KR101285314B1 - 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치 - Google Patents

치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부;
상기 처리공간 내에 배치된 치과용 임플란트를 상기 처리공간 내에서 회전가능하도록 하여 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 하는 회전수단;을 포함하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것이다.

Description

치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치{High energy ray irradiation device for dental implant}
본 발명은 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 전체적으로 치과용 임플란트의 전면에 고 에너지선을 조사하여 표면 개질 및 세정의 효과를 극대화할 수 있는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것이다.
일반적으로 완성된 치과용 임플란트의 표면에는 이물질 등이 묻어있게 되며 이러한 치과용 임플란트의 표면은 고 에너지선 등을 이용하여 표면 세정 및 개질을 수행하고 있다.
이러한 치과용 임플란트 표면의 개질이나 세정에 사용되는 고 에너지선 조사장치는 도 1에 도시되어 있는 바와 같이 하우징(100)의 내부에 고 에너지선 램프 어셈블리(102)가 설치되고, 수동 슬라이딩 방식의 받침대(101) 위에 고 에너지선 조사 대상물인 치과용 임플란트를 위치시킨 다음에 상기 받침대(101)를 하우징(100) 내부에 투입하여 고 에너지선을 조사하게 된다.
이와 같이 고 에너지선이 조사되면 하우징 내부의 공기 중 산소가 오존으로 되면서 그 오존이 치과용 임플란트의 표면에 있는 이물질을 제거하는 한편, 고 에너지선이 그 자체로 임플란트의 표면에 있는 이물질을 제거하고 표면을 개질하게 되는 것이다.
그러나, 종래기술에 따른 고 에너지선 조사장치는 고 에너지선이 임플란트의 한쪽 면만을 조사하게 되므로 확실한 이물질 제거 및 표면개질을 기대할 수 없다는 단점이 있다. 임플란트는 램프 어셈블리와 마주하는 표면(예를 들어 전면)만이 고 에너지선에 접촉할 수 있고 램프 어셈블리와 마주하지 않는 표면(예를 들어 후면)은 고 에너지선과 직접적으로 접촉하지 않게 된다.
따라서 이러한 종래의 고 에너지선 조사장치로서는 임플란트 표면의 개질이나 세정에 있어서 고 에너지선의 균일한 조사가 어려워지고 결국에는 확실하게 표면 개질이나 세정이 이루어지지 않게 되는 문제점이 있게 된다.
또한, 투입된 임플란트가 다수 개일 경우 원하는 임플란트만을 선택적 조사가 불가능하다는 문제점이 있었다.
또한, 고 에너지선이 조사된 후에 바로 임플란트를 환자의 구강내에 식립하지 않고 일정기간 보관하는 경우에는 표면세정 및 표면개질된 임플란트의 표면이 주변의 공기와 접촉하면서 그 표면에 다시 이물질 등이 쌓이게 될 수 있다는 문제점이 있게 된다.
1. 대한민국 공개특허 제2007-0095063호 (2007. 9. 28 공개)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명은 고 에너지선의 조사과정에서 치과용 임플란트를 회전시킴으로써 균일하게 표면개질 및 표면세정이 가능한 고 에너지선 조사장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 하우징 내에 고 에너지선을 차단하는 차단막 및 임플란트를 인식하는 판독기를 장착하여, 고 에너지선의 선택적인 조사가 가능한 고 에너지선 조사장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치는, 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부;
상기 처리공간 내에 배치된 치과용 임플란트를 상기 처리공간 내에서 회전가능하도록 하여 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 하는 회전수단;을 포함할 수 있다.
상기 치과용 고 에너지선 조사장치에서,
상기 고 에너지선을 조사하는 램프의 파장은, 400nm 이하일 수 있다.
상기 치과용 고 에너지선 조사장치에서,
상기 고 에너지선을 조사하는 램프의 파장은, 100~300nm 범위를 가질 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 회전수단은,
상기 하우징 내부에 마련되며 회전동력원에 의하여 회전가능하고 상기 치과용 임플란트가 올려지는 회전판일 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 회전수단은,
상기 처리공간 내부에 배치되며 치과용 임플란트의 일부와 결합되어 상기 치과용 임플란트를 회전시키는 회전척일 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
치과용 임플란트와 상기 램프부의 사이에는 상기 램프부로부터 나오는 고 에너지선을 차단할 수 있는 차단막이 배치될 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 차단막은 치과용 임플란트가 상기 처리공간 내에 존재하는지 여부에 따라서 개방 및 폐쇄가 가능할 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 하우징의 내부에는 상기 치과용 임플란트가 상기 하우징의 처리공간 내에 존재하는지 여부를 인식하기 위한 판독기가 마련될 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 판독기는 바코드 또는 전파식별(RFID) 태그를 인식할 수 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서, 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부; 및
상기 하우징의 외부에 배치되어, 상기 하우징 내에 대기압 이상의 불활성 기체 또는 산소혼합 기체를 주입하는 주입장치;를 포함할 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 주입장치는, 하우징을 감싸도록 배치하며 내부에 공간을 마련하고 있는 챔버를 포함할 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 주입장치에는 상기 불활성 기체 또는 산소혼합 기체가 주입되는 인입부 및 상기 챔버 내의 공기를 외부로 배출하는 배출부를 포함할 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 인입부로부터 인입되는 불활성 기체 또는 산소혼합 기체의 양은 상기 배출부로부터 배출되는 공기의 양보다 많을 수 있다.
상기 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서,
상기 불활성 기체는 아르곤 또는 질소를 포함할 수 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서, 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부;를 포함하되,
상기 램프부는 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 치과용 임플란트의 주변에 복수 배치될 수 있다.
상기 고 에너지선 조사장치에서,
상기 램프부는, 상기 치과용 임플란트의 둘레를 따라서 2개 또는 3개가 배치될 수 있다.
본 발명의 고 에너지선 조사장치는, 하우징의 내부에 치과용 임플란트를 회전시키기 위한 회전수단이 마련되어 있어 고 에너지선의 조사가 치과용 임플란트의 표면 전체에 골고루 이루어질 수 있어 확실한 표면개질 및 표면 세정의 효과를 얻을 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 고 에너지선 조사장치는, 차단막 및 판독기를 설치함으로서 원하는 치과용 임플란트만 선택적으로 고 에너지선 조사할 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 고 에너지선 조사장치는 비활성 기체 등이 주입될 수 있는 주입장치 내에 상기 고 에너지선 조사를 위한 하우징이 마련되어 있어 치과용 임플란트의 표면개질 및 세정효과를 극대화할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 고 에너지선 조사장치는 복수의 램프부가 치과용 임플란트의 주변에 복수 배치되어 있어 치과용 임프란트의 표면 전체에 고 에너지선 조사가 골고루 이루어질 수 있어 확실한 표면개질 및 표면 세정의 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 종래기술에 따른 고 에너지선 조사장치를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 고 에너지선 조사장치의 단면도.
도 3은 도 2의 주요부분의 분리사시도.
도 4는 도 3의 결합사시도.
도 5는 도 2의 플레이트의 평면도.
도 6는 도 2의 Ⅵ-Ⅵ 단면도.
도 7은 챔버 내에 도 2의 구성이 배치되어 있는 모습을 나타내는 도면.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고 에너지선 조사장치의 단면도.
도 9는 도 9의 작동도.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 고 에너지선 조사장치의 단면도.
이하, 본 발명의 일실시예에 따른 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치를 첨부된 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
본 발명의 일실시예에 따른 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에서, 치과용 임플란트(90)는 그 자체로 상기 고 에너지선 조사장치(10)에 삽입되어 고 에너지선 조사를 받는 것이 가능하며, 이외에도 상기 치과용 임플란트(90)가 용기(91) 내에 삽입된 상태에서 그 용기(91)가 전체적으로 고 에너지선 조사장치(10)에 삽입되는 것도 가능한다.
이때, 치과용 임플란트(90)는 어버트먼트와 결합되는 결합부(90b)가 용기(91)의 내부에 배치되고 나사산이 포함된 나사부(90a)가 외부로 노출되는 것도 가능하며, 어버트먼트와 결합되는 결합부(90b)가 용기(91) 외부에 배치되고 나사산이 포함된 나사부(90a)가 내부에 배치되는 것도 가능함은 물론이다.
이러한 본 발명의 일실시예에 따른 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치(10)는, 하우징(20), 플레이트(30), 램프부(40), 회전수단(50), 차단막(60) 및 판독기(70)를 포함한다.
상기 하우징(20)은, 내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간이 구비되는 것으로서, 구체적으로는 전체적으로 사각박스의 형태로 이루어질 수 있다. 상기 하우징(20)의 전면에는 입구를 개방 및 폐쇄할 수 있는 개폐문(21)이 설치된다. 이러한 개폐문(21)은 힌지식으로 회전가능하게 결합되며 일단 치과용 임플란트(90)의 삽입을 위하여 열리거나 치과용 임플란트(90)가 일단 처리공간에 삽입된 후에는 닫힐 수 있도록 구성된다.
상기 플레이트(30)는, 상기 하우징(20) 처리공간 내에 배치되며, 고 에너지선 조사가 요구되는 치과용 임플란트(90)가 올려지고, 상기 하우징(20)의 내부 및 외부 사이를 위치이동가능하다. 이러한 플레이트(30)에는, 슬라이드 가능하게 하우징(20) 내부에 배치되어 임플란트(90)의 삽입이 필요한 때에는 상기 하우징(20)의 외부로 인출되어 치과용 임플란트(90)가 안착될 수 있도록 하고, 치과용 임플란트(90)가 안착된 후에는 하우징(20) 내부에 삽입되면서 상기 치과용 임플란트(90)가 고 에너지선 조사될 수 있도록 한다.
한편, 상기 치과용 임플란트(90)는 그 자체로 독자적으로 상기 플레이트(30)에 안착될 수 있지만, 도 2에서는 상기 치과용 임플란트(90)가 용기(91)에 결합된 상태에서 상기 플레이트(30)에 안착되도록 한다.
상기 플레이트(30)는 상기 치과용 임플란트(90)가 설치된 용기(91)가 끼워져 고정될 수 있도록 구성된다. 구체적으로 상기 플레이트(30)는, 몸체판(31)을 포함하는데, 상기 몸체판(31)은 상기 용기(91)의 오목한 하단부가 끼워져 삽입될 수 있는 삽입홈(31a), 삽입홈(31a)과 이격되어 배치되며 회전판(51)이 마련되는 회전판 수용홈(31b)으로 이루어진다.
상기 회전판 수용홈(31b)에는 회전판(51)이 배치되는데, 이러한 회전판(51)은 후술하는 회전수단(50)의 일구성으로서 상기 몸체판(31)에 대해서 상대적으로 회전이 가능하도록 구성된다. 한편, 회전판(51)에 대해서는 후술하는 회전수단(50)과 함께 상세하게 기술하겠다.
상기 램프부(40)는, 처리공간의 내부에 배치되며 상기 플레이트(30)에 올려지는 치과용 임플란트(90)에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트(90)의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 것이다. 이러한 램프부(40)는 고 에너지선을 조사할 수 있는 것이라면 무엇이나 사용될 수 있음은 물론이다.
한편, 상기 고 에너지선을 조사하는 램프의 파장은 400nm 이하일 수 있으며, 바람직하게는 100 ~ 300nm 범위를 가지는 것이 바람직하다. 이러한 범위내에서는 임플란트(90)의 표면을 효과적으로 개질하거나 세정할 수 있게 된다.
상기 회전수단(50)은, 상기 처리공간 내에 배치된 치과용 임플란트(90)를 상기 처리공간 내에서 회전가능하도록 하여 상기 치과용 임플란트(90)의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있게 한다.
구체적으로 상기 회전수단(50)은, 용기(91) 내에 설치되어 있는 치과용 임플란트(90)를 회전하기 위하여 상기 용기(91) 전체를 회전하여 상기 치과용 임플란트(90)가 용기(91)와 함께 회전하도록 한다. 본 실시예에서 상기 회전수단(50)은, 상기 플레이트(30)에 마련되며 소정의 회전동력원에 의하여 회전가능하고 상기 치과용 임플란트(90)가 올려진 회전판(51)이다.
이러한 회전판(51)은 대략 원판의 형상을 가지고 있으며 일측으로부터 중심을 향하여 파여진 회전판결합홈(52)이 형성된다. 상기 회전판결합홈(52)은 상기 용기(91)의 하단이 걸릴 수 있도록 구성된다. 상기 회전판결합홈(52)의 내주면에는 내측으로 돌출된 돌기(52a)가 마련되어 있어 일단 회전판결합홈(52)의 중앙으로 삽입된 용기(91)가 외부로 빠져나가는 것을 방지하도록 한다.
상기 회전판(51)을 회전하는 회전동력원(미도시)은 모터 및 상기 모터의 회전력을 상기 회전판(51)에 동력을 전달하는 동력전달수단이 사용될 수 있으며 이러한 동력전달원은 통상적인 구성이므로 구체적인 설명은 생략한다.
상기 차단막(60)은, 하우징(20)의 처리공간 내에 마련되는 것으로서, 플레이트(30)와 램프부(40)의 사이에 배치된다. 구체적으로는 치과용 임플란트와 램프브 사이에 배치된다. 이러한 차단막(60)은 램프부(40)로부터 나오는 고 에너지선을 차단할 수 있도록 슬라이드 가능하게 처리공간 내에 설치된다. 상기 차단막(60)은 치과용 임플란트(90)가 상기 처리공간 내에 존재하는지 여부에 따라서 개방 및 폐쇄가 가능하도록 슬라이드 이동할 수 있도록 설계된다.
상기 판독기(70)는, 상기 하우징(20) 내부의 처리공간 내에 배치되며 상기 치과용 임플란트(90)가 상기 하우징(20)의 처리공간 내에 존재하는지 여부를 인식하기 위한 것이다. 이러한 판독기(70)는 바코드 또는 전파식별(RFID) 태그 또는 IR 방식 (이하 '바코드 등'이라 함) 중 어느 하나로 사용될 수 있다. 다만, 바람직하게는 RFID 방식이 선택될 수 있다.
한편, 상기 치과용 임플란트(90)에는 상기 판독기(70)에 의하여 인식될 수 있는 바코드 등이 부착될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며 상기 치과용 임플란트(90)가 설치된 용기(91) 상에 상기 바코드(92) 등이 부착될 수 있다.
이러한 바코드 등에는 상기 치과용 임플란트(90)의 생산처 및 제품명 등이 저장될 수 있으며, 상기 판독기(70)는 상기 바코드 등을 인식한 후에 소정의 제어부로 그 정보를 보내고 제어부(미도시)는 상기 판독기(70)에 의하여 얻어진 데이터를 근거로 하여 상기 차단막(60)의 슬라이드 이동을 제어할 수 있다.
한편, 상기 차단막(60)은 치과용 임플란트(90)의 존재여부만을 파악하는 것이 아니라, 원하는 회사의 제품인지 여부도 동시에 판별할 수 있다. 예컨데 고 에너지선 조사장치(10) 내에 투입된 임플란트(90)가 원하는 생산자의 제품이 아닌 경우에는 차단막(60)의 슬라이드 이동을 제한할 수도 있다.
이러한 본 발명의 일실시예에 따른 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치는 다음과 같은 작용효과를 가진다.
먼저, 고 에너지선의 조사가 요구되는 치과용 임플란트(90)를 준비한다. 상기 치과용 임플란트(90)는 용기(91) 내에 결합되어 있게 된다. 이때 상기 치과용 임플란트(90)는 나사산부가 용기(91)의 외부로 노출된 상태로 상기 용기(91)에 결합된다. 치과용 임플란트(90)의 준비가 완료되면 하우징(20)의 일측을 개방하고 플레이트(30)를 하우징(20)의 외부로 인출한다. 이후에 용기(91)를 도 3에 도시된 바와 같이 플레이트(30)의 삽입홈(31a)의 상측에 배치한 후에, 도 4에 도시된 바와 같이 용기(91)를 상기 삽입홈(31a)에 끼운 상태에서 슬라이드 이동시켜 회전판(51)의 회전판결합홈(52)에 안착시킨다. 이와 같이 치과용 임플란트(90)가 결합된 용기(91)가 플레이트(30) 측에 고정된 후에는 상기 플레이트(30)를 하우징(20) 내부로 인입시켜 치과용 임플란트(90)가 고 에너지선 조사가 될 수 있는 상태에 놓이게 한다.
이후에, 판독기(70)를 통해서 치과용 임플란트(90)가 처리공간 내부에 올바르게 위치되었는지 여부 및 처리공간 내부에 위치한 치과용 임플란트(90)가 원하는 생산자의 제품인지를 인식한 후에 제어부에 의하여 올바르다고 판단되면 상기 차단막(60)을 가동시켜 상기 램프가 마련된 공간이 치과용 임플란트(90)를 향하여 개방되도록 한다.
차단막(60)이 개방된 후에는 회전판(51)을 회전시키면서 램프부(40)로부터 고 에너지선이 방출되도록 한다. 이때 방출된 고 에너지선을 처리공간 내부의 공기 중 산소를 오존으로 변화시키면서 그 오존이 상기 치과용 임플란트(90)의 표면을 개질시키거나 세정토록 한다. 특히, 본 실시예에서는 회전판(51)에 의하여 용기(91) 및 치과용 임플란트(90)가 회전되고 있기 때문에, 고 에너지선이 골고루 치과용 임플란트(90)의 표면에 닿게 되어 확실한 표면개질 및 세정기능을 달성하게 한다.
고 에너지선 조사가 완료된 후에는, 차단막(60)을 폐쇄하고 회전판(51)을 멈추며 램프부(40)로부터 고 에너지선이 조사되지 않도록 한다. 이후에 하우징(20)을 개방하고 플레이트(30)를 인출하여 고 에너지선 조사가 완료된 치과용 임플란트(90)가 설치된 용기(91)를 상기 플레이트(30)로부터 빼내게 된다.
이러한 본 발명의 일실시예에 따른 고 에너지선 조사장치(10)는, 회전판(51)에 의하여 치과용 임플란트(90)가 회전할 수 있기 때문에 임플란트(90)에 균일한 고 에너지선 조사가 가능하여 확실한 표면 개질 및 세정효과를 달성할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 고 에너지선 조사장치(10)는, 판독기(70) 및 차단막(60)이 설치되어 있어 비어있는 공간이 있는 경우에는 불필요한 고 에너지선 조사를 방지할 수 있고, 또한 처리공간 내부에 원하는 제품이 아닌 다른 제품이 삽입된 경우에는 고 에너지선 조사가 이루어지지 않도록 하여 전체적인 고 에너지선 조사의 신뢰성을 담보할 수 있는 장점이 있다.
이러한 본 실시예에 따른 고 에너지선 조사장치(10)는, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 다수개의 치과용 임플란트(90)가 하나의 하우징(20) 내에 배치시킬 수 있다. 예컨데, 상기 플레이트(30)는 수평방향으로 길게 연장되어 있고 그 플레이트(30)에는 다수의 삽입홈(31a), 회전판 수용홈(31b)이 형성될 수 있도록 할 수 있다. 또한, 상기 플레이트(30)에는 회전판(51)이 다수개가 배치될 수 있다. 한편, 차단막(60)도 각각의 치과용 임플란트(90)가 설치되는 위치에 대응하여 개별적으로 설치될 수 있으며, 판독기(70)는 단일 또는 다수개가 배치될 수 있다. 한편 판독기(70)가 단일로 배치되는 경우에는 도 6에 도시된 바와 같이 치과용 임플란트(90)가 배치되는 방향을 따라서 상기 판독기(70)가 슬라이드 이동하면서 다수의 치과용 임플란트(90)에 대한 인식을 수행할 수 있게 된다. 이에 따라서 치과용 임플란트(90)가 배치되지 않은 구역에는 차단막(60)이 열리지 않도록 하여 불필요한 고 에너지선 조사가 이루어지는 것을 방지할 수 있다.
또한, 치과용 임플란트(90)가 존재하지만 원하는 생산자의 상품이 아닌 경우에도 차단막(60)이 개방되지 않도록 하여 불필요한 램프부(40)의 고 에너지선 조사가 이루어지지 않도록 할 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 도 7에 도시된 바와 같이 주입장치가 더 구비될 수 있다. 이러한 주입장치는, 소정의 내부공간이 마련되며 그 내부에 하우징이 배치되는 챔버(80) 및 그 챔버에 마련되는 인입부, 배출부를 포함한다. 이러한 주입장치는 챔버(80)를 포함하며 그 내부에 대기압 이상의 불활성 기체 또는 산소혼합 기체가 주입되도록 할 수 있다. 한편, 상기 챔버(80)에는 불활성 기체 또는 산소혼합 기체가 주입되는 인입부(81) 및 상기 챔버(80) 내의 공기를 외부로 배출하는 배출부(82)를 포함할 수 있다. 상기 인입부(81)로부터 인입되는 불활성 기체 또는 산소혼합 기체의 양은 상기 배출부(82)로부터 배출되는 공기의 양보다 많아서 상기 챔버(80) 내부가 대기압 이상을 유지토록 하는 것이 바람직하다.
상기 인입부(81)는 불활성 기체 또는 산소혼합 기체를 공급하기 위한 공급수단(81a)과 연결되어 있게 된다.
이를 위하여 본 실시예에서는 인입부(81)의 갯수를 3개로 하고 배출부(82)의 갯수를 1개로 하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 인입부(81)의 면적을 배출부(82)의 면적보다 크게 하는 것도 가능함은 물론이다.
한편, 챔버(80) 내에 산소혼합 기체를 공급하는 경우는 고 에너지선의 조사가 이루어지는 시간 동안이다. 상술한 바와 같이, 고 에너지선 세정 동안에는 공기 중의 산소를 오존으로 변화시켜 그 오존이 치과용 임플란트(90)의 표면 개질 및 세정을 수행하게 되는데, 이때 산소의 양이 공기 중에 많게 되면 보다 확실한 표면 개질 및 세정이 수행되는데 이를 위하여 본 실시예에서는 인입부(81)를 통하여 많은 양의 산소가 챔버(80) 내부에 공급될 수 있도록 한다.
한편, 불활성 기체는 아르곤 또는 질소가 사용되는데, 이러한 불활성 기체는 고 에너지선 조사가 완료되었으나, 곧바로 사용이 이루어지지 않고 보관중인 경우에 사용된다. 세정이 완료된 치과용 임플란트(90)는 소정 시간 이내에 환자의 치아로 이식되지 않고 오랜 시간 동안 공기중에 노출되는 경우에는 그 치과용 임플란트(90)의 표면에 다시 이물질 등이 생성되게 된다. 이러한 이물질의 생성은 환자의 치조골 내에서 그 임플란트(90)와 치조골 간의 골융합을 저해하는 주요 원인이 된다.
따라서, 보관기간 동안에 챔버(80) 내에 상기 불활성 가스를 인입하는 경우에는 이물질의 생성이 억제되어 다시 고 에너지선 조사를 해야 하는 번거로움을 피할 수 있게 되는 것이다.
본 실시예에 따른 고 에너지선 조사장치(10)는 이에 한정되는 것은 아니며 도 8 및 도 9에 개시된 바와 같이 변형되는 것도 가능하다.
도 8 및 9에 도시된 고 에너지선 조사장치(10)는, 회전수단(50)으로서 처리공간 내부에 배치되며 플레이트(30)에 올려지는 치과용 임플란트(90)의 일부와 결합되어 상기 치과용 임플란트(90)를 회전시키는 회전척(52)이 사용된다. 구체적으로는 치과용 임플란트(90)의 나사부(90a)가 용기(91)의 내부에 배치되고 결합부(90b)가 외부로 노출되는 경우에는 회전수단(50)으로서 회전척(52)이 사용될 수 있다. 그 이유는 나사부(90a)가 용기(91)의 내부에 존재하는 경우에는 용기(91)에 가려져서 나사부(90a)의 일부가 고 에너지선에 조사되지 않을 수 있기 때문이다. 이 경우에는 용기(91)의 입구 측을 먼저 고 에너지선을 바라보도록 배치한 후에, 용기(91)는 플레이트(30)에 고정한 상태에서 치과용 임플란트(90)만을 회전시켜 상기 치과용 임플란트(90)의 나사부(90a)가 전체적으로 고 에너지선에 노출될 수 있도록 하는 것이다.
이때 사용되는 회전척(52)은 하우징(20) 내에 배치되고 상승 및 하강이 가능하고 하강하여 상기 치과용 임플란트(90)의 결합부(90b)에 결합된 후에는 회전하면서 상기 치과용 임플란트(90)를 회전시킬 수 있도록 구성된다.
그 이외의 구성은 이미 설명한 고 에너지선 조사장치와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
또한, 상술한 실시예에 따른 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치는, 도 10에 도시된 바와 같이 변형되는 것도 가능하다.
상기 고 에너지선 조사장치에 의하면, 치과용 임플란트의 표면에 고 에너지선이 골고루 조사될 수 있도록 복수의 램프부를 포함하는 것을 특징으로 하며, 그 외에 하우징, 플레이트 등의 구성은 상술한 실시예들과 유사하다.
즉, 도 10에 도시된 실시예에서는, 램프부가 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 치과용 임플란트의 주변에 복수개 배치되며, 구체적으로는 치과용 임플란트의 둘레를 따라서 2개 또는 3개가 배치될 수 있다. 도 10에서는 2개의 치과용 임플란트가 치과용 임플란트의 둘레에 배치되어 있는 것을 도시한다. 이와 같이 복수개의 램프부가 치과용 임플란트의 주변에 배치됨에 따라서 고 에너지선이 조사되는 경우에 치과용 임플란트의 전면에 걸쳐서 고 에너지선이 조사될 수 있으며 이에 따라서 확실한 세정 및 표면개질의 효과가 있게 된다.
이상에서 실시예 및 다양한 변형예를 들어 본 발명을 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예들 및 변형예에 한정되는 것은 아니고 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다.
10...고 에너지선 조사장치 20...하우징
21...개폐문 30...플레이트
31...몸체판 31a...삽입홈
31b...회전판 수용홈
40...램프부 50...회전수단
51...회전판 52...회전척
52a...회전판결합홈 52a...돌기
60...차단막 70...판독기
80...챔버 81...인입부
81a...공급수단 82...배출부
90...치과용 임플란트 90a...나사부
90b...결합부 91...용기

Claims (16)

  1. 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
    내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
    상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부;
    상기 처리공간 내에 배치된 치과용 임플란트를 상기 처리공간 내에서 회전가능하도록 하여 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 하는 회전수단; 및
    상기 치과용 임플란트와 상기 램프부의 사이에 배치되며 상기 램프부로부터 나오는 고 에너지선을 차단할 수 있는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 고 에너지선을 조사하는 램프의 파장은, 400nm 이하인 것으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 고 에너지선을 조사하는 램프의 파장은, 100~300nm 범위를 가지는 것으로 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 회전수단은,
    상기 하우징 내부에 마련되며 회전동력원에 의하여 회전가능하고 상기 치과용 임플란트가 올려지는 회전판인 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 회전수단은,
    상기 처리공간 내부에 배치되며 치과용 임플란트의 일부와 결합되어 상기 치과용 임플란트를 회전시키는 회전척인 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 차단막은 치과용 임플란트가 상기 처리공간 내에 존재하는지 여부에 따라서 개방 및 폐쇄가 가능한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 하우징의 내부에는 상기 치과용 임플란트가 상기 하우징의 처리공간 내에 존재하는지 여부를 인식하기 위한 판독기가 마련되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 판독기는 바코드 또는 전파식별(RFID) 태그를 인식하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  10. 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
    내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
    상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부;
    상기 하우징의 외부에 배치되어, 상기 하우징 내에 대기압 이상의 불활성 기체 또는 산소혼합 기체를 주입하는 주입장치; 및
    상기 치과용 임플란트와 상기 램프부의 사이에 배치되며 상기 램프부로부터 나오는 고 에너지선을 차단할 수 있는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 주입장치는, 하우징을 감싸도록 배치하며 내부에 공간을 마련하고 있는 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 주입장치에는 상기 불활성 기체 또는 산소혼합 기체가 주입되는 인입부 및 상기 챔버 내의 공기를 외부로 배출하는 배출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 인입부로부터 인입되는 불활성 기체 또는 산소혼합 기체의 양은 상기 배출부로부터 배출되는 공기의 양보다 많은 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 불활성 기체는 아르곤 또는 질소를 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  15. 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,
    내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징;
    상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부; 및
    상기 치과용 임플란트와 상기 램프부의 사이에 배치되며 상기 램프부로부터 나오는 고 에너지선을 차단할 수 있는 차단막을 포함하되,
    상기 램프부는 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 치과용 임플란트의 주변에 복수 배치되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 램프부는, 상기 치과용 임플란트의 둘레를 따라서 2개 또는 3개가 배치되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치.
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