KR101257932B1 - 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 일측면 상에 다수의 식각부를 포함하는 글라스가 내부로 이송되는 챔버, 챔버 내부에 글라스의 양 측면과 각각 대향하는 쌍으로 배치되어 글라스의 이송 및 세정 작용을 하는 제 1 및 제 2 단위부를 포함하는 제 1 롤러 브러쉬, 제 1 롤러 브러쉬와 구분되어 글라스의 식각부가 위치한 측면과 대향하도록 챔버 내에 위치하며 하나의 회전축을 기준으로 글라스의 식각부에 대응되는 패턴으로 배치된 단위부들을 포함하는 제 2 롤러 브러쉬, 및 제 1 롤러 브러쉬를 통해 이송되는 글라스의 양측 면에 DI워터를 분사하는 DI노즐을 포함하는 세정 장치를 제공한다.
세정 장치, 보호 글라스, 인캡슐레이션(Encapsulation)

Description

세정 장치{Cleaning apparatus}
도 1은 일반적인 세정 공정의 공정 흐름도.
도 2a는 종래 세정 장치의 구조를 도시한 모식도.
도 2b는 도 2a 상의 글라스의 이송 방향에서 본 롤러 브러쉬 및 글라스의 위치관계를 도시한 모식도.
도 3a는 본 발명의 일실시예에 따른 세정 장치의 구조를 도시한 모식도.
도 3b는 도 3a 상의 글라스의 이송 방향에서 본 롤러 브러쉬 및 글라스의 위치관계를 도시한 모식도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
210 : 챔버 215 : 글라스
220 : 제 1 롤러 브러쉬 230 : 제 2 롤러 브러쉬
240 : DI노즐
본 발명은 세정 장치에 관한 것이다.
최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판표시장치들이 대두되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(Light Emitting Device)등이 있다. 그 중 전계발광소자는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 낮은 소비 전력, 넓은 시야각 및 높은 콘트라스트(Contrast) 등의 특성으로 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.
평판표시소자는 발광층을 포함하는 픽셀부의 보호를 위해 인캡슐레이션 공정이 필요하였다. 특히, 전계발광소자의 경우, 글라스 상에 애노드와 캐소드 사이에 위치하는 발광층을 포함하는 픽셀부가 형성되며, 이러한 전계발광소자의 픽셀부는 수분, 불순물 가스 및 외력 등에 의해 열화되거나 손상되는 문제가 심각하였다. 따라서, 전계발광소자 또한 인캡슐레이션 공정이 필요하였다.
인캡슐레이션 공정은 일반적으로 픽셀부가 형성된 글라스와 보호 글라스가 밀봉되어 이뤄졌다. 보호 글라스에는 글라스 상의 픽셀부에 대응되는 식각부가 형성되었으며, 그에 따른 이물질 발생으로 인캡슐레이션 과정에서 픽셀부에 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위해, 픽셀부가 형성된 글라스와 보호 글라스를 밀봉하기 전, 보호 글라스의 세정 공정이 필요하였다.
도 1은 일반적인 세정 공정의 공정 흐름도이다. 도 1을 참조하여 일반적인 세정 공정에 대하여 설명하면 다음과 같다.
세정 공정은 크게 3단계로 구분될 수 있다.
세정 공정의 첫 번째 단계(Step1)는 일측면에 식각부가 형성된 글라스의 전처리 단계로, 예를 들어 글라스 상에 엑시머 자외선(UV)을 조사하여 글라스 표면의 친수화 처리를 하는 한편, 유기물등을 제거한다.
세정 공정의 두 번째 단계(Step2)는 전처리 단계를 거친 글라스를 단계적으로 세정하는 단계이다. 이를 상세히 설명하면 다음과 같다.
제 1 세정단계에서는 친수화 처리가 끝난 글라스에 회전하는 롤러 브러쉬를 적용하여 이물질을 제거한다. 이때, 이물질의 크기는 약 5㎛ 이상의 크기일 수 있다. 제 2 세정단계에서는 글라스에 고압의 물방울을 분사하여 5㎛ 미만의 이물질을 제거할 수 있다. 제 3 세정단계에서는 글라스에 초음파를 적용하여 미세 이물질을 제거할 수 있다. 제 4 세정단계에서는 글라스에 DI 린스(Rinse)를 분사하여 잔존하는 미세 이물질을 제거할 수 있다.
이상 세정 공정의 두 번째 단계(Step2)의 각 세정단계는 순차적으로 수행되거나 일부 세정단계들이 동시 다발적으로 수행될 수 있으며, 필요에 의해 각 단계별 반복 수행이 가능하다.
세정 공정의 세 번째 단계(Step3)는 이상과 같은 세정단계를 거친 글라스를 고속 회전시키거나 에어 나이프(air knife)유닛을 적용하여 글라스를 건조시킨다.
도 2a는 종래 세정 장치의 구조를 도시한 모식도이다. 도 2b는 도 2a 상의 글라스의 이송 방향에서 본 롤러 브러쉬 및 글라스의 위치관계를 도시한 모식도이 다. 도 2a 및 도 2b를 참조하여 종래 세정 장치의 롤러 브러쉬 유닛의 구조를 상세히 설명하면 다음과 같다.
챔버(110) 내부로 일측면 상에 다수의 식각부(115a)가 위치하는 글라스(115)가 이송되었다. 챔버(110) 내부에는 글라스(115)의 양측면과 각각 대향하며 쌍을 이루는 제 1 및 제 2 단위부(120a, 120b)를 포함하는 롤러 브러쉬(120)가 위치하였다. 제 1 및 제 2 단위부(120a, 120b)는 각각 제 1 및 제 2 회전축(125a, 125b)과 연결되어 회전하였다. 이와 같은 롤러 브러쉬(120)의 회전 운동에 의해 글라스(115)는 챔버(110)의 일측 방향으로 이송되면서 세정되었다. 또한, DI노즐(140)이 글라스(115)의 양 측면에 DI워터를 분사하여 글라스(115)를 세정하였다.
이상과 같은 구조 및 원리에 따른 종래 기술의 세정 창치에서는 롤러 브러쉬(120)가 글라스(115)의 식각부(115a)와 완전히 접촉되지 못함에 따라 식각부(115a) 주변의 세정이 불완전하게 이뤄지는 문제가 발생하였다. 또한, 글라스(115)가 식각부(115a)가 위치한 측면이 상향하도록 이송되는 경우, 세정 과정에서의 미세 이물질이 식각부 주변을 위주로 잔존하는 문제는 더욱 심각해졌다.
이와 같이 불완전한 세정 공정을 거친 글라스가 평판표시소자의 보호 글라스로 적용되는 경우, 글라스에 잔존하는 이물질로 인해 평판표시소자의 픽셀부가 열화 및 손상되는 심각한 문제가 발생하였다.
따라서, 본 발명은 일측면에 식각부가 형성된 글라스의 완전한 세정을 할 수 있고, 평판표시소자의 인캡슐레이션 공정에서 이물질로 인한 픽셀부의 열화 및 손 상을 방지할 수 있는 보호 글라스를 제공할 수 있는 세정 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 일측면 상에 다수의 식각부를 포함하는 글라스가 내부로 이송되는 챔버, 챔버 내부에 글라스의 양 측면과 각각 대향하는 쌍으로 배치되어 글라스의 이송 및 세정 작용을 하는 제 1 및 제 2 단위부를 포함하는 제 1 롤러 브러쉬, 제 1 롤러 브러쉬와 구분되어 글라스의 식각부가 위치한 측면과 대향하도록 챔버 내에 위치하며 하나의 회전축을 기준으로 글라스의 식각부에 대응되는 패턴으로 배치된 단위부들을 포함하는 제 2 롤러 브러쉬, 및 제 1 롤러 브러쉬를 통해 이송되는 글라스의 양측 면에 DI워터를 분사하는 DI노즐을 포함하는 세정 장치를 제공한다.
제 1 롤러 브러쉬의 제 1 및 제 2 단위부와 각각 연결된 제 1 및 제 2 회전축은 상호 간 평행하게 배치되며, 제 2 롤러 브러쉬의 회전축은 제 1 및 제 2 회전축 중 글라스의 식각부가 있는 측면과 대향하는 하나와 글라스의 식각부가 있는 측면 상에서 평행하게 배치될 수 있다.
제 2 롤러 브러쉬의 단위부들의 회전축 방향 단면의 직경의 크기는 제 1 롤러 브러쉬의 제 1 및 제 2 단위부 중 제 2 롤러 브러쉬와 평행하게 배치된 하나의 회전축 방향 단면의 직경의 크기 이상일 수 있다.
제 2 롤러 브러쉬의 단위부들의 회전축 방향 단면의 직경의 크기는 동일할 수 있다.
제 2 롤러 브러쉬의 단위부들의 글라스의 이송 방향에서 본 폭은 각각 대응되는 글라스의 식각부의 폭과 동일할 수 있다.
챔버로 이송되는 글라스는 평판표시소자의 인캡슐레이션용 보호 글라스일 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 세정 장치에 대하여 상세히 설명하도록 한다.
도 3a는 본 발명의 일실시예에 따른 세정 장치의 구조를 도시한 모식도이다. 도 3b는 도 3a 상의 글라스의 이송 방향에서 본 롤러 브러쉬 및 글라스의 위치관계를 도시한 모식도이다. 도 3a 및 도 3b를 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 세정 장치의 롤러 브러쉬 유닛의 구조를 상세히 설명하면 다음과 같다.
챔버(210) 내부로 일측면 상에 다수의 식각부(215a)가 위치하는 글라스(215)가 이송된다. 챔버(210) 내부에는 글라스(215)의 양측면과 각각 대향하며 쌍을 이루는 제 1 및 제 2 단위부(220a, 220b)를 포함하는 제 1 롤러 브러쉬(220)가 위치한다. 제 1 및 제 2 단위부(220a, 220b)는 각각 제 1 및 제 2 회전축(225a, 225b)과 연결되어 회전할 수 있다. 이와 같은 제 1 롤러 브러쉬(220)의 회전 운동에 의해 글라스(215)는 챔버(210)의 일측 방향으로 이송되면서 세정된다. 이상의 제 1 및 제 2 회전축(225a, 225b)은 글라스(215)가 이송되는 측면에서 볼 때와 제 1 및 제 2 회전축(225a, 225b)의 축 방향에서 볼 때 상호 간 평행하게 위치할 수 있다. 이는 글라스(215)의 이송 및 세정을 보다 효율적으로 수행하기 위한 구조이다.
한편, 챔버(210) 내부에는 제 1 롤러 브러쉬(220)와 연동하여 글라스(215)를 세정하는 제 2 롤러 브러쉬(230)가 위치한다. 제 2 롤러 브러쉬(230)는 글라스(215)의 식각부(215a)가 위치하는 측면과 대향하도록 챔버(210) 내부에 위치하며, 하나의 회전축(235)을 기준으로 식각부(215a)의 패턴과 동일한 패턴으로 배치된 다수의 단위부(230a)를 포함할 수 있다. 이와 같은 단위부(230a)들은 글라스(215)가 이송되는 측면에서 보았을 때의 폭이 각각의 대응되는 식각부(215a)의 폭과 동일할 수 있다. 이는 제 2 롤러 브러쉬(230)의 단위부(230a)들이 글라스(215)의 식각부(215a)와 효율적으로 접촉되어 세정 작용을 할 수 있는 구조 조건이다.
또한, 제 2 롤러 브러쉬(230)의 회전축(235)은 글라스(215)의 식각부(215a)와 대향하도록 위치하는 제 1 롤러 브러쉬(220)의 제 2 단위부(220b)의 제 2 회전축(225b)과 글라스(215)의 식각부(215a)가 위치하는 측면 상에서 보았을 때, 평행하게 위치할 수 있다. 이때, 제 2 롤러 브러쉬(230)의 각 단위부(230a)들의 회전축(235) 방향 단면의 직경(D2)의 크기는 상호 간 동일한 동시에 제 1 롤러 브러쉬(220)의 제 2 단위부(220b)의 제 2 회전축(225b) 방향 단면의 직경(D1)의 크기와 같거나 그보다 클 수 있다.(D1≤D2) 이와 같은 구조 범위는 제 2 롤러 브러쉬(230)가 제 1 롤러 브러쉬(220)의 제 1 단위부(220a)와 연동하여 글라스(215)의 식각부(215a)와 효율적으로 접촉되어 세정 작용을 할 수 있는 구조 조건이다.
이상과 같은 구조 및 원리에 따르는 본 발명의 일실시예에 따른 세정 장치는 일측면에 다수의 식각부가 위치하는 글라스의 세정을 종래보다 효율적으로 수행할 수 있다. 그에 따라, 식각부에 잔존할 수 있는 이물질을 모두 제거할 수 있다.
이상 본 발명의 일실시예에서는 제 1 롤러 브러쉬가 2 쌍이 연하여 위치하고, 챔버 내에서 글라스의 이송 방향을 기준으로 2개의 제 2 롤러 브러쉬가 제 1 롤러 브러쉬의 전 후로 하나씩 위치한 구조로 예를 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 국한되지 않는다. 따라서, 본 발명에 따른 세정 장치의 챔버 내부에는 필요에 따라 제 1 및 제 2 롤러 브러쉬의 개수 및 위치가 다양한 패턴으로 조정될 수 있다.
또한, 제 2 롤러 브러쉬의 회전 방향이 제 1 롤러 브러쉬의 제 1 단위부의 회전 방향과 모두 동일한 경우로 도시하였으나, 본 발명은 이에 국한되지 않으며, 필요에 따라 다수의 제 2 롤러 브러쉬의 회전 방향이 상호 간 다르게 조절되거나 제 1 롤러 브러쉬의 제 2 단위부의 회전방향과 동일하게 조절될 수도 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
본 발명은 일측면에 식각부가 형성된 글라스의 완전한 세정을 할 수 있고, 평판표시소자의 인캡슐레이션 공정에서 이물질로 인한 픽셀부의 열화 및 손상을 방지할 수 있는 보호 글라스를 제공할 수 있는 세정 장치를 제공할 수 있다.

Claims (6)

  1. 일측면 상에 다수의 식각부를 포함하는 글라스가 내부로 이송되는 챔버;
    상기 챔버 내부에 상기 글라스의 양 측면과 각각 대향하는 쌍으로 배치되어 상기 글라스의 이송 및 세정 작용을 하는 제 1 및 제 2 단위부를 포함하는 제 1 롤러 브러쉬;
    상기 제 1 롤러 브러쉬와 구분되어 상기 글라스의 상기 식각부가 위치한 측면과 대향하도록 상기 챔버 내에 위치하며 하나의 회전축을 기준으로 상기 글라스의 상기 식각부에 대응되는 패턴으로 배치된 단위부들을 포함하는 제 2 롤러 브러쉬; 및
    상기 제 1 롤러 브러쉬를 통해 이송되는 상기 글라스의 양측 면에 DI워터를 분사하는 DI노즐을 포함하는 세정 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 롤러 브러쉬의 상기 제 1 및 제 2 단위부와 각각 연결된 제 1 및 제 2 회전축은 상호 간 평행하게 배치되며, 상기 제 2 롤러 브러쉬의 회전축은 상기 제 1 및 제 2 회전축 중 상기 글라스의 상기 식각부가 있는 측면과 대향하는 하나와 상기 글라스의 상기 식각부가 있는 측면 상에서 평행하게 배치된 세정 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 제 2 롤러 브러쉬의 상기 단위부들의 상기 회전축 방향 단면의 직경의 크기는 상기 제 1 롤러 브러쉬의 상기 제 1 및 제 2 단위부 중 상기 제 2 롤러 브러쉬와 평행하게 배치된 하나의 회전축 방향 단면의 직경의 크기 이상인 세정 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 롤러 브러쉬의 단위부들의 상기 회전축 방향 단면의 직경의 크기는 동일한 세정 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 제 2 롤러 브러쉬의 단위부들의 상기 글라스의 이송 방향에서 본 폭은 각각 대응되는 상기 글라스의 식각부의 폭과 동일한 세정 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버로 이송되는 글라스는 평판표시소자의 인캡슐레이션용 보호 글라스인 세정 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002096038A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001259541A (ja) * 2000-03-24 2001-09-25 Canon Inc カラーフィルタの洗浄方法及び洗浄装置
JP2002096038A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置

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