KR101231717B1 - 미세 패턴 형성을 위한 포토마스크 및 이를 이용한 미세 패턴 제조방법 - Google Patents

미세 패턴 형성을 위한 포토마스크 및 이를 이용한 미세 패턴 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 액정표시소자용 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크에 관한 것으로, 구체적으로는 미세 패턴 형성을 위해 주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크에 관한 것이다.
본 발명은 포토마스크 윈도우의 내부에 추가적인 패턴을 형성함으로써 빛의 보강/상쇄 간섭을 이용하여 보다 작은 패턴 제작이 가능하도록 하는 것으로써 큰 포토마스크를 이용하면서도 미세 패턴 제작이 용이하다는 장점을 지닌다.

Description

미세 패턴 형성을 위한 포토마스크 및 이를 이용한 미세 패턴 제조방법{PHOTOMASK FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THEREOF}
본 발명은 미세 패턴 형성을 위한 포토마스크, 더욱 상세하게는 미세 패턴 형성을 위해 주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함하는 액정표시소자용 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크에 관한 것이다.
액정표시소자(LCD)에 사용되는 컬러필터에 흑격막(black matrix), 컬러 서브 픽셀(color sub-pixels), 컬럼 스페이서(column spacer)를 제조하기 위해서는 일반적으로 네거티브 감광성 물질을 이용하고 광식각법(photo-lithography)이라는 과정을 통해 패턴을 형성하는 방법을 사용한다.
최근에는 액정표시소자의 해상도를 높이고 빛이 투과되는 영역인 개구부를 넓히는 것이 기술적인 추세이다. 따라서 빛을 가로막아 서브 픽셀을 구분하게 하는 흑격막이나 액정 셀에서 박막트랜지스터(TFT) 기판과 컬러필터(color filter) 기판 사이의 간격을 고르게 유지하기 위한 컬럼 스페이서의 크기 또한 작아지게 된다. 즉 흑격막과 컬럼 스페이서를 만들기 위해 크기가 작은 미세 패턴을 안정적으로 형성해야 하는 기술적 과제가 있다.
미세 패턴을 만들기 위해 단순히 포토마스크의 윈도우를 작게 만들면 빛의 회절이 심해져 감광재에 조사되는 빛의 세기가 약해지고 원하지 않는 형태가 얻어진다. 또한 포토마스크 제작의 난이도가 높아져 제조 단가가 올라가거나 패턴의 크기에 있어서의 균일도(uniformity)가 저하되는 단점이 발생할 수 있다.
따라서, 이러한 단점을 극복하면서 용이하게 미세 패턴을 구현할 수 있는 포토마스크에 관한 개발이 요구되고 있었다.
본 발명의 목적은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 상대적으로 큰 사이즈의 포토마스크 패턴을 이용하면서도 미세 패턴을 제조할 수 있는 새로운 형태의 포토마스크를 제공하는 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 포토마스크는 패턴 형성을 위한 포토마스크에 있어서, 주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함하는 것이다.
또한, 상기 주 패턴의 양 단 최장거리에 대한 상기 보조 패턴의 양 단 최장거리의 비율은 0.35~0.90인 것일 수 있다.
그리고, 상기 보조 패턴의 형태는 상기 주 패턴의 형태와 동일한 것일 수 있으며, 상기 주 패턴의 형태는 원형 또는 사각형일 수 있다.
아울러, 상기 주 패턴 및 보조 패턴의 형태는 각각 원형이거나 사각형일 수 있다. 여기서, 상기 주 패턴의 지름 또는 대각선 길이에 대한 상기 보조 패턴의 지름 또는 대각선 길이의 비율은 0.35~0.90인 것일 수 있다.
상기와 같은 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 미세 패턴 제조방법은 주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함하는 포토마스크를 이용하여 노광시키는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
또한, 상기 미세 패턴은 액정표시소자용 컬러필터에 사용되는 것일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명의 실시예에 따르면, 새로운 형태의 포토마스크를 제시함으로써 미세 패턴 제조를 용이하게 할 수 있다는 장점이 있다. 즉, 포토마스크 윈도우(주 패턴)의 내부에 추가적인 패턴을 형성함으로써 빛의 보강/상쇄 간섭을 이용하여 보다 작은 패턴 제작이 가능하도록 하는 것으로써 기존의 포토마스크 크기를 줄이지 않고도 미세 패턴 제작이 용이하다는 잇점을 지닌다.
도 1은 본 발명에 따른 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크의 일 실시예로 주 패턴과 보조 패턴이 모두 원형인 포토마스크.
도 2는 본 발명에 따른 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크의 일 실시예로 주 패턴과 보조 패턴이 모두 사각형인 포토마스크.
도 3은 본 발명에 따른 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크의 일 실시예로 원형의 주 패턴 내부에 사각형의 보조 패턴이 있는 포토마스크.
도 4는 본 발명에 따른 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크의 일 실시예로 사각형의 주 패턴 내부에 원형의 보조 패턴이 있는 포토마스크.
이하의 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는" 는 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
본 발명에 따른 포토마스크는 액정표시소자용 컬러필터의 패턴 형성을 위한 포토마스크에 있어서, 미세 패턴 형성을 위해 주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함한다.
주 패턴 내부에 보조 패턴이 배치됨으로써 빛의 보강/상쇄 간섭이 유발되어 미세 패턴을 구현할 수 있게 된다. 즉, 종래의 포토마스크에서 빛이 투과하는 부분인 주 패턴의 내부에 일정 형태를 가지는 보조 패턴을 삽입함으로써 일종의 슬릿 형태가 구현되고 이러한 슬릿 형태를 통해 회절된 빛의 상호 간섭을 조절하여 빛의 세기 분포를 변경할 수 있게 된다. 구체적으로, 포토마스크 내에 보조 패턴을 배치하게 되면 빛의 복잡한 회절 형태가 생성되며 포토마스크를 통과해 기판에 도달하는 회절광이 서로 간섭을 일으키게 된다. 따라서 기판에 도달한 빛은 포토마스크 패턴의 형태가 아닌 2차원적으로 고르게 퍼진 세기 분포를 나타내어 균일한 형상의 유기막을 형성할 수 있도록 한다.
상기 주 패턴 및 보조 패턴의 형태로는 원형, 다각형 등 여러 가지가 사용될 수 있으며 보강/상쇄 간섭을 유발할 수 있는 한 특정 형태에 한정되지는 않는다. 주 패턴과 보조 패턴은 서로 같은 형태이거나 다른 형태일 수 있으며, 상기 주 패턴과 보조 패턴의 형태가 본 발명에서 언급하는 형태로만 한정되는 것은 아니다. 그러나, 너무 복잡한 패턴을 가지는 경우, 실제 제조 공정상 어려움이 따를 수 있기 때문에 비교적 단순한 형태를 가지는 것이 바람직하다고 할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
바람직하게는, 상기 주 패턴의 양 단 최장거리에 대한 상기 보조 패턴의 양 단 최장거리의 비율은 0.35~0.90인 형태를 사용한다. 상기 비율 값이 0.35 미만인 경우 형성되는 패턴의 크기가 포토마스크의 주 패턴 크기와 유사하거나 더 클 수 있기 때문에 미세 패턴 제작이 곤란할 수 있고, 0.90을 초과할 경우는 패턴 자체가 형성되지 않을 수 있기 때문이다.
본 발명의 명세서 전반에 걸쳐 사용되는 '양 단 최장거리'란 변, 모서리, 둘레를 포함한 도형의 형상을 이루는 테두리 상의 임의의 두 점을 연결한 직선거리 중 가장 긴 거리를 말한다. 구체적으로, 상기 주 패턴과 보조 패턴이 원형인 경우는 그 지름을 의미하고, 또한, 상기 주 패턴과 보조 패턴이 사각형인 경우는 그 대각선 길이를 의미하는 것이다.
첨부된 도면을 참고하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 바람직한 일 실시예를 나타낸 다음 도 1은 주 패턴과 보조 패턴이 모두 원형인 포토마스크로서, 지름이 C인 주 패턴의 원형으로 빛이 투과하는 부분에 지름이 a인 원형의 보조 패턴을 삽입하게 되면 C와 a의 크기를 변화시킴에 따라 빛의 간섭을 조절하여 빛의 세기 분포를 변경할 수 있다. 또한, 상기 주 패턴의 양 단 최장거리(C)에 대한 상기 보조 패턴의 양 단 최장거리(a)의 비율(a/c)은 0.35~0.90의 조건을 만족함은 물론이다. 또한, b는 상기 주 패턴의 양 단 최장거리(c)에서 보조 패턴의 양 단 최장거리(a)를 뺀 값이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시예들에 따르면, 다음 도 2 ~ 4와 같이 다양하게 응용할 수 있다.
다음 도 2 ~ 4에서도, C는 주 패턴의 양 단 최장거리인 지름 또는 대각선 길이를 나타내고, a는 보조 패턴의 양 단 최장거리인 지름 또는 대각선 길이를 으미하며, b는 상기 주 패턴의 양 단 최장거리(c)에서 보조 패턴의 양 단 최장거리(a)를 뺀 값이다.
다음 도 2 ~ 4의 어느 경우든, 주 패턴의 양 단 최장거리인 지름 또는 대각선 길이에 대한 보조 패턴의 양 단 최장거리인 지름 또는 대각선 길이의 비율(즉, a/c)은 0.35~0.90인 것이 바람직하다. a/c의 값이 0.35 미만인 경우 형성되는 패턴의 크기가 C와 유사하거나 더 클 수 있기 때문에 본 발명을 통해 구현하고자 하는 미세 패턴 제작의 효과가 불충분할 수 있으며, a/c의 값이 0.90을 초과할 경우 패턴 자체가 형성되지 않을 수 있다.
한편, 본 발명은 상기 포토마스크를 이용한 액정표시소자용 컬러필터의 미세 패턴의 제조방법을 제공하는 데도 특징이 있다.
미세 패턴 제조는 본 발명에 따른 특수한 형태의 포토마스크를 이용하여 당해 기술분야에서 통상적으로 거치는 공정을 거쳐 패턴을 제조하면 된다. 구체적으로, 네거티브형 감광성 용액을 유리 위에 스핀 코팅 및 전열 처리하여 두께가 균등한 필름을 형성하고, 상기 필름을 본 발명에 따른 포토마스크를 이용하여 노광시킨 후, 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척하는 단계를 거치는 것이다.
상기 포토마스크 제조 공정에 사용되는 네거티브형 감광성 용액은 통상의 포토마스크 제조시 사용되는 네거티브형 감광성 용액 조성을 사용할 수 있으며, 그 조성이 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 코팅, 전열처리, 노광 조건, 알칼리 현상액 등도 통상의 포토마스크 제조시 사용되는 기준에 준하여 처리될 수 있는 정도이고 특별히 한정되는 것은 아니다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 포토마스크를 이하의 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.
[ 실시예 1-1]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 3 micron 인 포토마스크를 사용하여 다음과 같은 프로세스를 거쳐 패턴을 제작하였다.
먼저 네거티브형 감광성 용액(LG화학 감광재 제품, LGSP A series)을 유리기판 위에 스핀 코팅한 후 섭씨 100 도로 2 분간 전열 처리하여 두께가 4 미크론인 균등한 필름을 형성하였다. 다음으로 상기 포토마스크를 이용하여 상기 필름을 고압 수은 램프 하에서 3초 동안 노광시킨 후, 패턴을 pH가 약 11.5인 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척한 후 기판 상에 형성된 패턴을 관찰하였다. 패턴의 크기는 광학 현미경을 이용하여 측정한 후 포토마스크 패턴의 외경 C와 비교하였다.
[ 실시예 1-2]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 6 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 1-3]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 9 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 1-4]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 12 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 1-5]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 15 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 1-6]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 16 micron인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 1-7]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 17 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-1]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 3 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-2]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 6 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-3]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 9 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-4]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 12 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-5]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 15 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-6]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 16 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 2-7]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 17 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-1]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 3 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-2]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 6 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-3]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 9 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-4]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 12 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-5]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 15 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-6]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 16 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 3-7]
다음 도 3에서 C = 18 micron, a = 17 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-1]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 3 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-2]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 6 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-3]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 9 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-4]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 12 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-5]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 15 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-6]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 16 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실시예 4-7]
다음 도 4에서 C = 18 micron, a = 17 micron 인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 비교예 1]
다음 도 1에서 C = 18 micron, a = 0 micron인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 비교예 2]
다음 도 2에서 C = 18 micron, a = 0 micron인 포토마스크를 사용한 것을 제외하고는 [실시예 1-1]과 동일하다.
[ 실험예 ]
상기 실시예와 비교예에 따른 포토마스크를 이용하여 미세 패턴을 형성하였으며, 각 패턴 크기를 측정하여 다음 표 1에 정리하였다. 각 패턴의 크기는 소수점 셋째 자리에서 반올림한 값이다.
(단위:㎛) c a b a/c 스페이서의 크기 c- 스페이서 크기
실시예 1-1 18 3 15 0.17 21.62 -3.62
실시예 1-2 18 6 12 0.33 19.73 -1.73
실시예 1-3 18 9 9 0.50 16.68 1.32
실시예 1-4 18 12 6 0.67 12.34 5.66
실시예 1-5 18 15 3 0.83 6.78 11.22
실시예 1-6 18 16 2 0.89 4.72 13.28
실시예 1-7 18 17 1 0.94 패턴 없음 -
비교예 1 18 0 18 0 22.21 -4.21
실시예 2-1 18 3 15 0.17 21.14 -3.14
실시예 2-2 18 6 12 0.33 19.28 -1.28
실시예 2-3 18 9 9 0.50 16.29 1.71
실시예 2-4 18 12 6 0.67 12.14 5.86
실시예 2-5 18 15 3 0.83 6.63 11.37
실시예 2-6 18 16 2 0.89 4.61 13.39
실시예 2-7 18 17 1 0.94 패턴 없음 -
비교예 2 18 0 18 0 21.71 -3.71
실시예 3-1 18 3 15 0.17 21.38 -3.38
실시예 3-2 18 6 12 0.33 19.06 -1.06
실시예 3-3 18 9 9 0.50 15.13 2.87
실시예 3-4 18 12 6 0.67 13.45 4.55
실시예 3-5 18 15 3 0.83 11.57 6.43
실시예 3-6 18 16 2 0.89 9.62 8.38
실시예 3-7 18 17 1 0.94 8.14 9.86
비교예 1 18 0 18 0 22.21 -4.21
실시예 4-1 18 3 15 0.17 21.17 -3.17
실시예 4-2 18 6 12 0.33 19.83 -1.83
실시예 4-3 18 9 9 0.50 17.38 0.62
실시예 4-4 18 12 6 0.67 14.10 3.90
실시예 4-5 18 15 3 0.83 9.90 8.10
실시예 4-6 18 16 2 0.89 8.22 9.78
실시예 4-7 18 17 1 0.94 4.72 13.28
비교예 2 18 0 18 0 21.71 -3.71
상기 표 1에 나타난 결과와 같이 비교예의 포토마스크를 사용하여 제조된 미세패턴을 포함하는 경우, 제작된 스페이서의 크기는 포토마스크 사이즈보다 더 크거나 유사한 값을 나타내는 것을 알 수 있다.
그러나, 본 발명 실시예에서와 같이 주 패턴 내부에 추가로 보조 패턴을 포함하는 포토마스크를 사용하여 제조된 미세패턴을 포함하는 경우, 제작된 스페이서의 크기는 모두 비교예보다 작은 크기를 가지며 거의 5 micron까지 패턴크기를 감소시킬 수 있었다.
실시예와 같이 본 발명에서 제시한 기술을 이용하는 경우에는 비교적 큰 사이즈의 포토마스크 패턴을 이용하면서도 미세 패턴을 제조할 수 있게 된다. 즉, 포토 마스크 내에 매우 작은 패턴을 제조하는 까다로운 공정의 어려움을 극복하면서도 보다 종래 발명에 비해 동일한 효과 이상의 결과를 얻을 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하며 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (12)

  1. 미세 패턴 형성을 위한 포토마스크에 있어서,
    주 패턴의 내부에 보조 패턴을 포함하고,
    상기 주 패턴과 보조 패턴은 각각 서로 다른 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 주 패턴의 양 단 최장거리에 대한 상기 보조 패턴의 양 단 최장거리의 비율은 0.35~0.90인 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1항에 있어서, 상기 주 패턴의 형태는 원형이고 상기 보조 패턴의 형태는 사각형인 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 주 패턴의 형태는 사각형이고 상기 보조 패턴의 형태는 원형인 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  9. 제 7항 또는 제 8항에 있어서, 상기 주 패턴의 양 단 최장거리에 대한 상기 보조 패턴의 양 단 최장거리의 비율은 0.35~0.90인 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  10. 제 1항에 있어서, 상기 포토마스크는 액정표시소자용 컬러필터의 미세 패턴 형성을 위한 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  11. 삭제
  12. 삭제
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