KR101193096B1 - Optical filter and method of manufacturing optical filter - Google Patents

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Abstract

기체의 양주면이 연마기를 사용해서 연마 가공된다. 기체의 양주면이 연마되면 기체의 한 주면에 증착법을 이용해서 제1측막이 증착 형성된다. 또, 막의 증착형성시 한 주면에 응력이 가해지고, 한 주면의 대향하는 단변이 다른 주면측의 방향으로 변형된다. 제1막 형성공정 후에 한 주면으로의 제1측막의 형성에 의한 변형량에 기초해서 다른 주면으로의 응력 보정막의 증착량이 설정되고, 응력 보정막의 두께가 단층막의 두께에 상당하게 설정된다. 그리고, 증착법을 이용해서 응력 보정막이 다른 주면에 증착 형성되고, 한 주면으로의 제1측막의 형성에 의한 변형이 보정되어서 광학 필터가 제조된다.Both main surfaces of the substrate are polished using a polishing machine. When both main surfaces of the substrate are polished, the first side film is deposited on one main surface of the substrate by vapor deposition. In addition, stress is applied to one main surface during deposition formation of the film, and the opposite short sides of one main surface deform in the direction of the other main surface side. After the first film forming step, the amount of deposition of the stress correction film on the other main surface is set based on the amount of deformation caused by the formation of the first side film on one main surface, and the thickness of the stress correction film is set to correspond to the thickness of the single layer film. The stress correction film is deposited on the other main surface by the vapor deposition method, and the deformation caused by the formation of the first side film on one main surface is corrected to produce an optical filter.

Description

광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법{OPTICAL FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FILTER}Optical filter and manufacturing method of optical filter {OPTICAL FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FILTER}

본 발명은 광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법에 관한 것이고, 특히, 기체의 변형을 억제한 광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical filter and a method for producing the optical filter, and more particularly, to an optical filter and a method for producing the optical filter in which deformation of the substrate is suppressed.

현재, 촬상기기 등의 전자기기에는 수정 등의 기체의 주면에 이온 어시스트 등의 증착법을 이용해서 박막을 형성하여 소정의 광학특성을 얻는 투과형 광학 필터가 사용되고 있다.Background Art [0002] At present, a transmissive optical filter is used for electronic devices such as an imaging device, in which a thin film is formed on the main surface of a substrate such as quartz by using an evaporation method such as ion assist to obtain a predetermined optical characteristic.

이 기체의 주면에 박막을 형성할 때 기체로의 박막의 증착에 의해 응력이 발생한다. 그 때문에 기체는 증착방향을 향해서 변형이 생긴다. 이 변형에 의해 광학특성이 변화되어 소정의 광학특성을 얻는 것은 어렵다.When a thin film is formed on the main surface of the base, stress is generated by the deposition of the thin film into the base. Therefore, the gas is deformed toward the vapor deposition direction. This deformation changes the optical characteristics, making it difficult to obtain predetermined optical characteristics.

그래서, 종래의 기술에 기체로의 박막의 증착에 의해 생기는 변형을 보정하는 기술이 있다(예를 들면, 특허문헌1 참조.).Therefore, there is a technique of correcting deformation caused by deposition of a thin film with a gas in the prior art (see Patent Document 1, for example).

하기하는 특허문헌1에 기재된 필터에서는 표측면에 다층막을 증착한 기체의 뒷 측면에 이 기체와 대략 같은 굴절율을 갖는 대칭구조의 등가 굴절막 유닛을 반복하여 적층하고, 다층막과 대략 같은 두께로 한 구성으로 이루어진다.In the filter described in Patent Literature 1 described below, an equivalent refractive film unit having a symmetrical structure having the same refractive index as that of the base material is repeatedly stacked on the rear side of the base material on which the multilayer film is deposited on the front surface, and the thickness is substantially the same as that of the multilayer film. Is done.

이 필터에 의하면, 필터의 분광특성을 손상하는 일 없이 변형을 제거할 수 있다.According to this filter, distortion can be removed without damaging the spectral characteristics of the filter.

[특허문헌1:일본 특허 3034668호 공보][Patent Document 1: Japanese Patent No. 3034668]

그런데, 상기한 특허문헌1에 기재된 필터에 의하면, 기체의 변형을 보정하기 위해 표면에 형성된 다층막과 같은 두께인 등가 굴절막 유닛을 형성하고 있다. 그러나, 이 등가 굴절막 유닛을 기체에 적층하면 그 두께에 비례해서 투과율이 낮아진다.By the way, according to the filter of the said patent document 1, the equivalent refractive film unit which is the same thickness as the multilayer film formed in the surface is formed in order to correct the deformation | transformation of gas. However, when the equivalent refractive film unit is laminated on the substrate, the transmittance is lowered in proportion to the thickness thereof.

그래서, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투과율의 저하를 억제함과 아울러, 기체로의 박막의 형성시에 생기는 기체의 변형을 보정하는 광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, in order to solve the said subject, an object of this invention is to provide the optical filter and the manufacturing method of an optical filter which suppress the fall of a transmittance | permeability and correct | amend the deformation | transformation of the gas which arises at the time of formation of the thin film to a base. do.

상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 광학 필터는, 기체의 양 주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터에 있어서, 상기 기체의 한 주면에 제1측막이 형성됨으로써 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막이 상기 기체의 상기 다른 주면에 형성되어서 상기 기체가 만곡되고, 상기 기체의 만곡 후에 상기 응력 보정막이 제거됨과 아울러 상기 한 주면에 제1측막이 형성되는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the optical filter according to the present invention is an optical filter that transmits light in a direction passing through both main surfaces of the substrate, wherein the first side film is formed on one main surface of the substrate. A stress correction film for correcting the stress of the gas is formed on the other main surface of the substrate so that the gas is bent, the stress correction film is removed after the bending of the gas, and a first side film is formed on the one main surface.

본 발명에 의하면, 상기 기체의 상기 다른 주면에, 상기 한 주면에 제1측막이 형성됨으로써 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막이 형성되어서 상기 기체가 만곡되고, 상기 기체의 만곡 후에 상기 응력 보정막이 제거됨과 아울러 상기 한 주면에 제1측막이 형성되므로, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. 또, 상기 응력 보정막이 제거되므로, 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 방지할 수 있게 된다.According to the present invention, a stress correction film is formed on the other main surface of the base to correct the stress into the base caused by the formation of a first side film on the main side, so that the base is curved, and after the bending of the base, the stress Since the correction film is removed and a first side film is formed on the main surface, it is possible to correct the deformation of the gas generated when the first side film is formed into the gas. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved. Moreover, since the said stress correction film is removed, the fall of the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film can be prevented.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 광학 필터는, 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터에 있어서, 상기 기체의 상기 한 주면에 제1측막이 형성되고, 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는, 단층막의 두께에 상당하게 두께가 설정된 응력 보정막이 상기 다른 주면에 형성된 것을 특징으로 한다.Moreover, in order to achieve the said objective, the optical filter which concerns on this invention is an optical filter which permeate | transmits a light in the direction which penetrates the both main surfaces of a base, WHEREIN: A 1st side film | membrane is formed in the said one main surface of the said base body, A stress correction film, the thickness of which is set to correspond to the thickness of the monolayer film, which corrects the stress into the substrate caused by the formation of the first side film, is formed on the other main surface.

본 발명에 의하면, 상기 기체의 상기 한 주면에 상기 제1측막이 형성되고, 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는, 단층막의 두께에 상당하게 두께가 설정된 응력 보정막이 상기 다른 주면에 형성되므로, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도, 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. According to the present invention, the first side film is formed on the one main surface of the base, and a stress correction film whose thickness is set to correspond to the thickness of the single layer film that corrects the stress into the base caused by the formation of the first side film is Since it is formed on the said other main surface, the deformation | transformation of the said gas which arises at the time of formation of the said 1st side film | membrane to the said gas can be correct | amended. For example, even in the case where a film having a strong stress is formed by using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved.

상기 구성에 있어서, 상기 응력 보정막은 단층막이어도 된다.In the above configuration, the stress correction film may be a single layer film.

이 경우, 상기 응력 보정막은 단층막이므로, 다층막으로 형성된 경우의 응력 보정막과 비교해서 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있게 된다. 또, 상기 제1측막의 형성에 의해 상기 기체에 생기는 변형에 기초하여 이 변형을 보정하기 위해, 단층의 응력 보정막을 형성하므로, 다층막으로 형성된 경우의 응력 보정막과 비교해서 제조 비용을 억제할 수 있게 된다. 또, 응력 보정막이 단층이므로, 응력 보정막을 형성할 때의 두께 조정이나 제조공정의 관리가 용이해진다.In this case, since the said stress correction film is a single | mono layer film, the fall of the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film | membrane can be suppressed compared with the stress correction film in the case of being formed by a multilayer film. In addition, since a single layer stress correction film is formed in order to correct this deformation based on the deformation occurring in the base body by the formation of the first side film, the manufacturing cost can be reduced as compared with the stress correction film in the case of forming a multilayer film. Will be. In addition, since the stress correction film is a single layer, it is easy to adjust the thickness and manage the manufacturing process when forming the stress correction film.

상기 구성에 있어서 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 그 두께방향을 따라 가변하는 다층막이어도 된다.In the above structure, the stress correction film may be a same material and may be a multilayer film in which the stress to the base is varied along its thickness direction.

이 경우, 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 그 두께방향을 따라 가변하는 다층막이므로, 단층막으로 형성된 경우의 응력 보정막과 비교해서, 상기 응력 보정막의 형성에 의해 반사 방지 기능을 가질 수 있게 된다. 또, 상기 응력 보정막의 두께는, 상기 응력 보정막과 상기 동일재료로 이루어지는 단층막의 두께에 상당하게 설정되어 있으므로, 상기한 배경기술에서 서술한 필터와 비교해서 막두께가 얇고, 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있게 된다. In this case, since the stress correction film is a multi-layered film in which the stress to the substrate is varied in the thickness direction as the same material, the anti-reflection function is improved by the formation of the stress correction film as compared with the stress correction film in the case of forming a single layer film. I can have it. In addition, since the thickness of the stress correction film is set to correspond to the thickness of the single-layer film made of the same material as the stress correction film, the film thickness is thinner than that of the filter described in the background art, and the stress correction film is formed. The fall of the transmittance | permeability by this can be suppressed.

상기 구성에 있어서, 상기 응력 보정막의 굴절율은 상기 기체의 굴절율에 근사해도 된다. In the above configuration, the refractive index of the stress correction film may be approximated to the refractive index of the base.

이 경우, 상기 응력 보정막의 굴절율은 상기 기체의 굴절율에 근사하므로, 상기 기체와의 경계면에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있게 된다. 예를 들면, 상기 기체에 수정을 사용한 경우 상기 응력 보정막에 SiO2를 사용하는 것이 바람직하며, 이 경우 상기 응력 보정막의 응력이 강하고, 상기 응력 보정막의 두께를 얇게 할 수 있게 된다. 그 때문에, 상기한 배경기술에서 서술한 필터와 비교해서 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있게 된다. In this case, since the refractive index of the stress correction film is close to the refractive index of the substrate, the reflection of light on the interface with the substrate can be suppressed. For example, when quartz is used for the substrate, SiO 2 is preferably used for the stress correction film. In this case, the stress of the stress correction film is strong, and the thickness of the stress correction film can be reduced. Therefore, the fall of the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film | membrane can be suppressed compared with the filter mentioned in the background art mentioned above.

상기 구성에 있어서, 상기 응력 보정막의 두께는 파장λ의 2/4의 정수배로 설정되어도 된다.In the above configuration, the thickness of the stress correction film may be set to an integer multiple of 2/4 of the wavelength lambda.

이 경우, 상기 응력 보정막의 두께는 파장λ의 2/4의 정수배로 설정되므로, 상기 응력 보정막의 상기 기체와의 경계면에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있게 된다.In this case, since the thickness of the stress correction film is set to an integer multiple of 2/4 of the wavelength?, The reflection of light on the interface with the base of the stress correction film can be suppressed.

상기 구성에 있어서, 상기 응력 보정막상에 제2측막이 형성되어도 된다. In the above configuration, a second side film may be formed on the stress correction film.

이 경우, 상기 응력 보정막상에 제2측막이 형성되므로, 상기 응력 보정막이 상기 기체와 상기 제2측막에 끼워진 상태로 형성되고, 상기 응력 보정막에 의해 각각의 경계면에 있어서의 빛의 반사가 억제된다. 그 때문에, 투과형 광학 필터에 있어서 상기 응력 보정막상에 제2측막이 형성되는 것은 바람직하다. 예를 들면, 제2측막상에 응력 보정막을 형성하는 경우와 비교해서 상기 응력 보정막에 의한 빛의 반사를 방지할 수 있게 된다.In this case, since a second side film is formed on the stress compensation film, the stress compensation film is formed in a state sandwiched between the base and the second side film, and the stress compensation film suppresses reflection of light at each interface. do. Therefore, it is preferable that a 2nd side film is formed on the said stress correction film in a transmission optical filter. For example, the reflection of light by the stress correction film can be prevented as compared with the case where the stress correction film is formed on the second side film.

상기 구성에 있어서, 상기 응력 보정막상에 외부부품이 접착되어도 된다.In the above configuration, an external component may be attached onto the stress correction film.

이 경우, 상기 응력 보정막상에 상기 외부부품이 접착되므로, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛상에 외부부품이 설치된 경우와 비교해서 접착면에서의 상기 기체의 변형을 억제할 수 있게 된다. 또, 상기 응력 보정막은 경계면에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있으므로, 투과형 광학 필터에 있어서 상기 응력 보정막상에 상기 외부부품이 접착되는 것은 바람직하다. 예를 들면, 제1측막상에 외부부품이 접착되는 경우와 비교해서 접착면에 있어서의 빛의 투과율의 저하를 억제하는 것에 바람직하다. In this case, since the external component is adhered on the stress correction film, deformation of the gas on the adhesive surface can be suppressed as compared with the case where the external component is provided on the equivalent refractive film unit of the filter described in the background art. Will be. Moreover, since the said stress correction film can suppress reflection of the light in an interface, it is preferable that the said external component adhere | attaches on the said stress correction film in a transmission type optical filter. For example, it is preferable to suppress the fall of the transmittance | permeability of the light in an adhesion surface compared with the case where an external component is adhere | attached on a 1st side film | membrane.

상기 구성에 있어서, 상기 외부부품은 상기 응력 보정막의 굴절율에 근사한 접착제를 통해서 상기 응력 보정막상에 접착되어도 된다. In the above configuration, the external component may be attached onto the stress correction film via an adhesive approximating the refractive index of the stress correction film.

이 경우, 상기 외부부품은 상기 응력 보정막의 굴절율에 근사한 접착제를 통해서 상기 응력 보정막상에 접착되므로, 상기 외부부품과의 접착면에 있어서의 빛의 투과율의 저하를 억제함에 바람직하다. In this case, since the external component is adhered onto the stress correction film through an adhesive approximating the refractive index of the stress correction film, it is preferable to suppress the decrease in the transmittance of light on the adhesive surface with the external parts.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 광학 필터의 제조 방법은, 기체의 양주면을 연마 가공해서 상기 양주면의 적어도 한쪽의 위에 막을 형성하고, 상기 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터의 제조 방법에 있어서, 상기 기체의 상기 양주면을 연마 가공한 후에 상기 한 주면에 상기 제1측막을 형성하는 제1막 형성공정과, 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는, 단층막의 두께에 상당하게 두께가 설정된 응력 보정막을 상기 다른 주면에 형성하는 제2막 형성공정을 갖는 것을 특징으로 한다. Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the optical filter which concerns on this invention forms the film | membrane on at least one of the both main surfaces by grinding | polishing both main surfaces of a base, and the direction which penetrates the both main surfaces of the base. A method of manufacturing an optical filter that transmits light in a light, comprising: a first film forming step of forming the first side film on the one main surface after polishing the main surfaces of the base, and by forming the first side film And a second film forming step of forming a stress correction film on the other main surface, the thickness of which is set to correspond to the thickness of the single layer film to correct the generated stress to the base.

본 발명에 의하면, 상기 제1막 형성공정과 상기 제2막 형성공정을 가지므로, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. 또, 제1막 형성공정과 제2막 형성공정의 막형성공정 순서는 한정되지 않고, 어느 쪽의 막형성공정을 먼저 실시해도 된다.According to this invention, since it has the said 1st film formation process and the said 2nd film formation process, the deformation | transformation of the said gas which arises at the time of formation of the said 1st side film | membrane to the said base material can be correct | amended. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved. In addition, the order of the film formation process of a 1st film formation process and a 2nd film formation process is not limited, Any film formation process may be performed first.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 광학 필터의 제조 방법은, 기체의 양주면을 연마 가공해서 상기 양주면의 적어도 한쪽의 위에 막을 형성하고, 상기 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터의 제조 방법에 있어서, 상기 기체를 상기 다른 주면으로부터 한 주면에 걸쳐 그 두께방향으로 만곡시키는 만곡공정과, 상기 만곡공정 후에 상기 한 주면에 제1측막을 형성하는 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 양주면을 연마할 때에 각 주면에 따라 마찰계수를 가변시키는 것을 특징으로 한다.Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the optical filter which concerns on this invention forms the film | membrane on at least one of the said main surface by grinding both main surfaces of a base, and in the direction which penetrates the main main surface of the said main body. A method of manufacturing an optical filter that transmits light, comprising: a bending step of bending the substrate from one of the other main surfaces to one of the main surfaces in a thickness direction thereof, and a third film forming a first side film on the one main surface after the bending step It has a formation process, The said bending process is characterized by changing a friction coefficient according to each main surface, when grinding both main surfaces of the said base.

본 발명에 의하면, 상기 만곡공정과 상기 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 양주면을 연마할 때에 각 주면에 따라 마찰계수를 가변시키므로, 빛의 투과율을 유지함과 아울러, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. 또, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 양주면을 연마할 때에 각 주면에 따라 마찰계수를 가변시키므로, 상기 기체의 양주면을 연마하는 구성에 있어서의 공정수가 늘어나지만 전체로서의 제조공정을 늘리는 일 없이 상기 기체를 만곡시킬 수 있게 되어, 제조 비용을 억제할 수 있게 된다.According to the present invention, the curvature process and the third film forming process are performed. In the curvature process, the friction coefficient is varied according to each main surface when polishing both main surfaces of the substrate, thereby maintaining light transmittance. Deformation of the gas generated when the first side film is formed into a gas can be corrected. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved. Further, in the bending step, the friction coefficient is varied according to each main surface when the main surfaces of the base are polished, so that the number of steps in the configuration of grinding the main surfaces of the base increases, but without increasing the manufacturing process as a whole. The gas can be bent, which makes it possible to reduce the manufacturing cost.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 광학 필터의 제조 방법은, 기체의 양주면을 연마 가공해서 상기 양주면의 적어도 한쪽의 위에 막을 형성하고, 상기 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터의 제조 방법에 있어서, 상기 기체를 상기 다른 주면으로부터 한 주면에 걸쳐서 그 두께방향으로 만곡시키는 만곡공정과, 상기 만곡공정 후에, 상기 한 주면에 제1측막을 형성하는 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 상기 양주면을 연마할 때에 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기를 사용해서 상기 양주면을 만곡시키는 것을 특징으로 한다. Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the optical filter which concerns on this invention forms the film | membrane on at least one of the both main surfaces by grinding | polishing both main surfaces of a base, and the direction which penetrates the both main surfaces of the base. A method of manufacturing an optical filter that transmits light in a light, comprising: a bending step of bending the substrate from the other main surface to one main surface thereof in a thickness direction, and a first side film formed on the one main surface after the bending step It has a three film | membrane formation process, At the said bending process, when grind | polishing the said main surface of the said base body, the said main surface is curved using the grinding | polishing machine which has a grinding | polishing surface formed in the curved surface.

본 발명에 의하면, 상기 만곡공정과 상기 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 상기 양주면을 연마할 때에 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기를 사용해서 상기 양주면을 만곡시키므로, 빛의 투과율을 유지함과 아울러, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. 또, 상기 만곡공정에서는 상기 기체의 상기 양주면을 연마할 때에 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기를 사용해서 상기 양주면을 만곡시키므로, 상기 기체의 양주면을 연마하는 공정에 있어서의 공정수를 늘리는 일 없이 상기 기체의 양주면을 만곡시킬 수 있게 되어, 제조 비용을 억제할 수 있게 된다. According to the present invention, the curvature has a curved process and a third film forming process, and in the curvature process, the both main surfaces are curved by using a polishing machine having a curved surface formed when the both main surfaces of the substrate are polished. In addition to maintaining the light transmittance, it is possible to correct the deformation of the gas generated when the first side film is formed into the gas. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved. Moreover, in the said bending process, when the said main surface of the said base is polished, the said main surface is curved using the grinding | polishing machine which has a grinding | polishing surface formed in the curved surface, so that the number of processes in the process of grinding the main surface of the said base | substrate is increased. It is possible to bend both main surfaces of the gas without work, thereby reducing the manufacturing cost.

또한, 상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 광학 필터의 제조 방법은, 기체의 양주면을 연마 가공해서 상기 양주면의 적어도 한쪽의 위에 막을 형성하고, 상기 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터의 제조 방법에 있어서, 상기 기체를 상기 다른 주면으로부터 한 주면에 걸쳐서 그 두께방향으로 만곡시키는 만곡공정과, 상기 한 주면에 제1측막을 형성하는 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막을 상기 다른 주면에 상기 제3막 형성공정 전에 형성하며, 형성한 후에 상기 응력 보정막을 제거하는 것을 특징으로 한다.Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the optical filter which concerns on this invention forms the film | membrane on at least one of the both main surfaces by grinding | polishing both main surfaces of a base, and the direction which penetrates the both main surfaces of the base. A method of manufacturing an optical filter that transmits light through a light source, comprising: a curved step of bending the substrate from one of the other main surfaces to one of the main surfaces thereof, and a third film forming step of forming a first side film on the one main surface; Wherein, in the bending step, a stress correction film for correcting the stress into the gas generated by the formation of the first side film is formed on the other main surface before the third film forming step, and after the formation, the stress correction film is removed. It features.

본 발명에 의하면, 상기 만곡공정과 상기 제3막 형성공정을 갖고, 상기 만곡공정에서는 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막을 상기 다른 주면에 상기 제3막 형성공정 전에 형성하고, 형성한 후에 상기 응력 보정막을 제거하므로, 상기 기체로의 상기 제1측막의 형성시에 생기는 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 상기 기체의 변형을 보정할 수 있게 되고, 막의 질을 향상시킬 수 있게 된다. 또, 상기 응력 보정막이 제거되므로, 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 방지할 수 있게 된다. 또한, 상기 응력 보정막의 제거는 제3막 형성공정의 전후 중 어느 쪽이어도 된다.According to this invention, it has the said bending process and the said 3rd film | membrane formation process, In the said bending process, the said 3rd film | membrane is provided in the said other main surface by the stress correction film which corrects the stress to the said gas which arises by formation of the said 1st side film | membrane. Since the stress correction film is formed before the forming step and after the formation, the deformation of the gas generated at the time of forming the first side film into the base can be corrected. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, the deformation of the gas can be corrected and the quality of the film can be improved. Moreover, since the said stress correction film is removed, the fall of the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film can be prevented. The removal of the stress correction film may be either before or after the third film forming step.

상기 방법에 있어서, 상기 응력 보정막은 단층으로 형성해도 된다. In the above method, the stress correction film may be formed in a single layer.

이 경우, 상기 응력 보정막은 단층으로 형성되므로, 다층막으로 형성한 경우의 응력 보정막과 비교해서 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있게 된다. 또, 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하기 위해, 단층의 상기 응력 보정막을 형성하므로, 다층막으로 형성한 경우의 응력 보정막과 비교해서 제조 비용을 억제할 수 있게 된다. 또한, 응력 보정막이 단층이므로, 응력 보정막을 형성할 때의 두께 조정이나 제조공정의 관리가 용이해진다. In this case, since the said stress correction film is formed in a single layer, the fall of the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film can be suppressed compared with the stress correction film in the case of forming in a multilayer film. Moreover, since the said stress correction film of a single layer is formed in order to correct the stress to the said gas which arises by formation of the said 1st side film | membrane, manufacturing cost can be held down compared with the stress correction film in the case of forming a multilayer film. . In addition, since the stress correction film is a single layer, it is easy to adjust the thickness and manage the manufacturing process when forming the stress correction film.

상기 방법에 있어서 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 약한 층과, 상기 기체로의 응력이 강한 층을 적층해서 형성해도 된다.In the said method, the said stress correction film may be formed by laminating | stacking the layer with weak stress to the said base material, and the layer with strong stress to the said base material as the same material.

이 경우, 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 약한 층과 상기 기체로의 응력이 강한 층을 적층해서 형성되므로, 단층막으로 형성한 경우의 응력 보정막과 비교해서 상기 응력 보정막의 형성에 의해 반사 방지의 기능을 가질 수 있게 된다. 또, 상기 응력 보정막의 두께를 상기 응력 보정막과 상기 동일재료로 이루어지는 단층막의 두께에 상당하게 설정할 경우 상기한 배경기술에서 서술한 필터와 비교해서 막두께가 얇고, 상기 응력 보정막의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있게 된다. In this case, since the stress correction film is formed by laminating a layer having a weak stress to the substrate and a layer having a strong stress to the substrate as the same material, the stress correction film may be formed in comparison with the stress correction film at the time of forming a single layer film. Formation can have a function of antireflection. Moreover, when setting the thickness of the said stress correction film | membrane corresponded to the thickness of the single-layer film which consists of the said stress correction film and the said same material, compared with the filter mentioned in the background art, a film thickness is thin and the transmittance | permeability by formation of the said stress correction film The fall of can be suppressed.

<발명의 효과>EFFECTS OF THE INVENTION [

본 발명에 따른 광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법에 의하면, 투과율의 저하를 억제함과 아울러, 기체로의 박막의 형성시에 생기는 기체의 변형을 보정할 수 있다. According to the optical filter and the manufacturing method of the optical filter which concern on this invention, while the fall of a transmittance | permeability is suppressed, the deformation | transformation of the gas which arises at the time of formation of the thin film into a gas can be correct | amended.

도 1의 (a), (b), (c)는 본 실시형태1에 따른 광학 필터의 제조공정의 공정도이다.1 (a), (b) and (c) are process charts of the manufacturing process of the optical filter according to the first embodiment.

도 2는 본 실시형태1에 따른 응력 보정막상에 외부부품을 접착한 광학 필터의 개략측면도이다.Fig. 2 is a schematic side view of an optical filter in which external components are adhered on a stress correction film according to the first embodiment.

도 3은 본 실시형태1에 따른 응력 보정막상에 제2측막을 형성한 광학 필터의 개략측면도이다.3 is a schematic side view of an optical filter in which a second side film is formed on the stress correction film according to the first embodiment.

도 4의 (a), (b), (c)는 본 실시형태2에 따른 광학 필터의 제조공정의 공정도이다.4 (a), (b) and (c) are process charts of the manufacturing process of the optical filter according to the second embodiment.

도 5의 (a), (b), (c), (d)는 본 실시형태2의 변형예에 따른 광학 필터의 제조공정의 공정도이다.5 (a), 5 (b), 5 (c) and 5 (d) are process diagrams of the manufacturing process of the optical filter according to the modification of the second embodiment.

도 6의 (a), (b), (c)는 본 실시형태3에 따른 광학 필터의 제조공정의 공정도이다.6 (a), 6 (b) and 6 (c) are process diagrams of the manufacturing process of the optical filter according to the third embodiment.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 광학 필터 2 : 기체1: optical filter 2: gas

3 : 한 주면 4 : 제1측막3: one side surface 4: the first membrane

5 : 다른 주면 6 : 응력 보정막5: other principal surface 6: stress correction film

63 : 기체로의 응력이 약한 층 64 : 기체로의 응력이 강한 층63: layer with weak stress into gas 64: layer with strong stress into gas

7 : 외부부품 8 : 접착제 7: external component 8: adhesive

9 : 제2측막9: second side membrane

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described with reference to drawings.

[실시형태1]Embodiment 1

본 실시형태1에 따른 광학 필터(1)는, 도 1(c)에 나타내는 바와 같이, 기체(2)와, 이 기체(2)의 한 주면(3)에 형성된 박막의 제1측막(4)과, 이 기체(2)의 다른 주면(5)에 형성된 단층의 응력 보정막(6)으로 구성되고, 기체(2)의 양주면(3, 5)을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 것이다.As shown in FIG. 1 (c), the optical filter 1 according to the first embodiment has the base 2 and the first side film 4 of the thin film formed on one main surface 3 of the base 2. And the stress correction film 6 of the single layer formed in the other main surface 5 of the base 2, and transmit light in a direction passing through the two main surfaces 3 and 5 of the base 2.

기체(2)에는 수정 복굴절판이 사용되고, 그 두께가 0.3T이다. 본 실시형태에서 사용하는 기체(2)의 굴절율은 1.54이다. The quartz birefringence plate is used for the base 2, and the thickness is 0.3T. The refractive index of the substrate 2 used in the present embodiment is 1.54.

제1측막(4)에는 적외선 커트 코트가 사용되고 있다. 이 제1측막(4)은 기체(2)측으로부터 TiO2와 SiO2가 교대로 순서대로 적층하여 이루어진다. An infrared cut coat is used for the first side film 4. The first side film 4 is formed by alternately stacking TiO 2 and SiO 2 from the base 2 side.

응력보정막(6)은 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 것이고, 재료에 SiO2가 사용되고 있다. 본 실시형태에서 사용되는 SiO2의 굴절율은 1.46이고, 기체(2)의 굴절율에 근사하다. 또, 응력 보정막의 두께는 파장λ의 2/4의 정수 n배(2/4?nλ)로 설정된다.The stress correction film 6 corrects the stress to the base 2 caused by the formation of the first side film 4, and SiO 2 is used as the material. The refractive index of SiO 2 used in the present embodiment is 1.46, which is close to the refractive index of the base 2. The thickness of the stress correction film is set to an integer n times (2/4? Nλ) of 2/4 of the wavelength?.

상기한 구성으로 이루어지는 광학 필터(1)의 제조공정을 도 1을 사용하여 이하에 설명한다. 또, 이 제조공정에 있어서의 막형성에는 이온 어시스트 방식의 증착법이 이용된다.The manufacturing process of the optical filter 1 which consists of said structure is demonstrated below using FIG. In addition, the ion assist vapor deposition method is used for film formation in this manufacturing process.

우선, 기체(2)의 양주면(3, 5)이 연마기(도시생략)를 사용해서 연마 가공된다(도 1(a) 참조).First, both main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished using a grinder (not shown) (see Fig. 1 (a)).

기체(2)의 양주면(3, 5)이 연마되면 기체(2)의 한 주면(3)에 증착법을 이용해서 제1측막(4)이 증착 형성된다(본 발명에서 말하는 제1막 형성공정). 또, 막의 증착형성시 이온이 한 주면에 사출되어서 증착 형성되는 제1측막에 의해 한 주면(3)에 응력이 가해지고, 한 주면(3)의 대향하는 단변(端邊)(31)이 다른 주면측의 방향으로 변형된다(도 1(b) 참조).When both main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished, the first side film 4 is formed by vapor deposition on one main surface 3 of the base 2 (the first film forming step of the present invention). ). In addition, during the deposition formation of the film, ions are injected to one main surface, and a stress is applied to the one main surface 3 by the first side film formed by deposition, and the opposite short sides 31 of the main surface 3 are different from each other. It deform | transforms in the direction of the principal surface side (refer FIG. 1 (b)).

제1막 형성공정 후에 한 주면(3)으로의 제1측막(4)의 형성에 의한 변형량에 기초해서 다른 주면(5)으로의 응력 보정막(6)의 증착량이 설정된다. 그리고, 도 1(c)에 나타내는 바와 같이, 증착법을 이용해서 응력 보정막(6)이 다른 주면(5)에 증착 형성되고(본 발명에서 말하는 제2막 형성공정), 한 주면(3)으로의 제1측막(4)의 형성에 의한 변형이 보정되어서 광학 필터(1)가 제조된다.After the first film forming step, the amount of deposition of the stress correction film 6 on the other main surface 5 is set based on the amount of deformation caused by the formation of the first side film 4 on the one main surface 3. As shown in Fig. 1 (c), the stress correction film 6 is deposited on the other main surface 5 by the vapor deposition method (second film formation step according to the present invention) to one main surface 3. The deformation caused by the formation of the first side film 4 is corrected to produce the optical filter 1.

상기한 바와 같이, 본 실시형태1에 따른 광학 필터(1)에 의하면, 기체(2)의 한 주면(3)에 제1측막(4)이 형성되고, 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 단층의 응력 보정막(6)이 다른 주면(5)에 형성되므로, 기체(2)로의 제1측막(4)의 형성시에 생기는 기체의 변형을 보정할 수 있다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우라도 기체(2)의 변형을 보정할 수 있고, 막의 질을 향상시킬 수 있다. 또, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가굴절막 유닛과 비교해서 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있다. As described above, according to the optical filter 1 according to the first embodiment, the first side film 4 is formed on one main surface 3 of the base 2, and the first side film 4 is formed. Since the single layer stress correction film 6 for correcting the stress to the substrate 2 is formed on the other main surface 5, the deformation of the gas generated at the time of forming the first side film 4 to the substrate 2 can be corrected. Can be. For example, even when a film with a strong stress is formed using an ion assist deposition method, deformation of the base 2 can be corrected, and the quality of the film can be improved. Moreover, the fall of the transmittance | permeability by formation of the stress correction film 6 can be suppressed compared with the equivalent refractive film unit of the filter mentioned in the background art mentioned above.

또한, 제1측막(4)의 형성에 의해 기체(2)에 생기는 변형에 기초해서 이 변형을 보정하기 위해 단층의 응력 보정막(6)을 형성하므로, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛과 비교하여 제조 비용을 억제할 수 있다. In addition, since the stress correction film 6 of a single layer is formed in order to correct this deformation | transformation based on the deformation | transformation which arises in the base | substrate 2 by formation of the 1st side film | membrane 4, it is equivalent to the filter mentioned in the background art mentioned above. The manufacturing cost can be suppressed as compared with the refractive film unit.

또한, 응력 보정막(6)의 굴절율이 기체(2)의 굴절율에 근사하므로, 기체(2)와의 경계면(61)에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있다. 예를 들면, 본실시형태1에 나타내는 바와 같이, 기체(2)에 수정을 사용한 경우 응력 보정막(6)에 SiO2를 사용하는 것이 바람직하고, 이 경우, 응력 보정막(6)의 응력이 강하고, 응력 보정 막(6)의 두께를 얇게 할 수 있다. 그 때문에, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛과 비교해서 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있다. In addition, since the refractive index of the stress correction film 6 is close to the refractive index of the base 2, the reflection of light on the interface 61 with the base 2 can be suppressed. For example, as shown in this Embodiment 1, when crystal | crystallization is used for the base body 2 , it is preferable to use SiO2 for the stress correction film 6, In this case, the stress of the stress correction film 6 It is strong and the thickness of the stress correction film 6 can be made thin. Therefore, the fall of the transmittance | permeability by formation of the stress correction film 6 can be suppressed compared with the equivalent refractive film unit of the filter mentioned in the background art mentioned above.

또한, 응력 보정막(6)의 두께는 2/4λ의 정수배로 설정되므로, 응력 보정막(6)의 기체(2)와의 경계면(61)에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있다. In addition, since the thickness of the stress correction film 6 is set to an integer multiple of 2/4 lambda, reflection of light on the interface 61 with the base 2 of the stress correction film 6 can be suppressed.

또한, 상기한 바와 같이 본 실시형태에 따른 광학 필터(1)의 제조 방법에 의하면, 제1막 형성공정과 제2막 형성공정을 가지므로 기체(2)로의 제1측막(4)의 형성시에 생기는 기체(2)의 변형을 보정할 수 있다. 또, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛과 비교해서 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하기 위해 단층의 응력 보정막(6)을 형성하므로 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛과 비교하여 제조 비용을 억제할 수 있다. 또, 응력 보정막(6)이 단층이므로 응력 보정막(6)을 형성할 때의 두께 조정이나 제조공정의 관리가 용이해진다. In addition, as described above, according to the manufacturing method of the optical filter 1 according to the present embodiment, since the first film forming step and the second film forming step are performed, the formation of the first side film 4 into the base 2 is performed. The deformation | transformation of the base body 2 which arises in can be correct | amended. Moreover, the fall of the transmittance | permeability by formation of the stress correction film 6 can be suppressed compared with the equivalent refractive film unit of the filter mentioned in the background art mentioned above. In addition, since a single layer stress correction film 6 is formed in order to correct the stress to the substrate 2 caused by the formation of the first side film 4, compared with the equivalent refractive film unit of the filter described in the background art. Manufacturing cost can be held down. Moreover, since the stress correction film 6 is a single layer, the thickness adjustment and the manufacturing process management at the time of forming the stress correction film 6 become easy.

또한, 본 실시형태1에서는 기체로서 수정을 사용하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 투명의 기체이면 다른 재료를 사용해도 된다. In addition, although crystal is used as a gas in this Embodiment 1, if it is not limited to this and it is a transparent gas, you may use another material.

또한, 본 실시형태1에서는 광학 필터로서 로우패스 필터를 사용하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 다른 광학특성을 얻기 위한 광학 필터여도 좋고, 예를 들면 위상판(位相板)이어도 된다. 광학 필터를 위상판으로서 사용할 경우 광학 필터(1)에 형성되는 제1측막(4)에는 반사 방지 코트가 이용된다.In addition, although the low pass filter is used as an optical filter in this Embodiment 1, it is not limited to this, The optical filter for obtaining another optical characteristic may be sufficient, for example, a phase plate may be sufficient. When using an optical filter as a phase plate, the anti-reflective coat is used for the 1st side film | membrane 4 formed in the optical filter 1.

또한, 본 실시형태1에서는 제1측막(4)에 적외선 커트 코트(cut coat)를 이용하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 적외선 커트 코트 등의 다른 색 보정 코트를 이용해도 된다. 또, 색 보정 코트 뿐만 아니라 반사 방지 코트 등의 다른 용도의 코트를 이용해도 된다.In addition, although the infrared cut coat is used for the 1st side film 4 in this Embodiment 1, it is not limited to this, You may use other color correction coats, such as an infrared cut coat. Moreover, you may use not only a color correction coat but a coat of other uses, such as an anti-reflective coat.

또한, 본 실시형태1에서는 응력 보정막(6)에 SiO2를 사용하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 응력이 강한 재료이면 좋고, 예를 들면 Al2O3 등을 사용해도 된다.In the embodiment 1, but using the SiO 2 in the stress compensation layer (6), may not be construed as being limited thereto, a strong stress is material, for example, may be used, such as Al 2 O 3.

또한, 본 실시형태1에서는 이온 어시스트를 사용한 증착법을 이용하고 있지만, 이것은 바람직한 예이며, 이것에 한정되는 것은 아니다. 그 때문에, 다른 증착법, 예를 들면 전자빔을 사용한 증착법이나 스퍼터링법 등이어도 된다.In addition, although the vapor deposition method using the ion assist is used in this Embodiment 1, this is a preferable example and is not limited to this. Therefore, another vapor deposition method, for example, the vapor deposition method using the electron beam, the sputtering method, etc. may be sufficient.

또한, 본 실시형태1에서는 제1막 형성공정 후에 제2막 형성공정을 행하고 있지만, 제2막 형성공정 후에 제1막 형성공정을 행해도 된다. 이 경우, 한 주면(3)으로의 제1측막(4)의 형성에 의한 변형량을 산출하여 설정해 두고, 이 설정된 변형량에 대한 다른 주면(5)으로의 응력 보정막(6)의 증착량을 설정한다.In the first embodiment, the second film forming step is performed after the first film forming step, but the first film forming step may be performed after the second film forming step. In this case, the amount of deformation due to the formation of the first side film 4 on one main surface 3 is calculated and set, and the amount of deposition of the stress correction film 6 on the other main surface 5 with respect to the set amount of deformation is set. do.

또한, 본 실시형태1에서는 도 1(b)에 나타내는 바와 같은 기체(2)의 변형이 생기지만, 이것은 막의 재료에 의해 가변되는 것이고, 재료 및 조건에 따라서는 기체(2)의 변형이 도 1(b)와는 역방향으로 되는 경우도 있다. In addition, in this Embodiment 1, deformation | transformation of the base body 2 as shown in FIG.1 (b) arises, but this changes with the material of a film | membrane, and deformation | transformation of the base material 2 depends on material and conditions. It may be reverse to (b).

또한, 본 실시형태1에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)에 각각 제1측막(4)과 응력 보정막(6)이 형성되어서 광학 필터(1)가 구성되어 있지만, 이것에 한정되는 것 이 아니라, 예를 들면 도 2에 나타내는 바와 같이, 응력 보정막(6)상에 외부부품(7)이 접착되어도 된다. In addition, although the 1st side film | membrane 4 and the stress correction film | membrane 6 are formed in the two main surfaces 3 and 5 of the base | substrate 2 in this Embodiment 1, the optical filter 1 is comprised, but it is limited to this. Instead, the external component 7 may be adhered to the stress correction film 6 as shown in FIG. 2, for example.

도 2에 나타내는 외부부품(7)으로서 광학 필터(1)를 구비하는 전자기기(예를 들면, 촬상기기 등)에 구비된 전자부품이나, 다른 특성의 광학 필터 등의 광학소자 등이 사용된다.As the external component 7 shown in FIG. 2, an electronic component provided in an electronic device (for example, an imaging device, etc.) provided with the optical filter 1, optical elements such as an optical filter having different characteristics, and the like are used.

또한, 외부부품(7)은 접착제(8)를 통해서 응력 보정막(6) 상에 접착되어 있다. 여기서 사용되는 접착제(8)의 굴절율은 1.50이고, 응력 보정막(6)의 굴절율에 근사하며, 기체(2)와 응력 보정막(6)의 중간값으로 설정하는 것이 바람직하다.In addition, the external component 7 is adhered on the stress correction film 6 through the adhesive 8. The refractive index of the adhesive agent 8 used here is 1.50, and is approximated to the refractive index of the stress correction film 6, and it is preferable to set it as the intermediate value of the base 2 and the stress correction film 6. As shown in FIG.

도 2에 나타내는 광학 필터(1)에 의하면 단층의 응력 보정막(6)상에 외부부품(7)이 접착되었으므로, 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛상에 외부부품(7)이 설치된 경우와 비교해서 접착면(62)에서의 기체의 변형을 억제할 수 있다. 또, 응력 보정막(6)은 접착면(62)에 있어서의 빛의 반사를 억제할 수 있으므로, 본 실시형태1에 나타내는 투과형 광학 필터(1)에 있어서 응력 보정막(6)상에 외부부품(7)이 접착되는 것은 바람직하다. According to the optical filter 1 shown in FIG. 2, since the external component 7 is adhered on the stress correction film 6 of a single layer, the external component 7 is mounted on the equivalent refractive film unit of the filter described in the background art. Compared with the case where this is provided, deformation of the gas on the bonding surface 62 can be suppressed. In addition, since the stress correction film 6 can suppress the reflection of light on the bonding surface 62, the external component is placed on the stress correction film 6 in the transmission type optical filter 1 according to the first embodiment. It is preferable that (7) is adhere | attached.

또한, 도 2에 나타내는 광학 필터(1)에 의하면 외부부품(7)은 응력 보정막(6)의 굴절율에 근사한 접착제(8)를 통해서 응력 보정막(6)상에 접착되었으므로, 외부부품(7)과의 접착면(62)에 있어서의 빛의 투과율의 저하를 억제하는 것에 바람직하다. Moreover, according to the optical filter 1 shown in FIG. 2, since the external component 7 was adhere | attached on the stress correction film 6 via the adhesive agent 8 approximating the refractive index of the stress correction film 6, the external component 7 It is preferable to suppress the fall of the transmittance | permeability of the light in the adhesive surface 62 with).

또한, 상기한 다른 본 실시형태에서는 응력 보정막(6)상에 외부부품(7)을 접착하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라, 도 3에 나타내는 바와 같이, 응력 보정막(6)상에 다른 특성의 박막(이하, 본 발명에서 말하는 제2측막(9)으로 함)이 형성되어도 된다.In addition, although the external component 7 is adhere | attached on the stress correction film 6 in another above-mentioned embodiment, it is not limited to this, As shown in FIG. A thin film (hereinafter referred to as the second side film 9 according to the present invention) may be formed.

도 3에 나타내는 제2측막(9)으로서 응력 보정막(6)측으로부터 예를 들면 Al2O3, ZrO2, MgF2가 순서대로 적층해서 이루어지는 반사 방지막이 사용된다. As the second side film 9 shown in FIG. 3, an antireflection film formed by laminating, for example, Al 2 O 3 , ZrO 2 , and MgF 2 from the stress correction film 6 side is used.

도 3에 나타내는 광학 필터(1)에 의하면 응력 보정막(6)상에 제2측막(9)이 형성되므로, 응력 보정막(6)이 기체(2)와 제2측막(9)에 끼워진 상태로 형성되고, 응력 보정막(6)에 의해 각각의 막경계면(61, 91)에 있어서의 빛의 반사가 억제된다. 그 때문에, 본 실시형태1에 나타내는 바와 같이, 투과형 광학 필터(1)에 있어서 응력 보정막(6)상에 제2측막(9)이 형성되는 것은 바람직하다. 예를 들면, 제1측막상에 외부부품이 접착되는 경우와 비교해서 접착면에 있어서의 빛의 투과율의 저하를 억제하는 것에 바람직하다. According to the optical filter 1 shown in FIG. 3, since the 2nd side film | membrane 9 is formed on the stress correction film 6, the state of the stress correction film 6 was sandwiched between the base | substrate 2 and the 2nd side film | membrane 9 The reflection of light in each of the film boundary surfaces 61 and 91 is suppressed by the stress correction film 6. Therefore, as shown in this Embodiment 1, it is preferable that the 2nd side film 9 is formed on the stress correction film 6 in the transmissive optical filter 1. For example, it is preferable to suppress the fall of the transmittance | permeability of the light in an adhesion surface compared with the case where an external component adheres on a 1st side film | membrane.

[실시형태2]Embodiment 2

본 실시형태2에 따른 광학 필터는 상기한 실시형태1에 따른 광학 필터(1)와 동일한 구성으로 이루어진다. 그러나 광학 필터의 제조 방법이 다르다. 그 때문에, 광학 필터의 각 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략한다. 또, 실시형태1과는 다른 작용효과에 대해서 설명하고, 동일한 작용효과에 대해서는 그 설명을 생략한다.The optical filter according to the second embodiment has the same configuration as the optical filter 1 according to the first embodiment. However, the manufacturing method of an optical filter is different. Therefore, the same code | symbol is attached | subjected about each structure of an optical filter, and the description is abbreviate | omitted. In addition, the effect different from Embodiment 1 is demonstrated, and the description is abbreviate | omitted about the same effect.

본 실시형태2에 따른 광학 필터(1)는 도 4(c)에 나타내는 바와 같이, 기체(2)와, 그 기체(2)의 한 주면(3)에 형성된 박막의 제1측막(4)으로 구성된다.As shown in FIG. 4C, the optical filter 1 according to the second embodiment includes the base 2 and the first side film 4 of the thin film formed on one main surface 3 of the base 2. It is composed.

이어서, 이 광학 필터(1)의 제조공정을 도 4를 사용해서 이하에 설명한다. 또, 이 제조공정에 있어서의 막형성에는 이온 어시스트 방식의 증착법이 사용된다.Next, the manufacturing process of this optical filter 1 is demonstrated below using FIG. Moreover, the ion assist vapor deposition method is used for film formation in this manufacturing process.

우선, 도 4(a)에 나타내는 기체(2)의 양주면(3, 5)이 연마기(도시생략)를 사용해서 연마 가공된다. 이 연마가공에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마할 때에 각 주면(3, 5)에 따라 마찰계수를 가변시키고 있다. 그 때문에, 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 기체(2)가 다른 주면(5)으로부터 한 주면(3)에 걸쳐서 그 두께방향으로 만곡된다(본 발명에서 말하는 만곡공정). 또한, 이 만곡공정에 있어서의 만곡량은 하기하는 제3막 형성공정에 있어서의 한 주면(3)에 제1측막(4)이 형성됨에 따른 변형량에 기초하여 설정된다. First, both main surfaces 3 and 5 of the base 2 shown in FIG. 4A are polished using a grinder (not shown). In this polishing, the friction coefficient is varied in accordance with each of the main surfaces 3 and 5 when the main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished. Therefore, as shown in FIG.4 (b), the base | substrate 2 curves in the thickness direction from one main surface 5 to another main surface 3 (bending process referred to in this invention). In addition, the curvature amount in this curvature process is set based on the deformation amount by which the 1st side film | membrane 4 is formed in one main surface 3 in the 3rd film formation process mentioned below.

만곡공정 후에 기체(2)의 한 주면(3)에 증착법을 이용해서 제1측막(4)이 증착 형성되어(본 발명에서 말하는 제3막 형성공정), 기체(2)의 변형이 보정되어서 양주면(3, 5)이 평탄하게 형성되고, 도 4(c)에 나타내는 광학 필터(1)가 제조된다.After the bending step, the first side film 4 is deposited on one main surface 3 of the base 2 by the vapor deposition method (the third film forming step according to the present invention), and the deformation of the base 2 is corrected so that both The main surfaces 3 and 5 are formed flat, and the optical filter 1 shown to FIG. 4 (c) is manufactured.

상기한 바와 같이, 본 실시형태2에 따른 광학 필터(1) 및 광학 필터(1)의 제조 방법에 의하면, 기체(2)로의 제1측막(4)의 형성시에 생기는 기체(2)의 변형을 보정할 수 있다. 예를 들면, 이온 어시스트 방식의 증착법을 이용해서 응력이 강한 막형성을 행한 경우여도 기체(2)의 변형을 보정할 수 있고, 막의 질을 향상시킬 수 있다. 또, 상기한 실시형태1과 같은 응력 보정막(6)을 사용하지 않으므로, 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 방지할 수 있다.As mentioned above, according to the manufacturing method of the optical filter 1 and the optical filter 1 which concerns on this Embodiment 2, the deformation | transformation of the base body 2 which arises at the time of formation of the 1st side film 4 to the base body 2 Can be corrected. For example, even in the case where a film with a strong stress is formed by using an ion assist deposition method, the deformation of the base 2 can be corrected and the quality of the film can be improved. In addition, since the same stress correction film 6 as that of Embodiment 1 is not used, a decrease in transmittance due to formation of the stress correction film 6 can be prevented.

또한, 본 실시형태2에 따른 광학 필터(1)의 제조 방법에 의하면, 만곡공정과 제3막 형성공정을 갖고, 만곡공정에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마할 때에 각 주면(3, 5)에 따라 마찰계수를 가변시키므로 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마하는 공정에 있어서의 공정수가 늘어나지만, 전체로서의 제조공정을 늘리는 일 없이 기체(2)를 만곡시킬 수 있어 제조 비용을 억제할 수 있다.Moreover, according to the manufacturing method of the optical filter 1 which concerns on this Embodiment 2, it has a curvature process and a 3rd film formation process, and in a curvature process, when grinding both main surfaces 3 and 5 of the base body 2, Since the coefficient of friction is varied according to the main surfaces 3 and 5, the number of steps in the step of polishing both main surfaces 3 and 5 of the base 2 increases, but the base 2 is not increased without increasing the manufacturing process as a whole. It can be curved and manufacturing cost can be held down.

또한, 본 실시형태2의 만곡공정에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마할 때에 각 주면(3, 5)에 따라 마찰계수를 가변시키지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 하기하는 다른 형태여도 된다.In the bending step of the second embodiment, the friction coefficient is varied depending on each of the main surfaces 3 and 5 when the main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished, but the present invention is not limited thereto. It may be in the form.

다른 본 실시형태의 만곡공정에서는 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기(도시생략)를 사용해서 기체(2)의 양주면(3, 5)의 연마가공을 행하고, 기체(2)의 양주면(3, 5)을 만곡시키는 형상으로 형성한다.In the other bending process of this embodiment, the both main surfaces 3 and 5 of the base body 2 are polished using a grinding machine (not shown) having a curved surface formed into a curved surface, and the main surfaces 3 of the base body 2 are polished. , 5) is formed in a shape of bending.

이 다른 형태에 따른 광학 필터(1)의 제조 방법에 의하면, 도 4를 참조해서, 만곡공정과 제3막 형성공정을 갖고, 만곡공정에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마할 때에 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기를 사용해서 양주면(3, 5)을 만곡시키므로, 빛의 투과율을 유지함과 아울러 기체로의 제1측막의 형성시에 생기는 기체의 변형을 보정할 수 있게 된다.According to the manufacturing method of the optical filter 1 which concerns on this another aspect, with reference to FIG. 4, it has a bending process and a 3rd film formation process, and in a bending process, the both main surfaces 3 and 5 of the base body 2 are polished. When the two main surfaces 3 and 5 are curved by using a polishing machine having a polished surface formed as a curved surface, it is possible to maintain the light transmittance and to correct the deformation of the gas generated during formation of the first side film into the substrate. do.

또한, 만곡공정에서는 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마할 때에 곡면으로 형성된 연마면을 갖는 연마기를 사용해서 양주면(3, 5)을 만곡시키므로, 기체(2)의 양주면(3, 5)을 연마하는 공정에 있어서의 공정수를 늘리지 않고 기체(2)의 양주면(3, 5)을 만곡시킬 수 있어 제조 비용을 억제할 수 있다. Further, in the bending step, the two main surfaces 3 and 5 are curved by using a polishing machine having a curved surface formed when polishing both main surfaces 3 and 5 of the base 2, so that both main surfaces of the base 2 are curved. Both main surfaces 3 and 5 of the base body 2 can be curved without increasing the number of steps in the step of polishing (3, 5), and manufacturing cost can be suppressed.

또한, 상기한 다른 형태와 또 다른 형태의 만곡공정에서는 도 5에 나타내는 바와 같이, 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 단층의 응력 보정막(6)을 다른 주면(5)에 제3막 형성공정 전에 형성하고, 형성한 후에 응력 보정막(6)을 제거한다. 또, 응력 보정막(6)의 제거는 제3막 형성공정의 전후 어느 쪽이어도 된다.In addition, in the above-mentioned other form and another form of bending process, as shown in FIG. 5, the single-layer stress correction film 6 for correcting the stress to the base 2 caused by the formation of the first side film 4 is removed. It forms in the other main surface 5 before a 3rd film formation process, and removes the stress correction film 6 after formation. The removal of the stress correction film 6 may be either before or after the third film forming step.

이 또 다른 형태에 따른 광학 필터(1)의 제조 방법에 의하면, 도 5(a)~(d)에 나타내는 바와 같이, 만곡공정과 제3막 형성공정을 갖고, 만곡공정에서는 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 단층의 응력 보정막(6)을 다른 주면(5)에 제3막 형성공정 전에 형성하고, 형성한 후에 응력 보정막(6)을 제거하므로 기체(2)로의 제1측막(4)의 형성시에 생기는 기체(2)의 변형을 보정할 수 있다.According to the manufacturing method of the optical filter 1 which concerns on this another aspect, as shown to FIG. 5 (a)-(d), it has a bending process and a 3rd film formation process, and in a bending process, the 1st side film 4 Is formed on the other main surface 5 before the third film forming step, and the stress correction film 6 is removed after formation. Therefore, the deformation | transformation of the base body 2 which arises at the time of formation of the 1st side film | membrane 4 in the base body 2 can be correct | amended.

또한, 응력 보정막(6)이 제거되므로 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 방지할 수 있다.Moreover, since the stress correction film 6 is removed, the fall of the transmittance | permeability by formation of the stress correction film 6 can be prevented.

또한, 제거하는 응력 보정막(6)은 단층막이므로 상기한 배경기술에서 서술한 필터의 등가 굴절막 유닛과 비교해서 제조 비용을 억제할 수 있다. 또, 응력 보정막(6)을 형성할 때의 두께 조정이나 제조공정의 관리가 용이해진다. 또, 본 실시형태2에서는 응력 보정막(6)을 단층막으로 했지만 이것은 제조 비용을 삭감하는 바람직한 예이다. 그러나, 이것에 한정되는 것이 아니라 응력 보정막이 제거되므로 응력 보정막이 다층막이어도 된다. Moreover, since the stress correction film 6 to remove is a single | mono layer film, manufacturing cost can be held down compared with the equivalent refractive film unit of the filter mentioned in the background art mentioned above. Moreover, the thickness adjustment at the time of forming the stress correction film 6, and management of a manufacturing process become easy. In addition, although the stress correction film 6 was made into a single | mono layer film in this Embodiment 2, this is a preferable example of reducing manufacturing cost. However, the present invention is not limited thereto, but the stress correction film is removed, so that the stress correction film may be a multilayer film.

이어서, 응력 보정막(6)이 다층막인 실시형태를 이하에 나타낸다.Next, embodiment which the stress correction film 6 is a multilayer film is shown below.

[실시형태3]Embodiment 3

본 실시형태3에 따른 광학 필터는 상기한 실시형태1에 따른 광학 필터(1)와 응력 보정막(6)이 다를 뿐이며, 다른 구성은 동일한 구성으로 이루어진다. 그 때문에, 본 실시형태3에서는 광학 필터의 동일구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략한다. 또, 실시형태1과는 다른 작용효과에 대해서 설명하고, 동일한 작용효과 및 변형예에 대해서는 그 설명을 생략한다.In the optical filter according to the third embodiment, the optical filter 1 and the stress correction film 6 according to the first embodiment are different from each other, and other configurations have the same configuration. Therefore, in Embodiment 3, the same code | symbol is attached | subjected about the same structure of an optical filter, and the description is abbreviate | omitted. In addition, the effect different from Embodiment 1 is demonstrated, and the description is abbreviate | omitted about the same effect and modified example.

본 실시형태3에 따른 광학 필터(1)는, 도 6(c)에 나타내는 바와 같이, 기체(2)와, 그 기체(2)의 한 주면(3)에 형성된 박막의 제1측막(4)과, 이 기체(2)의 다른 주면(5)에 형성된 응력 보정막(6)으로 구성되고, 기체(2)의 양주면(3, 5)을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 것이다.As shown in FIG. 6C, the optical filter 1 according to the third embodiment includes the base 2 and the first side film 4 of the thin film formed on one main surface 3 of the base 2. And the stress correction film 6 formed on the other main surface 5 of the base 2 to transmit light in a direction penetrating both main surfaces 3 and 5 of the base 2.

응력보정막(6)은 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 것이고, 재료에 SiO2가 사용되고 있다. 본 실시형태에서 사용되는 SiO2의 굴절율은 1.46이고, 기체(2)의 굴절율에 근사하다. 또, 응력 보정막의 두께는 파장λ의 2/4의 정수 n배(2/4?nλ)로 설정된다.The stress correction film 6 corrects the stress to the base 2 caused by the formation of the first side film 4, and SiO 2 is used as the material. The refractive index of SiO 2 used in the present embodiment is 1.46, which is close to the refractive index of the base 2. The thickness of the stress correction film is set to an integer n times (2/4? Nλ) of 2/4 of the wavelength?.

또한, 이 응력 보정막(6)은 기체(2)로의 응력이 그 두께방향을 따라서 가변되는 다층막이다. 즉, 응력 보정막(6)은 기체(2)로의 응력이 약한 층(63)과 기체(2)로의 응력이 강한 층(64)이 적층되어 형성된다. 또, 응력 보정막(6)의 두께는 본 실시형태(1)에 따른 단층의 응력 보정막(6)의 두께에 상당하게 설정되어 있다.Moreover, this stress correction film 6 is a multilayer film in which the stress to the base 2 varies along the thickness direction thereof. That is, the stress correction film 6 is formed by laminating a layer 63 having a weak stress to the base 2 and a layer 64 having a strong stress to the base 2. In addition, the thickness of the stress correction film 6 is set to correspond to the thickness of the stress correction film 6 of the single layer which concerns on this embodiment (1).

상기한 구성으로 이루어지는 광학 필터(1)의 제조공정을 도 6을 사용해서 이하에 설명한다. 또, 이 제조공정에 있어서의 막형성에는 이온 어시스트 방식의 증착법 및 열증착법이 이용된다.The manufacturing process of the optical filter 1 which consists of said structure is demonstrated below using FIG. Moreover, the ion assist vapor deposition method and the thermal vapor deposition method are used for film formation in this manufacturing process.

우선, 기체(2)의 양주면(3, 5)이 연마기(도시생략)를 사용해서 연마 가공된다(도 6(a) 참조).First, both main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished using a grinder (not shown) (see Fig. 6 (a)).

기체(2)의 양주면(3, 5)이 연마되면 기체(2)의 한 주면(3)에 증착법을 이용해서 제1측막(4)이 증착 형성된다(본 발명에서 말하는 제1막 형성공정). 또, 막의 증착형성시 이온이 한 주면에 사출되어서 증착 형성되는 제1측막에 의해 한 주면(3)에 응력이 가해지고, 한 주면(3)의 대향하는 단변(31)이 다른 주면측의 방향으로 변형된다(도 6(b) 참조).When both main surfaces 3 and 5 of the base 2 are polished, the first side film 4 is formed by vapor deposition on one main surface 3 of the base 2 (the first film forming step of the present invention). ). In addition, stress is applied to one main surface 3 by a first side film in which ions are injected into one main surface by vapor deposition during deposition of the film, and the opposite side 31 of one main surface 3 faces the other main surface side. (See Fig. 6 (b)).

제1막 형성공정 후에 한 주면(3)으로의 제1측막(4)의 형성에 의한 변형량에 기초하여 다른 주면(5)으로의 응력 보정막(6)의 증착량이 설정된다. 본 제조공정에서는 우선 에너지가 강한 이온 어시스트 방식의 증착법과 에너지가 약한 열증착법에 의해서 응력 보정막(6)의 증착량의 목표가 되는 응력 보정막(6)의 두께를 최소한의 두께가 되도록 조정한다. 즉, 응력 보정막(6)의 기체(2)로의 응력을 기체(2)에 따른 증착에 관한 에너지를 가변시킴으로써 조정한다.After the first film forming step, the amount of deposition of the stress correction film 6 on the other main surface 5 is set based on the amount of deformation caused by the formation of the first side film 4 on one main surface 3. In this manufacturing process, first, the thickness of the stress correction film 6, which is the target of the deposition amount of the stress correction film 6, is adjusted to a minimum thickness by an energy assisted ion deposition method and a low energy thermal vapor deposition method. That is, the stress to the base | substrate 2 of the stress correction film 6 is adjusted by changing the energy regarding vapor deposition which concerns on the base | substrate 2.

도 6(c)에 나타내는 바와 같이, 증착법을 이용해서 응력 보정막(6) 중 기체(2)로의 응력이 강한 층(64)이 이온 어시스트에 의해 다른 주면(5)에 형성되고, 그 후에, 열증착에 의해서만 기체(2)로의 응력이 약한 층(63)이 기체(2)로의 응력이 강한 층(64)상에 증착 형성되며(본 발명에서 말하는 제2막 형성공정), 한 주면(3)으로의 제1측막(4)의 형성에 의한 변형이 보정되어서 광학 필터(1)가 제조된다. As shown in Fig. 6 (c), a layer 64 having a strong stress on the substrate 2 in the stress correction film 6 is formed on the other main surface 5 by ion assist, using the vapor deposition method. The layer 63 with a weak stress to the substrate 2 is deposited and deposited on the layer 64 with a strong stress to the substrate 2 only by thermal deposition (second film forming process in the present invention). The distortion caused by the formation of the first side film 4 into the) is corrected to produce the optical filter 1.

상기한 바와 같이, 본 실시형태(3)에 따른 광학 필터(1)에 의하면, 응력 보정막(6)이 동일재료의 SiO2로서 기체(2)로의 응력이 약한 층(63)과 기체(2)로의 응력이 강한 층(64)을 적층해서 형성되고, 응력 보정막(6)의 두께는 본 실시형태1에 따른 단층의 응력 보정막(6)의 두께에 상당하게 설정되므로, 단층막으로 형성된 경우의 응력 보정막(6)과 비교해서 응력 보정막(6)의 형성에 의해 반사 방지의 기능을 가질 수 있다. 또한, 응력 보정막(6)의 두께를 본 실시형태1에 따른 단층의 응력 보정막(6)의 두께에 상당하게 설정할 수 있으므로, 상기한 배경기술에서 서술한 필터와 비교해서 막두께가 얇고, 응력 보정막(6)의 형성에 의한 투과율의 저하를 억제할 수 있다. 또, 상기한 본 실시형태1에 따른 광학 필터(1)와 동일한 구성요건을 가지므로, 예를 들면 기체(2)의 한 주면(3)에 제1측막(4)이 형성되고, 제1측막(4)의 형성에 의해 생기는 기체(2)로의 응력을 보정하는 단층의 응력 보정막(6)이 다른 주면(5)에 형성되므로, 기체(2)로의 제1측막(4)의 형성시에 생기는 기체(2)의 변형을 보정할 수 있다. As described above, according to the optical filter 1 according to the present embodiment (3), the layer 63 and the substrate 2 in which the stress correction film 6 is weakly stressed to the substrate 2 as SiO 2 of the same material. ) Is formed by laminating a strong layer 64 with a high stress to the stress layer, and the thickness of the stress correction film 6 is set to correspond to the thickness of the stress correction film 6 of the single layer according to the first embodiment. Compared with the stress correction film 6 in the case, the formation of the stress correction film 6 can have a function of antireflection. In addition, since the thickness of the stress correction film 6 can be set to correspond to the thickness of the stress correction film 6 of the single layer according to the first embodiment, the film thickness is thin as compared with the filter described in the above-described background art, The fall of the transmittance | permeability by formation of the stress correction film 6 can be suppressed. Moreover, since it has the same structure requirements as the optical filter 1 which concerns on this Embodiment 1 mentioned above, the 1st side film | membrane 4 is formed in one main surface 3 of the base | substrate 2, for example, and the 1st side film | membrane is carried out. Since the single-layer stress correction film 6 for correcting the stress to the substrate 2 caused by the formation of the (4) is formed on the other main surface 5, at the time of forming the first side film 4 to the substrate 2, The deformation | transformation of the gas 2 which arises can be correct | amended.

또한, 본 실시형태에서는 응력 보정막(6)은 기체(2)로의 응력이 약한 층(63)과 기체(2)로의 응력이 강한 층(64)이 적층되어 형성되어 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라 기체(2)로의 응력이 그 두께방향을 따라 가변하는 다층막이면 좋고, 3층이상이어도 좋다. 또, 다층막의 두께를 동일재료로 이루어지는 단층의 응력 보정막(6)의 두께에 상당하게 설정하면 다층막의 층수를 임의로 설정할 수 있다.In addition, in this embodiment, although the stress correction film 6 is formed by laminating | stacking the layer 63 with the weak stress to the base | substrate 2, and the layer 64 with the strong stress to the base | substrate 2, it is limited to this. Instead, the multilayer film in which the stress to the substrate 2 varies in the thickness direction thereof may be used, and three or more layers may be used. When the thickness of the multilayer film is set to correspond to the thickness of the stress correction film 6 of the single layer made of the same material, the number of layers of the multilayer film can be arbitrarily set.

또한, 본 실시형태에서는 제조공정에 있어서의 막형성에 이온 어시스트 방식의 증착법 및 열증착법을 이용하여 이온 어시스트의 유무에 따라 응력 보정막(6)의 기체(2)로의 응력을 기체(2)에 따른 증착에 관한 에너지를 가변시킴으로써 조정하고 있지만, 에너지를 가변시키는 방법이면 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 제조공정에 있어서의 막형성에 이온 어시스트 방식의 증착을 이용하여 이온의 출력을 조정함으로써 응력 보정막(6)의 기체(2)로의 응력을 기체(2)에 따른 증착에 관한 에너지를 가변시킴으로써 조정해도 된다.In addition, in this embodiment, the stress of the stress correction film 6 to the base 2 is applied to the base 2 in accordance with the presence or absence of the ion assist using the ion assist deposition method and the thermal evaporation method for the film formation in the manufacturing process. Although it adjusts by changing the energy regarding vapor deposition, if it is a method of changing energy, it is not limited to this. For example, the energy of the deposition of the stress correction film 6 to the substrate 2 by the deposition of the substrate 2 by adjusting the output of the ions by the deposition of the ion assist method for the film formation in the manufacturing process. You may adjust by changing.

또한, 본 발명은 그 정신 또는 주요한 특징으로부터 일탈하는 일 없이 다른 여러 가지 형태로 실시할 수 있다. 그 때문에, 상술의 실시형태는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안된다. In addition, this invention can be implemented in other various forms, without deviating from the mind or main characteristic. Therefore, the above-described embodiments are merely examples in all respects and should not be interpreted limitedly.

광학 필터 및 광학 필터의 제조 방법에 적용할 수 있다. 특히 박형의 광학 필터에 유용하다.It can apply to an optical filter and the manufacturing method of an optical filter. It is especially useful for thin optical filters.

Claims (15)

기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터에 있어서,An optical filter for transmitting light in a direction passing through both main surfaces of the gas, 상기 양주면은 한 주면과 다른 주면으로 구성되고,The main surface is composed of one main surface and the other main surface, 상기 기체의 한 주면에 제1측막이 형성됨으로써 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막이 상기 기체의 상기 다른 주면에 형성되어서 상기 기체가 만곡되고,A stress correction film for correcting the stress to the substrate caused by the formation of a first side film on one main surface of the substrate is formed on the other main surface of the substrate such that the substrate is curved, 상기 기체의 만곡 후에 상기 응력 보정막이 제거됨과 아울러 상기 한 주면에 제1측막이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터.And the stress correction film is removed after the gas is curved, and a first side film is formed on the one main surface. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 응력 보정막은 단층막인 것을 특징으로 하는 광학 필터. The optical filter according to claim 1, wherein the stress correction film is a single layer film. 제1항에 있어서, 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 그 두께방향을 따라 가변하는 다층막인 것을 특징으로 하는 광학 필터.The optical filter according to claim 1, wherein the stress correction film is a same material and is a multilayer film in which the stress to the substrate varies along its thickness direction. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 응력 보정막의 두께는 파장λ의 2/4의 정수배로 설정되는 것을 특징으로 하는 광학 필터.The optical filter according to claim 1, wherein the thickness of the stress correction film is set to an integer multiple of 2/4 of the wavelength lambda. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 기체의 한 주면과 다른 주면으로 구성되는 양주면을 연마 가공해서 상기 양주면의 적어도 한쪽의 위에 막을 형성하고, 상기 기체의 양주면을 관통하는 방향으로 빛을 투과시키는 광학 필터의 제조 방법에 있어서:In the manufacturing method of the optical filter which grinds the main surface which consists of one main surface and another main surface of a base | substrate, forms a film | membrane on at least one of the said main surface, and permeate | transmits a light in the direction which penetrates the main surface of the said base body: 상기 기체를 상기 다른 주면으로부터 한 주면에 걸쳐서 그 두께방향으로 만곡시키는 만곡공정;및A bending step of bending the gas in the thickness direction from the other main surface to one main surface; and 상기 한 주면에 제1측막을 형성하는 제3막 형성공정을 갖고;A third film forming step of forming a first side film on the one main surface; 상기 만곡공정에서는 상기 제1측막의 형성에 의해 생기는 상기 기체로의 응력을 보정하는 응력 보정막을 상기 다른 주면에 상기 제3막 형성공정 전에 형성하고, 형성한 후에 상기 응력 보정막을 제거하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.In the bending step, a stress correction film for correcting the stress into the substrate caused by the formation of the first side film is formed on the other main surface before the third film forming step, and after the formation, the stress correction film is removed. The manufacturing method of the optical filter. 제13항에 있어서, 상기 응력 보정막은 단층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법. The method of manufacturing an optical filter according to claim 13, wherein the stress correction film is formed in a single layer. 제13항에 있어서, 상기 응력 보정막은 동일재료로서 상기 기체로의 응력이 약한 층과 상기 기체로의 응력이 강한 층을 적층해서 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.The method of manufacturing an optical filter according to claim 13, wherein the stress correction film is formed by laminating a layer having a weak stress into the base and a layer having a strong stress into the base as the same material.
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