KR101249991B1 - 입자 형상을 제어할 수 있는 탄산세륨 분말의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 연마재 또는 광학용 연마재인 산화세륨 분말의 전구체인 탄산세륨 분말의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 반응 몰 농도비가 1:1 내지 1:7 인 세륨 전구체 및 탄산 전구체 혼합 용액을 pH 0 내지 3 으로 하여, 침전 반응시켜 탄산세륨 분말을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 탄산세륨 분말의 제조 방법은 상기 pH 0 내지 3.0의 범위 내에서 반응물의 pH만을 조절하여 탄산세륨 분말의 입자 형상 및 입자 크기를 제어할 수 있어, 다양한 그레이드의 연마재를 쉽게 제조할 수 있어, 산화세륨 연마재의 제조에 널리 유용하게 사용될 수 있다.
산화세륨, pH, 탄산세륨, 입자 형상, 입자 크기
Description
본 발명은 연마재로 쓰이는 산화세륨 분말의 전구체인 탄산세륨 분말의 제조 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 이용한 산화세륨 분말의 제조 방법에 관한 것이다.
산화세륨 나노 분말은 유리의 색지움 및 연마용으로 사용되는 외에 촉매, 자성재 등 합금으로도 많이 사용되고 있으며, 최근 반도체 산업이 발전하여 고집적 반도체가 요구됨에 따라 반도체의 제조공정 중의 하나인 화학기계연마 평탄화 공정(chemical mechanical planarization: CMP)에 사용되는 연마슬러리(slurry)의 주성분으로 주목 받고 있다. 이러한 산화세륨 분말의 제조 방법은 일반적으로 기상법, 액상법, 및 고상법 등이 있다.
기상법을 통한 산화세륨 분말의 제조 방법은 세륨 전구체를 기화시킨 후, 산소 등과 결합시켜 직접 산화세륨 분말을 제조하는 방법으로서, 화염연소 분해법, 기체응축 분해법, 플라즈마 분해법, 레이저 기화법 등이 있다. 그러나 상기 방법은 세륨 금속염 전구체의 단가 및 장치비가 고가이어서 대량화에 어렵다는 문제점이 있다.
액상법을 통한 산화세륨 분말의 제조 방법은 3가 혹은 4가 세륨염 출발물질로부터 암모니아 등의 pH 조정제를 첨가하여 산화세륨 분말을 직접 제조하는 방법이다. 침전법과 수열합성법이 이에 해당되며, 원료 단가와 장치비가 비교적 적게 들어 이에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 하지만, 반응에 참가하는 출발물질 간 반응이 핵 생성단계부터 쉽게 일어나 입자 성장의 조절에 어려움이 있다. 또한, 액상법을 통해 제조된 산화세륨 분말을 사용하여 연마하게 되면, 연마속도가 낮아지는 문제점이 있다.
고상법을 통한 산화세륨 분말의 제조 방법은 탄산염, 황산염, 옥살산염 등을 산화세륨의 원료물질로 하여 소성공정을 거쳐 제조하는 방법이다. 국제공개특허 WO1998/14987호 및 WO1999/31195호에는 산화규소 절연막을 연마하기 위한 산화세륨 연마재에 관한 것이 기재되어 있는 바, 입자크기가 큰 탄산세륨 분말을 산소 분위기에서 소성하여 30 내지 100 μm의 산화세륨 분말을 제조한 후, 건식 분쇄 및 습식 분쇄를 이용하여 산화세륨의 입도를 조절하는 것이다. 그러나 분쇄 공정 후에도 큰 입자의 산화세륨 분말이 잔존하여 입도 조절에 어려움이 있으며, 이 때문에 최종 CMP슬러리를 제조한 후에도 필터를 이용한 장시간 여과 공정을 추가로 실시해야 하는 문제점이 있다. 또한, 연마 대상에 따라 연마재의 입자 형상도 연마효율에 큰 영향을 미치는데, 가령 연마대상의 표면의 거칠기가 거친 경우, 육각기둥형 혹은 다각형의 입도가 큰 연마재를 사용할 필요가 있으며, 연마대상 표면의 거친 정도가 낮아 미세한 입자로 연마해야 하는 경우, 입도가 작을 뿐만 아니라, 연마재의 형상 이 둥근 것이 적합하다.
따라서, 입도와 형상이 균일하여 화학기계적 연마에 적합한 산화세륨 분말을 개발하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히, 탄산세륨 분말을 이용하여 산화세륨 분말을 제조하는 경우, 탄산세륨 분말의 입도와 형상이 산화세륨 분말에 그대로 또는 거의 유사하게 유지되는 경향이 있어, 원하는 크기 및 형상을 가진 산화세륨 분말을 얻기 위해서는 이의 전구체인 탄산세륨 등의 분말의 입자의 형상 및 입도를 제어할 필요성이 있다. 이를 위해, 기존의 방법으로는 합성 프로세스를 바꾸거나 탄산세륨 분말의 제조를 위한 침전법의 사용시, 사용되는 전구체의 농도를 바꾸어야 한다. 하지만, 탄산세륨 분말의 입자 형상 조절을 위해 합성 프로세스를 바꾸는 것은 상업화 공정상 어려움이 따르고, 전구체 용액의 농도를 바꾸는 경우에도 농도에 따른 입자 형상 형성이 명확히 구별되지 않았다. 또한, 전구체 용액 중, 탄소전구체의 농도를 바꾸어 당량비를 낮게 사용하는 경우 수율이 낮아져 생산성이 떨어지는 단점이 있으며, 농도를 높게 사용하는 경우 입자의 형상조절이 쉽지 않으며 반응 후 처리 공정이 어렵다는 단점이 있었다.
이에 본 발명의 발명자들은 합성 프로세스 자체나 공정 조건을 크게 변화시키지 않고서도 간단한 방법으로 탄산세륨 분말의 입자의 크기 및 형상을 제어하는 방법에 대해 연구를 거듭하던 중 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 입자 형상 및 입자 크기가 조절된 탄산세륨 분말을 용이하게 제조하는 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 또한, 상기 방법에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 이용한 산화세륨 분말의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 반응 몰 농도비가 1:1 내지 1:7 인 세륨 전구체 및 탄산 전구체 용액을 pH 0 내지 3 으로 하여 혼합, 침전 반응시켜 탄산세륨 분말을 형성하는 단계를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기와 같은 방법으로 제조된 탄산세륨 분말을 수열 합성하여 산화세륨 분말을 제조하는 방법을 제공하다.
이하 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 탄산세륨 분말의 제조방법은 반응 몰 농도비가 1:1 내지 1:7 인 세륨 전구체 및 탄산 전구체 혼합 용액을 pH 0 내지 3 으로 하여, 침전 반응시켜 탄산세륨 분말을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명자들의 실험 결과, 놀랍게도 상기 전구체 혼합용액의 몰농도비 범위를 가진 전구체 혼합 용액의 pH 만을 0 내지 3 의 범위 내에서 조절함으로서, 구형, 육각기둥형, 사각판형, 막 대형 등 다양한 형상 및 크기를 가진 탄산세륨 입자를 균일하게 포함한 탄산세륨 분말을 용이하게 얻을 수 있음이 밝혀졌다. 따라서, 이러한 제조 방법에 의해, 여러 가지 어려움을 갖는 합성 프로세스의 변경 없이 원하는 형상 및 입도를 갖는 탄산세륨 입자 및 이를 포함하는 탄산세륨 분말을 고수율로 용이하게 얻을 수 있다.
한편, 상술한 탄산세륨 분말의 제조 방법에서, 상기 세륨 전구체 및 탄산 전구체의 반응 몰 농도범위는 침전 반응 중의 탄산세륨 결정핵 생성과 결정성장을 조절하여 분말의 입도를 결정하는 주요 인자로 작용하는데, 반응 초기에는 원료물질인 세륨 전구체의 농도가 일정 수준으로 유지되다가 생성물인 탄산세륨 분말이 침전되기 시작하면 세륨 전구체의 농도가 급격히 감소하게 되며, 이 때 원료물질인 세륨 전구체의 농도가 낮은 경우에는 핵 생성 후 결정성장이 충분히 이루어지지 못한다. 반면 세륨 전구체의 농도가 높은 경우에는 불균일한 핵 생성, 결정성장이 이루어지게 되어 분말의 입도가 불균일하고 입도분포가 넓어지게 된다. 따라서, 연마재로 사용되는 산화세륨의 전구체로 사용되는 탄산세륨 분말의 적합한 입도를 고려하면, 세륨 전구체 및 탄산 전구체의 반응 몰비는 1:1 내지 1:7 인 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 같은 이유로, 세륨 전구체의 농도는 1 내지 10M 의 범위인 것이 바람직하다.
이 때, 세륨 전구체로는 상기 탄소전구체와의 반응 몰비를 만족할 수 있는 것이면 구성의 한정없이 사용될 수 있으나, 바람직하게는 세륨 나이트레이트, 또는 세륨 아세테이트를 사용할 수 있다.
또한, 전구체 용액의 상기 탄소 전구체는 구성의 한정이 없이 사용될 수 있 으나, 바람직하게는 우레아, 암모늄카보네이트, 및 중탄산암모늄에서 선택되는 하나 이상을 사용할 수 있다. 공정에의 응용이 용이하여 더욱 바람직하게는 우레아를 사용할 수 있다.
그리고, 전구체 용액의 pH를 0 내지 3.0 으로 조절하기 위해서 pH 조절에 널리 쓰이는 산(acid)이면, 구성의 한정 없이 사용될 수 있으나, 바람직하게는 질산 및 염산에서 선택되는 하나 이상을 사용할 수 있다.
한편, 본 발명은 다른 구현예에 따라 상기 pH 0 내지 pH 3.0 의 범위 내에서 전구체 용액의 pH 를 특정 범위로 조절함으로써 각각 특정한 형태 및 크기를 가진 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말을 제조하는 방법을 제공한다.
우선, 전구체 혼합 용액의 pH 를 1.5 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경 400-500nm 의 구형 탄산세륨 입자를 형성하는 단계를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조방법이 제공된다. 상기 구현예에 따른 일 실시예로 제조된 구형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진은 도 1 에 도시된 바와 같다. 도 1 의 SEM 사진에서 볼 수 있는 바와 같이, 전구체 혼합 용액의 pH 를 1.5 이하로 하여 입도 분포도 약 400-500nm 로 고르며, 구형의 형상도 균일하게 탄산세륨 입자가 이를 포함하는 탄산세륨 분말 전반에 걸쳐 나타남을 확인할 수 있었다.
또한, 전구체 혼합 용액의 pH 를 1.5 초과 내지 2.0 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경 500-600nm 의 육각기둥형 탄산세륨 입자를 형성하는 단계를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조 방법이 제공된다. 상기 구 현예에 따른 일 실시예로 제조된 육각기둥형 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진은 도 2 에 도시된 바와 같다. 도 2 의 SEM 사진에서 볼 수 있는 바와 같이, 전구체 혼합 용액의 pH 를 1.5 이상 2.0 미만으로 하여, 평균 입경이 500-600nm 이고 육각기둥형 형상을 가진 균일한 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말을 얻을 수 있음을 확인하였다. 상기와 같은 육각기둥형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 입도 분포 역시 고르게 나타남을 확인할 수 있다.
또한, 연마대상 표면의 표면 거칠기가 거친 경우, 입도가 크고 육각기둥형 보다는 사각판형 혹은 삼각형 형상의 거친 형상을 가진 연마재가 유용하게 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 다른 구현예에 따라 전구체 혼합 용액의 pH 를 2.0 초과 내지 2.5 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경(너비) 700-800nm 의 사각판형 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말을 형성하는 단계를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조 방법을 제공한다. 이 때, 상기 방법의 일실시예에 의해 제조된 탄산세륨 입자의 SEM 사진은 도 3 에 도시된 바와 같으며, 도 3 에서 알 수 있듯이 사각판형 구조의 약 700-800nm 의 균일한 입도(너비)를 가진 탄산세륨 입자가 형성되었음을 확인할 수 있었다.
마지막으로, 전구체 혼합 용액의 pH 를 2.5 초과 내지 3.0 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 막대 형태의 탄산세륨 입자를 형성하는 단계를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조 방법을 제공한다. 이 때, 상기 방법의 일 실시예에 의해 제조된 탄산세륨 입자의 SEM 사진은 도 4 에 도시된 바와 같으며, 도 4에서 알 수 있듯이, 막대 형태의 탄산세륨 분말이 얻어진 것을 확인할 수 있었 다.
본 발명은 또 다른 구현예에 따라, 상기 나열된 방법들에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 수열 합성하여 산화세륨 분말을 제조하는 방법을 제공한다.
수열 합성법에 의해 탄산세륨 분말을 이용하여 산화세륨 분말을 제조하는 경우, 탄산세륨 분말의 입도와 형상이 산화세륨 분말에 그대로 또는 거의 유사하게 유지되는 경향이 있어, 바람직하게 상기 구현예들에 의한 방법으로 제조된 탄산세륨 분말을 수열 합성하여 산화세륨 분말을 제조할 수 있다.
이 때, 수열 합성법에 의해 산화세륨 분말을 제조하는 경우 온도 및 압력 조건은 특별한 제한은 없으나, 바람직하게 140 내지 200℃의 온도 및 20 내지 50 bar 의 압력 조건에서 1 내지 2 시간 진행될 수 있다.
수열 합성시, 반응온도가 140℃ 미만이면 반응시간이 길어지는 문제가 있고, 200℃를 초과하면 반응압력이 너무 올라가는 문제가 있다. 반응압력의 경우에도 반응 운전 조건의 위험 및 반응시간을 고려하여, 20 내지 50bar 의 운전 조건에서 수열 합성을 진행하는 것이 바람직하다. 반응시간은 특별히 한정되지 않으나, 너무 짧으면 수율이 낮고, 너무 길면 특별한 장점 없이 경제적으로 불리할 뿐이며, 1 내지 2 시간 진행하는 것이 바람직하다.
상술한 방법에 따라, 원하는 입도 및 형상을 갖는 탄산세륨 입자를 균일하게 포함하는 탄산세륨 분말을 용이하게 얻을 수 있으며, 이를 사용하여 산화세륨 분말 또한 원하는 입도 및 형상을 갖는 입자를 균일하게 포함하도록 제조할 수 있다.
따라서, 이러한 산화세륨 분말을 연마 입자로 제공함에 따라, 원하는 입도 및 형상의 연마 입자를 포함하는 바람직한 CMP 슬러리를 제공하는 것이 매우 용이해 진다.
본 발명의 탄산세륨 분말의 제조방법에 따라 제조된 탄산세륨 분말은 전구체 용액의 pH 조절에 따라 입자의 형상 및 크기가 명확히 나뉘며, 합성 프로세스나 공정 조건의 변화 없이 pH 조절만으로 쉽게 입자의 형상 및 크기가 조절된 탄산세륨 분말을 얻을 수 있다.
상기와 같은 방법으로 얻은 입자특성이 조절된 탄산세륨 분말을 원료로 하여 산화세륨 분말을 제조하고, 이러한 산화세륨 분말을 연마재로 사용하면 CMP 슬러리 제조시 장시간 밀링을 거치지 않아도 원하는 연마재 입도를 맞출 수 있고, 연마시 우수한 연마속도와 선택비를 보이며, 미세 스크래치 문제도 해결할 수 있다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 통하여 발명의 구성 및 효과를 보다 상세히 설명하기로 한다. 그러나 하기의 실시예는 발명을 보다 명확하게 이해시키기 위한 것일 뿐이며, 발명의 권리범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
실시예 1: 구형 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조
세륨 나이트레이트 0.5 mol을 증류수 100 ml에 용해시키고, 우레아 1.5 mol을 증류수 100ml에 용해시켜, 500ml 침전 반응기에서 상기 두 용액을 혼합하였다. 교반기를 이용하여 200rpm의 속도로 저어주면서, 1N 질산 용액으로 pH를 1.3으로 조절하였다. 180℃에서 2시간 수열합성반응을 진행하였다. 이때, 반응 온도인 180℃에 도달한 후 2시간 동안의 반응 압력은 40bar로 유지되었다. 반응이 완료된 후 자연 냉각시키고 증류수로 세척하여 유기물을 제거하였다. 이후, 열풍 건조기를 이용 건조하여 탄산세륨 분말을 얻을 수 있었다.
얻어진 탄산세륨 분말의 입도측정은 입도 분포측정 장치(Horiba LA-910)를 이용하여 분석하였고, XRD를 이용하여 결정상을 분석하였으며, 입자의 형상 및 입자의 크기는 SEM을 이용하여 분석하였다.
얻어진 탄산세륨 분말의 크기는 400 내지 500nm 인 것을 확인하였고, 결정구조는 육방정계(Hexagonal)였다. 상기 실시예 1에 의해 제조된 탄산세륨 분말의 SEM 이미지는 도 1에 나타낸 바와 같이 구형임을 확인 할 수 있었다.
실시예 2: 육각 기둥형 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조
세륨 나이트레이트와 우레아의 혼합 용액을 pH 2.0으로 조절한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였다. 실시예 1에서와 동일한 방법으로 입도, 결정상 및 입자의 형상, 입자의 크기를 분석하였다. 얻어진 탄산세륨 분말의 크기는 500 내지 600 nm 인 것을 확인하였고, 결정구조는 육방정계(Hexagonal)였다. 상기 실시예 2에 의해 얻어진 탄산세륨 분말의 SEM 이미지는 도 2에 나타낸 바와 같이 육각기둥형임을 확인 할 수 있었다.
실시예 3: 사각판형 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조
세륨 나이트레이트와 우레아의 혼합 용액을 pH 2.5로 조절한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였다. 실시예 1에서와 동일한 방법으로 입도, 결정상 및 입자의 형상, 입자의 크기를 분석하였다. 얻어진 탄산세륨 분말의 크기는 700 내지 800 nm 인 것을 확인하였고, 결정구조는 육방정계(Hexagonal)였다. 상기 사각판형의 탄산세륨 입자는 너비가 700 내지 800nm이며, 두께는 100 내지 150nm로 관찰되었다. 상기 실시예 3에 의해 얻어진 탄산세륨 분말의 SEM 이미지는 도 3에 나타낸 바와 같이 사각판형임을 확인 할 수 있었다.
실시예 4: 막대 형태의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 제조
세륨 나이트레이트와 우레아의 혼합 용액을 pH 2.8로 조절한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였다. 실시예 1에서와 동일한 방법으로 입도, 결정상 및 입자의 형상, 입자의 크기를 분석하였다. 얻어진 탄산세륨 분말의 크기는 단경 및 길이로 측정하였다. 단경은 50 내지 100nm 인 것을 확인하였고, 길이는 100 내지 200nm 인 것을 확인하였다. 결정구조는 육방정계(Hexagonal)였다. 상기 실시예 4에 의해 얻어진 탄산세륨 분말의 SEM 이미지는 도 4에 나타낸 바와 같이 막대 형태임을 확인 할 수 있었다.
상기와 같은 실시예 1 내지 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에서는 간단히 세륨 전구체 및 탄산 젠구체의 혼합 용액의 pH를 0 내지 3의 범위 내에서 조절하여, 원하는 입자 모양 및 입도를 갖는 탄산세륨 분말을 용이하게 얻을 수 있음을 알 수 있었다. 또한, 본 발명의 상기 방법에 의해 얻어지는 탄산세륨 분말들은 도 1 내지 도 4에 나타내어진 바와 같이, 제조시의 pH조건에 따라 나타난 입자의 모양이 구형, 육각 기둥형, 사각판형 및 막대형으로 뚜렷하게 구별되고, 그 입도의 범위도 크기별로 뚜렷하게 구별되는 것을 확인 할 수 있었다. 따라서, 본 발명에 따라 제조된 크게 네 가지 형태의 모양 및 입도 분포를 갖는 탄산세륨 나노 분말은 연마대상에 따라 적절히 선택하여 사용하여 연마효율을 높일 수 있어, 연마재에 관한 산업 분야에 널리 유용하게 이용될 수 있을 것으로 기대된다.
도 1 은 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 구형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진이다.
도 2 는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 육각기둥형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진이다.
도 3 은 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 사각판형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진이다.
도 4 는 본 발명의 일실시예에 의해 제조된 막대형의 탄산세륨 입자를 포함하는 탄산세륨 분말의 SEM 사진이다.
Claims (12)
- 반응 몰 농도비가 1:1 내지 1:7 인 세륨 전구체 및 탄산 전구체 혼합 용액을 pH 0 내지 3 으로 하여, 침전 반응시켜 탄산세륨 분말을 형성하는 단계를 포함하고,상기 혼합 용액의 pH 를 1.5 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경 400 내지 500nm 의 구형 탄산세륨 입자를 형성하거나,상기 혼합 용액의 pH 를 1.5 초과 내지 2.0 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경 500 내지 600nm 의 육각기둥형 탄산세륨 입자를 형성하거나,상기 혼합 용액의 pH 를 2.0 초과 내지 2.5 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 평균 입경(너비) 700 내지 800nm 의 사각판형 탄산세륨 입자를 형성하거나,상기 혼합 용액의 pH 를 2.5 초과 내지 3.0 이하로 하여, 세륨 전구체 및 탄산 전구체를 침전 반응시켜 막대 형태의 탄산세륨 입자를 형성하는, 탄산세륨 분말의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 세륨 나이트레이트 또는 세륨 아세테이트인 탄산세륨 분말의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체의 농도는 1 내지 10 M 인 탄산세륨 분말의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 탄산 전구체는 우레아, 암모늄카보네이트, 및 중탄산암모늄에서 선택되는 하나 이상인 탄산세륨 분말의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, pH 는 질산 및 염산에서 선택되는 하나 이상으로 조절하는 탄산세륨 분말의 제조 방법.
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- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 수열 합성하여 산화세륨 분말을 제조하는 방법.
- 제 10 항에 있어서, 수열 합성은 140 내지 200℃의 온도 및 20 내지 50 bar 의 압력 조건에서 1 내지 2시간 진행되는 산화세륨 분말의 제조 방법.
- 삭제
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