KR101239296B1 - 저온 경화성 에폭시 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에폭시 수지, 에폭시 경화제 및 상기 에폭시 경화제에 대한 촉진제(accelerator)의 접촉 생성물을 포함하는 열경화성 에폭시 조성물에 관한 것으로서, 상기 경화제 또는 촉진제는, 하기 화학식 (A)의 페놀 수지 (a)와, 하기 화학식 (B)의 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민과 에폭시 수지의 반응 생성물인 개질된 아민 화합물 (b)의 반응 생성물을 포함한다:
Figure 112011067923676-pat00012

Figure 112011067923676-pat00013

상기 화학식 (A)에서, R1, R2, R3, R4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 1개 내지 17개의 탄소 원자를 지닌 비분지형 또는 분지형 알킬기이고, n은 0 내지 50의 정수이고;
상기 화학식 (B)에서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 수소, 메틸 또는 에틸이고; n과 m은 독립적으로 1 내지 10의 정수이고; X는 1 내지 10의 정수이다.

Description

저온 경화성 에폭시 조성물{LOW TEMPERATURE CURABLE EPOXY COMPOSITIONS}
관련 출원들에 대한 상호 참조
본 출원은 2010년 9월 1일에 출원된 미국 특허 출원 일련 번호 61/378,995를 우선권으로 주장하며, 상기 미국 특허 출원은 본원에 전문이 참조로 포함된다.
발명의 배경
본 발명은, 열경화(heat cured) 에폭시 수지에서 경화제 또는 촉진제(accelerator)로서의, 페놀 수지로 블록킹된(blocked), 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민 에폭시 첨가생성물(epoxy adduct)에 관한 것이다. 이러한 조성물은 에폭시 수지 시스템에서의 경화제 또는 촉진제로서 낮은 활성화 온도 및 양호한 저장 안정성을 제공할 수 있다.
통상적인 경화성 에폭시 조성물은 미국 특허 번호 4,689,390, 4,977,201, 5,200,494 및 EP 0 590 677에 기재되어 있으며, 이들 특허의 내용은 본원에 참조로 포함된다. 열경화 에폭시 분야에는 낮은 활성화 온도, 양호한 저장 안정성을 제공하는 촉진제와 경화제가 필요한 실정이다. 페놀 수지로 블록킹된(blocked), 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 본 발명의 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민 에폭시 첨가생성물은 에폭시 시스템에서 저온 경화 특성, 및 양호한 저장 안정성과 기계적 강도을 제공하는 것으로 밝혀졌다.
발명의 간단한 개요
본 발명은 하기 화학식 (A)의 페놀 수지 (a)와, 하기 화학식 (B)의 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민과 에폭시 수지의 반응 생성물인 개질된 아민 화합물 (b)의 접촉 또는 반응 생성물을 포함하는 촉진제 또는 경화제를 제공함으로써 통상적인 에폭시 경화제와 관련된 문제점을 해결한다:
Figure 112011067923676-pat00001

Figure 112011067923676-pat00002
상기 화학식 (A)에서, R1, R2, R3, R4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 1개 내지 17개의 탄소 원자를 지닌 비분지형 또는 분지형 알킬기이고, n은 0 내지 50의 정수이고;
상기 화학식 (B)에서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 수소, 메틸 또는 에틸이고; n과 m은 독립적으로 1 내지 10의 정수이고; X는 1 내지 10의 정수이다.
본 발명의 한 가지 양태에서, 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민은, R1이 H이고, R2, 3, 4 및 5가 CH3이고, n과 m이 3이고, X가 1인 화합물을 포함한다.
발명의 상세한 설명
본 발명은 넓게는 에폭시 함유 시스템을 가교시키거나 경화시키는 데에 사용되는 화합물 및 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 촉진제 또는 경화제는 에폭시 수지, 에폭시 경화제 및 필요에 따라 상기 에폭시 경화제에 대한 촉진제의 접촉 생성물을 포함할 수 있고, 상기 경화제 또는 촉진제는, 하기 화학식 (A)의 페놀 수지 (a)와, 하기 화학식 (B)의 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민과 에폭시 수지의 반응 생성물인 개질된 아민 화합물 (b)의 반응 생성물을 포함한다:
Figure 112011067923676-pat00003
Figure 112011067923676-pat00004
상기 화학식 (A)에서, R1, R2, R3, R4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 1개 내지 17개의 탄소 원자를 지닌 비분지형 또는 분지형 알킬기이고, n은 0 내지 50의 정수이고;
상기 화학식 (B)에서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 수소, 메틸 또는 에틸이고; n과 m은 독립적으로 1 내지 10의 정수이고; X는 1 내지 10의 정수이다.
본 발명의 한 가지 양태에서, 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민은, R1이 H이고, R2, 3, 4 및 5가 CH3이고, n과 m이 3이고, X가 1인 화합물을 포함한다.
본 발명의 또 다른 양태에서, 페놀 수지는 페놀과 알데히드, 특히 포름알데히드의 축합에 의해 형성되는 화합물인 노볼락 수지(novolac resin)이다. 노볼락 수지는 모노알데히드 또는 디알데히드, 가장 일반적으로 포름알데히드와, 모노페놀 또는 폴리페놀 물질의 반응 생성물이다. 사용될 수 있는 모노페놀 물질의 예로는 페놀, 크레졸, p-3차-부틸페놀, 노닐페놀, 옥틸페놀, 그 밖의 알킬 및 페닐 치환된 페놀이 있다. 폴리페놀 물질로는 비스페놀-A 및 비스페놀-F를 포함하는 다양한 디페놀이 있다. 노볼락의 경우에 사용되는 알데히드로는 포름알데히드, 글리옥살, 및 약 C4 이하의 고급 알데히드(higher aldehyde)가 있다. 노볼락은 전형적으로 다양한 정도의 히드록실 작용기를 지닌 복합 혼합물이다.
본원에서 사용되는 "접촉 생성물" 또는 "반응 생성물"이란 용어는 성분들 중 2개 이상이 서로 반응하여 다른 성분들을 생성시킬 수 있는 가능성을 포함하여 성분들이 임의의 순서, 임의의 방식 그리고 임의의 시간 동안 함께 접촉하는 조성물을 의미한다. 예를 들어, 성분들은 블렌딩(blending) 또는 혼합에 의해 접촉할 수 있다. 또한, 임의의 성분을 접촉시키는 것은 본원에 기재된 조성물 또는 포뮬레이션(formulation) 중의 임의의 다른 성분의 존재 또는 부재하에서 일어날 수 있다. 또한, "접촉 생성물"이란 용어는 혼합물, 블렌드, 용액, 분산액, 슬러리, 반응 생성물 등, 또는 이들의 조합물을 포함한다.
본 발명의 촉진제와 경화제는 임의의 적절한 에폭시 함유 시스템을 가교시키거나 경화시키기 위해 사용될 수 있다. 본 발명의 경화제에 의해 경화될 수 있는 적절한 에폭시 수지의 예는 하나 이상의 다작용성 에폭시 수지를 포함한다. 본원에서 사용되는 다작용성 에폭시 수지는 분자 당 2개 이상의 1,2-에폭시 기를 함유하는 화합물을 의미한다. 이러한 유형의 에폭사이드 화합물은 당업자에게 널리 공지되어 있고, 문헌 [Y. Tanaka, "Synthesis and Characteristics of Epoxides", in C. A. May, ed., Epoxy Resins Chemistry and Technology (Marcel Dekker, 1988)]에 기재되어 있는데, 상기 문헌은 본원에 참조로 포함된다.
본 발명에서 사용하기에 적절한 에폭시 수지의 한 가지 부류는 2가 페놀의 글리시딜 에테르를 포함하는 다가 페놀의 글리시딜 에테르를 포함한다. 예로는 비제한적으로 레조시놀, 히드로퀴논, 비스-(4-히드록시-3,5-디플루오로페닐)-메탄, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-에탄, 2,2-비스-(4-히드록시-3-메틸페닐)-프로판, 2,2-비스-(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)-프로판, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (상업적으로는 비스페놀 A로서 알려져 있음), 비스-(4-히드록시페닐)-메탄 (상업적으로는 비스페놀 F로서 알려져 있고, 다양한 양의 2-히드록시페닐 이성질체를 함유할 수 있음) 등의 글리시딜 에테르, 또는 이들의 임의의 조합물이 있다. 또한, 하기 구조식을 지닌 고급(advanced) 2가 페놀이 본 발명에서 유용하다:
Figure 112011067923676-pat00005
상기 식에서, m은 정수이고, R은 2가 페놀, 예를 들어 상기 열거된 2가 페놀의 2가 탄화수소 라디칼이다. 상기 화학식에 따른 물질은, 2가 페놀과 에피클로로히드린의 혼합물을 중합시킴으로써 제조되거나, 2가 페놀의 디글리시딜 에테르와 2가 페놀의 혼합물을 고급화(advancing)시킴으로써 제조될 수 있다. 임의의 주어진 분자에서 m의 값은 정수이지만, 항상 상기 물질은 반드시 정수는 아닌 m의 평균값에 의해 특징화될 수 있는 혼합물이다. 0 내지 약 7의 m의 평균값을 지닌 고분자 물질이 본 발명의 한 가지 양태에서 사용될 수 있다.
또 다른 양태에서, 노볼락 수지의 글리시딜 에테르인 에폭시 노볼락 수지가 본 발명에 따른 다작용성 에폭시 수지로서 사용될 수 있다. 또 다른 양태에서, 하나 이상의 다작용성 에폭시 수지는 비스페놀-A의 글리시딜 에테르(DGEBA), DGEBA의 고급 변형체(advanced version) 또는 고분자량 변형체, 비스페놀-F의 디글리시딜 에테르, 에폭시 노볼락 수지, 또는 이들의 임의의 조합물이다. DGEBA의 고분자량 변형체 또는 유도체는, 과량의 DGEBA가 비스페놀-A와 반응하여 에폭시 말단(epoxy terminated) 생성물을 생성시키는, 어드밴스먼트 공정(advancement process)에 의해 제조된다. 이러한 생성물에 대한 에폭시 당량(EEW)은 약 450 내지 3000 또는 그 초과이다. 이러한 생성물은 실온에서 고체이므로, 종종 고체 에폭시 수지로 일컬어진다.
DGEBA 또는 고급(advanced) DGEBA 수지는 저렴한 비용과 대체로 고성능인 특성의 조합으로 인해 코팅 포뮬레이션에서 종종 사용된다. 약 174 내지 약 250, 더욱 통상적으로 약 185 내지 약 195의 EEW를 지닌 상업적 등급의 DGEBA는 쉽게 입수할 수 있다. 이러한 저분자량에서, 에폭시 수지는 액체이어서 종종 액체 에폭시 수지로 일컬어진다. 당업자라면 액체 에폭시 수지의 대부분의 등급은 약간 고분자성인 것으로 이해하고 있는데, 이는 순수한 DGEBA가 174의 EEW를 지니기 때문이다. 또한 어드밴스먼트 공정에 의해 일반적으로 제조되는 EEW가 250 내지 450인 수지는 반고형 에폭시 수지로 일컬어지는데, 이는 이러한 수지가 실온에서 고체와 액체의 혼합물이기 때문이다. 일반적으로, 고형물을 기준으로 하여 EEW가 약 160 내지 약 750인 다작용성 수지가 본 발명에서 유용하다. 또 다른 양태에서, 다작용성 에폭시 수지는 약 170 내지 약 250의 EEW를 지닌다.
최종 용도 분야에 따라, 에폭시 성분을 개질시킴으로써 본 발명의 조성물의 점도를 감소시키는 것이 유리할 수 있다. 예를 들어, 점도를 감소시켜서, 포뮬레이션 또는 조성물내의 안료 수준이 증가할 수 있며 사용은 여전히 용이하게 할 수 있거나 고분자량 에폭시 수지가 사용되게 할 수 있다. 따라서, 하나 이상의 다작용성 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 성분이 단일작용성 에폭사이드를 추가로 포함하게 하는 것은 본 발명의 범위에 속한다. 모노에폭사이드의 예로는 비제한적으로 스티렌 옥사이드, 시클로헥센 옥사이드, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 부틸렌 옥사이드, 및 페놀, 크레졸, 3차-부틸페놀, 그 밖의 알킬 페놀, 부탄올, 2-에틸헥산올, C4 내지 C14 알코올 등의 글리시딜 에테르, 또는 이들의 조합물이 있다. 또한, 다작용성 에폭시 수지는 용액 또는 에멀젼 형태로 존재할 수 있으며, 이 경우 희석제는 물, 유기 용매, 또는 이들의 혼합물이다.
본 발명의 추가의 양태에서, 본 발명의 생성물은 경화제와 함께 촉진제로서 사용된다. 임의의 적절한 경화제가 사용될 수 있지만, 적절한 경화제의 예는 디시안디아미드 및 산 무수물을 포함한다.
본 발명의 경화제 대 에폭시의 비는 경화제 또는 촉진제 약 0.3 내지 50 중량부 대 에폭시 수지 100 중량부일 수 있다.
본 발명의 경화제는 그 밖의 적절한 용도중에서 1성분 열경화 액체, 페이스트 및 필름 접착제, 분말 코팅을 포함하는 코팅, 복합재료(composite)용 프리프레그(prepreg)에 사용되는 열경화 에폭시 시스템을 가교시키거나 경화시키기 위해 사용될 수 있다
에폭시 함유 조성물을 경화시키기 위해 임의의 적절한 시간 및 온도가 사용될 수 있지만, 그러한 조성물을 약 80℃ 내지 약 240℃의 온도에서 경화시키는 것이 바람직하며, 약 120℃ 내지 약 160℃의 경화 온도가 유용하다.
본 발명의 조성물은 다양한 분야에서 사용될 수 있다. 최종 용도 분야의 요건에 따라, 특정 성질을 조정하기 위해 포뮬레이션 및 조성물에서 다양한 첨가제가 사용될 수 있다. 이러한 첨가제로는 비제한적으로 용매 (물을 포함함), 촉진제, 가소제, 충전제, 섬유, 예를 들어 유리 또는 탄소 섬유, 안료, 안료 분산제, 유동성 개질제(rheology modifier), 틱소트로프(thixotrope), 흐름 또는 레벨링(leveling) 보조제, 계면활성제, 소포제, 살생제(biocide), 또는 이들의 조합물이 있다. 요망되는 경우, 본 발명의 조성물은 경화제 또는 촉진제로서 사용될 수 있다. 당 분야에 공지된 다른 혼합물들 또는 물질들이 상기 조성물 또는 포뮬레이션에 포함될 수 있고, 그러한 혼합물들 또는 물질들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해된다.
하기 실시예는 본 발명의 특정 양태들을 예시하기 위해 제공되는 것으로서, 본 명세서에 첨부된 특허청구범위를 제한하지 않아야 한다.
하기 실시예에서 사용된 물질:
N'-(3-디메틸아미노프로필)-N,N-디메틸-프로판-1,3-디아민 - Air Products and Chemicals, Inc.로부터의 Polycat?15 촉매
폴리 (N-메틸) 아제티딘 - 공급원: Air Products and Chemicals, Inc.
Epon 828 및 Epon 834 - 공급원: Hexion
Cabot로부터의 Cab-O-Sil M-5
CVC로부터의 CTBN/Epon 8282 첨가생성물(adduct) (HyPox RA1340)
페놀 수지 - Cytec Specialty Chemicals로부터의 (AlNovol PN320)
실시예 1
기계적 교반기, 열전쌍, 전기 히팅 맨틀(heating mantle) 및 질소 퍼지(nitrogen purge)를 갖춘 3리터 들이 4구 유리 용기에 378 gm의 N'-(3-디메틸아미노프로필)-N,N-디메틸-프로판-1,3-디아민을 채웠다. 상기 용기를 질소하에서 80℃로 가열하였다. 온도가 안정화된 경우, 189.7 gm의 Epon 828을 2 내지 3시간에 걸쳐 계량해넣었다. 첨가가 완료된 후 혼합물을 80℃에서 2시간 동안 정치시켰다. 20분에 걸쳐 온도를 150 내지 160℃로 서서히 상승시키고, 60 내지 90분에 걸쳐 735 gm의 페놀 수지를 첨가하였다. 혼합물을 160℃에서 유지시키며 1시간 더 교반하였다.
생성물을 상기 온도에서 반응기로부터 따라내고, 주위 온도로 냉각시킨 후, 분쇄 공정을 시작하였다. 먼저 작은 조각으로 부숨으로써 상기 생성물을 분쇄한 후, 커피 분쇄기로 분쇄하고, 마지막으로 요망되는 입자 크기로 제트 밀링(jet milled)하였다.
실시예 2
기계적 교반기, 열전쌍, 전기 히팅 맨틀 및 질소 퍼지를 갖춘 3리터 들이 4구 유리 용기에 9 gm의 폴리 (N-메틸) 아제티딘을 채웠다. 상기 용기를 질소하에서 80℃로 가열하였다. 온도가 안정화된 경우, 10.1 gm의 Epon 828을 2 내지 3시간에 걸쳐 계량해넣었다. 첨가가 완료된 후 혼합물을 80℃에서 2시간 동안 정치시켰다. 20분에 걸쳐 온도를 150 내지 160℃로 서서히 상승시키고, 60 내지 90분에 걸쳐 17 gm의 페놀 수지를 첨가하였다. 혼합물을 160℃에서 유지시키며 1시간 더 교반하였다. 생성물을 상기 온도에서 반응기로부터 따라내고, 주위 온도로 냉각시킨 후, 분쇄 공정을 시작하였다.
실시예 3
기계적 교반기, 열전쌍, 전기 히팅 맨틀 및 질소 퍼지를 갖춘 3리터 들이 4구 유리 용기에 9 gm의 폴리 (N-메틸) 아제티딘을 채웠다. 상기 용기를 질소하에서 80℃로 가열하였다. 온도가 안정화된 경우, 10.1 gm의 Epon 834를 2 내지 3시간에 걸쳐 계량해넣었다. 첨가가 완료된 후 혼합물을 80℃에서 2시간 동안 정치시켰다. 20분에 걸쳐 온도를 150 내지 160℃로 서서히 상승시키고, 60 내지 90분에 걸쳐 9 gm의 페놀 수지를 첨가하였다. 혼합물을 160℃에서 유지시키며 1시간 더 교반하였다. 생성물을 상기 온도에서 반응기로부터 따라내고, 주위 온도로 냉각시킨 후, 분쇄 공정을 시작하였다.
실시예 1 내지 3을 에폭시 경화제로서의 경화 프로파일에 대해 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 시험하였다. 에폭시 포뮬레이션은 비스페놀 A 수지의 폴리글리시딜 에테르 (Epon 828), 5 phr (수지 100부 당 중량부)의 촉진제 및 6 phr의 경화제로서의 디시안디아미드를 포함하였다. 생성된 혼합물을 고전단 코울즈 블레이드 믹서(high sheer cowls blade mixer)를 사용하여 2분간 철저히 블렌딩하였다. 제조 직후, 혼합물을 DSC에 의해 조사하여 개시 온도(onset temperature), 피크 발열 온도(peak exotherm), 반응열 및 유리 전이 온도 (Tg)를 측정하였다. 10℃/분의 램프 가열 속도(ramp heat rate)를 사용하여 물질 샘플 약 10 내지 15 mg에 대해 DSC 분석을 수행하였다. 생성된 데이터는 표 1에 제시되어 있다.
표 1
Figure 112011067923676-pat00006
비스페놀 A 수지의 폴리글리시딜 에테르 (Epon 828), 5 phr의 촉진제, 6 phr의 경화제로서의 디시안디아미드 및 1% 흄드 실리카(fumed silica)을 포함하는 에폭시 포뮬레이션을 사용하여 25℃ 그리고 40℃에서 촉진제로서의 실시예 1, 2 및 3의 잠복시간(latency) 또는 사용가능시간(pot-life)을 실험하였다. 생성된 혼합물을 고전단 코울즈 블레이드 믹서를 사용하여 2분간 철저히 블렌딩하고, 25℃로 냉각시키고, 브룩필드(Brookfield) 점도계를 사용하여 최초 점도를 측정하였다. 샘플을 25℃에서 저장하고, 시간에 따른 점도 변화를 측정하였다. 생성된 데이터는 표 2에 제시되어 있다.
표 2
Figure 112011067923676-pat00007
중첩 전단(Lap Shear) 및 박리(Peel) 강도를, 1"X4"E-코팅된 CRS 쿠폰(coupon), 0.5" 오버랩(overlap), 10 mils 접합(bond line) 두께 및 150℃ 금속 온도에서 10' 경화를 사용하여 ASTM 표준 시험 D1002 및 D1876에 의해 고무 개질된(rubber modified) 포뮬레이션에서 시험하였다. 에폭시 포뮬레이션은 77.5 gm의 비스페놀 A 수지의 폴리글리시딜 에테르 (Epon 828), 37.5 gm의 CTBN/Epon 828 첨가생성물, 6 gm의 아미큐어(Amicure) CG1200G, 5gm의 실시예 1 내지 3, 및 2gm의 Cab-O-Sil M-5를 포함하였다. 생성된 데이터는 표 3에 제시되어 있다.
표 3
Figure 112011067923676-pat00008

Claims (8)

  1. 페놀 수지로 블록킹된(blocked), 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 하나 이상의 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민 에폭시 첨가생성물(adduct)을 포함하는 조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 조성물이 하기 화학식 (A)의 페놀 수지 (a)와, 하기 화학식 (B)의 1개의 1차 또는 2차 아민과 2개 이상의 3차 아민을 지닌 메틸화된 폴리알킬렌폴리아민과 에폭시 수지의 반응 생성물인 개질된 아민 화합물 (b)의 반응 생성물을 포함하는, 조성물:
    Figure 112011067923676-pat00009


    Figure 112011067923676-pat00010

    상기 화학식 (A)에서, R1, R2, R3, R4는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 1개 내지 17개의 탄소 원자를 지닌 비분지형 또는 분지형 알킬기이고, n은 0 내지 50의 정수이고;
    상기 화학식 (B)에서, R1, R2, R3, R4 및 R5는 수소, 메틸 또는 에틸이고; n과 m은 독립적으로 1 내지 10의 정수이고; X는 1 내지 10의 정수이다.
  3. 제 2항에 있어서, 열경화(heat cured) 에폭시 수지에서 경화제 또는 촉진제(accelerator)로서 사용되는, 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 에폭시 수지가 다작용성 에폭시 수지, 다가 페놀의 글리시딜 에테르, 2가 페놀의 글리시딜 에테르, 레조시놀의 글리시딜 에테르, 히드로퀴논, 비스-(4-히드록시-3,5-디플루오로페닐)-메탄, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-에탄, 2,2-비스-(4-히드록시-3-메틸페닐)-프로판, 2,2-비스-(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)-프로판, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판, 및 비스-(4-히드록시페닐)-메탄으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는, 조성물.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 2가 페놀이 하기 구조식을 지니는, 조성물:
    Figure 112011067923676-pat00011

    상기 식에서, m은 정수이고, R은 2가 페놀, 예를 들어 상기 열거된 2가 페놀의 2가 탄화수소 라디칼이다.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 다작용성 에폭시 수지가 노볼락 수지(novolac resin)의 글리시딜 에테르를 포함하는, 조성물.
  7. 제 4항에 있어서, 상기 다작용성 에폭시 수지가 비스페놀-A의 글리시딜 에테르(DGEBA), DGEBA의 고급 변형체(advanced version) 또는 고분자량 변형체, 비스페놀-F의 디글리시딜 에테르, 에폭시 노볼락 수지, 및 이들의 임의의 조합물로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는, 조성물.
  8. 제 4항에 있어서, 상기 다작용성 에폭시 수지가 스티렌 옥사이드, 시클로헥센 옥사이드, 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 부틸렌 옥사이드, 및 페놀, 크레졸, 3차-부틸페놀, 그 밖의 알킬 페놀, 부탄올, 2-에틸헥산올, C4 내지 C14 알코올 등의 글리시딜 에테르, 및 이들의 조합물로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 추가로 포함하는, 조성물.
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