KR101284093B1 - 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 - Google Patents
기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치Info
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Abstract
기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 일측 테두리부측과 타측 테두리부측과 중앙부 일측이 메인지지바와 보조지지바에 접촉 지지되고, 나머지 부위는 노출된다. 따라서, 지지 유닛에 기판을 지지하여 기판을 처리할 때, 기판의 전체 부위가 균일하게 처리되는 효과가 있다. 그리고, 로봇의 아암으로 기판을 지지하여 메인지지바 및 보조지지바에 탑재할 때, 메인지지바와 보조지지바의 사이에 로봇의 아암이 위치되게 하여 로봇의 아암을 하강시키면 되므로, 기판을 메인지지바 및 보조지지바의 상측으로 이격시킨 후 하강시키기 위한 별도의 장치가 필요 없다. 따라서, 원가가 절감된다.
Description
본 발명은 복수의 기판을 적재 지지할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학기상 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리기상 증착 장치가 있다.
그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착을 한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키는 열처리 장치이다.
일반적으로, 열처리 장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 열처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 열처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 열처리 장치가 많이 사용된다.
배치식 열처리 장치에는 열처리 공간을 제공하는 챔버가 형성되고, 챔버에는 챔버로 로딩된 복수의 기판을 각각 지지하는 지지부재인 홀더가 설치된다.
상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는, 홀더와 대향하는 기판의 일면 전체가 홀더와 접촉하므로, 홀더와 접촉하는 기판의 일면과 비접촉하는 기판의 타면이 불균일하게 처리되는 단점이 있었다.
그리고, 로봇의 아암으로 기판을 지지하여 홀더에 탑재할 때, 로봇의 아암에 탑재된 기판을 홀더의 상측에서 받은 다음 하강하여 홀더에 탑재시키기 위한 별도의 수단이 필요하므로, 원가가 상승하는 단점이 있었다.
기판 지지하는 유닛과 관련한 선행기술은 한국등록특허공보 제10-0921521호 등에 개시되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판을 균일하게 처리할 수 있음과 동시에 원가를 절감할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판용 지지 유닛은, 제 1 받침대, 상기 제 1 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 1 지지대, 상기 제 1 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 1 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련된 제 1 지지부재; 일측은 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재를 상호 연결하는 제 1 연결부재; 제 2 받침대, 상기 제 2 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 2 지지대, 상기 제 2 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 2 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련된 제 2 지지부재; 일측은 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 상호 연결하는 제 2 연결부재; 일측은 상기 제 1 연결부재에 결합되고 타측은 상기 제 2 연결부재에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재와 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 연결하는 제 3 연결부재; 한 쌍으로 마련되며, 일측은 한 쌍의 상기 제 1 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀에 각각 지지되고, 타측은 한 쌍의 상기 제 2 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀에 각각 지지되며, 기판의 일측면측 및 타측면측이 탑재 지지되는 메인지지바를 포함한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 내부에 형성된 본체, 상기 본체의 내부에 설치되며 복수의 기판이 적재 지지되는 지지 유닛을 포함하는 기판 처리 장치로서, 상기 지지 유닛은, 제 1 받침대, 상기 제 1 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 1 지지대, 상기 제 1 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 1 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 상기 본체의 전면측 모서리부에 설치된 제 1 지지부재; 일측은 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재를 상호 연결하는 제 1 연결부재; 제 2 받침대, 상기 제 2 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 2 지지대, 상기 제 2 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 2 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 상기 본체의 후면측 모서리부에 설치된 제 2 지지부재; 일측은 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 상호 연결하는 제 2 연결부재; 일측은 상기 제 1 연결부재에 결합되고 타측은 상기 제 2 연결부재에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재와 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 연결하는 제 3 연결부재; 한 쌍으로 마련되며, 일측은 한 쌍의 상기 제 1 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀에 각각 지지되고, 타측은 한 쌍의 상기 제 2 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀에 각각 지지되며, 기판의 일측면측 및 타측면측이 탑재 지지되는 메인지지바를 포함한다.
본 발명에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 기판의 일측 테두리부측과 타측 테두리부측과 중앙부 일측이 메인지지바와 보조지지바에 접촉 지지되고, 나머지 부위는 노출된다. 따라서, 지지 유닛에 기판을 지지하여 기판을 처리할 때, 기판의 전체 부위가 균일하게 처리되는 효과가 있다.
그리고, 로봇의 아암으로 기판을 지지하여 메인지지바 및 보조지지바에 탑재할 때, 메인지지바와 보조지지바의 사이에 로봇의 아암이 위치되게 하여 로봇의 아암을 하강시키면 되므로, 기판을 메인지지바 및 보조지지바의 상측으로 이격시킨 후 하강시키기 위한 별도의 장치가 필요 없다. 따라서, 원가가 절감된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도.
도 3은 도 2의 "A"부 확대도.
도 4는 도 1의 정면도.
도 5는 도 4의 "B"부 확대도.
도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도.
도 3은 도 2의 "A"부 확대도.
도 4는 도 1의 정면도.
도 5는 도 4의 "B"부 확대도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분하게 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.
여기서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판 상에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판 상에 증착된 막의 어닐링, 결정화 또는 상변화를 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 챔버(110a)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 챔버(110a)는 밀폐된 공간으로 마련된다.
본체(110)의 전면은 개방되어 도어(113)가 설치되는데, 도어(113)는 챔버(110a)를 개폐한다. 도어(113)를 열어 챔버(110a)를 개방한 상태에서, 로봇의 아암(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(110a)로 로딩한다. 그리고, 도어(113)를 닫아 챔버(110a)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다.
본체(110)의 내부에는 기판(50)이 적재 지지되는 지지 유닛(200), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시) 및 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치된다.
지지 유닛(200)에 대하여 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도이고, 도 3은 도 2의 "A"부 확대도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 지지 유닛(200)는 석영재 또는 세라믹으로 형성되며, 제 1 지지부재(210), 제 2 지지부재(220), 제 3 지지부재(230), 제 1 연결부재(241), 제 2 연결부재(244), 제 3 연결부재(247) 및 메인지지바(250)를 포함한다.
제 1 지지부재(210)는 상호 대향하는 한 쌍(210a, 210b)으로 마련되어 세트를 이루며, 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 제 1 받침대(211), 제 1 받침대(211)의 일단부측에서 상측으로 연장 형성되며 제 1 받침대(211)와 수직을 이루는 제 1 지지대(214), 제 1 지지대(214)의 일측면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 각각 제 1 받침대(211)와 수평을 이루는 제 1 지지핀(217)을 각각 가진다.
한 쌍의 제 1 지지부재(210a, 210b) 중, 어느 하나의 제 1 지지부재(210a)는 본체(110)의 전면측 좌측 모서리부에 위치되고, 다른 하나의 제 1 지지부재(210b)는 본체(110)의 전면측 우측 모서리부에 위치된다. 이때, 어느 하나의 제 1 지지부재(210a)의 제 1 지지핀(217)과 다른 하나의 제 1 지지부재(210b)의 제 1 지지핀(217)은 상호 대향한다.
제 1 연결부재(241)는 일측은 어느 하나의 제 1 지지부재(210a)의 제 1 지지대(214)의 상단면에 결합되고, 타측은 다른 하나의 제 1 지지부재(210b)의 제 1 지지대(214)의 상단면에 결합되어 쌍을 이루는 제 1 지지부재(210a, 210b)를 상호 일체로 연결한다.
제 2 지지부재(220)는 상호 대향하는 한 쌍(220a, 220b)으로 마련되어 세트를 이루며, 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 제 2 받침대(221), 제 2 받침대(221)의 일단부측에서 상측으로 연장 형성되어 제 2 받침대(221)와 수직을 이루는 제 2 지지대(224), 제 2 지지대(224)의 일측면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 각각 제 2 받침대(221)와 수평을 이루는 제 2 지지핀(227)을 각각 가진다.
한 쌍의 제 2 지지부재(220a, 220b) 중, 어느 하나의 제 2 지지부재(220a)는 본체(110)의 후면측 좌측 모서리부에 위치되고, 다른 하나의 제 2 지지부재(220b)는 본체(110)의 후면측 우측 모서리부에 위치된다. 이때, 어느 하나의 제 2 지지부재(220a)의 제 2 지지핀(227)과 다른 하나의 제 2 지지부재(220b)의 제 2 지지핀(227)은 상호 대향한다.
제 2 연결부재(244)는 일측은 어느 하나의 제 2 지지부재(220a)의 제 2 지지대(224)의 상단면에 결합되고, 타측은 다른 하나의 제 2 지지부재(220b)의 제 2 지지대(224)의 상단면에 결합되어 쌍을 이루는 제 2 지지부재(220a, 220b)를 상호 일체로 연결한다.
제 1 지지부재(210)와 제 2 지지부재(220)는 공용으로 사용할 수 있도록 동일하게 형성된다.
제 3 연결부재(247)는 일측은 제 1 연결부재(241)에 결합되고 타측은 제 2 연결부재(244)에 결합되어 쌍을 이루는 제 1 지지부재(210)와 쌍을 이루는 제 2 지지부재(220)를 상호 일체로 연결한다.
메인지지바(250)는 한 쌍으로 마련되어 제 1 및 제 2 지지핀(217, 227)에 탑재 지지되며, 기판(50)의 일측 테두리부측 하면 및 타측 테두리부측 하면이 탑재 지지된다.
상세히 설명하면, 한 쌍의 메인지지바(250a, 250b) 중, 어느 하나의 메인지지바(250a)의 일측은 어느 하나의 제 1 지지부재(210a)의 제 1 지지핀(217)에 탑재 지지되고, 타측은 어느 하나의 제 2 지지부재(220a)의 제 2 지지핀(227)에 탑재 지지된다. 그리고, 다른 하나의 메인지지바(250b)의 일측은 다른 하나의 제 1 지지부재(210b)의 제 1 지지핀(217)에 탑재 지지되고, 타측은 다른 하나의 제 2 지지부재(220b)의 제 2 지지핀(227)에 탑재 지지된다.
메인지지바(250)가 견고하게 제 1 및 제 2 지지핀(217, 227)에 탑재 지지될 수 있도록, 제 1 지지핀(217)에는 메인지지바(250)의 일측이 삽입 지지되는 지지홈(217a)이 형성되고, 제 2 지지핀(227)에는 메인지지바(250)의 타측이 삽입 지지되는 지지홈(217a)이 형성된다.
그리고, 메인지지바(250)의 일단부측 및 타단부측에는 걸림편(251)이 각각 형성된다. 걸림편(251)은 제 1 지지핀(217) 및 제 2 지지핀(227)에 걸려서 메인지지바(250)가 길이방향으로 유동하는 것을 방지한다.
제 1 지지부재(210)의 제 1 지지대(214) 및 제 2 지지부재(220)의 제 2 지지대(224)를 기준으로, 메인지지바(250) 내측에 위치된 제 1 지지부재(210)의 제 1 지지핀(217) 및 제 2 지지부재(220)의 제 2 지지핀(227) 부위에는 기판(50)이 접촉 지지되는 지지돌기(217b, 227b)가 각각 형성될 수 있다.
기판(50)의 양측면측 테두리부측만이 지지되면, 기판(50)의 중앙부측이 자중에 의하여 하측으로 처질 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 쌍을 이루는 제 2 지지부재(220a, 220b) 사이에 제 3 지지부재(250)가 설치되어, 기판(50)의 중앙부측을 지지한다. 제 3 지지부재(250)는 제 2 연결부재(244)에 결합된다.
상세히 설명하면, 제 3 지지부재(230)는 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 하면과 접촉하는 제 3 받침대(231), 제 3 받침대(231)에서 상측으로 연장 형성되고 제 3 받침대(231)와 수직을 이루며 상단면(上端面)이 제 2 연결부재(244)에 결합된 제 3 지지대(234), 제 3 지지대(234)의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 제 3 받침대(231)와 각각 수평을 이루는 보조지지바(237)를 가진다. 보조지지바(237)에 기판(50)의 중앙부측이 탑재 지지된다.
기판(50)은 상기 로봇의 아암에 탑재 지지되어 메인지지바(250) 및 보조지지바(237)에 탑재 지지되므로, 메인지지바(250)와 보조지지바(237)에 사이에 상기 로봇이 아암이 위치되게 하여, 상기 로봇의 아암을 하강시키면, 상기 로봇의 아암에 탑재 지지된 기판(50)이 메인지지바(250) 및 보조지지바(237)에 탑재 지지된다.
보조지지바(237)에 대하여 도 4 및 도 5를 참조하여 상세히 설명한다. 도 4는 도 1의 정면도이고, 도 5는 도 4의 "B"부 확대도이다.
도시된 바와 같이, 보조지지바(237)는 제 1 및 제 2 지지핀(217, 227)에 지지된 상호 대응하는 각각의 메인지지바(250) 보다 높게 위치된다. 그러면, 기판(50)의 중앙부측이 테두리부측 보다 약간 높게 위치되어 지지되므로, 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 더욱 방지될 뿐만 아니라, 기판(50)의 처리시 기판(50)이 파손되는 것이 방지된다.
본 실시예에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는 기판(50)의 일측 테두리부측과 타측 테두리부측과 중앙부 일측이 메인지지바(250)와 보조지지바(237)에 접촉 지지되고, 나머지 부위는 노출된다. 따라서, 지지 유닛(200)에 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 처리할 때, 기판(50)의 전체 부위가 균일하게 처리된다.
그리고, 상기 로봇의 아암으로 기판(50)을 지지하여 메인지지바(250) 및 보조지지바(237)에 탑재할 때, 메인지지바(250)와 보조지지바(237)의 사이에 상기 로봇의 아암이 위치되게 하여 상기 로봇의 아암을 하강시키면 되므로, 기판(50)을 메인지지바(250) 및 보조지지바(237)의 상측으로 이격시킨 후 하강시키기 위한 별도의 장치가 필요 없다.
상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.
110: 본체
200: 지지 유닛
210, 220, 230: 제 1, 제 2, 제 3 지지부재
241, 244, 247: 제 1, 제 2, 제 3 연결부재
250: 메인지지바
200: 지지 유닛
210, 220, 230: 제 1, 제 2, 제 3 지지부재
241, 244, 247: 제 1, 제 2, 제 3 연결부재
250: 메인지지바
Claims (16)
- 제 1 받침대, 상기 제 1 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 1 지지대, 상기 제 1 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 1 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련된 제 1 지지부재;
일측은 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재를 상호 연결하는 제 1 연결부재;
제 2 받침대, 상기 제 2 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 2 지지대, 상기 제 2 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 2 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련된 제 2 지지부재;
일측은 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 상호 연결하는 제 2 연결부재;
일측은 상기 제 1 연결부재에 결합되고 타측은 상기 제 2 연결부재에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재와 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 연결하는 제 3 연결부재;
한 쌍으로 마련되며, 일측은 한 쌍의 상기 제 1 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀에 각각 지지되고, 타측은 한 쌍의 상기 제 2 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀에 각각 지지되며, 기판의 일측면측 및 타측면측이 탑재 지지되는 메인지지바를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제1항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 지지핀에는 상기 메인지지바가 삽입 지지되는 지지홈이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제2항에 있어서,
상기 메인지지바의 일단부측 및 타단부측에는 상기 제 1 및 제 2 지지핀에 각각 걸려서 상기 메인지지바가 길이방향으로 유동하는 것을 방지하는 걸림편이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제1항에 있어서,
상기 제 1 지지부재 및 상기 제 2 지지부재를 기준으로, 상기 메인지지바의 내측에 위치된 상기 제 1 지지핀 및 상기 제 2 지지핀의 부위에는 기판이 접촉 지지되는 접촉돌기가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제1항에 있어서,
한 쌍의 상기 제 2 지지부재 사이에 위치되어 상기 제 2 연결부재에 결합되며, 상기 기판의 중앙부측이 지지되는 제 3 지지부재가 더 마련된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제5항에 있어서,
상기 제 3 지지부재는 제 3 받침대, 상기 제 3 받침대에서 상측으로 연장 형성되어 상기 제 2 연결부재에 결합된 제 3 지지대, 상기 제 3 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 보조지지바를 가지는 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제6항에 있어서,
상기 제 1 지지부재와 상기 제 2 지지부재는 동일하게 형성된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 제7항에 있어서,
상기 제 3 지지부재의 각각의 상기 보조지지바는 상기 제 1 및 제 2 지지핀에 지지된 상호 대응되는 각각의 상기 메인지지바 보다 높게 위치된 것을 특징으로 하는 기판용 지지 유닛. - 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 내부에 형성된 본체, 상기 본체의 내부에 설치되며 복수의 기판이 적재 지지되는 지지 유닛을 포함하는 기판 처리 장치로서,
상기 지지 유닛은,
제 1 받침대, 상기 제 1 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 1 지지대, 상기 제 1 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 1 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 상기 본체의 전면측 모서리부에 설치된 제 1 지지부재;
일측은 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재를 상호 연결하는 제 1 연결부재;
제 2 받침대, 상기 제 2 받침대에서 상측으로 연장 형성된 제 2 지지대, 상기 제 2 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성된 제 2 지지핀을 각각 가지며 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 상기 본체의 후면측 모서리부에 설치된 제 2 지지부재;
일측은 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되고, 타측은 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지대에 결합되어 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 상호 연결하는 제 2 연결부재;
일측은 상기 제 1 연결부재에 결합되고 타측은 상기 제 2 연결부재에 결합되어 한 쌍의 상기 제 1 지지부재와 한 쌍의 상기 제 2 지지부재를 연결하는 제 3 연결부재;
한 쌍으로 마련되며, 일측은 한 쌍의 상기 제 1 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 1 지지부재의 상기 제 1 지지핀에 각각 지지되고, 타측은 한 쌍의 상기 제 2 지지부재 중, 어느 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀 및 다른 하나의 상기 제 2 지지부재의 상기 제 2 지지핀에 각각 지지되며, 기판의 일측면측 및 타측면측이 탑재 지지되는 메인지지바를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제9항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 지지핀에는 상기 메인지지바가 삽입 지지되는 지지홈이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제10항에 있어서,
상기 메인지지바의 일단부측 및 타단부측에는 상기 제 1 및 제 2 지지핀에 각각 걸려서 상기 메인지지바가 길이방향으로 유동하는 것을 방지하는 걸림편이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제11항에 있어서,
상기 제 1 지지부재 및 상기 제 2 지지부재를 기준으로, 상기 메인지지바의 내측에 위치된 상기 제 1 지지핀 및 상기 제 2 지지핀의 부위에는 기판이 접촉 지지되는 접촉돌기가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제9항에 있어서,
한 쌍의 상기 제 2 지지부재 사이에 위치되어 상기 제 2 연결부재에 결합되며, 상기 기판의 중앙부측이 지지되는 제 3 지지부재가 더 마련된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제13항에 있어서,
상기 제 3 지지부재는 제 3 받침대, 상기 제 3 받침대에서 상측으로 연장 형성되어 상기 제 2 연결부재에 결합된 제 3 지지대, 상기 제 3 지지대의 일면에 상하로 간격을 가지면서 복수개 형성되며 상기 기판의 중앙부측이 탑재 지지되는 보조지지바를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제14항에 있어서,
상기 제 1 지지부재와 상기 제 2 지지부재는 동일하게 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제15항에 있어서,
상기 제 3 지지부재의 각각의 상기 보조지지바는 상기 제 1 및 제 2 지지핀에 지지된 상호 대응되는 각각의 상기 메인지지바 보다 높게 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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|---|---|---|---|
| KR1020120006016A KR101284093B1 (ko) | 2012-01-19 | 2012-01-19 | 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|
| KR101284093B1 true KR101284093B1 (ko) | 2013-07-10 |
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| KR1020120006016A KR101284093B1 (ko) | 2012-01-19 | 2012-01-19 | 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104576445A (zh) * | 2013-10-24 | 2015-04-29 | 泰拉半导体株式会社 | 批处理式基板处理装置 |
| WO2017155249A1 (ko) * | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 주식회사 케이씨씨 | 세라믹 기판 제조용 적층 시스템 및 이를 이용한 세라믹 기판의 제조 방법 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2002130959A (ja) | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Tabai Espec Corp | 積載装置のワーク受け |
| KR20040007294A (ko) * | 2002-07-15 | 2004-01-24 | 샤프 가부시키가이샤 | 기판용 카세트 |
| KR20100094696A (ko) * | 2009-02-19 | 2010-08-27 | 주식회사 테라세미콘 | 보트 |
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-
2012
- 2012-01-19 KR KR1020120006016A patent/KR101284093B1/ko active IP Right Grant
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