KR101207663B1 - Ｈｄｍｉ용 공통 모드 필터 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하여 자성체 시트 및 전극 패턴의 절연층을 형성하도록 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법이 제시된다. 제시된 HDMI용 공통 모드 방법은 자성체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 및 자성체 시트 및 전극 패턴 사이에 유전체를 인쇄하여 베이스층을 형성하는 단계를 포함하되, 베이스층을 형성하는 단계에서는 자성체 시트의 상면에 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.

Description

ＨＤＭＩ용 공통 모드 필터 제조 방법{Method of manufacturing a common mode filter for HDMI}
본 발명은 공통 모드 필터의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 절연성을 확보하면서 자성체의 효과 감소를 최소화하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법에 관한 것이다.
기술이 발전함에 따라 휴대전화, 가전제품, PC, PDA, LCD 등과 같은 전자기기가 아날로그 방식에서 디지털 방식으로 변화되고, 처리하는 데이터량의 증가로 인해 고속화되고 있는 추세에 있다.
하지만, 디지털화 및 고속화되는 전자기기들은 외부로부터의 자극에 민감하다. 즉, 외부로부터의 작은 이상 전압과 고주파 노이즈가 전자기기의 내부 회로로 유입될 경우 회로가 파손되거나 신호가 왜곡되는 경우가 발생한다. 이때, 전자기기의 회로 파손, 신호 왜곡을 발생시키는 이상 전압과 노이즈의 원인으로는 낙뢰, 인체에 대전된 정전기 방전, 회로 내에서 발생하는 스위칭 전압, 전원전압에 포함된 전원 노이즈, 불필요한 전자기신호 또는 전자기잡음 등이 있다.
이러한, 전자기기의 회로 파손이나 신호 왜곡의 발생을 방지하기 위해서는 필터를 설치하여 이상 전압과 고주파 노이즈가 회로로 유입되는 것을 방지한다. 일반적으로 고속 차동신호 라인 등에는 공통 모드 노이즈를 제거하기 위해 공통 모드 필터를 사용한다.
공통 모드 노이즈는 차동신호 라인에서 발생하는 노이즈이며, 공통 모드 필터는 기존 EMI필터로 제거할 수 없는 노이즈들을 제거한다. 공통 모드 필터는 가전기기 등의 EMC 특성 향상 또는 핸드폰 등의 안테나 특성 향상에 기여한다.
이와 같은 공통 모드 필터는 USB, MDDI/MIPI, HDMI 등에 응용이 가능하다. 특히, HDMI의 시장 확대로 인해 이 시장에서 공통 모드 필터가 가장 훌륭한 솔루션으로 대두되고 있다.
현재, HDMI 시장에서의 공통 모드 필터에 대한 요구사항은 크게 세 가지 정도이다. 첫 번째 요구사항은 소형화 및 슬림화로서 예를 들어 2.0㎜ × 1.0㎜(2 pole), 1.2㎜ × 1.0㎜(1 pole) 정도의 크기를 요구한다. 두 번째 요구사항은 100㎒정도의 저주파대역에서의 공통 모드 임피던스가 대략 65 ~ 115 Ω 정도를 유지하고, 차동 모드 임피던스가 최대 15 Ω 정도를 유지하는 것을 요구한다. 세 번째 요구사항은 IR 특성이 10㏁ 이상을 유지하고, Cut-off 주파수의 대역이 3㎓ 이상을 유지하는 것을 요구한다.
이러한 요구사항 등을 충족시키기 위해 적층형 및 박막형의 HDMI용 공통 모드 필터의 연구가 진행되었다.
적층형(Multi layered Type)의 공통 모드 필터의 경우, 도 1에 도시된 바와 같이, 패턴(즉, 인 패턴(20) 및 스파이럴 패턴(30))의 상부 및 하부에 절연층(10)을 형성하여 절연특성을 확보한다. 이때, 공통 모드 임피던스를 증가시키기 위해서 절연층(10)을 자성체 재질로 형성하는 구조가 연구되었다.
하지만, 자성체를 이용하여 절연층으로 형성하는 경우 수 ㏁대의 절연저항이 형성되어 HDMI 시장에서 요구되는 10MΩ 이상의 절연저항의 특성을 구현하기 어려운 문제점이 있다.
또한, 박막형(Thin Film Type)의 공통 모드 필터의 경우, 도 2에 도시된 바와 같이, 패턴(40)을 중심에 배치하는 3층 구조로 구성하여 고주파 특성을 향상시킨 공통 모드 필터가 연구되었다. 이때, 패턴의 외부에 다수의 자성체(50)가 형성된다.
하지만, 박막형 공통 모드 필터의 경우 고가의 제조 장비 및 제조 비용이 발생하며 SMT 공정 및 Rework 중의 열에 의한 변형이 발생할 수 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 감안하여 제안된 것으로서, 그 목적은 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하여 자성체 시트 및 전극 패턴의 절연층을 형성하도록 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 제공함에 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은, 자성체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 및 자성체 시트 및 전극 패턴 사이에 유전체를 인쇄하여 베이스층을 형성하는 단계를 포함하되, 베이스층을 형성하는 단계에서는 자성체 시트의 상면에 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계; 및 제1패턴층을 베이스층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함한다.
유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계; 및 제2패턴층을 제1패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함한다.
유전체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계; 및 보호층을 제2패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 자성체 시트의 하면에 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
베이스층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계를 더 포함한다.
제1패턴층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계를 더 포함한다.
제2패턴층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 유전체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계; 및 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계를 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 자성체 시트의 하면에 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴과 동일한 크기 및 형상으로 유전체를 인쇄한다.
유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체를 인쇄한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은, 자성체 시트의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 베이스층을 형성하는 단계를 포함하되, 유전체는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 형성된다.
자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계; 및 제1패턴층을 베이스층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계; 및 제2패턴층을 제1패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
전극 패턴의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 하면 외측부 및 중심부에는 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계; 및 보호층을 제2패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.,
베이스층의 유전체 시트 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 형성한다.
제1패턴층의 유전체 시트 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.,
제2패턴층의 유전체 시트 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 전극 패턴의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계; 자성체 시트의 하면 외측부 및 중심부에는 전극 패턴과 이격되게 자성체를 형성하는 단계; 및 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하되, 유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄한다.
유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴과 동일한 크기 및 형상으로 유전체를 인쇄한다.
유전체를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체를 인쇄한다.
본 발명에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 절연층을 구성하는 유전체 시트를 전극 부분에 인쇄하여 형성함으로써, 절연성의 확보와 동시에 자성체의 효과 감소를 최소화하는 절연층을 구현할 수 있는 효과가 있다.
부수적으로, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 공통 모드 임피던스가 증가시킴으로써, 패턴의 길이를 최소화하여 공통 모드 필터의 크기를 소형화 및 슬림화할 수 있고, 고주파 특성을 향상되는 효과가 있다.
또한, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 절연층을 구성하는 유전체 시트를 전극 부분에 인쇄하여 형성함으로써, 종래의 공통 모드 필터에 비해 소성온도를 증가시킬 수 있어 공통 모드의 임피던스 및 차동 모드의 SRF 임피던스가 증가하고, 자성체의 투자율이 증가하여 공통 모드의 임피던스 및 차동 모드의 SRF 임피던스가 증가하는 효과가 있다.
또한, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 자성체 시트의 상면 외측부 및 코어에 자성체를 인쇄하여 전극 패턴의 상부, 하부, 좌측부, 우측부, 중심부에서 모두 영향을 받도록 형성함으로써, 자성체 효과가 전극 패턴의 상부 및 하부 방향에서만 부여되던 종래에 비해 공통 모드 임피던스가 증가하고, 펀칭 및 캐스팅 공정이 생략되어 설비 투자 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
도 1 및 도 2는 종래의 HDMI용 공통 모드 필터를 설명하기 위한 도면.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 4 및 도 5는 도 3의 베이스층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 6은 도 3의 제1패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 7은 도 3의 제2패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 8 및 도 9는 도 3의 보호층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 10은 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 특성을 설명하기 위한 도면.
도 11 및 도 12는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터 및 종래의 HDMI용 공통 모드 필터의 특성을 비교설명하기 위한 도면.
도 13 내지 도 14는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 소성온도에 따른 특성을 설명하기 위한 도면.
도 15는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 컷오프 주파수 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 16은 본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 17은 도 16의 베이스층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 18은 도 16의 제1패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 19는 도 16의 제2패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 20은 도 16의 보호층 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명의 실시형태는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
먼저, 본 발명의 실시예를 설명하기에 앞서 본 발명의 HDMI용 공통 모드 필터의 특징을 설명하면 아래와 같다.
종래에는 HDMI용 공통 모드 필터의 최하부에 위치하는 베이스층을 형성하기 위해, 자성체 시트(예컨대, 페라이트 시트)의 상면에 LTCC 간지를 적층하고, LTCC 간지의 상부에 전극 패턴을 적층한다. 보호층의 경우에는 LTCC 시트의 상면에 전극 패턴을 적층하고, 전극 패턴의 상부에 LTCC 간지를 적층하고, LTCC 간지의 상면에 자성체 시트(예컨대, 페라이트 시트)를 적층하여 형성된다.
이때, 자성체 시트와 전극 패턴 사이에는 절연층을 형성하기 위해 유전체인 LTCC 간지가 적층된다. 여기서, 자성체 시트와 전극 패턴 사이에 형성되는 LTCC 간지는 자성체 시트의 상면(또는 하면)을 모두 덮는 크기로 형성된다. 즉, 전극 패턴의 크기와는 관계없이 자성체 시트의 상면과 동일한 면적을 갖도록 형성되어 자성체 시트를 모두 덮는다.
하지만, 자성체 시트와 동일한 면적의 유전체 시트(즉, LTCC 간지)를 사용하게 되면, 유전체 시트에 의해 자성체 시트의 자성체 특성이 전극 패턴에 미치는 영향이 저하된다. 즉, 유전체 시트가 자성체 시트의 자성체 특성이 전극 패턴으로 전달되는 것을 차단하게 된다.
본 발명에 따른 HDMI용 공통 모드 필터는 전극 패턴으로의 자성체 특성 전달이 차단되는 것을 최소화하기 위해서 자성체 시트와 전극 패턴 사이에 형성되는 유전체의 면적을 전극 패턴과 동일하게 인쇄하여 형성한다. 즉, 자성체 시트와 전극 패턴의 사이에 전극 패턴과 동일한 크기의 유전체를 형성함으로써, 전극 패턴으로의 자성체 특성 전달이 차단되는 것을 최소화하는 것을 특징으로 한다.
물론, 자성체 시트와 전극 패턴의 사이에 인쇄되는 유전체는 전극 패턴보다 설정범위 내로 더 크게 인쇄하여 형성될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다.
(제1실시예)
이하에서는, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 자세하게 설명하면 아래와 같다. 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 4 및 도 5는 도 3의 베이스층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 6은 도 3의 제1패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 7은 도 3의 제2패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 8 및 도 9는 도 3의 보호층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 베이스층(120), 제1패턴층(140), 제2패턴층(160), 보호층(180)을 각각 인쇄 방식으로 형성한 후에 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 제조한다. 즉, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법적층 인쇄방식으로 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 구성하는 각 층을 형성한 후에, 각 층을 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 제조한다.
물론, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 각 층을 적층 인쇄하여 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 제조할 수도 있다. 즉, 베이스층(120)을 적층 인쇄방식으로 형성하고, 베이스층의 상부에 제1패턴층(140), 제2패턴층(160), 보호층(180)을 순차적으로 적층 인쇄하여 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 제조한다.
여기서, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 베이스층(120) 및 보호층(180)에 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182)의 절연을 위해 형성되는 유전체(125, 185)를 전극 패턴(122, 182)과 동일한 크기 및 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다. 물론, 유전체(125, 185)는 전극 패턴(122, 182)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(122, 182)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다.
먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스층(120)을 형성하기 위해서, 자성체 시트(126)의 상면에 전극 패턴(122) 및 유전체(125)를 적층 인쇄한다. 즉, 자성체 시트(126)의 상면에 유전체(125)를 인쇄하고, 양단에 인출 전극(123, 124)이 형성된 전극 패턴(122)을 유전체(125)의 상면에 인쇄한다.
여기서, 베이스층(120)을 형성하는 단계에서는 자성체 시트(126)의 중심부에 코어(127)을 더 인쇄하여 형성할 수도 있다.
베이스층(120)을 형성하는 단계에서는 자성체 시트(126)의 상면에 전극 패턴(122)이 형성되는 부분에만 유전체(125)를 인쇄하는 것을 특징으로 한다. 즉, 유전체(125)는 전극 패턴(122)과 동일한 크기 및 형상으로 인쇄된다. 물론, 유전체(125)는 전극 패턴(122)보다 설정범위 이내로 더 크게 인쇄될 수도 있다.
그에 따라, 도 5에 도시된 바와 같이, 자성체 시트(126)와 전극 패턴(122) 사이에 형성되는 유전체(125)의 면적이 전극 패턴(122)과 동일하게 형성된 베이스층(120)이 형성된다.
다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 유전체 시트(141)의 상부에 전극 패턴(142)을 인쇄하여 제1패턴층(140)을 형성하여 베이스층(120)의 상부에 적층한다. 여기서, 베이스층(120)의 상부에 유전체 시트(141)를 인쇄하고, 유전체 시트(141)의 상부에 전극 패턴(142)을 인쇄하여 제1패턴층(140)을 형성할 수도 있다. 즉, 베이스층(120)의 전극 패턴(122) 상부에 유전체 시트(141)를 인쇄하고, 유전체 시트(141)의 상부에 전극 패턴(122)을 인쇄하여 제1패턴층(140)을 형성한다. 그에 따라, 제1패턴층(140)을 베이스층(120)에 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
다음으로, 도 7에 도시된 바와 같이, 유전체 시트(161)의 상부에 전극 패턴(162)을 인쇄하여 제2패턴층(160)을 형성하여 제1패턴층(140)의 상부에 적층한다. 여기서, 제1패턴층(140)의 상부에 유전체 시트(161)를 인쇄하고, 유전체 시트(161)의 상부에 전극 패턴(162)을 인쇄하여 제2패턴층(160)을 형성할 수도 있다. 즉, 제1패턴층(140)의 전극 패턴(142) 상부에 유전체 시트(161)를 인쇄하고, 유전체 시트(161)의 상부에 전극 패턴(162)을 인쇄하여 제2패턴층(160)을 형성한다. 그에 따라, 제2패턴층(160)을 제1패턴층(140)에 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
마지막으로, 도 8에 도시된 바와 같이, 보호층(180)을 형성하기 위해서, 유전체 시트(181)의 상면에 전극 패턴(182)과 유전체(185) 및 자성체 시트(186)를 적층 인쇄한다. 즉, 양단부에 인출 전극(183, 184)이 형성된 전극 패턴을 유전체 시트(181)의 상면에 인쇄하고, 전극 패턴(182)의 상면에 유전체(185)를 인쇄하고, 유전체(185)의 상면에 자성체 시트(186)를 인쇄하여 보호층(180)을 형성한다.
보호층(180)을 형성하는 단계에서는, 제2패턴층(160)의 전극 패턴(142) 상부에 유전체 시트(181)와 전극 패턴(182) 및 유전체(185) 및 자성체 시트(186)를 적층 인쇄하여 보호층(180)을 형성할 수도 있다. 즉, 제2패턴층(160)의 전극 패턴(162) 상부에 유전체 시트(181)를 인쇄하고, 유전체 시트(181)의 상면에 전극 패턴(182)을 인쇄한다. 전극 패턴(182)의 상면에 유전체(185)를 인쇄하고, 유전체(185)의 상부에 자성체 시트(186)를 인쇄하여 보호층(180)을 형성한다. 그에 따라, 제2패턴층(160)에 보호층(180)을 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
이때, 보호층(180)을 형성하는 단계에서는 자성체 시트(186)의 하면에 전극 패턴(182)이 형성되는 부분에만 유전체(185)를 인쇄한다. 여기서, 전극 패턴(182)과 동일한 크기 및 형상으로 유전체(185)를 인쇄한다. 물론, 전극 패턴(182)보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체(185)를 인쇄할 수도 있다. 그에 따라, 도 9에 도시된 바와 같이, 자성체 시트(186)와 전극 패턴(182) 사이에 형성되는 유전체(185)의 면적이 전극 패턴(182)과 동일하게 형성된 보호층(180)이 형성된다.
상술한 바와 같이, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 절연층을 구성하는 유전체 시트를 전극 부분에 인쇄하여 형성함으로써, 절연성의 확보와 동시에 자성체의 효과 감소를 최소화하는 절연층을 구현할 수 있는 효과가 있다.
부수적으로, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 공통 모드 임피던스가 증가시킴으로써, 패턴의 길이를 최소화하여 공통 모드 필터의 크기를 소형화 및 슬림화할 수 있고, 고주파 특성을 향상되는 효과가 있다.
또한, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 절연층을 구성하는 유전체 시트를 전극 부분에 인쇄하여 형성함으로써, 종래의 공통 모드 필터에 비해 소성온도를 증가시킬 수 있어 공통 모드의 임피던스 및 차동 모드의 SRF 임피던스가 증가하고, 자성체의 투자율이 증가하여 공통 모드의 임피던스 및 차동 모드의 SRF 임피던스가 증가하는 효과가 있다.
이하에서는, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법에 의해 형성된 HDMI용 공통 모드 필터의 구조를 설명하면 아래와 같다.
HDMI용 공통 모드 필터(100)는 베이스층(120), 제1패턴층(140), 제2패턴층(160), 보호층(180)을 포함하여 구성된다. 여기서, HDMI용 공통 모드 필터(100)는 설명의 편의를 위해 베이스층(120), 제1패턴층(140), 제2패턴층(160), 보호층(180)으로 구분하였으나, HDMI용 공통 모드 필터(100)는 각층에 포함된 구성요소들을 인쇄하는 방식으로 제작된다. 특히, 베이스층(120) 및 보호층(180)에 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182)의 절연을 위해 형성되는 유전체(125, 185)를 전극 패턴(122, 182)과 동일한 크기 및 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다. 물론, 유전체(125, 185)는 전극 패턴(122, 182)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(122, 182)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다.
베이스층(120)은 최하부에 위치한다. 베이스층(120)은 자성체(예컨대, 페라이트)로 구성된 시트의 상면에 유전체(125) 및 전극 패턴(122)이 인쇄되어 형성된다. 즉, 베이스층(120)은 최하부에 자성체 시트(126)가 배치된다. 자성체 시트(126)의 상면에는 유전체(125)가 인쇄된다. 이때, 유전체(125)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 유전체(125)의 상부에 인쇄되는 전극 패턴(122)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(126) 및 전극 패턴(122) 사이에 형성되는 유전체(125)는 전극 패턴(122)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(122)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체(125)의 상면에 전극 패턴(122)이 인쇄된다. 이때, 전극 패턴(122)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(123)이 형성되고, 타단부에는 제1패턴층(140)의 전극 패턴(142; 즉, 제1패턴층(140)의 인출 전극(146))와 연결되는 인출 전극(124)이 형성된다.
베이스층(120)은 중심부에 자성체 재질의 코어(127)가 형성될 수도 있다. 여기서, 베이스층(120)에는 유전체(125) 및 전극 패턴(122)이 형성된 상면에 제1패턴층(140)의 인쇄를 용이하게 하기 위한 유전체(121; 예컨대, LTCC)가 인쇄될 수도 있다. 즉, 유전체(125) 및 전극 패턴(122)이 형성된 자성체 시트(126)의 상면에 유전체(121)를 추가 인쇄하여 제1패턴층(140)의 인쇄를 용이하게 한다.
제1패턴층(140)은 베이스층(120)의 상부에 위치한다. 제1패턴층(140)은 유전체(예컨대, LTCC)로 구성된 시트(141)의 상면에 전극 패턴(142)이 인쇄되어 형성된다. 즉, 제1패턴층(140)은 유전체 시트(141)의 상면에 스파이럴(spiral) 형상의 전극 패턴(142)이 인쇄되어 형성된다. 이때, 전극 패턴(142)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(144)이 형성되고, 타단부에는 베이스층(120)의 전극 패턴(122; 즉, 베이스층(120)의 인출 전극(124))와 연결되는 인출 전극(146)이 형성된다. 여기서, 제1패턴층(140)은 유전체 시트(141)의 중심부(즉, 전극 패턴(142)의 내부)에 자성체 재질의 코어(147)가 형성될 수도 있다. 제1패턴층(140)은 전극 패턴(142)의 상부에 유전체(예컨대, LTCC)(미도시)가 인쇄될 수도 있다.
제1패턴층(140)은 별도의 유전체 시트(141)를 사용하지 않고 베이스층(120)의 상면에 스파이럴 형상의 전극 패턴(142)이 인쇄되어 형성될 수도 있다. 즉, 제1패턴층(140)은 베이스층(120)의 상면에 유전체(예컨대, LTCC)가 인쇄된 경우, 베이스층(120)의 상면에 스파이럴 형상의 전극 패턴(142)이 인쇄되어 형성될 수도 있다.
제2패턴층(160)은 제1패턴층(140)의 상부에 위치한다. 제2패턴층(160)은 유전체(예컨대, LTCC)로 구성된 시트(161)의 상면에 전극 패턴(162)이 인쇄되어 형성된다. 즉, 제2패턴층(160)은 유전체 시트(161)의 상면에 스파이럴(spiral) 형상의 전극 패턴(162)이 인쇄되어 형성된다. 이때, 전극 패턴(162)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(164)이 형성되고, 타단부에는 보호층(180)의 전극 패턴(182; 즉, 보호층(180)의 인출 전극(184))와 연결되는 인출 전극(166)이 형성된다. 여기서, 제2패턴층(160)은 유전체 시트(161)의 중심부(즉, 전극 패턴(162)의 내부)에 자성체 재질의 코어(167)가 형성될 수도 있다. 제2패턴층(160)은 전극 패턴(162)의 상부에 유전체(예컨대, LTCC)가 인쇄될 수도 있다.
제2패턴층(160)은 제1패턴층(140)의 상면에 전극 패턴(162)이 인쇄되어 형성될 수도 있다. 즉, 제2패턴층(160)은 유전체(예컨대, LTCC)가 인쇄된 제1패턴층(140)의 상면에 스파이럴 형상의 전극 패턴(162)이 인쇄되어 형성될 수도 있다.
보호층(180)은 제2패턴층(160)의 상부에 위치한다. 보호층(180)은 유전체(예컨대, LTCC)로 구성된 시트(181)의 상면에 전극 패턴(182)과 유전체(185) 및 자성체(예컨대, 페라이트) 재질의 시트(186)가 인쇄되어 형성된다. 즉, 보호층(180)은 유전체 시트(181)의 상면에 전극 패턴(182)을 형성한다. 이때, 전극 패턴(182)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(184)이 형성되고, 타단부에는 제2패턴층(160)의 전극 패턴(162; 즉, 제2패턴층(160)의 인출 전극(166))과 연결되는 인출 전극(183)이 형성된다. 전극 패턴(182)의 상면에는 유전체(185)가 인쇄된다. 이때, 유전체(185)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 유전체 시트(181)의 상부에 인쇄되는 전극 패턴(182)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(186) 및 전극 패턴(182) 사이에 형성되는 유전체(185)는 전극 패턴(182)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(182)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체 시트(181)의 상면에는 전극 패턴(182) 및 유전체(185)를 덮도록 자성체 시트(186)가 인쇄된다. 자성체 시트(186)의 하면에는 코어(187)가 인쇄되어 형성될 수도 있다.
보호층(180)은 별도의 유전체 시트(181)를 사용하지 않고 제2패턴층(160)의 상면에 전극 패턴(182)과 유전체(185) 및 자성체 시트(186)가 인쇄되어 형성될 수도 있다. 즉, 보호층(180)은 제2패턴층(160)의 상면에 유전체(예컨대, LTCC)가 인쇄된 경우, 제2패턴층(160)의 상면에 전극 패턴(182), 유전체(185), 자성체 시트(186)가 인쇄되어 형성될 수도 있다.
이하에서는, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 특성을 첨부된 도면을 참조하여 자세하게 설명하면 아래와 같다.
도 10은 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 특성을 설명하기 위한 도면이다.
HDMI용 공통 모드 필터(100)는 전극 패턴(122, 182)으로의 자성체 특성 전달이 차단되는 것을 최소화하기 위해서 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182) 사이에 형성되는 유전체(125, 185)의 면적을 전극 패턴(122, 182)과 동일하게 형성한다. 즉, 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182)의 사이에 전극 패턴(122, 182)과 동일한 크기의 유전체(125, 185)를 형성함으로써, 전극 패턴(122, 182)으로의 자성체 특성 전달이 차단되는 것을 최소화하는 것을 특징으로 한다. 물론, 자성체 시트(126, 186) 및 전극 패턴(122, 182) 사이에 형성되는 유전체(125, 185)는 전극 패턴(122, 182)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(122, 182)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 설정범위의 한정을 하지 않는다. 예를 들어, 도 10에 도시된 바와 같이, 대략 50㎛ 정도의 선폭을 갖는 전극 패턴(122, 182)이 인쇄되는 경우, 유전체(125, 185)는 대략 150㎛ 정도 이내의 선폭을 갖도록 인쇄될 수 있다.
도 11 및 도 12는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터 및 종래의 HDMI용 공통 모드 필터의 특성을 비교설명하기 위한 도면이다.
도 11에서, 곡선 A는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 공통 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이고, 곡선 B는 LTCC 간지를 사용하는 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 공통 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이다. 곡선 C는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 차동 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이고, 곡선 D는 LTCC 간지를 사용하는 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 차동 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이다.
도 11에서 알 수 있듯이, 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182) 사이에 전극 패턴(122, 182)과 동일하거나 설정범위 내로 더 큰 유전체(125, 185)를 인쇄하여 베이스층(120) 및 보호층(180)을 형성함에 따라, 100㎒(Ω) 정도의 저주파대역에서의 공통 모드 임피던스가 20% 이상 증가(상승)되었다.
한편, 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100) 및 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 100㎒(Ω) 정도의 저주파대역에서의 차동 모드 임피던스와 공통 모드 SRF 및 차동 모드 SRF에서 거의 동등한 특성을 갖는 것을 알 수 있다. 즉, 유전체(125, 185)를 부분 인쇄하는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 자성체 위에 형성시키는 경우와 동일한 효과가 발생하고, 유전체의 절연 특성과 동일한 절연 특성을 갖는 것을 의미한다.
상술한 바와 같이, 부분 인쇄 방식의 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 차동 모드 임피던스와 공통 모드 SRF 및 차동 모드 SRF의 특성에 있어서는 자성체 시트의 전면을 덮는 유전체 시트 적층 방식인 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)와 동등한 특성을 유지하면서, 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)에 비해 20% 이상 공통 모드 임피던스가 증가하는 효과가 있음을 알 수 있다.
도 13 내지 도 14는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 소성온도에 따른 특성을 설명하기 위한 도면이다.
일반적으로, 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 저유전율을 위해서(즉, 공통 모드 임피던스 특성을 높이기 위해서) 유전체 시트(즉, LTCC 간지)에 은(Ag) 재질의 전극 패턴을 인쇄하는 방식을 사용하였다. 이때, 유전체 시트로 간지 형태의 반응성이 낮은 유전체(예를 들면, CaO-BaO-SiO2, Tg:700℃ 이상)을 사용하기 때문에 자성체 시트와의 접합성에 문제가 발생한다. 그에 따라, 종래의 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 고온에서 소성이 불가능하다.
반면, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 유리 재질의 유전체(125, 185)를 자성체 시트(126, 186)와 전극 패턴(122, 182) 사이에 부분 인쇄하는 방식을 사용한다. 유전체(125, 185)를 인쇄하는 경우 자성체 시트(126, 186)와의 접합성에 문제가 발생하지 않는다. 그에 따라, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 고온에서 소성이 가능하여 자성체의 투자율이 증가하는 효과가 있다.
도 13에서, 곡선 E는 대략 890℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 공통 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이고, 곡선 F는 대략 830℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 공통 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이다. 곡선 G는 대략 890℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 차동 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이고, 곡선 H는 대략 830℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)의 차동 모드 임피던스 변화를 나타낸 것이다.
도 13에서 알 수 있듯이, 대략 890℃ 정도의 소성온도에서 HDMI용 공통 모드 필터(100)를 소성하기 때문에, 100㎒(Ω) 정도의 저주파대역에서의 공통 모드 임피던스가 대략 830℃ 정도의 소성온도에서 HDMI용 공통 모드 필터(100)에 비해 10% 이상 증가(상승)되었다.
한편, 도 14에 도시된 바와 같이, 대략 890℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)가 대략 830℃ 정도에서 소성된 HDMI용 공통 모드 필터(100)에 비해 공통 모드 임피던스 및 차동 모드 SRF 임피던스가 증가(상승)함을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 자성체와 전극 패턴의 절연을 위한 유전체를 부분 인쇄하여 고온에서 소성이 가능하기 때문에, 자성체의 투자율을 증가시켜 공통 모드 임피던스 및 차동 모드 SRF 임피던스가 증가되는 효과가 있다.
도 15는 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법으로 형성한 HDMI용 공통 모드 필터의 컷오프 주파수 특성을 설명하기 위한 도면이다.
도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 대략 3.5㎓ 정도에서 컷오프 주파수가 형성된다. 이를 통해, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)가 HDMI용 공통 모드 필터(100) 시장에서 요구되는 3㎓ 이상의 컷오프 주파수 특성을 만족함을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 제1실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(100)는 HDMI용 공통 모드 필터(100) 시장에서 요구되는 필터의 소형화 및 슬림화, 차동 모드 임피던스 특성, IR 특성, 컷오프 주파수 특성 등을 만족하며 향상된 공통 모드 임피던스 특성을 나타낸다.
(제2실시예)
이하에서는, 본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터를 첨부된 도면을 참조하여 자세하게 설명하면 아래와 같다. 도 16은 본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 17은 도 16의 베이스층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 18은 도 16의 제1패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 19는 도 16의 제2패턴층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 20은 도 16의 보호층 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 16에 도시된 바와 같이, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 베이스층(220), 제1패턴층(240), 제2패턴층(260), 보호층(280)을 각각 인쇄 방식으로 형성한 후에 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 제조한다. 즉, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법적층 인쇄방식으로 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 구성하는 각 층을 형성한 후에, 각 층을 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 제조한다.
물론, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 각 층을 적층 인쇄하여 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 제조할 수도 있다. 즉, 베이스층(220)을 적층 인쇄방식으로 형성하고, 베이스층(220)의 상부에 제1패턴층(240), 제2패턴층(260), 보호층(280)을 순차적으로 적층 인쇄하여 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 제조한다.
여기서, HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법은 베이스층(220) 및 보호층(280)에 자성체 시트(221, 283)와 전극 패턴(223, 282)의 절연을 위해 형성되는 유전체(222, 281)를 전극 패턴(223, 282)과 동일한 크기 및 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다. 물론, 유전체(222, 281)는 전극 패턴(223, 282)보다 설정범위 내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(223, 282)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다.
먼저, 도 17에 도시된 바와 같이, 베이스층(220)을 형성하기 위해서, 자성체 시트(221)에 유전체(222), 전극 패턴(223), 유전체 시트(224), 자성체(225)를 적층 인쇄한다. 즉, 자성체 시트(221)의 상면에 유전체(222)를 인쇄하고, 유전체(222)의 상면에 전극 패턴(223)을 인쇄하고, 전극 패턴(223)의 상부에 유전체 시트(224)를 인쇄한다. 자성체 시트(221)의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴(223)과 이격되게 자성체(225)를 인쇄하여 베이스층(220)을 형성한다.
베이스층(220)을 형성하는 단계에서는 전극 패턴(223)을 제1패턴층(240)의 전극 패턴(243)과 전기적으로 연결하기 위한 비아 전극(226)을 형성한다.
여기서, 비아 전극(226)은 레이저 펀칭 또는 기계적 펀칭 방법 등에 의해 해당 시트에 구멍이 천공된 후에 그 구멍에 자성체가 충진됨에 의해 형성되는 것으로 이해하면 된다.
베이스층(220)을 형성하는 단계에서는 전극 패턴(223)이 형성되는 부분에만 유전체(222)를 인쇄하는 것을 특징으로 한다. 즉, 유전체(222)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(223)과 동일한 크기 및 형상으로 유전체(222)를 인쇄한다. 물론, 유전체(222)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(223)보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체(222)를 인쇄할 수도 있다.
다음으로, 도 18에 도시된 바와 같이, 제1패턴층(240)을 형성하기 위해서, 자성체 시트(241)에 유전체(242), 전극 패턴(243), 유전체 시트(244), 자성체(245)를 적층 인쇄한다. 즉, 자성체 시트(241)의 상면에 유전체(242)를 인쇄하고, 유전체(242)의 상면에 전극 패턴(243)을 인쇄하고, 전극 패턴(243)의 상부에 유전체 시트(244)를 인쇄하여 제1패턴층(240)을 형성한다. 이때, 자성체 시트(241)의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴(243)과 이격되게 자성체(245)를 인쇄한다. 이후에, 형성된 제1패턴층(240)을 베이스층(220)에 적층한다.
물론, 제1패턴층(240)을 형성하는 단계에서는, 베이스층(220)의 상부에 자성체 시트(241), 유전체(242), 전극 패턴(243), 유전체 시트(244), 자성체(245)를 적층 인쇄하여 제1패턴층(240)을 형성할 수도 있다. 즉, 베이스층(220)의 유전체 시트(224) 상부에 자성체 시트(241)를 인쇄하고, 자성체 시트(241)의 상부에 유전체(242)를 인쇄한다. 유전체(242)의 상부에 전극 패턴(243)을 인쇄하고, 전극 패턴(243)의 상부에 유전체 시트(244)를 인쇄한다. 자성체 시트(241)의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴(243)과 이격되게 자성체(245)를 인쇄하여 제1패턴층(240)을 형성한다. 그에 따라, 제1패턴층(240)을 베이스층(220)에 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
여기서, 제1패턴층(240)을 형성하는 단계에서는 전극 패턴(243)이 형성되는 부분에만 유전체(242)를 인쇄하는 것을 특징으로 한다. 즉, 유전체(242)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(243)과 동일한 크기 및 형상으로 유전체(242)를 인쇄한다. 물론, 유전체(242)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(243)보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체(242)를 인쇄할 수도 있다.
다음으로, 도 19에 도시된 바와 같이, 제2패턴층(260)을 형성하기 위해서, 자성체 시트(261)에 유전체(262), 전극 패턴(263), 유전체 시트(264), 자성체(265)를 적층 인쇄한다. 즉, 자성체 시트(261)의 상면에 유전체(262)를 인쇄하고, 유전체(262)의 상면에 전극 패턴(263)을 인쇄하고, 전극 패턴(263)의 상부에 유전체 시트(264)를 인쇄하여 제2패턴층(260)을 형성한다. 이때, 자성체 시트(261)의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴(263)과 이격되게 자성체(265)를 인쇄한다. 이후에, 형성된 제2패턴층(260)을 제1패턴층(240)에 적층한다.
물론, 제2패턴층(260)을 형성하는 단계에서는, 제1패턴층(240)의 상부에 자성체 시트(261), 유전체(262), 전극 패턴(263), 유전체 시트(264), 자성체(265)를 적층 인쇄하여 제2패턴층(260)을 형성할 수도 있다. 즉, 제1패턴층(240)의 유전체 시트(244) 상부에 자성체 시트(261)를 인쇄하고, 자성체 시트(261)의 상부에 유전체(262)를 인쇄한다. 유전체(262)의 상부에 전극 패턴(263)을 인쇄하고, 전극 패턴(263)의 상부에 유전체 시트(264)를 인쇄한다. 자성체 시트(261)의 상면 외측부 및 중심부에 전극 패턴(263)과 이격되게 자성체(265)를 인쇄하여 제2패턴층(260)을 형성한다. 그에 따라, 제2패턴층(260)을 제1패턴층(240)에 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
제2패턴층(260)을 형성하는 단계에서는 전극 패턴(263)을 보호층층(280)의 전극 패턴(282)과 전기적으로 연결하기 위한 비아 전극(266)을 형성한다.
여기서, 비아 전극(266)은 레이저 펀칭 또는 기계적 펀칭 방법 등에 의해 해당 시트에 구멍이 천공된 후에 그 구멍에 자성체가 충진됨에 의해 형성되는 것으로 이해하면 된다.
여기서, 제2패턴층(260)을 형성하는 단계에서는 전극 패턴(263)이 형성되는 부분에만 유전체(262)를 인쇄하는 것을 특징으로 한다. 즉, 유전체(262)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(263)과 동일한 크기 및 형상으로 유전체(262)를 인쇄한다. 물론, 유전체(262)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(263)보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체(262)를 인쇄할 수도 있다.
마지막으로, 도 20에 도시된 바와 같이, 보호층(280)을 형성하기 위해서, 전극 패턴(282)의 상부에 유전체(281) 및 자성체 시트(283)를 적층 인쇄한다. 즉, 전극 패턴(282)의 상부에 유전체(281)를 인쇄하고, 유전체(281)의 상부에 자성체 시트(283)를 인쇄하여 보호층(280)을 형성한다. 이때, 자성체 시트(283)의 하면 외측부 및 중심부에는 전극 패턴(282)과 이격되게 자성체(285)를 인쇄한다. 이후에 보호층(280)을 제2패턴층(260)의 상부에 적층한다.
물론, 보호층(280)을 형성하는 단계에서는, 제2패턴층(260)의 상부에 전극 패턴(282), 유전체(281), 자성체 시트(283)를 적층 인쇄하여 보호층(280)을 형성할 수도 있다. 즉, 제2패턴층(260)의 유전체 시트(264) 상부에 전극 패턴(282)을 인쇄하고, 전극 패턴(282)의 상부에 유전체(281)를 인쇄한다. 자성체 시트(283)의 하면 외측부 및 중심부에는 전극 패턴(282)과 이격되게 자성체(285)를 형성하고, 유전체(281)의 상부에 자성체 시트(283)를 인쇄하여 보호층(280)을 형성한다. 그에 따라, 보호층(280)을 제2패턴층(260)에 적층하는 과정이 생략될 수도 있다.
여기서, 유전체(281)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(282)이 형성되는 부분에만 유전체(281)를 인쇄한다. 즉, 유전체(281)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(282)과 동일한 크기 및 형상으로 유전체(281)를 인쇄한다. 물론, 유전체(281)를 인쇄하는 단계에서는 전극 패턴(282)보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체(281)를 인쇄할 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법에서는 자성체 시트에 유전체 페이스트(paste)를 부분 인쇄하고, 유전체 페이스트의 상부에 전극을 인쇄하고, 비아 전극을 형성한다. 자성체 시트의 코어 및 사이드에는 자성체 페이스트를 도포하고, 유전체 페이스트를 인쇄하여 각 층을 형성한다. 이후 형성된 각 층을 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터를 제조한다.
본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법에서는 필요한 층이 모두 구성될 때까지 자성체 시트에 유전체 페이스트(paste)를 부분 인쇄하고, 유전체 페이스트의 상부에 전극을 인쇄하고, 비아 전극을 형성하고, 자성체 시트의 코어 및 사이드에는 자성체 페이스트를 도포하고, 유전체 페이스트를 인쇄하는 단계를 반복한 후에, 자성체 시트를 최상부에 인쇄하여 HDMI용 공통 모드 필터를 제조할 수도 있다.
이하에서는, 본 발명의 제2실시예에 따른 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법에 의해 형성된 HDMI용 공통 모드 필터의 구조를 설명하면 아래와 같다.
HDMI용 공통 모드 필터(200)는 베이스층(220), 제1패턴층(240), 제2패턴층(260), 보호층(280)을 포함하여 구성된다. 여기서, HDMI용 공통 모드 필터(200)는 설명의 편의를 위해 베이스층(220), 제1패턴층(240), 제2패턴층(260), 보호층(280)으로 구분하였으나, HDMI용 공통 모드 필터(200)는 각층에 포함된 구성요소들을 적층 인쇄하는 방식으로 제작된다. 특히, 베이스층(220) 및 보호층(280)에 자성체 시트(221, 283)와 전극 패턴(223, 282)의 절연을 위해 형성되는 유전체(222, 281)를 전극 패턴(223, 282)과 동일한 크기 및 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다. 물론, 유전체(222, 281)는 전극 패턴(223, 282)보다 설정범위 내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(223, 282)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다.
이때, 본 발명의 제2실시예에서는 자성체 시트, 유전체, 전극 패턴, 유전체를 적층 인쇄하여 베이스층(220), 제1패턴층(240), 제2패턴층(260)을 형성하는 것을 특징으로 한다. 즉, 페라이트 재질의 자성체 시트(221, 241, 261, 283)에 전극 패턴(223, , 243, 263, 282)의 크기 및 형상과 동일하게 유전체(222, 242, 262, 281)를 부분 인쇄하고, 유전체(222, 242, 262, 281)의 상부에 전극 패턴(223, 243, 263, 282)을 인쇄한다. 자성체 시트(241, 261)의 상부에 비아 전극(226, 266)을 인쇄하고, 자성체 시트(221, 241, 261, 283)의 상부 외측부 및 코어(중심부)에 자성체(225, 245, 265, 285)를 인쇄한다. 유전체(222, 242, 262, 281)와 전극 패턴(223, 243, 263, 282) 및 자성체(225, 245, 265, 285)가 인쇄된 자성체 시트(221, 241, 261, 283)의 상부에 유전체(222, 242, 262, 281)를 인쇄하여 자성체 시트(즉, 베이스층(120), 제1패턴층(140), 제2패턴층(160), 보호층(180))를 생성하고, 각 자성체 시트를 적층하여 HDMI용 공통 모드 필터(200)를 형성하는 것을 특징으로 한다.
베이스층(220)은 최하부에 위치한다. 베이스층(220)은 자성체(예컨대, 페라이트)로 구성된 시트(221)의 상면에 유전체(222)와 전극 패턴(223)과 자성체(225) 및 유전체 시트(224)가 인쇄되어 형성된다. 즉, 베이스층(220)은 최하부에 자성체 시트(221)가 배치된다. 자성체 시트(221)의 상면에는 자성체 시트(221)와 전극 패턴(223)의 절연을 위한 유전체(222)가 인쇄된다. 이때, 유전체(222)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 유전체(222)의 상부에 인쇄되는 전극 패턴(223)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(221) 및 전극 패턴(223) 사이에 형성되는 유전체(222)는 전극 패턴(223)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(223)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체(222)의 상면에 전극 패턴(223)이 인쇄된다. 이때, 전극 패턴(223)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(미도시)이 형성되고, 타단부에는 제1패턴층(240)의 전극 패턴(243; 즉, 제1패턴층(240)의 인출 전극(미도시))와 연결되는 인출 전극(미도시)이 형성된다. 자성체 시트(221)의 상면 외측부 및 코어(중심부)에는 자성체(225)가 인쇄된다. 자성체(225)의 상부에 비아 전극(226)이 형성된 유전체 시트(224)가 인쇄된다.
제1패턴층(240)은 베이스층(220)의 상부에 위치한다. 제1패턴층(240)은 자성체(예컨대, 페라이트)로 구성된 시트(241)의 상면에 유전체(242)와 전극 패턴(243)과 자성체(245) 및 유전체 시트(244)가 인쇄되어 형성된다. 즉, 제1패턴층(240)은 최하부에 자성체 시트(241; 예컨대, 페라이트 시트)가 배치된다. 자성체 시트(241)의 상면에는 자성체 시트(241)와 전극 패턴(243)의 절연을 위한 유전체(242)가 인쇄된다. 이때, 유전체(242)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 유전체(242)의 상부에 인쇄되는 스파이럴 형상의 전극 패턴(243)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(241) 및 전극 패턴(243) 사이에 형성되는 유전체(242)는 스파이럴 형상의 전극 패턴(243)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 스파이럴 형상의 전극 패턴(243)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체(242)의 상면에 전극 패턴(243)이 인쇄된다. 이때, 전극 패턴(243)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(미도시)이 형성되고, 타단부에는 베이스층(220)의 전극 패턴(223; 즉, 베이스층(220)의 인출 전극(미도시))와 연결되는 인출 전극(미도시)이 형성된다. 자성체 시트(241)의 상면 외측부 및 코어(중심부)에는 자성체(245)가 인쇄된다. 자성체(245)의 상부에 유전체 시트(244)가 인쇄된다.
제2패턴층(260)은 제1패턴층(240)의 상부에 위치한다. 제2패턴층(260)은 자성체(예컨대, 페라이트)로 구성된 시트(621)의 상면에 유전체(262)와 전극 패턴(263)과 자성체(265) 및 유전체 시트(264)가 인쇄되어 형성된다. 즉, 제2패턴층(260)은 최하부에 자성체 시트(261; 예컨대, 페라이트 시트)가 배치된다. 자성체 시트(261)의 상면에는 자성체 시트(261)와 전극 패턴(263)의 절연을 위한 유전체(262)가 인쇄된다. 이때, 유전체(262)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 유전체(262)의 상부에 인쇄되는 스파이럴 형상의 전극 패턴(263)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(261) 및 전극 패턴(263) 사이에 형성되는 유전체(262)는 스파이럴 형상의 전극 패턴(263)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 스파이럴 형상의 전극 패턴(263)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체의 상면에 전극 패턴이 인쇄된다. 이때, 전극 패턴(263)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(미도시)이 형성되고, 타단부에는 보호층(280)의 전극 패턴(282; 즉, 보호층(280)의 인출 전극(미도시))와 연결되는 인출 전극(미도시)이 형성된다. 자성체 시트(261)의 상면 외측부 및 코어(중심부)에는 자성체(265)가 인쇄된다. 자성체(265)의 상부에 비아 전극(266)이 형성된 유전체 시트(264)가 인쇄된다.
보호층(280)은 제2패턴층(260)의 상부에 위치한다. 보호층(280)은 자성체(285), 전극 패턴(282), 유전체(281), 자성체 시트(283)가 제2패턴층(260)의 상면에 인쇄되어 형성된다. 즉, 보호층(280)은 제2시트층(260)의 상면 코어(중심부)에 자성체(285)가 인쇄된다. 제2시트층(260)의 상면에 자성체(285)와 소정간격 이격되어 전극 패턴(282)이 인쇄된다. 이때, 전극 패턴(282)의 일단부에는 외부로 노출되는 인출 전극(미도시)이 형성되고, 타단부에는 제2패턴층(260)의 전극 패턴(263; 즉, 제2패턴층(260)의 인출 전극(미도시))와 연결되는 인출 전극(미도시)이 형성된다.
전극 패턴(282)의 상면에 유전체(281)를 인쇄한다. 이때, 유전체(281)는 유리(glass)가 주로 사용되며, 전극 패턴(282)과 동일한 크기 및 형태로 인쇄된다. 물론, 자성체 시트(283) 및 전극 패턴(282) 사이에 형성되는 유전체(281)는 전극 패턴(282)보다 설정범위내로 더 크게 인쇄될 수도 있다. 여기서, 설정범위는 전극 패턴(282)의 크기 및 형상에 따라 다르게 설정될 수 있으므로 범위의 한정을 하지 않는다. 유전체(281)의 상면에는 전극 패턴(282) 및 유전체(281)를 덮도록 자성체 시트(283)를 인쇄한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 제2실시에 따른 HDMI용 공통 모드 필터(200)는 자성체 시트의 상면 외측부 및 코어에 자성체를 인쇄하여 전극 패턴의 상부, 하부, 좌측부, 우측부, 중심부에서 모두 영향을 받도록 형성함으로써, 자성체 효과가 전극 패턴의 상부 및 하부 방향에서만 부여되던 종래에 비해 공통 모드 임피던스가 증가하고, 펀칭 및 캐스팅 공정이 생략되어 설비 투자 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해 설명하였으나, 다양한 형태로 변형이 가능하며, 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 본 발명의 특허청구범위를 벗어남이 없이 다양한 변형예 및 수정예를 실시할 수 있을 것으로 이해된다.
100: HDMI용 공통 모드 필터 120: 베이스층
121: 유전체 시트 122: 전극 패턴
123, 124: 인출 전극 125 : 유전체
126: 자성체 시트 127: 코어
140: 제1패턴층 141: 유전체 시트
142: 전극 패턴 144, 146: 인출 전극
147: 코어 160: 제2패턴층
161: 유전체 시트 162: 전극 패턴
164, 166: 인출 전극 167: 코어
180: 보호층 181: 유전체 시트
182: 전극 패턴 183, 184: 인출 전극
185 : 유전체
186: 자성체 시트 187: 코어
200: HDMI용 공통 모드 필터 220: 베이스층
221: 자성체 시트 222: 유전체
223: 전극 패턴 224: 유전체 시트
225: 자성체 226: 비아 전극
240: 제1패턴층 241: 자성체 시트
242: 유전체 243: 전극 패턴
244: 유전체 시트 245: 자성체
260: 제2패턴층 261: 자성체 시트
262: 유전체 263: 전극 패턴
264: 유전체 시트 265: 자성체
266: 비아 전극 280: 보호층
281: 유전체 282: 전극 패턴
283: 자성체 시트 285: 자성체

Claims (18)

  1. 자성체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; 및
    상기 자성체 시트 및 상기 전극 패턴 사이에 유전체를 인쇄하여 베이스층을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 베이스층을 형성하는 단계에서는 상기 자성체 시트의 상면에 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 상기 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계; 및
    상기 제1패턴층을 상기 베이스층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계; 및
    상기 제2패턴층을 상기 제1패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    유전체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계; 및
    상기 보호층을 상기 제2패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 자성체 시트의 하면에 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 베이스층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
    상기 유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1패턴층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
    상기 유전체 시트의 상부에 전극 패턴을 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 제2패턴층의 전극 패턴 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체 시트의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계; 및
    상기 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 자성체 시트의 하면에 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  8. 청구항 1, 청구항 4, 청구항 7 중에 어느 한 항에 있어서,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴과 동일한 크기 및 형상으로 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  9. 청구항 1, 청구항 4, 청구항 7 중에 어느 한 항에 있어서,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  10. 자성체 시트의 상면에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상면에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
    상기 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 베이스층을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 유전체는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 형성되는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계; 및
    상기 제1패턴층을 상기 베이스층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계; 및
    상기 제2패턴층을 상기 제1패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    전극 패턴의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 하면 외측부 및 중심부에는 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계; 및
    상기 보호층을 상기 제2패턴층의 상부에 적층하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  14. 청구항 10에 있어서,
    상기 베이스층의 유전체 시트 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계; 및
    상기 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제1패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 형성하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 제1패턴층의 유전체 시트 상부에 자성체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 유전체의 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체 시트를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 상면 외측부 및 중심부에 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 인쇄하여 제2패턴층을 형성하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 제2패턴층의 유전체 시트 상부에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
    상기 전극 패턴의 상부에 유전체를 인쇄하는 단계;
    상기 자성체 시트의 하면 외측부 및 중심부에는 상기 전극 패턴과 이격되게 자성체를 형성하는 단계; 및
    상기 유전체의 상부에 상기 자성체 시트를 인쇄하여 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하되,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴이 형성되는 부분에만 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  17. 청구항 10 내지 청구항 16 중에 어느 한 항에 있어서,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴과 동일한 크기 및 형상으로 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
  18. 청구항 10 내지 청구항 16 중에 어느 한 항에 있어서,
    상기 유전체를 인쇄하는 단계에서는 상기 전극 패턴보다 설정범위 이내로 더 크게 유전체를 인쇄하는 것을 특징으로 하는 HDMI용 공통 모드 필터 제조 방법.
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