KR101282554B1 - Shield member, components thereof and substrate mounting table comprising shield member - Google Patents

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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

열 팽창해도 하부 전극과의 사이에 간극이 발생하지 않고, 하부 전극에 있어서의 이상 방전 및 이로전의 발생을 방지할 수 있는 실드 부재를 제공한다.
하부 전극의 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라 배치되는 절연성의 긴 형상 물체로 이루어지고, 길이 방향의 한쪽 끝에 마련된 고정용 나사 구멍과 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 지지용 나사 구멍을 갖는 링 구성 부품을, 각 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면이 인접하는 다른 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝의 측면이 인접하는 다른 링 구성 부품과는 다른 별도의 링 구성 부품의 한쪽 끝의 단면에 당접하도록 조합하여, 각 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝을 고정용 나사 구멍으로 탑재대의 기재에 고정하고, 다른쪽 끝을 지지용 나사 구멍으로 변위 자유롭게 지지하며, 각 구성 부품이 고정단을 기점으로 해서 긴 형상 물체의 길이 방향으로 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 배열하고, 하부 전극의 각 모서리부를 평면으로 면따기하며, 면따기면에 당접하는 평면을 갖는 삼각형상의 끼워맞춤 부재를 배치했다. Provided is a shield member that does not generate a gap between the lower electrode even when thermally expanded, and can prevent the occurrence of abnormal discharge and erosion in the lower electrode.
It consists of an insulating elongate object disposed along one side of a rectangular mounting surface of the lower electrode, and has a fixing screw hole provided at one end in the longitudinal direction and a support screw hole provided spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object. The ring component part abuts the side surface of one end part in the longitudinal direction of another ring component part in which the cross section of one end of the longitudinal direction of each ring component adjoins, and the other ring component part which the side of the other end adjoins. In combination so as to abut on the end face of one end of the other separate ring component, one end in the longitudinal direction of each ring component is fixed to the base material of the mount by the fixing screw hole, and the other end is displaced by the supporting screw hole. Freely supported, each component is arranged to be thermal expansion or heat shrinkage in the longitudinal direction of the elongated object from the fixed end, And picking up each of the side edge portion of the planar electrode, and to place the fastening member fitted on the triangle having a flat contact surface per the picking face.

Description

실드 부재, 그 구성 부품 및 실드 부재를 구비한 기판 탑재대{SHIELD MEMBER, COMPONENTS THEREOF AND SUBSTRATE MOUNTING TABLE COMPRISING SHIELD MEMBER}SHIELD MEMBER, COMPONENTS THEREOF AND SUBSTRATE MOUNTING TABLE COMPRISING SHIELD MEMBER}

본 발명은 기판 처리 장치의 처리실 내에서 기판을 탑재하는 기판 탑재대에 적용되는 실드 부재, 그 구성 부품 및 실드 부재를 구비한 기판 탑재대에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shield member applied to a substrate mounting table for mounting a substrate in a processing chamber of a substrate processing apparatus, a component part thereof, and a substrate mounting table provided with the shield member.

액정 표시 장치(LCD)를 비롯한 FPD(Flat Panel Display)의 제조 공정에 있어서, 유리 기판을 비롯한 각종 기판에 대해 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치가 알려져 있다. BACKGROUND OF THE INVENTION In a manufacturing process of a flat panel display (FPD) including a liquid crystal display (LCD), a substrate processing apparatus that performs a plasma treatment on various substrates including a glass substrate is known.

이러한 기판 처리 장치에 있어서는, 처리실(이하, 「챔버」라고 함) 내에서 기판을 지지하는 기판 탑재대와, 상기 기판 탑재대와 처리 공간을 사이에 두고 대향하도록 배치된 상부 전극을 갖고, 하부 전극으로서 기능하는 기판 탑재대에 플라즈마 생성용 고주파 전력(RF)을 인가함과 아울러, 챔버 내의 처리 공간에 처리 가스를 도입하여 플라즈마를 생성시키고, 생성한 플라즈마를 이용해서 기판 탑재대의 기판 탑재면에 탑재된 기판에 대해 소정의 플라즈마 처리가 실시된다. In such a substrate processing apparatus, it has a substrate mounting table which supports a board | substrate in a processing chamber (henceforth a "chamber"), and the upper electrode arrange | positioned so as to oppose the said board mounting table and a processing space between them, and has a lower electrode The plasma generating high frequency power (RF) is applied to the substrate mounting table that functions as a function, and the processing gas is introduced into the processing space in the chamber to generate plasma, and the generated plasma is mounted on the substrate mounting surface of the substrate mounting table. The given substrate is subjected to a predetermined plasma treatment.

기판 탑재대의 기판 탑재면은 직사각형을 나타내고 있고, 그 바깥 둘레부에는, 플라즈마의 포커스성의 향상 및 RF의 절연을 확보하기 위해서, 실드 부재로서의 실드 링이 배치되어 있다. 실드 링은 알루미나(A1203)를 비롯한 절연성의 세라믹으로 구성되어 있고, 예컨대 하부 전극의 기재(基材)에 나사에 의해 고정된다. 실드 링은, 직사각형의 하부 전극의 기판 탑재면 주위를 둘러싸는 직사각형의 환상체이기 때문에 일체 성형이 곤란하다는 점 및 최근의 산업계의 요청 등에 따라서 처리 기판이 대형화되고 있다는 점에서, 통상, 복수의 구성 부재의 조합에 의해 형성되어 있다.The board | substrate mounting surface of a board | substrate mounting stand has shown the rectangle, and the shield ring as a shield member is arrange | positioned in the outer peripheral part in order to improve the focusability of a plasma and to ensure the insulation of RF. The shield ring is made of an insulating ceramic including alumina (A1 2 0 3 ), and is fixed to the base of the lower electrode by screws, for example. Since a shield ring is a rectangular annular body which surrounds the board | substrate mounting surface of a rectangular lower electrode, since integral molding is difficult and the process board | substrate is enlarged according to the recent industrial request etc., a plurality of structures are normally It is formed by the combination of members.

도 12는 종래의 실드 링의 구성을 나타내는 도면이다.It is a figure which shows the structure of the conventional shield ring.

도 12에 있어서, 하부 전극(100)의 직사각형의 기판 탑재면(106) 주위를 둘러싸도록 실드 링(105)이 배치되어 있다. 실드 링(105)은, 평면도 상에서 봤을 때 대략 L자 형상의 4개의 링 구성 부품(101~104)의 조합체이다. 각 링 구성 부품(101~104)은 각각 L자 형상의 모서리부 근방과, 상기 모서리부에 이어서 마련된 긴 형상부의 선단부 근방의 2개소에 나사 구멍(107)을 갖고, 각 링 구성 부품(101~104)은, 나사 구멍(107)에 장착된 고정 나사에 의해 하부 전극(100)의 기판 탑재면(106) 주위를 구성하는 플랜지부에 고정되어 있다. 12, the shield ring 105 is arrange | positioned so that the circumference | surroundings of the rectangular substrate mounting surface 106 of the lower electrode 100 may be enclosed. The shield ring 105 is a combination of four ring component parts 101 to 104 having an approximately L shape in a plan view. Each ring component 101-104 has the screw hole 107 in two places of the L-shaped edge part vicinity and the front end part of the elongate part provided next to the said edge part, respectively, and each ring component part 101-104. 104 is fixed to the flange part which comprises the board | substrate mounting surface 106 circumference of the lower electrode 100 with the fixing screw attached to the screw hole 107. As shown in FIG.

그런데, 실드 링(105)은, 처리 목적에 따라서 가열되는 하부 전극(100)으로부터의 전열(傳熱), 및 플라즈마의 연속 조사 등에 의해서 가열되어, 열 팽창한다. 이 때, 인접하는 링 구성 부품 상호의 당접면에서, 팽창에 의해 다른 쪽을 누르는 힘이 발생하고, 이에 의해서, 예컨대, 나사 구멍(107)과 고정 나사(도시 생략)의 클리어런스만큼 변위하기 때문에, 실드 링(105)과 기판 처리면(106) 사이에 간극이 생기는 경우가 있다. By the way, the shield ring 105 is heated by the heat transfer from the lower electrode 100 heated according to the processing purpose, continuous irradiation of plasma, etc., and thermally expands. At this time, in the abutment surfaces of the adjacent ring component parts, a force for pushing the other side is generated by expansion, thereby displacing, for example, by the clearance of the screw hole 107 and the fixing screw (not shown). A gap may occur between the shield ring 105 and the substrate processing surface 106.

또한, 기재가 알루미늄 등의 금속으로 이루어지는 하부 전극(100)과 세라믹으로 이루어지는 실드 링(105) 사이에 열 팽창차가 있기 때문에, 플라즈마 처리 중에, 플라즈마의 연속 조사를 받은 실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이에 간극이 생기는 경우가 있다. In addition, since there is a thermal expansion difference between the lower electrode 100 made of a metal such as aluminum and the shield ring 105 made of ceramic, the shield ring 105 and the lower electrode subjected to continuous irradiation of plasma during the plasma treatment. A gap may arise between 100.

더욱이, 가열 후의 냉각에 의해서 실드 링(105)이 열 수축하면, 각 링 구성 부품은 원래의 배치 상태로 돌아가지 않고, 실드 링(105)이 변형하여 링 구성 부품상호간에 간극이 생기며, 이에 의해서, 실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이에도 간극이 생기는 경우가 있다. Furthermore, when the shield ring 105 is heat-shrinked by cooling after heating, each ring component does not return to its original arrangement, but the shield ring 105 deforms and a gap is formed between the ring component components. In some cases, a gap may occur between the shield ring 105 and the lower electrode 100.

실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이에 간극이 생기면, 이 간극에 플라즈마가 진입하여, 예컨대, 하부 전극(100)의 세라믹 용사(溶射)가 깎여져서 하부 전극(100)에 있어서의 이상 방전(아킹) 또는 이로전(erosion)이 발생하는 원인이 된다. If a gap is formed between the shield ring 105 and the lower electrode 100, plasma enters the gap, and, for example, the ceramic spraying of the lower electrode 100 is scraped off, thereby causing an abnormality in the lower electrode 100. This causes a discharge (arking) or erosion.

이러한 실드 링(105)과 하부 전극(100) 사이의 간극의 발생을 방지하기 위해서, 인접하는 링 구성 부품을 끌어 붙이도록 가압하는 가압 부재를 마련한 링 구성 부품이나, 각 링 구성 부품을 하부 전극의 중심부를 향해서 가압하는 가압 부재를 마련한 실드 링이 제안되어 있다(예컨대, 특허 문헌 1 참조).
In order to prevent the occurrence of the gap between the shield ring 105 and the lower electrode 100, a ring component provided with a pressing member for pressing the adjacent ring component parts to be pulled together, or each ring component component is connected to the lower electrode. There is proposed a shield ring provided with a pressing member for pressing toward the center portion (see Patent Document 1, for example).

특허 문헌 1 : 일본 특허 공개 제 2008-311298호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2008-311298

그러나 실드 부재를 구성하는 링 구성 부품에 대해 특정 방향으로 작용하는 작용력을 부여하기 위한 가압 부재를 삽입하는 것이 반드시 용이하지는 않다. 한편, 열 팽창에 의한 변형을 방지하기 위해서, 링 구성 부품을 하부 전극의 기재에 고정하는 고정 나사의 체결력을 크게 하면, 하부 전극 기재에의 체결시 또는 열 팽창시에 링 구성 부품이 쉽게 파손된다는 문제가 있다. However, it is not necessarily easy to insert a pressing member for imparting an action force acting in a specific direction with respect to the ring component constituting the shield member. On the other hand, in order to prevent deformation due to thermal expansion, when the fastening force of the fixing screw for fixing the ring component to the base of the lower electrode is increased, the ring component can be easily broken during fastening to the base of the lower electrode or during thermal expansion. there is a problem.

본 발명의 과제는, 열 팽창되어도 하부 전극과의 사이에 간극이 발생하지 않고, 하부 전극에 있어서의 이상 방전 및 이로전의 발생을 방지할 수 있는 실드 부재, 그 구성 부품 및 실드 부재를 구비한 기판 탑재대를 제공하는 것에 있다.
An object of the present invention is a substrate having a shield member, its component parts, and a shield member capable of preventing occurrence of abnormal discharge and erosion at the lower electrode without generating a gap between the lower electrode even when thermally expanded. It is to provide a mount.

상기 과제를 해결하기 위해서, 청구항 1에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 마련된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라 배치되는 절연성의 긴 형상 물체로 이루어지고, 상기 긴 형상 물체의 길이 방향의 한쪽 끝에 마련된 고정부와, 상기 고정부와는 상기 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 적어도 하나의 가이드부를 갖는 것을 특징으로 한다. In order to solve the said subject, the component parts of the shield member of Claim 1 are enclosed around the rectangular mounting surface of the mounting table which mounts the said board | substrate in the processing chamber of the substrate processing apparatus which performs a plasma processing on a rectangular board | substrate. A constituent part of the provided shield member, which is made of an insulating elongate object disposed along one side of the rectangular mounting surface, the fixing part provided at one end in the longitudinal direction of the elongate object, and the fixing part It characterized in that it has at least one guide portion provided spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object.

청구항 2에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 1에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 고정부로서의 고정용 나사 구멍에 의해서 한쪽 끝이 상기 탑재대의 기재에 고정되고, 다른쪽 끝이 상기 적어도 하나의 가이드부로서의 지지용 나사 구멍에 의해서 변위 자유롭게 지지되며, 상기 고정된 한쪽 끝을 기점으로 해서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라 열 팽창 또는 열 수축 가능한 것을 특징으로 한다. The component part of the shield member of Claim 2 is a component part of the shield member of Claim 1, One end is fixed to the base material of the said mounting board by the fixing screw hole as the said fixing part, and the other end is said at least one. And freely supported by a screw hole for support as a guide portion, and capable of thermal expansion or thermal contraction along the longitudinal direction of the elongated object from the fixed one end.

청구항 3에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 2에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 고정용 나사 구멍은 상기 고정용 나사 구멍이 있는 평면상에서 정원(正圓) 형상이며, 상기 지지용 나사 구멍은 상기 지지용 나사 구멍이 있는 평면상에서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향으로 긴 타원형 혹은 양 끝이 반원인 직사각형인 것을 특징으로 한다.The component part of the shield member of Claim 3 is a component part of the shield member of Claim 2, The said fixing screw hole is a spherical shape on the plane with the said fixing screw hole, The said supporting screw hole Is characterized in that the long oval in the longitudinal direction of the elongated object on the plane with the support screw hole or a rectangle with both ends semicircle.

청구항 4에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 긴 형상 물체의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 R면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 한다. The component part of the shield member of Claim 4 is a component part of the shield member of any one of Claims 1-3, The edge part of the said rectangular mounting surface is each subjected to the surface picking process according to R surface, A projection having an R surface that abuts on an edge portion of the mounting surface picked up from the face is provided on a side of one end of the elongate object.

청구항 5에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 긴 형상 물체의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 평면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 한다. The component part of the shield member of Claim 5 is a component part of the shield member of any one of Claims 1-3, The edge part of the said rectangular mounting surface is each subjected to the surface picking process according to the plane, It is characterized in that the projection portion having a plane in contact with the corner portion of the mounting surface picked up face is provided on the side of one end of the shape object.

청구항 6에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 긴 형상 물체에 있어서의 상기 직사각형의 탑재면에 대향하는 측면은, 돌기부를 갖지 않는 평면인 것을 특징으로 한다. The component part of the shield member of Claim 6 is a component part of the shield member of any one of Claims 1-3, The side surface which faces the said rectangular mounting surface in the said elongate object does not have a projection part. It is characterized by being flat.

청구항 7에 기재된 실드 부재의 구성 부품은, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재의 구성 부품으로서, 상기 긴 형상 물체는, 다른 긴 형상 물체와 조합하여 실드 부재를 형성할 때에 단차 구조의 끼워맞춤부를 형성하기 위한 돌출부를 갖는 것을 특징으로 한다. The component part of the shield member of Claim 7 is a component part of the shield member of any one of Claims 1-3, Comprising: The said elongate object has a stepped structure when forming a shield member in combination with another elongate object. And a protrusion for forming a fitting portion.

상기 과제를 해결하기 위해서, 청구항 8에 기재된 실드 부재는, 직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 탑재대의 직사각형의 탑재면 주위를 둘러싸도록 배치되는 실드 부재로서, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 구성 부품의 조합체로 이루어지고, 상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면이 인접하는 다른 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝의 측면이 상기 인접하는 다른 구성 부품과는 다른 인접하는 별도의 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면에 당접하도록 각각 조합되고, 상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝이 상기 고정부에 의해서 상기 탑재대의 기재에 고정되고, 다른쪽 끝이 상기 적어도 하나의 가이드부에 의해서 변위 자유롭게 지지되며, 상기 각 구성 부품이 상기 고정된 한쪽 끝을 기점으로 해서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.In order to solve the said subject, the shield member of Claim 8 is shielded member arrange | positioned so that the circumference | surroundings of the rectangular mounting surface of the mounting table which mounts the said board | substrate in which the said board | substrate is mounted in a processing chamber of a substrate processing apparatus which performs a plasma processing to a rectangular board | substrate are possible. As a combination of the component parts according to any one of claims 1 to 3, the cross section of one end in the longitudinal direction of the respective component parts abuts on the side of one end in the longitudinal direction of the other component parts adjacent to, The side of the other end is combined so as to abut on the end surface of one end of the longitudinal direction of the adjacent separate component part different from the other adjacent component parts, and one end of the longitudinal direction of each said component part is the said fixed part Fixed to the base of the mounting table, and the other end is free to be displaced by the at least one guide portion. And support, the respective components are characterized by being arranged to enable thermal expansion or thermal contraction in the longitudinal direction of said one end to a fixed starting from the elongated object.

청구항 9에 기재된 실드 부재는, 청구항에 8에 기재된 실드 부재로서, 상기 고정부로서의 고정용 나사 구멍에 장착되는 고정 나사의 조임 토크를, 상기 가이드부로서의 지지용 나사 구멍에 장착되는 지지 나사의 조임 토크보다 크게 한 것을 특징으로 한다.The shield member of Claim 9 is a shield member of Claim 8, Comprising: The tightening torque of the fastening screw attached to the fastening screw hole as the said fixed part, The fastening of the support screw mounted to the support screw hole as said guide part. It is characterized by making it larger than torque.

청구항 10에 기재된 실드 부재는, 청구항 8 또는 9에 기재된 실드 부재로서, 상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면과, 상기 인접하는 다른 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면의 당접부에, 상기 기판 탑재면에 대해 수직 방향 및 수평 방향에서의 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조의 끼워맞춤부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 10 is a shield member of Claim 8 or 9, Comprising: The cross section of the one end of the longitudinal direction of each said component, and the contact part of the side surface of the one end of the longitudinal direction of the said other adjacent component And a fitting portion having a stepped structure for preventing entry of plasma in a vertical direction and a horizontal direction with respect to the substrate mounting surface.

청구항 11에 기재된 실드 부재는, 청구항 10에 기재된 실드 부재로서, 상기 단차 구조의 일부는, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면과, 상기 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면과의 당접부에 형성된 오목부에 유격(裕隔)을 갖고 끼워지는 상자 부재로 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 11 is a shield member of Claim 10, The one part of the said step structure is a contact part of the cross section of one end of each said component, and the side surface of the said one end of the said other adjacent component. It is characterized by consisting of a box member fitted with a play in the recess formed in the recess.

청구항 12에 기재된 실드 부재는, 청구항 11에 기재된 실드 부재로서, 상기 오목부와 상기 상자 부재 사이에, 상기 각 구성 부품의 길이 방향에 따른 열 팽창 또는 열 수축에 기인하는 변위를 흡수하는 간극이 마련되어 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 12 is a shield member of Claim 11, The clearance gap which absorbs the displacement resulting from thermal expansion or thermal contraction along the longitudinal direction of each said component is provided between the said recessed part and the said box member. It is characterized by being.

청구항 13에 기재된 실드 부재는, 청구항 12에 기재된 실드 부재로서, 상기 오목부에 있어서의 상기 상자 부재의 삽입구는, 사이드 실드 부재로 밀봉함으로써 상기 오목부 내로의 플라즈마의 진입이 저지되어 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 13 is a shield member of Claim 12, Comprising: The insertion opening of the said box member in the said recessed part is sealed by the side shield member, The entry | entrance of plasma into the said recessed part is prevented, It is characterized by the above-mentioned. do.

청구항 14에 기재된 실드 부재는, 청구항 8 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재이고, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 R면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 한다.The shield member of Claim 14 is the shield member of any one of Claims 8-13, The edge part of the said rectangular mounting surface has been each subjected to the surface picking process according to R surface, and one end of each said component It characterized in that the projection portion having an R surface in contact with the corner portion of the mounting surface picked up on the side.

청구항 15에 기재된 실드 부재는, 청구항 8 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재로서, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 평면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 한다.The shield member of Claim 15 is a shield member of any one of Claims 8-13, The edge part of the said rectangular mounting surface is each subjected to the surface picking process according to the plane, and the one end of each said component It is characterized in that the projection portion having a flat surface in contact with the corner portion of the mounting surface picked up on the side.

청구항 16에 기재된 실드 부재는, 청구항 8 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재로서, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 각 면따기 면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부와의 간극을 메우는 상기 구성 부품과는 독립된 R면을 갖는 간극 끼워맞춤 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.The shield member according to claim 16 is the shield member according to any one of claims 8 to 13, wherein edge portions of the rectangular mounting surface are subjected to face picking treatment along the R surface, respectively, and to each face picking surface, and It is characterized by including the clearance fitting member which has R surface independent from the said component part which fills the clearance gap between the cross section of one end of each component, and the junction part of the side surface of the said one end of another adjacent component.

청구항 17에 기재된 실드 부재는, 청구항 8 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재로서, 상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 의한 면따기 처리가 실시되어 있고, 각 면따기 면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부와의 간극을 메우는 상기 구성 부품과는 독립된 평면을 갖는 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다. The shield member according to claim 17 is the shield member according to any one of claims 8 to 13, wherein corner portions of the rectangular mounting surface are subjected to plane picking by flat surfaces, and each face picking surface and the angles described above. It is provided with the triangular pillar-shaped clearance fitting member which has a plane independent from the said component part which fills the clearance gap between the cross section of one end of a component, and the junction part of the side surface of the said one end of another adjacent component. do.

청구항 18에 기재된 실드 부재는, 청구항 17에 기재된 실드 부재로서, 상기 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재의 한쪽 끝에, 상기 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재가 상기 탑재면의 각 모서리부에 형성된 평면에 따른 면따기 면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부와의 간극에 끼워맞춤되었을 때, 상기 탑재면의 각 모서리부의 형상을, 외견상 상기 탑재면의 모서리부를 R면에 따라 면따기했을 때의 형상과 같은 형상으로 하기 위한 R면을 구비한 볼록부가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 18 is a shield member of Claim 17, Comprising: In one plane of the said triangular pillar-shaped clearance fitting member, the said triangular pillar-shaped clearance fitting member was formed in the plane formed in each edge part of the said mounting surface. The shape of each corner portion of the mounting surface is apparent when fitted to the gap between the face picking surface and the joint between the end surface of one end of each of the components and the side surface of the one end of the other adjacent component. The convex part provided with the R surface for forming the edge part of the said mounting surface along the R surface in the same shape as the surface picking is formed.

청구항 19에 기재된 실드 부재는, 청구항 18에 기재된 실드 부재로서, 상기 R면을 구비한 볼록부의 단면은, 상기 탑재면과 동일 평면상에 있거나 혹은 상기 탑재면보다 안으로 들어가 있는 것을 특징으로 한다. The shield member of Claim 19 is a shield member of Claim 18, Comprising: The cross section of the convex part provided with the said R surface is in the same plane as the said mounting surface, or it enters inside than the said mounting surface, It is characterized by the above-mentioned.

상기 과제를 해결하기 위해서, 청구항 20에 기재된 기판 탑재대는, 청구항 8내지 19 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
In order to solve the said subject, the board | substrate mounting base of Claim 20 is equipped with the shield member as described in any one of Claims 8-19. It is characterized by the above-mentioned.

본 발명에 의하면, 실드 부재의 구성 부품이 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라 배치되는 절연성의 긴 형상 물체로 이루어지고, 상기 긴 형상 물체의 길이 방향의 한쪽 끝에 마련된 고정부와, 상기 고정부와는 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 적어도 하나의 가이드부를 갖기 때문에, 이 구성 부품을, 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면이 인접하는 다른 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝의 측면이 인접하는 다른 구성 부품과는 다른 인접하는 별도의 구성 부품의 한쪽 끝의 단면(端面)에 당접하도록 각각 조합하여, 각 구성 부품에 있어서 다른 구성 부품과 당접하는 단면이 있는 측의 길이 방향의 한쪽 끝을 고정부에 의해서 탑재대의 기재에 고정하고, 다른쪽 끝을 가이드부에 의해서 변위 자유롭게 지지함으로써, 각 구성 부품이, 고정된 한쪽 끝을 기점으로 해서 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라서 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 배열되어 있다. 따라서, 실드 부재 혹은 탑재면이 가열되어도 팽창 및 수축에 따른 상기 실드 부재와 하부 전극 사이에서의 간극의 발생을 방지할 수 있고, 이로써, 실드 부재와 하부 전극 사이에 플라즈마가 진입하는 것에 의한 하부 전극의 이상 방전이나 이로전의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 탑재면의 모서리부에 평면에 따른 면 따기를 실시하여 삼각 기둥 형상의 끼워맞춤 부재를 삽입함으로써 유리 기판의 오리엔테이션 플랫(Orientation flat:위치 맞춤을 위한 절결부)가 큰 경우나 유리 기판을 탑재할 때의 위치 정밀도가 나쁜 경우 등과 같이 전극 상에 탑재되는 기판의 오리엔테이션 플랫의 위치에 따라서 발생하는 하부 전극의 이로전을 방지할 수 있다.
According to the present invention, the component of the shield member is made of an insulating elongate object disposed along one side of a rectangular mounting surface, and is provided with a fixed portion provided at one end in the longitudinal direction of the elongated object, and the fixed portion; Has at least one guide portion spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object, the cross section of one end in the longitudinal direction of each component is placed on the side of one end in the longitudinal direction of another adjacent component. End faces in contact with each other in each component part, in combination with each other so as to contact the end faces of one end of another adjacent component part that is different from the other component parts adjacent to each other. One end of the longitudinal direction of the toothed side is fixed to the base material of the mounting table by the fixing part, and the other end is freely displaced by the guide part. If so, there is a constituent part, it is a longitudinal direction of the elongated object by starting from a fixed end thus arranged to enable thermal expansion or thermal shrinkage. Therefore, even when the shield member or mounting surface is heated, it is possible to prevent the occurrence of a gap between the shield member and the lower electrode due to expansion and contraction, whereby the lower electrode due to the entry of plasma between the shield member and the lower electrode. It is possible to prevent the occurrence of abnormal discharges and erosions. In addition, when the orientation flat of the glass substrate is large or the glass substrate is mounted by inserting a triangular pillar-shaped fitting member by picking a plane along the plane at the corner of the mounting surface. In this case, it is possible to prevent erosion of the lower electrode generated in accordance with the position of the orientation flat of the substrate mounted on the electrode, such as when the positional accuracy is poor.

도 1은 본 발명의 실드 부재가 적용되는 기판 탑재대를 구비한 기판 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도,
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 실드 링의 구성을 나타내는 도면으로서, 도 2(a)는 평면도, 도 2(b)는 2(a)의 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 단면도,
도 3은 도 2의 실드 링이 열 팽창한 상태를 나타내는 모식도,
도 4는 도 2의 하부 전극이 열 팽창한 상태를 나타내는 모식도,
도 5는 본 발명의 실시예 1의 변형예로서의 실드 링의 구성을 나타내는 평면도,
도 6은 본 발명의 실시예 2에 따른 실드 링의 주요부의 구성을 나타내는 도면으로서, 도 6(a)는 주요부 평면도, 도 6(b)는 주요부 사시도, 도 6(c)는 상자 부재 및 상기 상자 부재에 탑재된 R 부재를 나타내는 사시도, 도 6(d)는 사이드 실드 부재를 설명하기 위한 사시도,
도 7은 본 발명의 실시예 3에 따른 실드 링의 주요부의 구성을 나타내는 도면으로서, 도 7(a)는 주요부 평면도, 도 7(b)는 주요부 정면도, 도 7(c)는 링 구성 부품이 조립도,
도 8은 본 발명의 실시예 4에 따른 실드 링의 구성을 나타내는 평면도,
도 9는 실시예 4에 적용되는 간극 끼워맞춤 부재를 나타내는 사시도,
도 10은 실시예 4의 제 1 변형예에 적용되는 간극 끼워맞춤 부재를 나타내는 사시도,
도 11은 실시예 4의 제 2 변형예에 적용되는 실드 부재의 구성 부품을 나타내는 평면도,
도 12는 종래의 실드 링의 구성을 나타내는 도면이다. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus provided with a substrate mounting table to which the shield member of the present invention is applied;
2 is a view showing the configuration of the shield ring according to the first embodiment of the present invention, Figure 2 (a) is a plan view, Figure 2 (b) is a cross-sectional view taken along line II-II of 2 (a),
3 is a schematic diagram illustrating a state in which the shield ring of FIG. 2 is thermally expanded;
4 is a schematic diagram illustrating a state in which the lower electrode of FIG. 2 is thermally expanded;
5 is a plan view showing the structure of a shield ring as a modification of Embodiment 1 of the present invention;
6 is a view showing the configuration of the main part of the shield ring according to the second embodiment of the present invention, Figure 6 (a) is a plan view of the main part, Figure 6 (b) is a main part perspective view, Figure 6 (c) is a box member and the The perspective view which shows the R member mounted in the box member, FIG. 6 (d) is a perspective view for explaining a side shield member,
7 is a view showing the configuration of the main part of the shield ring according to the third embodiment of the present invention, Figure 7 (a) is a plan view of the main part, Figure 7 (b) is a front view of the main part, Figure 7 (c) is a ring component This assembly drawing,
8 is a plan view showing the structure of a shield ring according to a fourth embodiment of the present invention;
9 is a perspective view showing a gap fitting member applied to Example 4;
10 is a perspective view showing a gap fitting member applied to a first modification of Embodiment 4;
11 is a plan view showing the constituent parts of the shield member applied to the second modification of the fourth embodiment;
It is a figure which shows the structure of the conventional shield ring.

이하, 본 발명의 실시예에 대해서 도면을 참조하면서 구체적으로 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described concretely, referring drawings.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 실드 부재가 적용되는 기판 탑재대를 구비한 기판 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도이다. 이 기판 처리 장치는 예컨대, 액정 표시 장치(LCD) 제조용 유리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 것이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows schematic structure of the substrate processing apparatus provided with the board mounting table to which the shield member which concerns on Example 1 of this invention is applied. This substrate processing apparatus performs predetermined plasma processing, for example on the glass substrate for liquid crystal display device (LCD) manufacture.

도 1에 있어서, 기판 처리 장치(10)는, 예컨대 한 변이 수 m인 직사각형의 유리 기판(G)(이하, 간단히 「기판」이라고 함)을 수용하는 처리실(챔버)(11)을 갖고, 상기 챔버(11) 내부의, 도면 중 아래쪽에는 기판(G)을 탑재하는 탑재대(서셉터)(12)가 배치되어 있다. 서셉터(12)는 예컨대, 표면이 알루마이트 처리된 알루미늄이나 스테인레스 등으로 이루어지는 기재(13)로 구성되어 있고, 기재(13)는 절연 부재(14)를 거쳐서 챔버(11)의 바닥부에 지지되어 있다. 기재(13)는 단면이 볼록형을 나타내고 있고, 그 상부 평면은 기판(G)을 탑재하는 기판 탑재면(13a)으로 되어 있다. In FIG. 1, the substrate processing apparatus 10 has the processing chamber (chamber) 11 which accommodates the rectangular glass substrate G (henceforth a "substrate" hereafter) which is one side several m, for example. The mounting table (susceptor) 12 which mounts the board | substrate G is arrange | positioned in the chamber 11 in the lower part of the figure. The susceptor 12 is made of, for example, a base 13 made of aluminum, stainless steel, or the like, the surface of which is supported by the bottom of the chamber 11 via an insulating member 14. have. The base material 13 has a convex cross section, and the upper plane is a substrate mounting surface 13a on which the substrate G is mounted.

기판 탑재면(13a) 주위를 둘러싸도록 실드 부재로서의 실드 링(15)이 마련되고 있고, 실드 링(15)은 예컨대, 알루미나 등의 절연성 세라믹으로 구성된 긴 형상 물체인 링 구성 부품의 조합체로 이루어져 있다. A shield ring 15 as a shield member is provided so as to surround the substrate mounting surface 13a, and the shield ring 15 is composed of a combination of ring component parts, which are elongate objects made of an insulating ceramic such as alumina. .

기재(13)의 상부는 정전 전극판(16)을 내장해서, 정전척으로서 기능한다. 정전 전극판(16)에는 직류 전원(17)이 접속되어 있고, 정전 전극판(16)에 양의 직류 전압이 인가되면 기판 탑재면(13a)에 탑재된 기판(G)에 있어서의 정전 전극판(16)측의 면(이하 「이면」이라고 함)에는 음 전위가 발생하고, 이로써 정전 전극판(16) 및 기판(G)의 이면 사이에 전위차가 발생하여, 이 전위차에 기인하는 쿨롱력 또는 존슨-라벡력에 의해, 기판(G)이 기판 탑재면(13a)에 흡착 유지된다. The upper part of the base material 13 incorporates the electrostatic electrode plate 16, and functions as an electrostatic chuck. The DC power supply 17 is connected to the electrostatic electrode plate 16, and when positive DC voltage is applied to the electrostatic electrode plate 16, the electrostatic electrode plate in the board | substrate G mounted on the board | substrate mounting surface 13a is carried out. A negative potential is generated on the surface (hereinafter referred to as the "rear surface") on the (16) side, whereby a potential difference is generated between the electrostatic electrode plate 16 and the back surface of the substrate G, thereby causing a Coulomb force or By the Johnson-Label force, the substrate G is adsorbed and held on the substrate mounting surface 13a.

기재(13)의 내부에는, 기재(13) 및 기판 탑재면(13a)에 탑재된 기판(G)의 온도를 조절하기 위한 온도 조절 기구(도시 생략)가 마련되어 있다. 이 온도 조절 기구에, 예컨대 냉각수나 갈든(등록 상표) 등의 냉매가 순환 공급되고, 상기 냉매에 의해서 냉각된 기재(13)은 기판(G)을 냉각한다.The inside of the base material 13 is provided with the temperature control mechanism (not shown) for adjusting the temperature of the board | substrate G mounted in the base material 13 and the board | substrate mounting surface 13a. A coolant such as cooling water or galden (registered trademark) is circulatedly supplied to the temperature regulating mechanism, and the substrate 13 cooled by the coolant cools the substrate G.

기재(13) 주위에는, 실드 링(15)과 기재(13)의 당접부를 포함하는 측면을 덮는 사이드 실드 부재로서의 절연 링(18)이 배치되어 있다. 절연 링(18)은 절연성의 세라믹스, 예컨대 알루미나로 구성되어 있다. Around the base material 13, the insulating ring 18 as a side shield member which covers the side surface containing the shield ring 15 and the contact part of the base material 13 is arrange | positioned. The insulating ring 18 is made of insulating ceramics such as alumina.

챔버(11)의 바닥벽, 절연 부재(14) 및 기재(13)를 관통하는 관통 구멍에, 승강 핀(21)이 승강 가능하게 삽입 관통되어 있다. 승강 핀(21)은 기판 탑재면(13a)에 탑재되는 기판(G)의 반입 및 반출시에 작동하는 것으로, 기판(G)을 챔버(11) 내에 반입할 때 또는 챔버(11)로부터 반출하는 때에는, 서셉터(12)의 상방의 반송 위치까지 상승하고, 그 이외일 때에는 기판 탑재면(13a) 내에 매립 배치된 상태로 수용되어 있다. The lifting pins 21 are inserted through the bottom wall of the chamber 11, the insulating member 14, and the base material 13 so as to be able to move up and down. The lifting pins 21 operate at the time of loading and unloading the substrate G mounted on the substrate mounting surface 13a. The lifting pins 21 carry the substrate G into or out of the chamber 11. At that time, the temperature rises to the conveyance position above the susceptor 12, and when otherwise, it is accommodated in a state of being embedded in the substrate mounting surface 13a.

기판 탑재면(13a)에는, 도시 생략한 복수의 전열 가스 공급 구멍이 개구되어 있다. 복수의 전열 가스 공급 구멍은 전열 가스 공급부에 접속되고, 전열 가스 공급부로부터 전열 가스로서, 예컨대 헬륨(He) 가스가 기판 탑재면(13a) 및 기판(G)의 이면의 간극으로 공급된다. 기판 탑재면(13a) 및 기판(G)의 이면의 간극으로 공급된 헬륨 가스는 기판(G)의 열을 서셉터(12)에 효과적으로 전달한다. A plurality of electrothermal gas supply holes (not shown) are opened in the substrate mounting surface 13a. The plurality of heat transfer gas supply holes are connected to the heat transfer gas supply unit, and, for example, helium (He) gas is supplied from the heat transfer gas supply unit to the gap between the substrate mounting surface 13a and the rear surface of the substrate G. The helium gas supplied to the gap between the substrate mounting surface 13a and the rear surface of the substrate G effectively transfers the heat of the substrate G to the susceptor 12.

서셉터(12)의 기재(13)에는, 고주파 전력을 공급하기 위한 고주파 전원(23)이 정합기(24)를 거쳐서 접속되어 있다. 고주파 전원(23)으로부터는, 예컨대 13.56MHz의 고주파 전력(RF)이 인가되고, 서셉터(12)는 하부 전극으로서 기능한다. 정합기(24)는 서셉터(12)로부터의 고주파 전력의 반사를 저감하여 고주파 전력의 서셉터(12)로의 인가 효율을 최대로 한다. A high frequency power supply 23 for supplying high frequency power is connected to the base material 13 of the susceptor 12 through a matching device 24. High frequency power RF of 13.56 MHz is applied from the high frequency power supply 23, and the susceptor 12 functions as a lower electrode. The matcher 24 reduces the reflection of the high frequency power from the susceptor 12 to maximize the application efficiency of the high frequency power to the susceptor 12.

기판 처리 장치(10)에서는, 챔버(11)의 내측벽과 서셉터(12)의 측면에 의해서 측방 배기로(26)가 형성된다. 이 측방 배기로(26)는 배기관(27)을 거쳐서 배기 장치(28)에 접속되어 있다. 배기 장치(28)로서의 TMP(Turbo Molecular Pump) 및 DP(Dry Pump)나 MBP(Mechanical Booster Pump)(모두 도시 생략)는 챔버(11) 내를 진공 흡인하여 감압한다. 구체적으로는, DP 혹은 MBP는 챔버(11) 내를 대기압으로부터 중진공 상태(예컨대, 1.3×10Pa(0.1Torr) 이하)까지 감압하고, TMP는 DP 혹은 MBP와 협동해서 챔버(11) 내를 중진공 상태보다 낮은 압력인 고진공 상태(예컨대, 1.3×10-3Pa(1.0×10-5Torr) 이하)까지 감압한다. 한편, 챔버(11) 내의 압력은 APC 밸브(도시 생략)에 의해서 제어된다.In the substrate processing apparatus 10, the side exhaust path 26 is formed by the inner wall of the chamber 11 and the side surface of the susceptor 12. The side air exhaust passage 26 is connected to the exhaust device 28 via an exhaust pipe 27. The turbo molecular pump (TMP), the dry pump (DP), and the mechanical booster pump (MBP) (both not shown) as the exhaust device 28 vacuum-reduce the inside of the chamber 11 by vacuum suction. Specifically, the DP or MBP depressurizes the inside of the chamber 11 from atmospheric pressure to a medium vacuum state (for example, 1.3 x 10 Pa (0.1 Torr or less)), and the TMP cooperates with the DP or MBP in the medium vacuum state. The pressure is reduced to a higher vacuum state (for example, 1.3 × 10 −3 Pa (1.0 × 10 −5 Torr or less)) which is a lower pressure. On the other hand, the pressure in the chamber 11 is controlled by an APC valve (not shown).

챔버(11)의 천장 부분에는, 서셉터(12)와 대향하도록 샤워 헤드(30)가 배치되어 있다. 샤워 헤드(30)는 내부 공간(31)을 가짐과 아울러, 서셉터(12)와의 사이의 처리 공간 S에 처리 가스를 토출하는 복수의 가스 구멍(32)을 갖는다. 샤워 헤드(30)는 접지되어 있고, 하부 전극으로서 기능하는 서셉터(12)와 함께 한 쌍의 평행 평판 전극을 구성하고 있다. In the ceiling part of the chamber 11, the shower head 30 is arrange | positioned so that the susceptor 12 may be opposed. The shower head 30 has an internal space 31 and has a plurality of gas holes 32 for discharging the processing gas into the processing space S between the susceptor 12. The shower head 30 is grounded and comprises a pair of parallel flat electrodes with the susceptor 12 which functions as a lower electrode.

샤워 헤드(30)는, 가스 공급관(36)을 거쳐서 처리 가스 공급원(39)에 접속되어 있다. 가스 공급관(36)에는, 개폐 밸브(37) 및 매스 플로우 컨트롤러(38)가 마련되어 있다. 또한 처리 챔버(11)의 측벽에는 기판 반입 반출구(34)가 마련되어 있으며, 이 기판 반입 반출구(34)는 게이트 밸브(35)에 의해 개폐 가능하게 되어 있다. 그리고, 이 게이트 밸브(35)를 통해서 처리 대상인 기판(G)이 반입 반출된다.The shower head 30 is connected to the processing gas supply source 39 via the gas supply pipe 36. The gas supply pipe 36 is provided with an on-off valve 37 and a mass flow controller 38. Moreover, the board | substrate carrying in / out port 34 is provided in the side wall of the processing chamber 11, This board | substrate carrying in / out port 34 is made possible to open and close by the gate valve 35. As shown in FIG. Then, the substrate G to be processed is carried in and out through the gate valve 35.

기판 처리 장치(10)에서는, 처리 가스 공급원(39)으로부터 처리 가스 도입관(36)을 통해서 처리 가스가 공급된다. 공급된 처리 가스는, 샤워 헤드(30)의 내부 공간(31) 및 가스 구멍(32)을 통해서 챔버(11)의 처리 공간 S에 도입된다. 도입되는 처리 가스는, 고주파 전원(23)으로부터 서셉터(12)를 통해서 처리 공간 S 에 인가되는 플라즈마 생성용 고주파 전력(RF)에 의해서 여기되어 플라즈마가 된다. 플라즈마 중의 이온은 기판(G) 쪽으로 이끌려져서, 기판(G)에 대해 소정의 플라즈마 에칭 처리를 실시한다. In the substrate processing apparatus 10, the processing gas is supplied from the processing gas supply source 39 through the processing gas introduction pipe 36. The supplied processing gas is introduced into the processing space S of the chamber 11 through the internal space 31 and the gas hole 32 of the shower head 30. The introduced process gas is excited by plasma generating high frequency power RF applied to the processing space S from the high frequency power supply 23 through the susceptor 12 to become plasma. Ions in the plasma are attracted toward the substrate G, and the predetermined plasma etching process is performed on the substrate G.

기판 처리 장치(10)의 각 구성 부품의 동작은, 기판 처리 장치(10)가 구비하는 제어부(도시 생략)의 CPU가 플라즈마 에칭 처리에 대응하는 프로그램에 따라 제어한다. The operation of each component of the substrate processing apparatus 10 is controlled by a CPU of a controller (not shown) included in the substrate processing apparatus 10 according to a program corresponding to the plasma etching process.

도 2는, 본 발명의 실시예 1에 따른 실드 링의 구성을 나타내는 도면으로, 도 2(a)는 평면도, 도 2(b)는 도 2(a)의 Ⅱ-Ⅱ 선에 따른 단면도이다. 2: is a figure which shows the structure of the shield ring which concerns on Example 1 of this invention, FIG. 2 (a) is a top view, FIG. 2 (b) is sectional drawing along the II-II line of FIG.

도 2(a)에 있어서, 실드 링(15)은, 하부 전극으로서 기능하는 서셉터(12)(이하, 「하부 전극」이라고 함)의 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있고, 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 대향하는 2개의 짧은 변을 따라 각각 배치된 긴 형상의 링 구성 부품(41, 42)과, 대향하는 2개의 긴 변을 따라 각각 배치된 긴 형상의 링 구성 부품(43, 44)의 조합체로 구성되어 있다. In FIG. 2A, the shield ring 15 is disposed to surround the periphery of the rectangular substrate mounting surface 13a of the susceptor 12 (hereinafter referred to as a "lower electrode") which functions as a lower electrode. Long, ring-shaped components 41 and 42 respectively disposed along two opposite short sides of the rectangular substrate mounting surface 13a, and long shapes respectively disposed along two opposite long sides. It consists of the combination of the ring component parts 43 and 44.

링 구성 부품(41~44)은, 긴 형상 물체의 길이 방향의 한쪽 끝인 고정단에 마련된 고정용 나사 구멍(45)과, 상기 고정용 나사 구멍(45)과는 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 지지용 나사 구멍(46)을 갖는다. 지지용 나사 구멍(46)은 적어도 하나 마련되지만, 긴 형상 물체의 길이를 따라 2개 또는 그 이상 마련할 수도 있다. 이 때 각 지지용 나사 구멍(46)은, 예컨대 등간격으로 마련할 수도 있다.The ring components 41 to 44 are spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object from the fixing screw hole 45 provided in the fixed end which is one end of the elongate object in the longitudinal direction, and the fixing screw hole 45. And a supporting screw hole 46 provided. At least one support screw hole 46 is provided, but two or more support holes may be provided along the length of the elongate object. At this time, each support screw hole 46 can also be provided at equal intervals, for example.

여기서, 고정용 나사 구멍(45)은 링 구성 부품의 고정단을 기재(13)에 고정하기 위한 고정부로서 기능하는 것으로, 나사 구멍에 수직인 단면에서 유격(裕隔)이 적고, 평면상에서의 형상이 정원 형상으로 형성된다. 한편, 지지용 나사 구멍(46)은, 고정단에 대향하는 다른쪽 끝인 자유단을 긴 형상 물체의 길이 방향으로 변위 자유롭게 가이드하여 지지하는 가이드부로서 기능하는 것으로, 나사 구멍에 수직인 단면에 있어서 유격이 있고, 평면도 상에서 봤을 때의 형상이 타원형 혹은 양 끝이 반원이 되는 직사각형으로 형성된다. 지지용 나사 구멍(46)에 있어서의 단면의 긴 직경은, 각 구성 부재(41~44)가 열 팽창해도, 지지용 나사 구멍(46)에 장착되는 지지 나사가 구성 부재의 열 팽창을 규제하지 않을 정도의 길이를 갖는 것으로 해서, 긴 직경의 길이는, 예컨대 제 5.5 세대라고 불리는 FPD용 유리 기판을 처리할 때에는, 7mm~10.5mm인 것이 바람직하며, 처리하는 유리 기판의 크기가 커짐에 따라서, 보다 길게 하는 것이 바람직하다. Here, the fixing screw hole 45 functions as a fixing part for fixing the fixed end of the ring component to the substrate 13, and has little play in the cross section perpendicular to the screw hole, The shape is formed into a garden shape. On the other hand, the supporting screw hole 46 functions as a guide part for guiding and supporting the free end, which is the other end opposite to the fixed end, freely in the longitudinal direction of the elongated object, in the cross section perpendicular to the screw hole. There is play, and the shape in plan view is oval or rectangular with semicircles at both ends. The long diameter of the cross section in the supporting screw hole 46 does not restrict the thermal expansion of the constituent members even if the constituent members 41 to 44 are thermally expanded. As long as it does not have a length, the length of a long diameter is, for example, when processing the glass substrate for FPD called the 5.5th generation, it is preferable that it is 7 mm-10.5 mm, As the magnitude | size of the glass substrate to process becomes large, It is preferable to make it longer.

고정용 나사 구멍에 장착되는 고정 나사의 조임 토크는, 지지용 나사 구멍에 장착되는 지지 나사의 조임 토크보다 크게 하는 것이 바람직하다. 이로써, 링 구성 부품(41~44)의 고정단(41a~44a)을 확실하게 고정하고, 또한 자유단(41b~44b)을 루즈하게 지지하여 열 팽창시 또는 열 수축시의 그 이동을 확보할 수 있다.It is preferable to make tightening torque of the fixation screw attached to a fixing screw hole larger than tightening torque of the support screw attached to a supporting screw hole. As a result, the fixed ends 41a to 44a of the ring components 41 to 44 are reliably fixed, and the free ends 41b to 44b are loosely supported to secure their movement during thermal expansion or thermal contraction. Can be.

고정 나사의 조임 토크는, 예컨대 8×(1±0.05)kgf·cm(0.75~0.8N·m) 정도 이며, 지지 나사의 조임 토크는, 예컨대 고정 나사의 조임 토크보다 약간 작아서, 예컨대 6~8kgf·cm(0.6~0.8N·m) 정도이다. 단, 팽창에 의한 연장량을 제한할 필요가 있는 경우 등에 있어서는, 이들 토크를, 세라믹이 파손되지 않을 정도의 범위 내에서 보다 강하게 조여서, 실드 링의 이동을 제약하는 것도 가능하다. The tightening torque of the set screw is, for example, about 8 × (1 ± 0.05) kgf · cm (0.75 to 0.8 N · m), and the tightening torque of the support screw is slightly smaller than the tightening torque of the set screw, for example, 6 to 8 kgf. It is about cm (0.6-0.8 Nm). However, in the case where it is necessary to limit the amount of extension due to expansion, it is also possible to tighten these torques more strongly within the range not to damage the ceramic, thereby restricting the movement of the shield ring.

링 구성 부품(41)의 고정단(41a)의 단면은, 인접하는 다른 링 구성 부품(43)의 길이 방향의 단부(43b)(자유단)의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝인 이동단(41b)의 측면이 인접하는 다른 링 구성 부품(43)과는 다른 인접하는 별도의 링 구성 부품(44)의 단부(44a)(고정단)의 단면에 당접하도록 배치되어 있다. 링 구성 부품(42, 44)은 각각 기판 탑재면(13a)의 중심점 C에 대해 링 구성 부품(41, 43)과 점대칭이 되도록 배치되어 있다.The end surface of the fixed end 41a of the ring component 41 abuts the side surface of the end part 43b (free end) in the longitudinal direction of the other ring component 43 which adjoins, and is the moving end 41b which is the other end. The side of () is arrange | positioned so that it may abut on the cross section of the edge part 44a (fixed end) of the other ring component part 44 adjacent to other ring component parts which adjoin. The ring component parts 42 and 44 are arrange | positioned so that it may become point symmetry with the ring component parts 41 and 43 with respect to the center point C of the board | substrate mounting surface 13a, respectively.

도 2(b)에 있어서, 하부 전극(12)의 기재(13)는 단면 볼록 형상을 나타내고 있고, 상기 단면 볼록 형상체의 상부 평면이 기판 탑재면(13a)이 되고, 단차부 표면이 플랜지부(13b)가 된다. In Fig. 2B, the base 13 of the lower electrode 12 has a convex cross-sectional shape, and the upper plane of the cross-sectional convex body becomes the substrate mounting surface 13a, and the stepped surface is a flange portion. (13b).

각 링 구성 부품(41~44)의 고정단(41a~44a)은 각각 고정용 나사 구멍(45)에 장착된 고정 나사(도시 생략)에 의해서 기재(13)의 플랜지부(13b)에 고정되어 있다. 또한, 각 링 구성 부품(41~44)은, 지지용 나사 구멍(46)을 관통하는 지지 나사(도시 생략)에 의해서 자유단(41b~44b)이, 기재(13)의 플랜지부에 대해 변위 자유롭게 지지되며, 이로써 각 링 구성 부품(41~44)은 고정단(41a~44a)을 기점으로 해서 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라서 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 지지되어 있다. The fixing ends 41a to 44a of the ring component parts 41 to 44 are fixed to the flange portion 13b of the base material 13 by fixing screws (not shown) attached to the fixing screw holes 45, respectively. have. In addition, as for each ring component 41-44, the free end 41b-44b displaces with respect to the flange part of the base material 13 by the support screw (not shown) which penetrates the support screw hole 46. FIG. It is supported freely, and each ring component part 41-44 is supported by thermal expansion or heat shrinkage along the longitudinal direction of an elongate object from the fixed end 41a-44a as a starting point.

여기서, 각 링 구성 부품(41~44)의 열 팽창 또는 열 수축시에 있어서의 자유단(41b~44b)의 이동 방향에는 인접하는 링 구성 부품이 존재하지 않기 때문에, 자유단의 이동이 방해되는 일은 없다. 이로써, 열 팽창시에서의 인접하는 링 구성 부품끼리 서로 미는 것을 방지하여, 실드 링(15)의 변형의 발생 및 열 수축에 의한 실드 링(15)과 기판 탑재면(13a) 사이에서의 간극의 발생을 방지할 수 있다. Here, since there are no adjacent ring component parts in the moving direction of the free ends 41b to 44b at the time of thermal expansion or thermal contraction of the respective ring component parts 41 to 44, the movement of the free ends is hindered. There is no work. This prevents adjacent ring component parts from being pushed to each other during thermal expansion, so that the gap between the shield ring 15 and the substrate mounting surface 13a due to occurrence of deformation of the shield ring 15 and thermal contraction. It can prevent occurrence.

하부 전극(12)의 기판 탑재면(13a)의 모서리부는 각각 R형상으로 면따기 처리되어 있다. 따라서, 이 면따기 면과 실드 링(15) 사이의 간극을 메우기 위해서, 각 구성 부품(41~44)의 고정단(41a~44a)의 측면에 R면을 갖는 돌기부가 마련되어 있다. 이로써, 면따기 면과 실드 링(15) 사이의 간극으로부터 플라즈마가 진입하는 것을 방지할 수 있다. 또한, R면을 갖는 돌기부를 고정단 측에 마련했기 때문에, 열 팽창 또는 열 수축시에서의 간극의 발생을 적합하게 방지할 수 있다. 한편, 기판 탑재면(13a)의 모서리부는 R형상으로 한정되지 않고, 평탄한 C면 형상이어도 되며, 또한, 이 경우에는 상기 돌기부는 이에 맞춘 평탄한 형상이 된다. The edges of the substrate mounting surface 13a of the lower electrode 12 are face-picked in an R shape, respectively. Therefore, in order to fill the clearance gap between this picking surface and the shield ring 15, the protrusion part which has R surface is provided in the side surface of the fixed end 41a-44a of each component 41-44. As a result, the plasma can be prevented from entering from the gap between the picking surface and the shield ring 15. Moreover, since the projection part which has R surface was provided in the fixed end side, generation | occurrence | production of the clearance gap at the time of thermal expansion or thermal contraction can be prevented suitably. In addition, the edge part of the board | substrate mounting surface 13a is not limited to R shape, A flat C surface shape may be sufficient, and in this case, the said projection part becomes a flat shape according to this.

도 3은 도 2의 실드 링(15)이 열 팽창한 상태를 나타내는 모식도이다. 3 is a schematic diagram showing a state in which the shield ring 15 of FIG. 2 is thermally expanded.

도 3에 있어서, 실드 링(15)의 각 구성 부재(41~44)는, 고정단(41a~44a)을 고정하는 고정 나사를 기점으로 해서 자유단(41b~44b) 방향으로 팽창하고 있으며, 자유단(41b~44b)은, 열 팽창에 의해서 연장된 길이에 상당하는 치수만큼 변위하고 있다.In FIG. 3, each of the constituent members 41 to 44 of the shield ring 15 is expanded in the free end 41b to 44b direction from the fixing screw for fixing the fixed ends 41a to 44a. The free ends 41b to 44b are displaced by a dimension corresponding to the length extended by thermal expansion.

도 4는 도 2의 하부 전극(12)이 열 팽창한 상태를 나타내는 모식도이다. 4 is a schematic diagram illustrating a state in which the lower electrode 12 of FIG. 2 is thermally expanded.

도 4에 있어서, 실드 링(15)의 각 구성 부재(41~44)가 기판 탑재면(13a)의 각 변에 일대일로 당접하도록 배치되어 있기 때문에, 하부 전극(12)은 실드 링(15)을 구성하는 각 구성 부재 사이에 간극을 생기게 하지 않는다. 따라서, 하부 전극(12)과 실드 링(15) 사이에서의 간극은 발생하지 않는다.In FIG. 4, since each structural member 41-44 of the shield ring 15 is arrange | positioned so that one side may contact with each side of the board | substrate mounting surface 13a, the lower electrode 12 is a shield ring 15 No gap is formed between the respective constituent members constituting the device. Thus, no gap occurs between the lower electrode 12 and the shield ring 15.

본 실시예에 의하면, 실드 링(15)의 한쪽 끝인 고정단(41a~44a)을 고정용 나사 구멍(45)에 장착되는 고정 나사에 의해 확실하게 고정하고, 다른쪽 끝인 자유단(41b~44b)을 지지용 나사 구멍(46)에 장착되는 지지 나사에 의해서 열 팽창 또는 열 수축 방향으로 변위 가능하게 지지됨과 아울러, 자유단(41b~44b)의 이동 방향으로 다른 링 구성 부품이 존재하지 않도록 조합시켰기 때문에, 실드 링(15)이 플라즈마의 연속 조사에 의해서 가열되어 열 팽창하더라도 내부 응력이 발생하는 일이 없다. 따라서, 실드 링(15)의 변형 및 실드 링(15)과 하부 전극(12) 사이에 간극을 생기는 일이 없고, 간극에 플라즈마가 진입하는 것에 의한 하부 전극(12)에 있어서의 이상 방전, 이로전 등의 발생을 방지할 수 있다. According to the present embodiment, the fixing ends 41a to 44a, which are one end of the shield ring 15, are securely fixed by the fixing screws attached to the fixing screw holes 45, and the free ends 41b to 44b which are the other ends. ) Is supported so as to be displaceable in the thermal expansion or thermal contraction direction by a supporting screw mounted in the supporting screw hole 46, and the other ring components are not present in the movement direction of the free ends 41b to 44b. Therefore, even if the shield ring 15 is heated and thermally expanded by the continuous irradiation of the plasma, internal stress does not occur. Therefore, the abnormal discharge in the lower electrode 12 due to the deformation of the shield ring 15 and the gap between the shield ring 15 and the lower electrode 12 and the entry of the plasma into the gap is thus avoided. The occurrence of electric lights can be prevented.

또한, 본 실시예에 의하면, 실드 링(15)을 링 구성 부품(41~44)의 조합체로 구성했기 때문에, 각 링 구성 부품(41~44)의 형상을, 예컨대 대략 조붓한 형상의 간이 형상으로 할 수 있다. 따라서, 각 링 구성 부품 및 실드 링의 제작 비용을 삭감할 수 있다. In addition, according to this embodiment, since the shield ring 15 was comprised from the combination of ring component parts 41-44, the shape of each ring component part 41-44 is a simple shape of the shape which was substantially rough, for example. You can do Therefore, manufacturing cost of each ring component and a shield ring can be reduced.

본 실시예에 있어서, 링 구성 부품은 절연성의 세라믹, 예컨대 알루미나(A12O3), 이트리아, 질화 실리콘, 석영 등으로 구성된다. 링 구성 부품(41~44)에 있어서의 고정용 나사 구멍(45)은, 상기 링 구성 부품의 고정단으로부터 극력 가까운 위치에 있는 것이 바람직하고, 예컨대, 30~40mm 혹은 그 이하로 마련되는 것이 바람직하다. 고정용 나사 구멍(45)의 고정단 단면과의 간격을 300mm 이상으로 하면, 그 부분의 열 팽창을 무시할 수 없게 되어서, 각 링 구성 부품의 고정단과, 상기 고정단에 당접하는 다른 링 구성 부품과의 접합면에 비틀림이 발생한다. 또한, 나사로서는, 스테인레스 나사, 세라믹 나사, 알루미늄 나사 등이 이용된다. In this embodiment, the ring component is made of an insulating ceramic such as alumina (A1 2 O 3 ), yttria, silicon nitride, quartz and the like. It is preferable that the fixing screw hole 45 in the ring component parts 41-44 exists in the position near the maximum of the fixed end of the said ring component part, For example, it is preferable to be provided in 30-40 mm or less. Do. If the interval between the end faces of the fixing screw holes 45 and the fixed end face is 300 mm or more, the thermal expansion of the portion cannot be ignored, and the fixed ends of the respective ring component parts and the other ring component parts contacting the fixed end and Torsion occurs at the joint surface of. Moreover, as a screw, a stainless screw, a ceramic screw, an aluminum screw, etc. are used.

본 실시예에 있어서, 각 링 구성 부품(41~44)을 기재(13)의 플랜지부(13b)에 고정 또는 변위 자유롭게 지지시키는 조임 부재로서 나사를 적용했지만, 각 링 구성 부품(41~44)을 기재(13)의 플랜지부(13b)에 고정 또는 지지시키는 조임 부재로서는, 나사 외에, 고정 부분에 대해서는, 예컨대 클램프 등에 의한 압접이나, 각 링 구성 부재와 플랜지의 끼워넣기 구조에 의한 고정 등, 변이 자유로운 부분에 대해서는 각 링 구성 부재 측방의 칸막이나 홈, 각 링 구성 부재와 플랜지와의 끼워넣기식의 레일 등에 의해 한 방향으로 변위를 제한할 수 있는 가이드 부재 등을 이용해도 된다. In this embodiment, although the screw was applied as a fastening member which supports each ring component part 41-44 to the flange part 13b of the base material 13 freely or displaceably, each ring component part 41-44 is applied. As a fastening member for fixing or supporting the flange 13b of the base material 13, in addition to the screw, for the fixed portion, for example, press-fitting with a clamp or the like, fixing with each ring constituting member and a flange fitting structure, As for the free side, the guide member etc. which can restrict a displacement in one direction by the partition and the groove | channel of each ring structural member side, the rail of the insertion ring of each ring structural member, and a flange etc. may be used.

다음으로 실시예 1의 변형예에 대해서 설명한다. Next, a modification of the first embodiment will be described.

도 5는 실시예 1의 변형예로서의 실드 링의 구성을 나타내는 도면이다.5 is a diagram illustrating a configuration of a shield ring as a modification of the first embodiment.

도 5에 있어서, 이 변형예가 실시예 1과 다른 점은, 실드 링(15)을 구성하는 링 구성 부품(41~44)에 있어서의 R 형상의 돌기부를 없애고, 각각 조붓한 형상의 링 구성 부품(51~54)으로 하고, 하부 전극(12)의 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 4개의 모서리부와, 실드 링(15)의 각 구성 부재 상호의 당접부와의 사이의 간극을 메우는 R면을 갖는 간극 끼워 맞춤 부재(55)를 별체로서 마련한 것이다.In FIG. 5, this modified example differs from the first embodiment in that the ring shaped parts are formed by removing the R-shaped protrusions in the ring components 41 to 44 constituting the shield ring 15. R to fill the gap between the four corner portions of the rectangular substrate mounting surface 13a of the lower electrode 12 and the contact portions between the respective constituent members of the shield ring 15, respectively. The clearance fitting member 55 which has a surface is provided as a separate body.

이러한 실드 링(15)에 있어서도, 실시예 1과 마찬가지로 실드 링(15)과 하부 전극(12)의 기판 탑재면(13a) 사이의 간극을 없애서, 하부 전극(12)에 있어서의 이상 방전이나 이로전의 발생을 방지할 수 있다. Also in this shield ring 15, the gap between the shield ring 15 and the board | substrate mounting surface 13a of the lower electrode 12 was removed similarly to Example 1, and the abnormal discharge in the lower electrode 12, and this is caused. It is possible to prevent the occurrence of electricity.

또한, 본 변형예에 의하면, 링 구성 부품(51~54)을 단순한 조붓한 형상으로 할 수 있기 때문에, 재료를 적게 취할 수 있음과 아울러, R 형상의 돌기부의 파손의 염려가 적고 취급이 용이하다. 또한, R면을 갖는 간극 끼워맞춤 부재(55)는 플라즈마의 연속 조사를 받아 소모되지만, 제조 및 교환이 용이하고, 비용적으로도 메리트가 있다. In addition, according to the present modification, since the ring component parts 51 to 54 can be made into a simple shape, the material can be taken less, and there is little concern about the damage of the R-shaped protrusion, and the handling is easy. . Further, the gap fitting member 55 having the R surface is consumed under continuous irradiation of plasma, but is easy to manufacture and replace, and has a merit in terms of cost.

도 6은, 본 발명의 실시예 2에 따른 실드 링의 주요부의 구성을 나타내는 설명도로, 도 6(a)는 주요부 평면도, 도 6(b)는 주요부 사시도, 도 6(c)는 상자 부재 및 그 상자 부재에 탑재된 R 부재를 나타내는 사시도, 도 6(d)는 사이드 실드 부재를 설명하기 위한 사시도이다. Fig. 6 is an explanatory view showing the structure of the main part of the shield ring according to the second embodiment of the present invention. Fig. 6 (a) is a plan view of the main part, Fig. 6 (b) is a main part perspective view, and Fig. 6 (c) is a box member and The perspective view which shows the R member mounted in the box member, and FIG. 6 (d) is a perspective view for explaining a side shield member.

도 6에 있어서, 이 실드 링(60)은 링 구성 부품(61, 62)과, 그 링 구성 부품(61, 62)에 각각 기판 탑재면의 중심점을 기준으로 점대칭 배치된, 도시 생략한 2개의 링 구성 부품으로 주로 구성되어 있다. In Fig. 6, the shield rings 60 are ring components 61 and 62, and two of them, which are not symmetrically disposed on the ring components 61 and 62 with respect to the center point of the substrate mounting surface, respectively. It is mainly composed of ring components.

이 실드 링(60)은 각 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝인 고정단의 단면과, 상기 링 구성 부품에 인접하는 다른 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면과의 당접부에, 기판 탑재면(13a)에 대해 수직 방향 및 수평 방향에서의 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조의 끼워맞춤부를 형성한 것이다. The shield ring 60 is mounted on a substrate in contact with a cross section of a fixed end that is one end in the longitudinal direction of each ring component, and a side surface of one end in the longitudinal direction of another ring component adjacent to the ring component. The fitting portion of the stepped structure which prevents the entry of plasma in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the surface 13a is formed.

즉, 링 구성 부품(62)의 고정단(62a)의 단면, 및 링 구성 부품(61)의 자유단(61b)의 측면에는, 각각 도면 중 아래쪽이 사각기둥 형상으로 깍여진 단차부(62c, 61c)가 마련되어 있다. 이로써, 링 구성 부품(62)의 고정단(62a)의 단면과 링 구성 부품(61)의 자유단(61b)의 측면과의 당접부에는, 단차부(62c)와 단차부(61c)로 형성되는 오목부(64)가 형성된다. That is, in the cross section of the stationary end 62a of the ring component 62, and the side surface of the free end 61b of the ring component 61, the stepped portion 62c, which is cut down in the shape of a square column in the figure, respectively, 61c) is provided. Thus, the stepped portion 62c and the stepped portion 61c are formed in the contact portion between the end face of the fixed end 62a of the ring component 62 and the side surface of the free end 61b of the ring component 61. Concave portions 64 are formed.

오목부(64)에는, 도 6(c)에 나타낸 바와 같은 상자 부재(65)가 유격을 갖고 끼워맞춤되는 형상으로 삽입된다. 오목부(64)에 삽입된 상자 부재(65)에 있어서의 R면(65a)은 링 구성 부품(62, 61)과의 당접부로부터 실드 링(60)의 안쪽에 돌출하여 도시 생략한 하부 전극(12)의 면따기된 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 면따기면에 당접한다. 상자 부재(65)의 R면(65a)를 갖는 부분의 상부에는, R면(65a)과 같은 R면을 갖는 간극 끼워맞춤 부재(66)가 별체로서 탑재되고, 이로써 하부 전극(12)의 기판 탑재면(13a)과, 간극 끼워맞춤 부재(66)의 상면 및 링 구성 부품(62, 61)의 상면이 동일 평면을 형성하게 된다. 이 때, 상자 부재(65)와 오목부(64) 사이에는, 링 구성 부품(61)의 열 팽창 또는 열 수축에 의한 변위를 흡수하기 위한 간극(67)이 형성된다. The box member 65 as shown in FIG. 6 (c) is inserted into the recess 64 in a shape that fits with a play. The bottom surface 65a of the box member 65 inserted into the recessed portion 64 protrudes inwardly of the shield ring 60 from abutting portions with the ring component parts 62 and 61, and is not shown. (12) abuts against the surface picking surface of the rectangular board | substrate mounting surface 13a. On the upper part of the part having the R surface 65a of the box member 65, a gap fitting member 66 having the same R surface as the R surface 65a is mounted as a separate body, whereby the substrate of the lower electrode 12 is provided. The mounting surface 13a and the upper surface of the gap fitting member 66 and the upper surfaces of the ring components 62 and 61 form the same plane. At this time, a gap 67 is formed between the box member 65 and the recessed portion 64 to absorb displacement due to thermal expansion or thermal contraction of the ring component 61.

상자 부재(65)가 유격을 갖고 끼워맞춤되는 형상으로 삽입된 오목부(64)의 입구가 개구하는 서셉터(12)의 측면에는, 도 6(d)에 나타낸 바와 같이, 사이드 실드 부재로서의 절연 링(68)이 배치된다. 따라서, 하부 전극(12)은 기판 탑재면(13a)에 대해 수직 방향뿐만 아니라, 수평 방향으로부터도 플라즈마 조사를 받는 일이 없다. On the side surface of the susceptor 12 in which the inlet of the recess 64 inserted into the shape in which the box member 65 is fitted with a clearance is opened, as shown in FIG. Ring 68 is disposed. Therefore, the lower electrode 12 is not subjected to plasma irradiation not only in the vertical direction but also in the horizontal direction with respect to the substrate mounting surface 13a.

본 실시예에 의하면, 링 구성 부품(62)의 고정단(62a)의 단면과, 링 구성 부품(61)의 자유단(61b)의 측면의 당접부는, 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조를 갖고 있기 때문에, 하부 전극(12)이 직접 플라즈마의 조사를 받는 일은 없다. 따라서, 플라즈마의 조사에 근거하는 이상 방전이나 이로전의 발생을 방지할 수 있다.According to the present embodiment, the end face of the fixed end 62a of the ring component 62 and the contact portion of the side surface of the free end 61b of the ring component 61 have a stepped structure that prevents the entry of plasma. As a result, the lower electrode 12 is not directly irradiated with plasma. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of abnormal discharge or erosion based on the irradiation of the plasma.

또한, 본 실시예에 의하면, 간극 끼워맞춤 부재(66)가 상자 부재(65)의 R형상 부분에 탑재되어 있기 때문에, 간극 끼워맞춤 부재(66)와 상자 부재(65) 사이가 라비린스(labyrinth) 구조가 되어, 그 부분에 있어서의 플라즈마의 진입을 저지할 수 있다. In addition, according to this embodiment, since the gap fitting member 66 is mounted on the R-shaped portion of the box member 65, the gap fitting member 66 and the box member 65 are separated by labyrinth. It becomes a structure and can prevent entry of the plasma in the part.

또한, 본 실시예에 의하면, 단차 구조의 일부를 상자 부재로 구성함으로써, 링 부재 상호의 당접부의 구조가 비교적 단순한 것으로 된다. 따라서, 제작이 용이하고, 취급시의 파손의 염려도 적어진다. In addition, according to the present embodiment, the structure of the contact portions between the ring members is relatively simple by constituting a part of the stepped structure with the box member. Therefore, manufacturing is easy and there is little fear of damage at the time of handling.

본 실시예에 있어서, 상자 부재(65)는 링 구성 부품(61, 62) 및 하부 전극(12)의 기재(13)에 고정되지 않고, 상기 부재 상호간에 형성되는 오목부(64)에 유격을 갖고 끼워진 상태로 기재(13)의 플랜지부에 탑재된다. 따라서, 상자 부재(65)와 링 구성 부품(61)의 사이에는, 소정의 간극이 발생하고, 이 간극에 의해서 링 구성 부품(61)의 열 팽창에 의한 변위를 흡수할 수 있으므로, 실드 링의 변형을 방지할 수 있고, 이로써도 하부 전극(12)로의 플라즈마의 조사를 방지해서 하부 전극(12)에 있어서의 이상 방전이나 이로전의 발생을 방지할 수 있다. In the present embodiment, the box member 65 is not fixed to the base 13 of the ring component parts 61 and 62 and the lower electrode 12, and has a clearance between the recesses 64 formed between the members. It is attached to the flange part of the base material 13 in the state fitted with it. Therefore, a predetermined gap is generated between the box member 65 and the ring component 61, and the gap due to thermal expansion of the ring component 61 can be absorbed. Deformation can be prevented, and also the irradiation of the plasma to the lower electrode 12 can be prevented, and the abnormal discharge and the generation of erosion in the lower electrode 12 can be prevented.

도 7은, 본 발명의 실시예 3에 따른 실드 링의 주요부의 구성을 나타내는 도면으로, 도 7(a)는 주요부 평면도, 도 7(b)는 주요부 정면도, 도 7(c)는 링 구성 부품이 조립도이다. Fig. 7 is a view showing the configuration of the main parts of the shield ring according to the third embodiment of the present invention, in which Fig. 7 (a) is a plan view of the main parts, Fig. 7 (b) is a front view of the main parts, and Fig. 7 (c) is a ring configuration. The parts are assembled.

도 7에 있어서, 이 실드 링(70)은 링 구성 부품의 한쪽 끝의 단면과, 상기 링 구성 부품에 인접하는 다른 링 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면과의 당접부에, 기판 탑재면(13a)에 대해 수직 방향 및 수평 방향으로부터의 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조의 끼워맞춤부를 마련한 것이다.In FIG. 7, this shield ring 70 is a board | substrate mounting surface in the contact part with the cross section of one end of a ring component, and the side surface of one end of the other ring component component adjacent to the said ring component in the longitudinal direction. The fitting portion of the stepped structure for preventing the entry of plasma from the vertical direction and the horizontal direction with respect to 13a is provided.

통상, 단순한 조붓한 형상의 링 구성 부품을 4개 직사각형으로 조합한 실드 링에서는, 당접하는 링 구성 부품 상호간에 약간의 간극이 생기고, 이 간극으로부터 플라즈마가 진입하여 하부 전극까지 도달하며, 하부 전극에 있어서 이상 방전 또는 이로전이 발생하는 원인이 된다. 따라서, 본 실시예에 따른 실드 링(70)은 각 링 구성 부품의 당접부에 수직 방향 및 수평 방향에서의 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조의 끼워맞춤부를 갖는다. Normally, in a shield ring in which four simple rectangular ring components are combined into four rectangles, a slight gap is formed between the ring component parts that abut, and a plasma enters and reaches the lower electrode from the gap. Therefore, abnormal discharge or erosion occurs. Therefore, the shield ring 70 according to the present embodiment has a fitting portion having a stepped structure that prevents the entry of plasma in the vertical direction and the horizontal direction to the contact portion of each ring component.

링 구성 부품(72)의 고정단(72a)의 단면에는, 도 7(c)에 나타낸 바와 같이, 기판 탑재면(13a)에 대해 수직 및 수평 방향으로 갈고리 형상이 되도록 2단의 단차부가 마련되어 있고, 링 구성 부품(71)의 자유단(71b)에는, 이 단차부에 맞물리는 갈고리 형상의 단차부를 갖는 돌출부가 마련되어 있다. 이러한 단차부의 조합에 의해 라비린스 구조가 형성된다. In the cross section of the fixed end 72a of the ring component 72, as shown in FIG.7 (c), two steps are provided so that it may become hook shape in the perpendicular | vertical and horizontal direction with respect to the board | substrate mounting surface 13a, and The free end 71b of the ring component 71 is provided with a projection having a hook-shaped step that engages with the step. The labyrinth structure is formed by the combination of these steps.

본 실시예에 의하면, 링 구성 부품 상호의 당접부에 단차 구조의 끼워맞춤부를 형성했기 때문에, 하부 전극(12)에의 수직 방향 및 수평 방향으로부터의 플라즈마의 진입이 저지되고, 이로써 하부 전극(12)에 있어서의 이상 방전, 이로전 등의 트러블의 발생을 회피할 수 있다. According to this embodiment, since the fitting portions of the stepped structure are formed in the contact portions of the ring components, the entry of plasma from the vertical and horizontal directions to the lower electrode 12 is prevented, whereby the lower electrode 12 The occurrence of troubles such as abnormal discharges and erosions can be avoided.

본 실시예에 있어서, 링 구성 부품(71, 72)의 당접부, 즉 단차부의 끼워맞춤부에서의 링 구성 부품(71)의 열 팽창 방향의 간극(d1, d2)(도 7(a) 참조)이 같아지도록 하고, 또한 그 폭을, 링 구성 부품(71)의 열 팽창 또는 열 수축에 기인하는 변위를 흡수하는 데 충분한 폭, 예컨대 1~2mm 정도로 하는 것이 바람직하다. 이로써, 링 구성 부품(71, 72)에 있어서의 열 팽창이 저해되는 일이 없기 때문에, 실드 링(70)과 하부 전극(12) 사이에서의 간극의 발생을 방지하여, 하부 전극(12)이 플라즈마 조사를 받는 것에 의한 트러블의 발생을 회피할 수 있다. In this embodiment, the gaps d1 and d2 in the direction of thermal expansion of the ring component 71 at the abutment portions of the ring component parts 71 and 72, that is, the fitting portions of the stepped portions (see Fig. 7 (a)). ) And the width thereof is preferably a width sufficient to absorb a displacement due to thermal expansion or thermal contraction of the ring component 71, for example, about 1 to 2 mm. Thereby, since thermal expansion in the ring component parts 71 and 72 is not impaired, generation | occurrence | production of the clearance gap between the shield ring 70 and the lower electrode 12 is prevented, and the lower electrode 12 is prevented. It is possible to avoid the occurrence of trouble by receiving plasma irradiation.

본 실시예에 있어서, 링 구성 부품(71, 72)의 당접부에서의 링 구성 부품의 열 팽창 방향에 대해 직각 방향의 간극(e1, e2)(도 7(a) 참조)은, 링 구성 부품의 조립에 지장이 없는 정도의 간극이면 된다. In the present embodiment, the gaps e1 and e2 (see Fig. 7 (a)) in the direction perpendicular to the direction of thermal expansion of the ring components at the abutments of the ring components 71 and 72 are the ring components. The clearance may be such that there is no problem in assembling of.

다음으로 본 발명에 있어서의 실시예 4에 대해서 설명한다. Next, Example 4 in the present invention will be described.

도 8은 본 발명의 실시예 4에 따른 실드 링의 구성을 나타내는 도면이다. 이 실드 링은 기판 탑재대의 제작 정밀도를 높이고, 또한 하부 전극의 모서리부 4개소의 용사면의 이로전을 방지하기 쉽게 하기 위해서, 4개의 모서리부에 대해서 각각 R면이 아니라, 평면에 의한 면따기 처리가 실시된 기판 탑재면(13a)의 주위를 둘러싸도록 배치된 것이다.8 is a diagram showing the configuration of a shield ring according to the fourth embodiment of the present invention. In order to increase the manufacturing precision of the substrate mounting table and to easily prevent the erosion of the sprayed surfaces of the four corners of the lower electrode, the shield rings are not flat on the four corners but instead of planes. It is arrange | positioned so that the circumference | surroundings of the board | substrate mounting surface 13a to which the process was performed may be enclosed.

도 8에 있어서, 실드 링(15)은 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 대향하는 2개의 짧은 변을 따라서 각각 배치된 긴 형상의 링 구조 부품(81, 82)과, 대향하는 2개의 긴 변을 따라 각각 배치된 긴 형상의 링 구성 부품(83, 84)의 조합체로 구성되어 있다.In Fig. 8, the shield ring 15 is formed of elongated ring structural parts 81 and 82 respectively arranged along two opposing short sides of the rectangular substrate mounting surface 13a, and two opposing long sides. It consists of the combination of the ring-shaped component parts 83 and 84 of the elongate shape arrange | positioned along this.

링 구성 부품(81~84)은, 긴 형상 물체의 길이 방향의 한쪽 끝인 고정단에 마련된 고정용 나사 구멍(85)과, 상기 고정용 나사 구멍(85)과는 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 지지용 나사 구멍(86)을 갖는다. 지지용 나사 구멍(86)은 적어도 하나 마련되지만, 긴 형상 물체의 길이를 따라 2개 또는 그 이상마련할 수도 있다. 이 때 각 지지용 나사 구멍(86)은, 예컨대 등간격으로 마련하는 것이 바람직하다. The ring component parts 81 to 84 are spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object from the fixing screw hole 85 provided in the fixed end which is one end of the elongate object in the longitudinal direction, and the fixing screw hole 85. And a supporting screw hole 86 provided. At least one supporting screw hole 86 is provided, but may be two or more along the length of the elongate object. At this time, it is preferable to provide each support screw hole 86 at equal intervals, for example.

고정용 나사 구멍(85)은 링 구성 부품의 고정단을 기재(13)에 고정하기 위한 것으로, 나사 구멍에 수직인 단면에서 유격이 적고, 평면상에서의 형상이 정원 형상으로 형성된다. 한편, 지지용 나사 구멍(86)은 고정단에 대향하는 다른쪽 끝인 자유단을 변위 자유롭게 지지하는 것으로, 나사 구멍에 수직인 단면에 있어서 긴 형상 물체의 길이 방향으로 긴 타원형 혹은 양 끝이 반원이 되는 직사각형으로 형성된다. 지지용 나사 구멍(86)에 있어서의 단면의 긴 직경은, 각 구성 부재(81~84)가 열 팽창되어도, 지지용 나사 구멍(86)에 장착되는 지지 나사가 구성 부재의 열 팽창을 규제하지 않을 정도의 길이를 갖는 것으로 하고, 긴 직경의 길이는, 예컨대, 7mm~10.5mm인 것이 바람직하며, 처리하는 유리 기판의 크기가 커짐에 따라서 길어지는 것이 바람직하다. The fixing screw hole 85 is for fixing the fixing end of the ring component to the substrate 13, and there is little play in the cross section perpendicular to the screw hole, and the shape on the plane is formed into a garden shape. On the other hand, the support screw hole 86 displaces freely the free end, which is the other end opposite to the fixed end, and has a semicircle long in the longitudinal direction of the elongated object in the cross section perpendicular to the screw hole. It is formed into a rectangle. The long diameter of the cross section in the supporting screw hole 86 does not restrict the thermal expansion of the constituent member even if the constituent members 81 to 84 are thermally expanded. The length of the long diameter is preferably, for example, 7 mm to 10.5 mm, and it is preferable that the length of the long diameter becomes longer as the size of the glass substrate to be treated increases.

링 구성 부품(81)의 고정단(81a)의 단면은 인접하는 다른 링 구성 부품(83)의 길이 방향의 단부(83b)(자유단)의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝인 이동단(81b)의 측면이, 인접하는 다른 링 구성 부품(83)과는 다른 인접하는 별도의 링 구성 부품(84)의 단부(84a)(고정단)의 단면에 당접하도록 배치되어 있다. 링 구성 부품(82, 84)은 각각 기판 탑재면(13a)의 중심점 C에 대해서 링 구성 부품(81, 83)과 점대칭이 되도록 배치되어 있다. The cross section of the fixed end 81a of the ring component 81 abuts on the side surface of the end portion 83b (free end) in the longitudinal direction of another ring component component 83 adjacent to the other, and is the other end of the mobile end 81b. The side surface of is arrange | positioned so that it may abut on the cross section of the edge part 84a (fixed end) of the other ring component component 84 adjacent to another ring component component adjacent. The ring component parts 82 and 84 are arrange | positioned so that it may become point symmetry with the ring component parts 81 and 83 with respect to the center point C of the board | substrate mounting surface 13a, respectively.

각 링 구성 부품(81~84)의 고정단(81a~84a)은 각각 고정용 나사 구멍(85)에 장착된 고정 나사(도시 생략)에 의해서 도 8 중, 도면의 종이면의 안쪽에 배치된 하부 전극의 기재(도시 생략)의 플랜지부에 고정되어 있다. 또한, 각 링 구성 부품(81~84)은 지지용 나사 구멍(86)을 관통하는 지지 나사(도시 생략)에 의해서 자유단(81b~84b)가, 도 8 중, 도면의 종이면의 안쪽에 배치된 하부 전극의 기재(도시생략)의 플랜지부에 대해 변위 자유롭게 지지되고, 이로써 각 링 구성 부품(81~84)은 고정단(81a~84a)을 기점으로 해서 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라서 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 지지되어 있다.The fixing ends 81a to 84a of the ring component parts 81 to 84 are arranged inside the paper surface of the drawing in FIG. 8 by fixing screws (not shown) attached to the fixing screw holes 85, respectively. It is fixed to the flange part of the base material (not shown) of a lower electrode. In addition, as for each ring component 81-84, the free end 81b-84b has the inside of the paper surface of FIG. 8 by the support screw (not shown) which penetrates the support screw hole 86 in FIG. Displacement-free support is carried out with respect to the flange part of the base material (not shown) of the arranged lower electrode, whereby each ring component part 81-84 follows the longitudinal direction of an elongate object starting from the fixed end 81a-84a. It is supported for thermal expansion or thermal contraction.

고정용 나사 구멍에 장착되는 고정 나사의 조임 토크는, 지지용 나사 구멍에 장착되는 지지 나사의 조임 토크보다 크게 하는 것이 바람직하다. 이로써, 링 구성 부품(81~84)의 고정단(81a~84a)을 확실하게 고정하고, 또한 자유단(81b~84b)을루즈하게 지지하여 열 팽창시 또는 열 수축시의 그 이동을 확보할 수 있다. It is preferable to make tightening torque of the fixation screw attached to a fixing screw hole larger than tightening torque of the support screw attached to a supporting screw hole. This securely fixes the fixed ends 81a to 84a of the ring component parts 81 to 84 and also loosely supports the free ends 81b to 84b to ensure their movement during thermal expansion or thermal contraction. Can be.

고정 나사의 조임 토크는, 예컨대 실시예 1과 같이 예컨대 8×(1±0.05)kgf·cm(0.75~0.8N·m) 정도이며, 지지 나사의 조임 토크는, 예컨대 고정 나사의 조임 토크보다 약간 작아서, 예컨대 6~8kgf·cm(0.6~0.8N·m) 정도이다. 단, 팽창에 의한 연장량을 제한해야 하는 경우 등에 있어서는, 이들 토크를 세라믹이 파손되지 않을 정도의 범위 내에서 보다 강하게 조여서, 실드 링의 이동을 제약하는 것도 가능하다. The tightening torque of the set screw is, for example, about 8 × (1 ± 0.05) kgf · cm (0.75 to 0.8 N · m) as in Example 1, and the tightening torque of the supporting screw is slightly smaller than the tightening torque of the fixing screw, for example. It is small and is about 6-8 kgf * cm (0.6-0.8 N * m), for example. However, in the case where the amount of extension due to expansion is to be limited, it is also possible to tighten these torques more strongly within the range that the ceramic does not break, thereby restricting the movement of the shield ring.

각 링 구성 부품(81~84)을 도 8에 나타낸 바와 같이 배치함으로써, 각 링 구성 부품(81~84)의 열 팽창 또는 열 수축시의 자유단(81b~84b)의 이동 방향으로는 인접하는 링 구성 부품이 존재하지 않기 때문에, 자유단의 이동이 방해받는 일은 없다. 이로써, 열 팽창시에 있어서의 인접하는 링 구성 부품끼리 서로 미는 것을 방지하여, 실드 링(15)의 변형의 발생 및 열 수축에 의한 실드 링(15)과 기판 탑재면(13a) 사이에서의 간극의 발생을 방지할 수 있다. By arrange | positioning each ring component 81-84 as shown in FIG. 8, it adjoins in the moving direction of the free ends 81b-84b at the time of thermal expansion or thermal contraction of each ring component 81-84. Since no ring component is present, the movement of the free end is not disturbed. This prevents adjacent ring components from being pushed to each other at the time of thermal expansion, so that the gap between the shield ring 15 and the substrate mounting surface 13a due to occurrence of deformation of the shield ring 15 and thermal contraction. Can be prevented.

본 실시예에 있어서는, 기판 탑재면과 링 구성 부재의 당접부의 간극을 극력 없애서 기판 탑재면에의 플라즈마의 진입을 저지하는 관점에서, 제작 정밀도를 달성하기 어려운 R면과 R면과의 당접부를 피하여, 기판 탑재면의 면따기면 및 상기 면따기면에 당접하는 구성 부재면이 각각 평면이 되도록 구성되어 있다. In this embodiment, the gap between the contact surface of the substrate mounting surface and the ring component is minimized so as to prevent the entry of plasma into the substrate mounting surface. The surface picking surface of the board | substrate mounting surface and the component member surface which contact | connects the said surface picking surface are comprised so that each may become a plane.

즉, 도 8에 나타낸 바와 같이, 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 각 면따기 면과, 각 구성 부품(81~84)의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 한쪽 끝의 측면의 접합부인 실드 링(15)의 모서리부와의 간극에, 기판 탑재면의 면따기 면과 당접하는 평면을 갖는 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재(87)가 끼워맞춤되어 있다. That is, as shown in FIG. 8, the edge part of the rectangular board | substrate mounting surface 13a carries out the surface picking process according to the plane, respectively, and each of the surface picking surfaces and one end of each component 81-84 is carried out. A gap fitting member having a triangular columnar shape having a plane that abuts the face picking surface of the substrate mounting surface in a gap with a corner portion of the shield ring 15, which is a joint portion at one end of one end of the cross section and adjacent other component parts ( 87 is fitted.

한편, 본 실시예에 있어서도, 각 링 구성 부품(81~84)을 기재(13)에 고정 또는 변위 자유롭게 지지시키기 위한 부착 방법으로서, 나사로 한정되지 않는 것은 당연하고, 실시예 1의 설명에 있어서 기재한 각종 방법을 사용할 수 있다. In addition, also in this Example, it is natural that it is not limited to a screw as an attachment method for fixing each ring component 81-84 to the base material 13 freely or displaceably, and is described in description of Example 1 One method can be used.

도 9는, 실시예 4에 적용되는 간극 끼워맞춤 부재(87)를 나타내는 사시도이다. 9 is a perspective view illustrating the gap fitting member 87 applied to the fourth embodiment.

도 9에 있어서, 이 간극 끼워맞춤 부재(87)는, 각 구성 부품(81~84)과는 독립적으로 형성된 것이다. 간극 끼워맞춤 부재(87)는, 각각 면따기 처리가 실시된 기판 탑재면(13a)의 각 모서리부의 면따기면과, 실드 링(15)의 모서리부로 둘러싸인 간극에 끼워맞춤되어서 그 간극을 없애는 것으로, 그 높이는, 예컨대 기판 탑재면(13a)을 구성하는 볼록 형상부의 높이(도 2 참조)에 상당하는 높이, 또는 그보다 약간 낮은 높이다. In FIG. 9, this clearance fitting member 87 is formed independently of each component 81-84. The gap fitting member 87 is fitted to the surface picking surface of each corner portion of the substrate mounting surface 13a on which the surface picking process has been performed, and the gap surrounded by the corner portion of the shield ring 15, thereby eliminating the gap. The height is, for example, a height corresponding to the height (see FIG. 2) of the convex portion constituting the substrate mounting surface 13a, or a height slightly lower than that.

이러한 간극 끼워맞춤 부재(87)를 구비한 실드 부재는, 직사각형의 기판 탑재면(13a) 주위를 둘러싸도록 배치되어 기판 탑재대를 형성한다. The shield member provided with such a gap fitting member 87 is arranged to surround the rectangular substrate mounting surface 13a to form a substrate mounting table.

본 실시예에 의하면, 기재(13)의 직사각형의 기판 탑재면(13a)의 4개의 모서리부에 대해서, 각각 평면에 의한 면따기 처리를 실시하여, 각 면따기 면과, 실드 링(15)의 모서리부와의 간극을 메우는 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재(87)를 구비하고 있기 때문에, R면끼리의 당접면을 없애서 구성 부재의 형상을 단순화시킬 수 있고, 이로써 제작 정밀도가 향상된다. 또한, R면끼리의 접합부를 없애서 평면끼리의 접합면으로 할 수 있기 때문에, 부재 상호의 어긋남에 기인하여 발생하는 간극을 극력 없애서 플라즈마의 진입에 의한 전극면의 손상을 보다 유효하게 방지할 수 있다. According to the present embodiment, the four corner portions of the rectangular substrate mounting surface 13a of the base material 13 are subjected to flat picking, respectively, so that the surface picking surfaces and the shield ring 15 Since the clearance fitting member 87 of the triangular column shape which fills the clearance gap with a corner part is provided, the contact surface of R planes can be eliminated and the shape of a structural member can be simplified, and manufacturing precision improves by this. In addition, since the joining portion between the R surfaces can be removed to form a joining surface between the planes, it is possible to effectively eliminate the gap caused by the misalignment of the members, thereby preventing damage to the electrode surface due to the entry of plasma more effectively. .

또한, 본 실시예에 있어서는, 피처리 기판으로서, 예컨대 하나의 모서리부를 위치맞춤을 위한 오리엔테이션 플랫으로서 면따기한 직사각형의 기판이 적합하게 사용되지만, 이 경우에 있어서, 기판 탑재면(13a) 상에 기판을 탑재시킬 때, 기판 탑재면(13a)와 기판과의 사이에 위치 어긋남이 생기면, 통상 기판 탑재면(13a)보다 먼저 간극 끼워맞춤 부재(87)의 상부 평면이 노출된다. 따라서, 예컨대, 기판 탑재면(13a)과 기판 사이에 위치 어긋남이 생겨도, 기판 탑재면(13a)의 용사 표면에의 플라즈마의 진입만은 회피하여 그 손상을 방지할 수 있다. 또한, 4개의 모서리부 중 어느 하나를 면따기로 하고 있지만, 기판의 처리 내용 등의 형편에 따라서 오리엔테이션 플랫의 위치가 변경된 경우에도 적용 가능하게 하기 위해서다. 한편, 간극 끼워맞춤 부재(87)가 손상되었을 때는, 그 간극 끼워맞춤 부재(87)만을 교환함으로써 용이하게 대처할 수 있다. 또한, 본 실시예에 있어서, 각 구성 부품(81~84)의 당접부에 단차 구조의 끼워맞춤부를 형성할 수 있고, 이 끼워맞춤부를 형성하는 경우에는, 끼워맞춤부의 구조는 실시예 2의 형태와 마찬가지의 것이며, 간극 끼워맞춤 부재(87)의 아래에는 도 6의 상자 부재(65)와 같은 부재가 마련되는 것으로 하며, 간극 끼워맞춤 부재(87)는 기재(13)에 탑재되는 것으로 한다. In addition, in this embodiment, as a substrate to be processed, for example, a rectangular substrate which is chamfered as an orientation flat for aligning one corner portion is suitably used, but in this case, on the substrate mounting surface 13a When mounting a board | substrate, if the position shift | offset | difference occurs between the board | substrate mounting surface 13a and a board | substrate, the upper plane of the clearance fitting member 87 is exposed before the board | substrate mounting surface 13a normally. Thus, for example, even if a position shift occurs between the substrate mounting surface 13a and the substrate, only the entry of plasma into the sprayed surface of the substrate mounting surface 13a can be avoided, and the damage thereof can be prevented. In addition, although any one of four edge parts is to be picked out, it is for making it applicable also when the orientation flat position changes according to circumstances, such as a process content of a board | substrate. On the other hand, when the gap fitting member 87 is damaged, it can cope easily by replacing only the gap fitting member 87. FIG. In addition, in this embodiment, the fitting part of a stepped structure can be formed in the contact part of each component 81-84, and when this fitting part is formed, the structure of a fitting part is a form of Example 2 It is similar to the above, and a member like the box member 65 of FIG. 6 is provided under the gap fitting member 87, and the gap fitting member 87 is mounted on the base material 13.

또한, 본 실시예에 의하면, 간극 끼워맞춤 부재(87)를 상하 대칭의 삼각 기둥 형상으로 했기 때문에, 상기 간극 끼워맞춤 부재(87)를 기판 탑재면(13a)의 평면 형상의 면따기면과 실드 링(15)의 모서리부의 사이의 간극에 끼워맞춤시킬 때, 상하 방향의 방향을 고려할 필요가 없다. 따라서, 상기 실드 링(15)을 갖는 기판 탑재대의 제작이 비교적 용이하게 된다. In addition, according to this embodiment, since the clearance fitting member 87 was made into the shape of a triangular column of up-down symmetry, the clearance fitting member 87 was made with the planar face picking surface and shield of the board | substrate mounting surface 13a. When fitting to the gap between the edge portions of the ring 15, it is not necessary to consider the direction in the vertical direction. Therefore, the manufacture of the substrate mounting table having the shield ring 15 is relatively easy.

본 실시예에 있어서, 링 구성 부품(81~84)은, 절연성의 세라믹, 예컨대 알루미나(A12O3), 이트리아, 질화 실리콘, 석영 등으로 구성된다. 링 구성 부품(81~84)에 있어서의 고정용 나사 구멍(85)은, 상기 링 구성 부품의 고정단으로부터 극력 가까운 위치에 있는 것이 바람직하고, 예컨대, 30~40mm 혹은 그 이하로 마련되는 것이 바람직하다. 고정용 나사 구멍(85)의 고정단 단면과의 간격이 지나치게 넓으면, 그 부분의 열 팽창을 무시할 수 없게 되어, 각 링 구성 부품의 고정단과, 상기 고정단에 당접하는 다른 링 구성 부품과의 접합면에 비틀림이 발생할 우려가 있다. In the present embodiment, the ring component parts 81 to 84 are made of an insulating ceramic such as alumina (A1 2 O 3 ), yttria, silicon nitride, quartz, or the like. It is preferable that the fixing screw hole 85 in the ring component parts 81-84 is located in the position near the maximum of the fixed end of the said ring component part, For example, it is preferable to be provided in 30-40 mm or less. Do. If the interval between the end faces of the fixing screw holes 85 and the fixing end is too wide, thermal expansion of the portion cannot be ignored, and the fixed ends of the respective ring component parts and the other ring component parts in contact with the fixed ends will be ignored. There is a risk of distortion in the joining surface.

다음으로 본 실시예 4의 제 1 변형예에 대해서 설명한다. Next, a first modification of the fourth embodiment will be described.

도 10은, 본 실시예 4의 제 1 변형예에 있어서의 간극 끼워맞춤 부재를 나타내는 사시도이다. 10 is a perspective view illustrating a gap fitting member in a first modification of the fourth embodiment.

도 10에 있어서, 간극 끼워맞춤 부재(88)가 도 9의 간극 끼워맞춤 부재(87)와 다른 점은, 간극 끼워맞춤 부재(88)의 한쪽 끝에, 그 간극 끼워맞춤 부재(88)가 기판 탑재면(13a)의 각 모서리부에 형성된 평면에 의한 면따기면과 실드 링(15)의 모서리부와의 간극에 끼워맞춤되었을 때, 기판 탑재면(13a)의 각 모서리부의 형상을, 외견상 기판 탑재면(13a)의 모서리부를 R면을 따라서 면따기했을 때의 형상과 같은 형상으로 하기 위한 R면(88a)을 구비한 볼록부를 형성했다는 점이다. 즉, 간극 끼워맞춤 부재(88)의 한쪽 단면에는, 직선(88b)과 원호(88c)로 둘러싸인 면이 소정의 높이로 돌출한 볼록부가 형성되어 있고, 이 볼록부의 높이를 규정하는 면이 R면(88a)으로 되어 있다.In FIG. 10, the gap fitting member 88 differs from the gap fitting member 87 of FIG. 9 in that the gap fitting member 88 is mounted on one end of the gap fitting member 88. The shape of each corner portion of the substrate mounting surface 13a is apparently matched to the gap between the surface picking surface by a plane formed at each corner portion of the surface 13a and the corner portion of the shield ring 15. It is a point that the convex part provided with the R surface 88a for forming the edge part of the mounting surface 13a in the same shape as the surface picking along the R surface was formed. That is, at one end surface of the gap fitting member 88, a convex portion is formed in which a surface surrounded by the straight line 88b and the arc 88c protrudes to a predetermined height, and the surface defining the height of the convex portion is the R surface. (88a).

이러한 구성의 간극 끼워맞춤 부재(88)는, 기판 탑재면(13a)의 각 모서리부에 형성된 평면에 따른 면따기면과 실드 링(15)의 모서리부의 간극에 끼워맞춤되어, 기판 탑재대를 형성한다. The gap fitting member 88 of such a structure is fitted in the clearance gap between the surface picking surface along the plane formed in each corner part of the board | substrate mounting surface 13a, and the edge part of the shield ring 15, and forms a board | substrate mounting table. do.

본 실시예의 변형예에 있어서도, 상기 실시예와 마찬가지로 R면끼리의 접합부를 없애서 평면끼리의 접합면으로 할 수 있기 때문에, 부재 상호의 어긋남에 기인해서 발생하는 간극을 극력 없애서 상기 간극으로부터 플라즈마가 진입하는 것에 의한 전극면의 손상을 유효하게 방지할 수 있다. Also in the modified example of the present embodiment, similarly to the above embodiment, since the joining portions between the R surfaces can be removed to form a joining surface between the planes, the plasma enters from the gap by eliminating the gap generated due to the misalignment of members. Damage to the electrode surface can be effectively prevented.

또한, 본 실시예의 변형예에 의하면, 기판 탑재면(13a)의 4개의 모서리부에서의 면따기면과, 간극 끼워맞춤 부재(88)에 있어서의 직선(88a)을, 한 변을 포함하는 직사각형 평면이 당접하도록 조합되기 때문에, 기판 탑재면(13a)의 모서리부의 형상을 외견상 R면을 따라서 면따기 처리를 행한 경우의 형상과 같은 형상이 된다. 간극 끼워맞춤 부재(88)의 모서리부를 R면으로 함으로써, 모서리부의 파손을 막을 수 있다. 또한, 간극 끼워맞춤 부재(88)를 마련했을 때에, 종래의 기판 탑재면의 형상과 외견상 동일하게 되기 때문에, 기판의 온도 제어 등에 대해서 종래의 장치로 조정되던 각종 처리 조건을 그대로 적용 가능하다는 이점도 있다. Moreover, according to the modification of this embodiment, the rectangular surface which contains the side picking surface in the four corner | angular parts of the board | substrate mounting surface 13a, and the straight line 88a in the clearance fitting member 88 is included in one side. Since the planes are combined so as to be in contact with each other, the shape of the edge portion of the substrate mounting surface 13a becomes the same shape as that in the case where surface picking treatment is performed along the R surface. By setting the corner portion of the gap fitting member 88 to the R surface, breakage of the corner portion can be prevented. In addition, when the gap fitting member 88 is provided, since it is apparently the same as the shape of the conventional substrate mounting surface, it is also possible to apply various processing conditions adjusted by the conventional apparatus as to the temperature control of the substrate as it is. have.

본 실시예의 변형예에 있어서, R면(88a)을 구비한 볼록부의 단면은, 기판 탑재면(13a)과 동일 평면 상에 있거나 혹은 기판 탑재면(13a)보다 안으로 들어가 있는 것이 바람직하다. 이로써, 기판 탑재면(13a)에 탑재한 기판을 안정되게 지지할 수 있다. In the modification of this embodiment, it is preferable that the end surface of the convex part provided with the R surface 88a exists on the same plane as the board mounting surface 13a, or it enters inside the board mounting surface 13a. Thereby, the board | substrate mounted on the board | substrate mounting surface 13a can be stably supported.

다음으로 실시예 4의 제 2 변형예에 대해서 설명한다.Next, a second modified example of the fourth embodiment will be described.

도 11은, 본 실시예에 있어서의 제 2 변형예에 적용되는 링 구성 부품을 나타내는 평면도이다. 11 is a plan view showing a ring component part applied to a second modification of the present embodiment.

도 11에 있어서, 이 링 구성 부품(91)의 고정단(91a)의 측면에는, 평면을 따라서 면따기 처리된 기판 탑재면(13a)의 모서리부에서의 면따기면과 실드 링(15)의 모서리부 사이의 간극을 메우기 위한 돌기부(91c)가 마련되어 있다. In Fig. 11, the side of the fixed end 91a of the ring component 91 has a surface picking surface and a shield ring 15 at the corners of the substrate mounting surface 13a that have been face-picked along a plane. A projection 91c is formed to fill the gap between the corner portions.

이러한 구성의 링 구성 부품(91)이 도 8과 같이 조합되어 실드 링(15)을 형성한다. The ring component 91 of such a configuration is combined as shown in FIG. 8 to form the shield ring 15.

본 실시예의 변형예에 의하면, 링 구성 부품(91)의 돌기부(91c)에서, 면따기면과 실드 링(15)의 사이의 간극을 메울 수 있기 때문에, 상기 간극으로부터 플라즈마가 진입하는 것에 의한 하부 전극(12)에 있어서의 이상 방전, 이로전 등의 발생을 유효하게 방지할 수 있다. According to a modification of the present embodiment, since the gap between the face picking surface and the shield ring 15 can be filled in the protrusion 91c of the ring component 91, the lower part by entering the plasma from the gap It is possible to effectively prevent the occurrence of abnormal discharge, erosion or the like in the electrode 12.

상술한 각 실시예에 있어서, 플라즈마 처리가 실시되는 기판은, 액정 디스플레이(LCD)용 유리 기판뿐만 아니라, 전기 발광(Electro Luminescence;EL) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 등을 비롯하는 FPD(Flat Panel Display)에 이용하는 각종 기판이어도 된다. In each of the above-described embodiments, the substrate subjected to the plasma treatment is not only a glass substrate for a liquid crystal display (LCD) but also an FPD (Flat) including an electroluminescence (EL) display, a plasma display panel (PDP), and the like. Various board | substrates used for Panel Display) may be sufficient.

또한, 상술한 실시예에서는, 평행 평판 전극에 의한 용량 결합형의 플라즈마 발생 방식을 이용한 장치에 대해서 설명했지만, 유도 결합형 플라즈마 발생 방식 등 다른 플라즈마 발생 방식에 의한 장치여도, 기판의 탑재대와 실드 링 또는 그에 상당하는 부재를 갖는 장치라면 본원 발명을 적용할 수 있는 것은 당연하다.
In addition, in the above-described embodiment, the apparatus using the capacitively coupled plasma generation method by the parallel plate electrode has been described. However, even if the device is formed by another plasma generation method such as the inductively coupled plasma generation method, the mounting table and the shield of the substrate may be used. Naturally, the present invention can be applied to any device having a ring or an equivalent member.

10 : 기판 처리 장치 12 : 탑재대(서셉터)
13 : 기재 13a : 기판 탑재면
15 : 실드 링 18 : 절연 링
41~44 : 링 구성 부품 51~54 : 링 구성 부품
61, 62 : 링 구성 부품 71, 72 : 링 구성 부품
81~84 : 링 구성 부품 87, 88 : 간극 끼워맞춤 부재10: substrate processing apparatus 12: mounting table (susceptor)
13 base material 13a substrate mounting surface
15: shield ring 18: insulated ring
41 ~ 44: Ring component 51 ~ 54: Ring component
61, 62: ring components 71, 72: ring components
81-84: ring component 87, 88: clearance fitting member

Claims (20)

직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 탑재대의 직사각형의 탑재면의 주위를 둘러싸도록 마련된 실드 부재의 구성 부품으로서,
상기 직사각형의 탑재면의 한 변을 따라서 배치되는 절연성의 긴 형상 물체로 이루어지고,
상기 긴 형상 물체의 길이 방향의 한쪽 끝에 마련된 고정부와, 상기 고정부와는 상기 긴 형상 물체의 길이 방향으로 이격되어 마련된 적어도 하나의 가이드부를 갖는 것
을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
As a component part of the shield member provided so that the circumference | surroundings of the rectangular mounting surface of the mounting table which mount the said board | substrate in which the said board | substrate is mounted in a processing chamber of which a plasma processing is performed to a rectangular board | substrate are carried out,
An insulating elongated object disposed along one side of the rectangular mounting surface,
A fixed portion provided at one end in the longitudinal direction of the elongated object, and the fixed portion having at least one guide portion spaced apart in the longitudinal direction of the elongated object
The component part of the shield member characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서,
상기 고정부로서의 고정용 나사 구멍에 의해서 한쪽 끝이 상기 탑재대의 기재에 고정되고, 다른쪽 끝이 상기 적어도 하나의 가이드부로서의 지지용 나사 구멍에 의해서 변위 자유롭게 지지되며, 상기 고정된 한쪽 끝을 기점으로 해서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라 열 팽창 또는 열 수축 가능한 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
The method of claim 1,
One end is fixed to the base material of the mounting table by the fixing screw hole as the fixing part, the other end is freely supported by the supporting screw hole as the at least one guide part, and the fixed one end is started. The component part of the shield member which can be thermally expanded or thermally contracted along the longitudinal direction of the said elongate object.
제 2 항에 있어서,
상기 고정용 나사 구멍은, 상기 고정용 나사 구멍이 있는 평면상에서 정원(正圓) 형상이며, 상기 지지용 나사 구멍은 상기 지지용 나사 구멍이 있는 평면상에서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향으로 긴 타원형 혹은 양 끝이 반원인 직사각형인 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
3. The method of claim 2,
The fixing screw hole is a spherical shape on a plane with the fixing screw hole, and the supporting screw hole is an elliptical long or long in the longitudinal direction of the elongate object on the plane with the supporting screw hole. A component part of a shield member, wherein both ends are rectangular with semicircles.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 긴 형상 물체의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 R면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Corner portions of the rectangular mounting surface are subjected to face picking processing along the R surface, respectively, and projections having an R surface abutting on the corners of the mounting surface picked up on the side of one end of the elongate object. The component part of the shield member characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 긴 형상 물체의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 평면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품. The method according to any one of claims 1 to 3,
Each of the corners of the rectangular mounting surface is subjected to a face picking process along a plane, and a protrusion having a flat surface abutting the corner portion of the mounting surface picked up on the side of one end of the elongated object is provided. The component part of a shield member characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 긴 형상 물체에 있어서의 상기 직사각형의 탑재면에 대향하는 측면은, 돌기부를 갖지 않는 평면인 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The side surface which opposes the said rectangular mounting surface in the said elongate object is a plane which does not have a projection part, The component part of the shield member characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 긴 형상 물체는, 다른 긴 형상 물체와 조합해서 실드 부재를 형성할 때에 단차 구조의 끼워맞춤부를 형성하기 위한 돌출부를 갖는 것을 특징으로 하는 실드 부재의 구성 부품.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The said elongate object has the protrusion part for forming the fitting part of a step structure, when forming a shield member in combination with another elongate object, The component part of the shield member characterized by the above-mentioned.
직사각형의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치의 처리실 내에서 상기 기판을 탑재하는 탑재대의 직사각형의 탑재면 주위를 둘러싸도록 배치되는 실드 부재로서,
청구항 1에 기재된 구성 부품의 조합체로 이루어지고,
상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면이 인접하는 다른 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면에 당접하고, 다른쪽 끝의 측면이 상기 인접하는 다른 구성 부품과는 다른 인접하는 별도의 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면에 당접하도록 각각 조합되며,
상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝이 상기 고정부에 의해서 상기 탑재대의 기재에 고정되고, 다른 쪽 끝이 상기 적어도 하나의 가이드부에 의해서 변위 자유롭게 지지되며, 상기 각 구성 부품이 상기 고정된 한쪽 끝을 기점으로 해서 상기 긴 형상 물체의 길이 방향을 따라 열 팽창 또는 열 수축 가능하게 배열되어 있는 것
을 특징으로 하는 실드 부재.
As a shield member arrange | positioned so that the periphery of the rectangular mounting surface of the mounting table which mounts the said board | substrate may be carried out in the process chamber of the substrate processing apparatus which performs a plasma process on a rectangular board | substrate,
It consists of the combination of the component parts of Claim 1,
A cross section of one end in the longitudinal direction of each of the component parts abuts on a side of one end in the longitudinal direction of another adjacent component, and a side of the other end is separate from another adjacent component Each combined to abut the cross section of one end in the longitudinal direction of the part,
One end in the longitudinal direction of each of the components is fixed to the base of the mounting table by the fixing portion, the other end is freely supported by the at least one guide portion displaced freely, and each of the components is fixed Arranged to be capable of thermal expansion or thermal contraction along the longitudinal direction of the elongate object starting from the end
Shield member characterized in that.
제 8 항에 있어서,
상기 고정부로서의 고정용 나사 구멍에 장착되는 고정 나사의 조임 토크를, 상기 가이드부로서의 지지용 나사 구멍에 장착되는 지지 나사의 조임 토크보다 크게 한 것을 특징으로 하는 실드 부재.
The method of claim 8,
The tightening torque of the fixing screw attached to the fixing screw hole as the said fixing part was made larger than the tightening torque of the supporting screw attached to the supporting screw hole as the said guide part, The shield member characterized by the above-mentioned.
제 8 항에 있어서,
상기 각 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 단면과, 상기 인접하는 다른 구성 부품의 길이 방향의 한쪽 끝의 측면의 당접부에, 상기 기판 탑재면에 대해 수직 방향 및 수평 방향으로부터의 플라즈마의 진입을 저지하는 단차 구조의 끼워맞춤부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재. The method of claim 8,
Entry of plasma from the vertical direction and the horizontal direction with respect to the board | substrate mounting surface to the contact part of the end surface of the one end of the longitudinal direction of each said component part, and the side surface of the one end of the longitudinal direction of the said other adjacent component part A shield member, wherein a fitting portion having a stepped structure for blocking is formed. 제 10 항에 있어서,
상기 단차 구조의 일부는, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면과, 상기 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면과의 당접부에 형성된 오목부에 유격(裕隔)을 갖고 끼워지는 상자 부재로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
11. The method of claim 10,
A part of the stepped structure is a box member fitted with a gap in the recess formed in the contact portion between the end surface of one end of each of the components and the side surface of the one end of the other adjacent component. Shield member, characterized by consisting of.
제 11 항에 있어서,
상기 오목부와 상기 상자 부재 사이에, 상기 각 구성 부품의 길이 방향에 따른 열 팽창 또는 열 수축에 기인한 변위를 흡수하는 간극이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
The method of claim 11,
A shield member is provided between the recess and the box member for absorbing displacement due to thermal expansion or thermal contraction along the longitudinal direction of the respective component parts.
제 12 항에 있어서,
상기 오목부에 있어서의 상기 상자 부재의 삽입구는, 사이드 실드 부재로 밀봉함으로써 상기 오목부 내로의 플라즈마의 진입이 저지되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.

13. The method of claim 12,
The insertion member of the said box member in the said recessed part is sealed by the side shield member, The entry of the plasma into the said recessed part is prevented, The shield member characterized by the above-mentioned.

제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 R면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
14. The method according to any one of claims 8 to 13,
Each of the corners of the rectangular mounting surface is subjected to a face picking process along the R surface, and a protrusion having an R surface in contact with a corner portion of the mounting surface picked up on the side of one end of each component. The shield member is provided.
제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 측면에 상기 면따기된 상기 탑재면의 모서리부에 당접하는 평면을 갖는 돌기부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
14. The method according to any one of claims 8 to 13,
Each of the corners of the rectangular mounting surface is subjected to a face picking process along a plane, and a projection having a plane that abuts the corner portion of the mounting surface that is picked up on one side of each component is provided. Shield member, characterized in that.
제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 R면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 각 면따기면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부의 간극을 메우는 상기 구성 부품과는 독립된 R면을 갖는 간극 끼워맞춤 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
14. The method according to any one of claims 8 to 13,
The corner portions of the rectangular mounting surface are subjected to face picking treatment along the R surface, respectively, and the joint portions of the face picking surfaces, the end surfaces of one end of each of the components, and the side of the one end of the other adjacent components, respectively. A shield member comprising a gap fitting member having an R surface independent of the component that fills the gap of the gap.
제 8 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 직사각형의 탑재면의 모서리부는 각각 평면에 따른 면따기 처리가 실시되어 있고, 각 면따기 면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부의 간극을 메우는 상기 구성 부품과는 독립된 평면을 갖는 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
14. The method according to any one of claims 8 to 13,
Each of the corners of the rectangular mounting surface is subjected to a face picking process along a plane, and each of the face picking surfaces, the cross section of one end of each of the component parts, and the side of the side of the one end of the other component part adjacent to each other. A shield member comprising a gap fitting member in a triangular column shape having a plane independent of the component part filling the gap.
제 17 항에 있어서,
상기 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재의 한쪽 끝에, 상기 삼각 기둥 형상의 간극 끼워맞춤 부재가 상기 탑재면의 각 모서리부에 형성된 평면에 따른 면따기면과, 상기 각 구성 부품의 한쪽 끝의 단면 및 인접하는 다른 구성 부품의 상기 한쪽 끝의 측면의 접합부의 간극에 끼워맞춤되었을 때, 상기 탑재면의 각 모서리부의 형상을, 외견상 상기 탑재면의 모서리부를 R면에 따라 면따기했을 때의 형상과 같은 형상으로 하기 위한 R면을 구비한 볼록부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
The method of claim 17,
At one end of the triangular pillar-shaped gap fitting member, the triangular pillar-shaped gap fitting member has a plane picking surface along a plane formed at each corner portion of the mounting surface, a cross section at one end of each component, and When fitted to the gap of the junction part of the side surface of the said one end of another adjacent component, the shape of each edge part of the said mounting surface, and the shape at the time of picking the edge part of the said mounting surface along the R surface A shield member having a convex portion having an R surface for forming the same shape.
제 18 항에 있어서,
상기 R면을 구비한 볼록부의 단면은, 상기 탑재면과 동일 평면 상에 있거나 또는 상기 탑재면보다 안으로 들어가 있는 것을 특징으로 하는 실드 부재.
The method of claim 18,
The cross section of the convex part provided with the said R surface is on the same plane as the said mounting surface, or it enters inside than the said mounting surface, The shield member characterized by the above-mentioned.
청구항 8 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 기재된 실드 부재를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 탑재대.The shielding member of any one of Claims 8-13 is provided, The board mounting stand characterized by the above-mentioned.
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