 마스크로 하여 상기 노출된 글라스 부분을 식각하는 과정을 수행한다.
구체적으로, 상기 에칭 공정을 통하여 상기 제1 금속 마스크 패턴(10)에 의하여 형성된 상기 제1 개방부(b) 및 제2 개방부(a)에 의하여 외부로 노출되는 상기 글라스 부분을 식각한다. 이 과정에서 상기 제2 개방부(a)에 의하여 노출된 상기 글라스 부분에는 상기 제1차 패턴 형성 과정에서 형성된 1차 오목부(11a)의 형상에서 더 식각이 진행되어 깊이가 더 깊은 최종 오목부(11a')가 형성되고, 상기 제1 개방부(b)에 의하여 노출된 상기 글라스 부분에는 최초로 식각되어 상기 제2 개방부(a)에 대응되는 상기 글라스 부분에 형성된 오목부(11a')보다 더 깊이가 얕은 오목부(11b)가 형성된다.
상기 제2차 패턴 형성 단계에서의 식각은 상기 제1차 패턴 형성 단계에서의 식각 공정과 같이, 습식 식각 또는 건식 식각을 이용할 수 있다. 다만, 상기 오목부들(11a', 11b)의 너비와 깊이가 사전에 정해진 범위의 값을 가질 수 있도록, 식각률, 식각 속도는 조절되어야 한다.
이와 같이, 상기 글라스에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들(11a', 11b)을 형성시킨 후에는, 도 6의 (e)에 도시된 바와 같이, 상기 글라스 상의 상기 제1 금속 마스크 패턴(20)을 모두 제거함으로써, 최종적인 클리세(100)를 완성시킬 수 있다.
상기 완성된 클리세(100)는 도 6의 (e)에 도시된 바와 같이, 서로 다른 너비와 깊이를 가지는 오목부(11a', 11b)와 각 오목부 사이에 볼록부(13)를 가지는 요철 형상을 가지게 된다. 상기 오목부들은 너비가 상대적으로 더 클수록 상대적으로 더 깊은 깊이를 가지는 오목부(11a')와 너비가 상대적으로 더 작을수록 상대적으로 더 얕은 깊이를 가지는 오목부(11b)로 구성된다.
이상에서 설명한 공정을 통하여 서로 다른 너비와 깊이를 가지는 오목부들을 가지는 클리세(100)를 제조할 수 있다. 이와 같은 공정에 의하여 제조되는 클리세의 오목부들은 너비가 상대적으로 더 큰 오목부가 상대적으로 너비가 더 작은 다른 오목부보다 더 깊은 깊이를 가지고, 상대적으로 더 작은 너비를 가지는 오목부는 상대적으로 너비가 더 큰 다른 오목부보다 더 얕은 깊이를 가진다.
상기와 같이, 상기 오목부의 너비가 더 클수록 그 깊이 또한 더 깊게 형성되는 이유는 상기 오목부들을 구비하는 본 발명에 따른 클리세에 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷이 압착되는 경우, 상기 탄성 블랭킷에 도포된 잉크가 상기 오목부에 의하여 제거(off)되는 것을 방지하기 위해서이다.
피 인쇄물에 인쇄될 미세 패턴의 선폭이 상이하고, 이 미세 패턴 중, 상대적으로 선폭이 큰 미세 패턴을 형성하기 위해서는 상기 클리세에 상대적으로 더 큰 너비를 가지는 오목부를 형성해야 한다. 이 때, 상기 상대적으로 더 큰 너비를 가지는 오목부가 너비만 상대적으로 커지고, 깊이는 다른 오목부와 동일하다면, 상기 인쇄용 잉크가 도포된 상기 탄성 블랭킷에 압축되어 이동하는 경우, 상기 오목부에 의하여 상기 탄성 블랭킷에 도포된 인쇄용 잉크가 제거되는 문제가 발생한다. 따라서, 본 발명에서는 상대적으로 더 큰 너비를 가지는 오목부는 그 깊이 역시 상대적으로 더 깊게 형성될 수 있도록 클리세를 제조하는 방법을 제안하고 있다.
이와 같은 상기 클리세를 구성하는 오목부들은 그 너비와 깊이가 사전에 정해진 값의 범위를 가질 수 있도록 형성된다. 상기 오목부의 깊이와 너비가 사전에 정해진 범위의 값을 가지기 위해서는 상술한 제1 금속 마스크 패턴(20), 제2 금속 마스크 패턴들이 정확한 패턴으로 형성되도록 제어되어야 하고, 제1차 패턴 형성 단계 및 제2차 패턴 형성 단계에서 진행되는 식각 공정에서는 식각률, 식각 속도 등이 정확하게 제어되어야 한다.
이와 같은 정확한 제어를 통하여 형성되는 오목부들, 즉 상기 글라스에 형성되는 오목부들은 각 오목부들의 너비(L)와 깊이(H)의 관계가 아래 수학식 1을 만족하도록 형성되어야 한다. 즉, 오목부에 의하여 상기 탄성 블랭킷에 도포된 인쇄용 잉크가 제거되는 경우가 발생하지 않기 위해서는 아래 수학식 1을 만족하는 오목부들이 상기 글라스에 형성되어야 한다.
Figure 112012042474862-pat00002
여기서, H는 상기 오목부의 깊이이고, L은 상기 오목부의 너비이며, R은 인쇄용 잉크가 도포된 상기 탄성 블랭킷의 단면 반지름을 의미한다. 한편, 상기 R은 상기 탄성 블랭킷만의 단면 반지름이어도 무관하지만, 상기 도포된 인쇄용 잉크까지 포함한 상기 탄성 블랭킷의 단면 반지름인 것이 더 바람직하다.
상기 수학식 1은 첨부된 도 7을 참조하여 도출될 수 있다.
상기 탄성 블랭킷(2)은 탄성이 있기 때문에, 클리세(100)에 압착되어 이동되는 경우, 도 7에 도시된 상태가 발생할 수 있다. 이 경우 상기 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷(2)은 상기 클리세(100)의 오목부(11a', 11b)에 접촉되어서는 안된다.
따라서, 상기 오목부의 깊이 H는 상기 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷의 단면에서 볼 때, 상기 볼록부(13)와 같은 수평선 상에 있는 상기 탄성 블랭킷의 위치부터 상기 탄성 블랭킷의 표면에 해당하는 지점까지의 거리인 a보다 더 커야 한다. 즉 H>a가 만족해야 한다.
상기 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷의 단면 중심에서 상기 볼록부(13)와 같은 수평선 상에 있는 상기 탄성 블랭킷의 위치까지의 거리가 b라 할 때, 상기 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷의 반지름 R은 상기 a와 b를 더한 값과 같다. 즉, R=a+b를 만족한다. 그리고, H>R-b 역시 만족한다.
상기 오목부의 너비를 L이라 할 때, 피타고라스 정리에 의하여, R2=b2+(L/2)2을 만족한다. 이를 b에 대하여 정리하면, b는 R2-(L/2)2에 대한 루트값과 같다. 이 b의 값을 H>R-b의 수식의 b에 대입하면, 상기 수학식 1에 해당하는 수식이 도출된다.
본 발명은 이와 같이 도출된 수학식 1을 만족하는 오목부를 가지는 클리세를 제조할 수 있기 때문에, 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷이 압착되어 이동하는 과정에서 상기 오목부에 의하여 상기 탄성 블랭킷에 도포된 인쇄용 잉크가 제거되는 문제는 발생하지 않고, 결과적으로 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 피 인쇄물에 인쇄할 수 있게 된다.
즉, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 인쇄용 잉크(1)가 도포된 탄성 블랭킷(2)을 본 발명에 따라 제조된 클리세(100)에 압착하여 이동하면, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 클리세(100)의 볼록부에 의해서만 상기 탄성 블랭킷에 도포된 인쇄용 잉크가 오프(off)되고(볼록부에 의하여 오프된 인쇄용 잉크는 1b로 표시됨), 상기 탄성 블랭킷(2)에는 상기 볼록부에 의하여 제거되지 않은 인쇄용 잉크(1a)만이 셋(set)되어 있다.
그런 후, 도 8의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 탄성 블랭킷(2)에 셋(set)되어 잔존하는 인쇄용 잉크를 피 인쇄물(3)에 전사하면, 상기 피 인쇄물에는 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴들이 인쇄된다. 예를 들어, 상대적으로 더 큰 선폭(ℓ1)의 미세 패턴과, 상대적으로 더 작은 선폭(ℓ2)을 가지는 미세 패턴들이 상기 피 인쇄물에 인쇄될 수 있다.
이상에서 본 발명에 따른 실시예들이 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 범위의 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 다음의 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
1 : 인쇄용 잉크 2 : 탄성 블랭킷
3 : 피 인쇄물(기재) 10 : 글라스
11a, 11a', 11b : 오목부 13 : 볼록부
20 : 제1 금속 마스크 패턴 21 : 제1 금속 물질
30 : 제2 금속 마스크 패턴 31: 제2 금속 물질
41, 43 : 포토레지스트 41a, 43a : 포토레지스트 패턴

Claims (8)

  1. 서로 다른 선폭을 가지는 미세 패턴을 인쇄하기 위하여 사용되는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법에 있어서,
    글라스 상에 제1 금속 물질을 이용하여 제1 금속 마스크 패턴을 형성시키되, 상기 제1 금속 마스크 패턴에 의하여 상기 글라스가 노출되는 제1 개방부와 상기 제1 개방부의 너비보다 더 큰 너비를 가지는 제2 개방부를 형성시키는 제1 금속 마스크 패턴 형성 단계;
    상기 글라스와 상기 제1 금속 마스크 패턴 상에 제2 금속 물질을 이용하여 상기 제2 개방부만 노출되도록 제2 금속 마스크 패턴을 형성시키는 단계;
    상기 제2 개방부를 통하여 노출된 글라스 부분만 식각하는 제1차 패턴 형성 단계;
    상기 제1차 패턴 형성 단계 후, 상기 제1 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 제2 개방부와 상기 제1 개방부에 의하여 노출된 글라스 부분을 동시에 식각함으로써, 상기 글라스에 서로 다른 너비 및 깊이를 가지는 오목부들을 형성시키는 제2차 패턴 형성 단계;
    상기 글라스 상의 제1 금속 마스크 패턴을 제거하여 클리세를 완성하는 단계를 포함하여 이루어지되,
    제1 금속 마스크 패턴 형성 단계는, 상기 글라스 상에 제1 금속 물질을 증착시키는 과정, 상기 제1 금속 물질 상에 포토레지스트를 증착하는 과정, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제1 개방부 및 제2 개방부에 대응되는 상기 제1 금속 물질 부분을 노출시키는 과정, 상기 노출된 상기 제1 금속 물질을 에칭으로 제거하여 상기 제1 개방부 및 제2 개방부를 형성하는 과정을 포함하여 구성되고,
    상기 제2 금속 마스크 패턴을 형성시키는 단계는, 상기 제1 금속 마스크 패턴 및 글라스 상에 상기 제2 금속 물질을 증착시키는 과정, 상기 제2 금속 물질 상에 포토레지스트를 증착하는 과정, 상기 포토레지스트에 대한 노광 및 현상 공정을 통하여 수직 방향으로 상기 제2 개방부에 대응되는 상기 제2 금속 물질 부분만을 노출시키는 과정, 상기 노출된 상기 제2 금속 물질을 에칭으로 제거하여 상기 제2 개방부만을 노출시키는 과정을 포함하여 구성되며,
    상기 제2차 패턴 형성 단계는, 상기 제2 금속 마스크 패턴 상의 포토레지스트를 모두 제거하는 과정, 상기 제2 금속 마스크 패턴을 모두 제거하는 과정, 상기 글라스 상에 잔존하는 상기 제1 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 노출된 글라스 부분을 식각하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 글라스에 형성되는 오목부들은 각 오목부들의 너비(L)와 깊이(H)의 관계가 아래 수식을 만족하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법.
    Figure 112013086581017-pat00003

    여기서, H는 상기 오목부의 깊이이고, L은 상기 오목부의 너비이며, R은 인쇄용 잉크가 도포된 탄성 블랭킷의 단면 반지름임.
KR1020120056503A 2012-05-29 2012-05-29 리버스 오프셋 프린팅용 클리세 제조 방법 KR101317946B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100909414B1 (ko) * 2002-12-18 2009-07-24 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 소자의 제조 방법
KR20110048605A (ko) * 2009-11-03 2011-05-12 엘지이노텍 주식회사 액정표시장치용 클리체 및 그 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100909414B1 (ko) * 2002-12-18 2009-07-24 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 소자의 제조 방법
KR20110048605A (ko) * 2009-11-03 2011-05-12 엘지이노텍 주식회사 액정표시장치용 클리체 및 그 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2738864C1 (ru) * 2020-06-01 2020-12-17 Владимир Николаевич Токарев Печатная машина

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