JPH06186418A - Production of dichroic mirror - Google Patents
Production of dichroic mirrorInfo
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- JPH06186418A JPH06186418A JP19596492A JP19596492A JPH06186418A JP H06186418 A JPH06186418 A JP H06186418A JP 19596492 A JP19596492 A JP 19596492A JP 19596492 A JP19596492 A JP 19596492A JP H06186418 A JPH06186418 A JP H06186418A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はダイクロイックミラーに
係わり、特に投影型液晶表示装置に用いて好適なダイク
ロイックミラーの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dichroic mirror, and more particularly to a method of manufacturing a dichroic mirror suitable for use in a projection type liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図７に示すように、投影型液晶表示装置
において、光源ランプ１からの光をダイクロイックミラ
ーＤ１，Ｄ２によりＲ，Ｇ，Ｂの光に分解して液晶パネ
ルＬ１，Ｌ２，Ｌ３に導き、それらを透過した映像光
を、ダイクロイックミラーＤ３，Ｄ４により合成し、投
影レンズ２を経てスクリーン３上に液晶パネルの画像を
拡大して写し出している。４枚のダイクロイックミラー
Ｄ１〜Ｄ４のうちで、液晶パネルＬ１〜Ｌ３を透過した
後の光を透過または反射するＤ３，Ｄ４は、画像の歪み
に対して大きく影響するため、その平面度が特に重要と
なっている。ダイクロイックミラーの中心付近の視野φ
６０ｍｍの領域をフィゾー干渉計で測定した場合、ニュ
ートンリングが１０本を越えると画像歪みが著しく目立
つようになる。2. Description of the Related Art As shown in FIG. 7, in a projection type liquid crystal display device, light from a light source lamp 1 is split into R, G and B lights by dichroic mirrors D1 and D2 and liquid crystal panels L1, L2 and L3. The image lights transmitted through them are combined by the dichroic mirrors D3 and D4, and the image of the liquid crystal panel is enlarged and projected on the screen 3 through the projection lens 2. Of the four dichroic mirrors D1 to D4, D3 and D4 that transmit or reflect the light after passing through the liquid crystal panels L1 to L3 have a great influence on the distortion of the image, and thus the flatness thereof is particularly important. Has become. Field of view φ near the center of the dichroic mirror
When the area of 60 mm is measured by the Fizeau interferometer, the image distortion becomes remarkable when the number of Newton rings exceeds 10.
【０００３】このようなダイクロイックミラーの基板と
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２ 等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２
等の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。この
ような誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の
付着強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加
熱しながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の
薄膜を、２０層から４０層程度積層する場合もある。White plate glass or the like is used as the substrate of such a dichroic mirror, but it is usually finished by polishing both sides in order to increase the flatness. As a result, a substrate having a flatness of 2 to 3 on the Newton ring is obtained. In order to change the light transmittance for each wavelength on this substrate, it is necessary to stack a thin film of a dielectric material. This method is performed by vacuum deposition or the like in a vacuum or in an atmosphere of a specific gas, and a dielectric thin film having a low refractive index such as SiO2 and TiO2.
And other dielectric thin films having a high refractive index are alternately laminated. When laminating such a dielectric multilayer film by vacuum vapor deposition, the substrate is usually heated to about 300 ° C. while increasing the adhesion strength of the film. In some cases, about 20 to 40 thin films each having a thickness of about 0.15 μm may be laminated.
【０００４】以上のようにして作成されたダイクロイッ
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上に誘電体多層膜を積層する
時に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層
膜の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことに
よると言われている。例えば、ニュートンリングで３本
の面を有する白板ガラスにＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交
互層からなる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロ
イックミラーの場合、平面度がニュートンリングで２０
本程度まで劣化することもある。このようなダイクロイ
ックミラーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３また
はＤ４に用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれて
しまい画質を劣化させる原因となっていた。The dichroic mirror manufactured as described above has a very poor flatness as compared with the substrate before vapor deposition of the film. This is because the thickness of the substrate is usually 1.5 due to the design restrictions of the optical system of the projection type liquid crystal display device.
Since it is as thin as mm or less, it is said that when the dielectric multilayer film is laminated on the substrate, the substrate is heated to about 300 ° C., and the shape of the substrate is changed due to internal stress of the dielectric multilayer film. There is. For example, in the case of a dichroic mirror in which 30 layers of a dielectric multilayer film composed of alternating layers of SiO2 and TiO2 are vapor-deposited on a white plate glass having three surfaces by Newton rings, the flatness is 20 by Newton rings.
It may deteriorate to the extent of this. When such a dichroic mirror is used for the dichroic mirror D3 or D4 shown in FIG. 7, the respective images of R, G, and B are displaced, which causes deterioration of the image quality.
【０００５】従来、このようなダイクロイックミラーの
平面度の劣化を補正する手段として、基板の厚さを例え
ば２ｍｍから３ｍｍ程度に厚くすることで基板の強度を
高め、誘電体多層膜の内部応力によって基板が変形しに
くくするなどの方法が取られていた。Conventionally, as a means for correcting the deterioration of the flatness of such a dichroic mirror, the strength of the substrate is increased by increasing the thickness of the substrate to, for example, about 2 mm to 3 mm, and the internal stress of the dielectric multilayer film is used. The method of making the substrate difficult to deform has been taken.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、投影
型液晶表示装置で使用される液晶パネルを透過した光を
反射または透過させるダイクロイックミラーにおいて、
ダイクロイックミラーの平面度を良好にする手段とし
て、基板の厚さを厚くする方法が適用されており、良好
な平面度を有するダイクロイックミラーが得られてい
る。しかし、ダイクロイックミラーの厚さが厚くなる
と、反射光と透過光の光軸のずれが大きくなるため、こ
のずれを補正する新たな機構を追加する必要があり、投
射型液晶表示装置のコストアップになっていた。As described above, in the dichroic mirror that reflects or transmits the light transmitted through the liquid crystal panel used in the projection type liquid crystal display device,
As a means for improving the flatness of the dichroic mirror, a method of increasing the thickness of the substrate is applied, and a dichroic mirror having good flatness is obtained. However, as the thickness of the dichroic mirror increases, the deviation of the optical axes of the reflected light and the transmitted light increases, so it is necessary to add a new mechanism to correct this deviation, which increases the cost of the projection-type liquid crystal display device. Was becoming.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した従来
の技術の課題を解決するため、誘電体薄膜を基板上に積
層して成るダイクロイックミラーの製造方法において、
前記基板への前記誘電体薄膜の積層後に前記ダイクロイ
ックミラーが平面状になるように、前記基板を湾曲形状
に加工する加工工程を、前記誘電体薄膜を前記基板に積
層する工程の前段に設けたことを特徴とするダイクロイ
ックミラーの製造方法を提供するものである。In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides a method of manufacturing a dichroic mirror comprising a dielectric thin film laminated on a substrate,
A processing step of processing the substrate into a curved shape so that the dichroic mirror becomes flat after the dielectric thin film is laminated on the substrate is provided in a stage before the step of laminating the dielectric thin film on the substrate. The present invention provides a method for manufacturing a dichroic mirror.
【０００８】[0008]
【実施例】本発明は、投影型液晶表示装置で使用される
ダイクロイックミラーの製造方法において、真空蒸着等
によって誘電体多層膜（誘電体薄膜）を形成する基板
（白板ガラス）を研磨加工する際に基板を湾曲形状に仕
上げ、誘電体多層膜が有する圧縮応力あるいは引っ張り
応力の種類に応じて湾曲した基板の凹面側或いは凸面側
に誘電体多層膜を形成することにより、ダイクロイック
ミラーの平面性を良好なものとする製造方法である。The present invention is a method for manufacturing a dichroic mirror used in a projection type liquid crystal display device, in which a substrate (white plate glass) on which a dielectric multilayer film (dielectric thin film) is formed is polished by vacuum deposition or the like. The flatness of the dichroic mirror is improved by finishing the substrate into a curved shape and forming the dielectric multilayer film on the concave or convex side of the curved substrate according to the type of compressive stress or tensile stress of the dielectric multilayer film. This is a good manufacturing method.
【０００９】以下、本発明のダイクロイックミラーの製
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
ンリングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１
１上に、真空蒸着によりＳｉＯ２ 膜とＴｉＯ２ 膜を
交互に積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体
多層膜１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。こ
のダイクロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘと
おく。図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０mmのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図であ
る。A method of manufacturing the dichroic mirror of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a dichroic mirror whose flatness is deteriorated after forming a dielectric multilayer film on a flat substrate. White plate glass with Newton rings having flatness of 2 to 3 1
When the dielectric multilayer film 12 in which the SiO 2 film and the TiO 2 film are alternately laminated is formed on the substrate 1 by vacuum evaporation, the surface side on which the dielectric multilayer film 12 is formed is curved in a convex shape. The displacement of the curve in this dichroic mirror is assumed to be x. FIG. 3 is a diagram showing the results of measuring the flatness of this dichroic mirror with a Fizeau interferometer with a visual field of φ60 mm.
【００１０】図４は湾曲加工した基板の断面模式図であ
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２ とＴｉＯ２ とから成る誘
電体多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層
膜を形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実
施例とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲
基板の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言
うまでもない。FIG. 4 is a schematic sectional view of a curved substrate. The white plate glass 21 is made of the same material and has the same thickness as the white plate glass 11 shown in FIG. The concave side 21a of the white plate glass 21 is ground so that the curved shape is the same as the curved displacement x of the deteriorated dichroic mirror shown in FIG. The concave side 21a of the white glass plate 21
First, the multilayer film is formed under the same conditions as the dielectric multilayer film 12 described above. FIG. 1 is a schematic sectional view of the dichroic mirror thus manufactured. The stress of the white sheet glass 21 and the stress of the dielectric multilayer film 22 are balanced, and as a result, the flatness of the dichroic mirror becomes good. In this embodiment, since the dielectric multilayer film made of SiO 2 and TiO 2 was used, the dielectric multilayer film was formed on the concave surface side of the curved substrate. However, depending on the constituent material of the dielectric multilayer film, stress opposite to that in the embodiment may be applied. Of course, in this case, the dielectric multilayer film may be formed on the convex surface side of the curved substrate.
【００１１】本発明の製造方法により作製されたダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を
２０層積層したものである。このダイクロイックミラー
の平面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した
結果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本
発明の製造方法により作成された別のダイクロイックミ
ラーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８
０ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニ
ュートンリングが１０本程度になるように研磨加工し
て、この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μ
ｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を４０層積層した
ものである。このダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の
間隔は約０．３２μｍである。FIG. 5 shows the results of measurement of the dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer.
Shown in. Outer dimension is 70mm x 70mm, thickness is 1.2mm
The white plate glass of No. 1 was polished to have about 10 Newton rings, and 20 layers of alternating layers of SiO2 and TiO2 each having a thickness of about 0.15 μm were laminated on the concave side of the white plate glass. As a result of measuring the flatness of this dichroic mirror with a Fizeau interferometer having a field of view of 60 mm, the interval of interference fringes is about 0.32 μm. FIG. 6 shows the results of measuring another dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer. The outer shape is 8
White plate glass having a thickness of 0 mm × 80 mm and a thickness of 1.5 mm is polished to have about 10 Newton's rings, and about 0.15 μ per layer on the concave surface side of the white plate glass.
40 of m alternating layers of SiO 2 and TiO 2. As a result of measuring the flatness of this dichroic mirror with a Fizeau interferometer having a field of view of 60 mm, the interval of interference fringes is about 0.32 μm.
【００１２】図５及び図６に示す本発明の製造方法で作
製されたダイクロイックミラーは、図３に示す従来の製
造方法で作製されたダイクロイックミラーに比べ、平面
度が向上していることが確認できる。It has been confirmed that the dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention shown in FIGS. 5 and 6 has improved flatness as compared with the dichroic mirror manufactured by the conventional manufacturing method shown in FIG. it can.
【００１３】[0013]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のダ
イクロイックミラーの製造方法によれば、投影型液晶表
示装置で使用されるダイクロイックミラーの製造工程に
おいて、真空蒸着等によって誘電体多層膜を形成する基
板を研磨加工時に湾曲するように仕上げ、この基板に誘
電体多層膜を形成することにより、基板の厚さを厚くす
ることなくダイクロイックミラーの平面度を改善するこ
とができるという実用上極めて優れた効果がある。As described above in detail, according to the method of manufacturing a dichroic mirror of the present invention, a dielectric multilayer film is formed by vacuum deposition in the manufacturing process of a dichroic mirror used in a projection type liquid crystal display device. By finishing the substrate to be curved so that it will be curved during polishing and forming a dielectric multilayer film on this substrate, it is extremely practically possible to improve the flatness of the dichroic mirror without increasing the thickness of the substrate. It has an excellent effect.
【図１】本発明の製造方法で作製したダイクロイックミ
ラーの断面模式図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of a dichroic mirror manufactured by a manufacturing method of the present invention.
【図２】基板に誘電体多層膜を形成後に平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a dichroic mirror whose flatness is deteriorated after forming a dielectric multilayer film on a substrate.
【図３】図２に示すダイクロイックミラーをフィゾー干
渉計で測定した写真である。FIG. 3 is a photograph of the dichroic mirror shown in FIG. 2 measured by a Fizeau interferometer.
【図４】湾曲加工した基板の断面模式図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a curved substrate.
【図５】本発明の製造方法により作成されたダイクロイ
ックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す図で
ある。FIG. 5 is a diagram showing a result of measuring a dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer.
【図６】本発明の製造方法により作成された別のダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す
図である。FIG. 6 is a diagram showing a result of measuring another dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer.
【図７】投影型液晶表示装置の構成模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram of the configuration of a projection type liquid crystal display device.
２１ 白板ガラス（基板） ２２ 誘電体多層膜（誘電体薄膜） 21 White Plate Glass (Substrate) 22 Dielectric Multilayer Film (Dielectric Thin Film)
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【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成５年４月１日[Submission date] April 1, 1993
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００３[Name of item to be corrected] 0003
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００３】このようなダイクロイックミラーの基板と
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２等
の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。このよう
な誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の付着
強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加熱し
ながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の薄膜
を、２０層から４０層程度積層する場合もある。White plate glass or the like is used as the substrate of such a dichroic mirror, but it is usually finished by polishing both sides in order to increase the flatness. As a result, a substrate having a flatness of 2 to 3 on the Newton ring is obtained. In order to change the light transmittance for each wavelength on this substrate, it is necessary to stack a thin film of a dielectric material. In this method, a low-refractive-index dielectric thin film such as SiO 2 and a high-refractive-index dielectric thin film such as TiO 2 are alternately laminated in vacuum or in an atmosphere of a specific gas by vacuum vapor deposition or the like. When laminating such a dielectric multilayer film by vacuum vapor deposition, the substrate is usually heated to about 300 ° C. while increasing the adhesion strength of the film. In some cases, about 20 to 40 thin films each having a thickness of about 0.15 μm may be laminated.
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００４[Correction target item name] 0004
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００４】以下のようにして作成されたダイクロイッ
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上誘電体多層膜を積層する時
に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層膜
の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことによ
ると言われている。例えば、ニュートンリングで３本の
面を有する白板ガラスにＳｉＯ２とＴＯ２の交互層から
なる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロイックミ
ターの場合、平面度がニュートンリングで２０本程度ま
で劣化することもある。このようなダイクロイックミラ
ーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３またはＤ４に
用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれてしまう画
質を劣化させる原因となっていた。The dichroic mirror manufactured as described below has a very poor flatness as compared with the substrate before the film is vapor-deposited. This is because the thickness of the substrate is usually 1.5 due to the design restrictions of the optical system of the projection type liquid crystal display device.
Since it is as thin as mm or less, it is said that when the dielectric multilayer film on the substrate is laminated, the substrate is heated to about 300 ° C., and the shape of the substrate is changed due to internal stress of the dielectric multilayer film. . For example, in the case of a dichroic mitter in which 30 layers of a dielectric multilayer film composed of alternating layers of SiO 2 and TO 2 are vapor-deposited on a white plate glass having 3 surfaces by Newton rings, the flatness deteriorates to about 20 by Newton rings. There are also things to do. When such a dichroic mirror is used for the dichroic mirror D3 or D4 shown in FIG. 7, the R, G, and B images are displaced, which causes deterioration of the image quality.
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００９[Correction target item name] 0009
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００９】以下、本発明のダイクロイックミラーの製
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
リングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１１
上に、真空蒸着によりＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互に
積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体多層膜
１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。このダイ
クロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘとおく。
図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０
ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図である。A method of manufacturing the dichroic mirror of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a dichroic mirror whose flatness is deteriorated after forming a dielectric multilayer film on a flat substrate. White glass 11 with Neutring having flatness of 2 to 3
When the dielectric multilayer film 12 in which the SiO 2 film and the TiO 2 film are alternately laminated is formed on the upper side by vacuum evaporation, the surface side on which the dielectric multilayer film 12 is formed is curved in a convex shape. The displacement of the curve in this dichroic mirror is assumed to be x.
The flatness of this dichroic mirror is shown in Fig.
It is a figure which shows the result measured by the Fizeau interferometer of mm.
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１０[Correction target item name] 0010
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１０】図４は湾曲加工した基板の断面模式図であ
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２とＴｉＯ２とから成る誘電体
多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層膜を
形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実施例
とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲基板
の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言うま
でもない。FIG. 4 is a schematic sectional view of a curved substrate. The white plate glass 21 is made of the same material and has the same thickness as the white plate glass 11 shown in FIG. The concave side 21a of the white plate glass 21 is ground so that the curved shape is the same as the curved displacement x of the deteriorated dichroic mirror shown in FIG. The concave side 21a of the white glass plate 21
First, the multilayer film is formed under the same conditions as the dielectric multilayer film 12 described above. FIG. 1 is a schematic sectional view of the dichroic mirror thus manufactured. The stress of the white sheet glass 21 and the stress of the dielectric multilayer film 22 are balanced, and as a result, the flatness of the dichroic mirror becomes good. In this embodiment, since the dielectric multilayer film is made of SiO 2 and TiO 2 , the dielectric multilayer film was formed on the concave surface side of the curved substrate. However, depending on the constituent material of the dielectric multilayer film, it may be the reverse of the embodiment. It may have stress, and in this case, it goes without saying that the dielectric multilayer film may be formed on the convex surface side of the curved substrate.
【手続補正５】[Procedure Amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１１[Correction target item name] 0011
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１１】本発明の製造方法により作製されたダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を２０
層積層したものである。このダイクロイックミラーの平
面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結
果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本発
明の製造方法により作成された別のダイクロイックミラ
ーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８０
ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニュ
ートンリングが１０本程度になるように研磨加工して、
この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μｍの
ＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を４０層積層したものであ
る。このダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０ｍ
ｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の間隔は約
０．３２μｍである。 ─────────────────────────────────────────────────────
FIG. 5 shows the results of measurement of the dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer.
Shown in. Outer dimension is 70mm x 70mm, thickness is 1.2mm
The white plate glass of No. 1 was polished to have about 10 Newton's rings, and about 0.15 μm of alternating layers of SiO 2 and TiO 2 per layer were formed on the concave surface side of the white plate glass 20.
It is a laminate of layers. As a result of measuring the flatness of this dichroic mirror with a Fizeau interferometer having a field of view of 60 mm, the interval of interference fringes is about 0.32 μm. FIG. 6 shows the results of measuring another dichroic mirror manufactured by the manufacturing method of the present invention with a Fizeau interferometer. Outline is 80
mm × 80 mm, thickness 1.5 mm white plate glass is polished to about 10 Newton rings,
40 layers of alternating layers of SiO 2 and TiO 2 each having a thickness of about 0.15 μm are laminated on the concave side of the white plate glass. The flatness of this dichroic mirror is Φ60m.
As a result of measurement with a Fizeau interferometer of m, the interval of the interference fringes is about 0.32 μm. ─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成５年１１月２４日[Submission date] November 24, 1993
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】図３[Name of item to be corrected] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図３】図２に示すダイクロイックミラーをフィゾー干
渉計で測定した結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a result of measuring the dichroic mirror shown in FIG. 2 with a Fizeau interferometer.
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図３[Name of item to be corrected] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図３】 [Figure 3]
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図５[Name of item to be corrected] Figure 5
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図５】 [Figure 5]
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図６[Name of item to be corrected] Figure 6
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図６】 [Figure 6]
Claims (1)
ロイックミラーの製造方法において、 前記基板への前記誘電体薄膜の積層後に前記ダイクロイ
ックミラーが平面状になるように、前記基板を湾曲形状
に加工する加工工程を、 前記誘電体薄膜を前記基板に積層する工程の前段に設け
たことを特徴とするダイクロイックミラーの製造方法。1. A method of manufacturing a dichroic mirror, which comprises laminating a dielectric thin film on a substrate, wherein the substrate is curved so that the dichroic mirror becomes flat after the dielectric thin film is laminated on the substrate. A method of manufacturing a dichroic mirror, characterized in that the processing step of processing is provided before the step of stacking the dielectric thin film on the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596492A JPH06186418A (en) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Production of dichroic mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596492A JPH06186418A (en) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Production of dichroic mirror |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06186418A true JPH06186418A (en) | 1994-07-08 |
Family
ID=16349919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19596492A Pending JPH06186418A (en) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | Production of dichroic mirror |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06186418A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1992
- 1992-06-30 JP JP19596492A patent/JPH06186418A/en active Pending
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