KR101162523B1

KR101162523B1 - 다층 프린트 배선판

Info

Publication number: KR101162523B1
Application number: KR1020077017827A
Authority: KR
Inventors: 유홍 오
Original assignee: 이비덴 가부시키가이샤
Priority date: 2005-02-02
Filing date: 2006-01-30
Publication date: 2012-07-10
Also published as: US7402760B2; EP1845761A4; CN101107892A; KR20070094024A; KR20100077055A; TWI294760B; TW200635472A; EP1845761B1; JP2006216711A; EP1845761A1; US20080060840A1; KR101162524B1; CN101107892B; WO2006082783A1

Abstract

과제

소경의 비아홀을 이용하여 접속 신뢰성을 저하시키지 않는 다층 프린트 배선판을 제공한다.

해결 수단

덮개 도금층 (36a, 36d) 상으로서, 스루홀의 중심을 중심으로 하는 반경 : R (스루홀 반경) + r (비아홀 바닥 반경)/3 의 원 내에 비아홀의 바닥이 형성되어 있는 비아홀 (60A, 60B) 은, 제 2 층간 수지 절연층 (150) 에 형성되는 비아홀 (160) 보다 히트 사이클시에 가해지는 응력이 작다. 이 때문에, 비아홀 (60A, 60B) 의 바닥 직경을, 비아홀 (160) 의 바닥 직경보다 작게 한다.

비아홀, 접속 신뢰성, 덮개 도금층, 스루홀

Description

다층 프린트 배선판{MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD}

기술분야

본 발명은, 다층 프린트 배선판에 관한 것으로, 특히, IC 칩 실장용의 패키지 기판에 바람직하게 이용할 수 있는 빌드업 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.

배경기술

IC 칩용의 패키지를 구성하는 빌드업식의 다층 프린트 배선판에서는, 드릴에 의해 스루홀이 형성된 코어 기판의 양면 혹은 편면에, 층간 절연 수지를 형성하고, 층간 도통을 위한 비아홀을 레이저 혹은 포토 에칭에 의해 개구시켜, 층간 수지 절연층을 형성시킨다. 그 비아홀 내벽에 도금 등에 의해 도체층을 형성하고, 에칭 등을 거쳐, 패턴을 형성하여, 도체 회로를 만들어 내게 한다. 또한 층간 절연층과 도체층을 반복 형성시킴으로써, 빌드업 다층 프린트 배선판을 얻을 수 있다. 최신의 빌드업 다층 배선판에서는, 스루홀 및 빌드업층의 배선 밀도를 높이기 위해서, 스루홀 표면을 덮는 도체층 (덮개 도금층) 을 형성하고, 그 덮개 도금층 상에 비아홀을 형성하는 것이 실시되고 있다.

덮개 도금층을 형성한 스루홀을 갖는 종래 기술의 빌드업 다층 배선판으로는, 특허 문헌 1, 특허 문헌 2 등이 있다.

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2001-127435호

특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 2002-208778호

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

상기 서술한 배선 길이의 단축을 위해 덮개 도금층 상에 비아홀을 형성하는 구조를 취하면, 비아홀의 신뢰성이 떨어지기 쉽고, 비아홀 직경을 작게 하는 것이 곤란하였다. 일반적으로, 비아홀의 바닥 직경이 작아지면, 비아홀에 형성된 도체와 하층의 도체 (랜드) 간의 접속 면적이 작아지므로, 비아홀과 랜드의 접합력이 저하되고, 히트 사이클 시험 등을 행하면 양자 사이에서 접속 저항이 증대하는 경향이 보였다.

여기서, 빌드업 다층 배선판에 있어서, 비아홀은, 무전해 도금막을 형성하고 나서 전해 도금막을 형성함으로써 이루어진다. 먼저 형성되는 무전해 도금막은, 유기물, 수소 분자, 수소 원자 등을 약하게 함유하기 때문에, 그 무전해 도금막에서, 크랙이 발생하기 쉽다고 생각된다. 또, 무전해 도금막은 연성이 낮기 때문에, IC 칩 등의 실장시에 프린트 배선판에 휨이 발생했을 경우, 무전해 도금막은, 그 휨에 추종할 수 없기 때문에, 랜드로부터 박리되기 쉽기 때문이라고 생각된다.

본 발명은, 상기 서술한 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 소경의 비아홀을 이용하여 접속 신뢰성을 저하시키지 않는 다층 프린트 배선판을 제공하는 것에 있다.

과제를 해결하기 위한 수단

발명자가 예의 연구한 결과, 다층 프린트 배선판에 있어서 특정 부위에서 비아홀의 신뢰성이 저하되는 경향이 있는 것이 밝혀졌다.

여기서, 덮개 형상 도체층 (덮개 도금층) 상에 형성되어 있는 비아홀로서, 그 바닥부의 대부분이 스루홀 상에 형성되는 비아홀은, 제 2 층간 수지 절연층에 형성되는 비아홀 (제 2 비아홀) 보다 히트 사이클시에 가해지는 응력이 작은 것을 시뮬레이션에 의해 알 수 있었다.

청구항 1 에서는, 덮개 형상 도체층 (덮개 도금층) 상에 형성되는 비아홀로서, 스루홀의 반경을 R, 덮개 도금층 상의 비아홀의 반경을 r 로 했을 때, 스루홀의 중심 (重心) 을 중심 (中心) 으로 하는 반경 (R+r/3) 의 원 내의 비아홀은, 바닥의 반경을 제 2 층간 수지 절연층에 형성되는 비아홀 바닥의 반경보다 작게 함으로써, 소경의 비아홀을 이용하여 집적률을 높이면서, 접속 신뢰성을 저하시키지 않는 것을 가능하게 하였다.

또한, 비아홀이 원이 아니고, 타원인 경우나 다각형인 경우, r 은 외주에 있어서 양단 (가장 떨어진 2 점) 을 연결한 직선의 1/2 로 한다. 스루홀의 경우도 동일하다. 예를 들어, 타원이면 긴 직경의 1/2 이고, 직사각형이면 대각을 연결한 직선의 1/2 이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

[제 1 실시예]

먼저, 본 발명의 제 1 실시예에 관련되는 다층 프린트 배선판 (10) 의 구성에 대해, 도 1~도 8 을 참조하여 설명한다. 도 7 은, 그 다층 프린트 배선판 (10) 의 단면도를, 도 8 은, 도 7 에 나타내는 다층 프린트 배선판 (10) 에 IC 칩 (90) 을 장착하고, 도터 보드 (94) 에 탑재한 상태를 나타내고 있다. 도 7 에 나타내는 바와 같이, 다층 프린트 배선판 (10) 에서는, 코어 기판 (30) 의 표면에 도체 회로 (34) 가 형성되어 있다. 코어 기판 (30) 의 표면과 이면은 스루홀 (36) 을 통하여 접속되어 있다. 스루홀 (36) 은, 스루홀 랜드를 구성하는 덮개 도금층 (36a, 36d) 과, 측벽 도체층 (36b) 으로 이루어지고, 측벽 도체층 (36b) 의 내부에는 수지 충전재 (37) 가 충전되어 있다. 수지 충전제 없이 구리만으로 충전해도 된다. 덮개 도금층 (스루홀 랜드 ; 36a, 36d) 상에 비아홀 (60A, 60B) 및 도체 회로 (58) 가 형성된 층간 수지 절연층 (50) 과, 비아홀 (160) 및 도체 회로 (158) 가 형성된 층간 수지 절연층 (150) 이 배치 형성되어 있다. 그 비아홀 (160) 및 도체 회로 (158) 의 상층에는 솔더 레지스트층 (70) 이 형성되어 있고, 그 솔더 레지스트층 (70) 의 개구부 (71) 를 통하여, 비아홀 (160) 및 도체 회로 (158) 에 범프 (78U, 78D) 가 형성되어 있다.

도 8 중에 나타내는 바와 같이, 다층 프린트 배선판 (10) 의 상면측의 땜납 범프 (78U) 는, IC 칩 (90) 의 랜드 (92) 에 접속된다. 한편, 하측의 땜납 범프 (78D) 는, 도터 보드 (94) 의 랜드 (96) 에 접속되어 있다.

도 9(A) 는, 덮개 도금층 (스루홀 랜드 ; 36a) 의 평면도이다. 스루홀용의 개구는 드릴에 의해 0.08mm~0.25mm 로 형성되어 있다. 덮개 도금층 (36a) 은, 원형으로 형성되고, 그 덮개 도금층 (36a) 상의 비아홀 (60A) 의 바닥부는, 스루홀 개구 (16) 의 반경을 R, 중심 (60g) 의 비아홀 (60A) 바닥부의 반경을 r 로 했을 때, 스루홀 (36) 의 중심 (36g) 을 중심으로 하는 반경 : R+r/3 의 원 내에 형성되어 있다. 여기서, 스루홀 개구 (16) 의 반경 R 은 50㎛, 비아홀 (60A) 바닥부의 반경 r 은 22.5㎛ 로 형성되어 있다. 한편, 도 7 중에 나타내는 비아홀 (60A) 의 상층 층간 절연층 (150) 에 형성되는 비아홀 (160) 의 바닥부의 반경 r3 은 25㎛ 로 형성되어 있다. 또한 덮개 도금층 (스루홀 랜드 ; 36) 과 제 1 비아홀 위치의 다른 형태를 도 9(C), (D), (E) 에 나타낸다.

도 9(B) 는, 덮개 도금층 (스루홀 랜드) 의 다른 형태를 나타낸다. 덮개 도금층 (36d) 은, 반원을 2 개 합친 오뚝이형으로 형성되고, 그 덮개 도금층 (36d) 상의 비아홀 (60B) 의 바닥부도 비아홀 (60A) 과 동일하게, 스루홀의 중심 (36g) 을 중심으로 하는 반경 : R+r/3 의 원 내에 형성되어 있다.

여기서, 덮개 도금층 (36a, 36d) 상의 비아홀 (60A, 60B) 과, 그 비아홀의 상층에 형성되는 비아홀 (160) 에 히트 사이클시에 가해지는 응력을 시뮬레이션한 결과에 대해 설명한다.

여기에서는, 유한 요소법 (FEM) 에 의한 3D 열응력 시뮬레이션을 실시하였다. 땜납 등과 같은 소성·크립 특성이 현저한 재료가 해석 구조체에 포함되어 있는 경우에는, 소성·크립 특성을 고려한 비선형 열응력 시뮬레이션이 필요하기 때문에, 먼저 기판 전체를 포함한 모델을 성긴 메쉬로 해석하고, 거기에서 계산된 변위를 촘촘한 메쉬로 분할된 서브 모델의 경계 조건으로 하여, 문제시되는 부분의 정밀한 해석을 하는 멀티 스케일링 (서브 모델링) 수법을 이용하여 고다층·고밀도 유기 패키지의 마이크로 비아에 가해지는 열충격 시험시의 열응력을 해석하였다. 즉, 패키지의 성긴 (Coarse) 모델을 해석하고, 그 변위를 서브 모델의 경계 조건 으로서 설정하고, 땜납의 소성을 고려하여, -55℃~125℃ 의 열충격 시험 조건에서 비선형 열응력 해석을 하였다.

이 결과, 덮개 도금층 (36a, 36d) 상으로서, 그 바닥이, 전술한 R+r/3 의 원내인 비아홀 (60A, 60B) 에는 35MPa 이, 그 비아홀의 상층에 형성되는 비아홀 (160) 에는 90MPa 이 가해지는 것을 알 수 있었다.

즉, 덮개 형상 도체층 (덮개 도금층 ; 36a, 36d) 상으로서, 스루홀의 중심 (36g) 을 중심으로 하는 반경 : R+r/3 의 원 내에 비아홀 바닥이 형성되어 있는 비아홀 (60A, 60B) 은, 제 2 층간 수지 절연층 (150) 에 형성되는 비아홀 (160) 보다 히트 사이클시에 가해지는 응력이 작다.

이 때문에, 제 1 실시예에서는, 덮개 형상 도체층 (덮개 도금층 ; 36a) 상으로서 스루홀의 중심을 중심으로 하는 반경 : R+r/3 의 원 내에 비아홀의 바닥이 형성되어 있는 비아홀의 바닥의 반경 r 을, 제 2 층간 수지 절연층 (150) 에 형성되는 비아홀 (160) 의 바닥 직경 r3 보다 작게 함으로써, 접속 신뢰성을 저하시키지 않도록, 각각의 부위에서 최소 직경의 비아홀을 이용하여, 집적률을 높이는 것을 가능하게 하였다.

제 2 비아홀 바닥의 반경이 30㎛ 이하, 스루홀 개구의 반경이 100㎛ 이하, 스루홀 피치가 385㎛ 이하인 경우, 본 발명을 적용하는 의의가 크다. 왜냐하면, 소경의 스루홀이 협피치로 배치되어 있는 코어에서는 환경 변화에 의해 프린트 배선판이 보다 휘어지기 쉽기 때문에, 제 2 비아홀에 응력이 집중되기 쉽다.

도 9(C), 도 9(D), 및 도 9(E) 는, 다른 예의 덮개 도금층의 형상을 나타내고 있다. 이와 같이 덮개 도금층은 오뚝이형으로 할 필요는 없다. 도 9(E) 의 경우, 덮개 도금층 (36d) 이 스루홀 개구 (내직경 ; 36b) 에 대해서, 비아홀이 탑재되는 방향으로만 돌출되어 있으므로 스루홀 피치를 협피치화로 할 수 있으므로 고밀도화가 된다.

계속해서, 도 7 을 참조하여 상기 서술한 다층 프린트 배선판 (10) 의 제조 방법에 대해 도 1~도 6 을 참조하여 설명한다.

(1) 두께 0.2~0.8mm 의 유리 에폭시 수지 또는 BT (비스말레이미드 트리아진) 수지로 이루어지는 절연성 기판 (30) 의 양면에 5~250㎛ 의 구리박 (32) 이 라미네이트되어 있는 구리 부착 적층판 (30A) 을 출발 재료로 하였다 (도 1(A)). 먼저, 이 구리 부착 적층판을 드릴로 뚫어 통과공 (16) 을 형성하고 (도 1(B)), 무전해 도금 처리 및 전해 도금 처리를 실시하여, 스루홀 (36) 의 측벽 도체층 (36b) 을 형성하였다 (도 1(C)). 통과공 (16) 의 개구 직경은, 드릴의 선택에 의해 0.1~0.25mm Φ 로 형성하고, 그 피치는 0.15~0.575mm 로 하였다.

(2) 스루홀 (36) 을 형성한 기판 (30) 을 수세하고, 건조시킨 후, NaOH (10 g/l), NaClO₂ (40g/l), Na₃PO₄ (6g/l) 를 함유하는 수용액을 흑화욕 (산화욕) 으로 하는 흑화 처리, 및, NaOH (10g/l), NaBH₄ (6g/l) 를 함유하는 수용액을 환원욕으로 하는 환원 처리를 실시하고, 스루홀 (36) 의 측벽 도체층 (36b) 및 표면에 조화면 (36α) 을 형성한다 (도 1(D)).

(3) 다음으로, 평균 입경 10㎛ 의 구리 입자를 함유하는 충전제 (37 ; 타츠 타 전선 제조의 비도전성 구멍 매립 구리 페스트, 상품명 : DD 페이스트) 를, 스루홀 (36) 에 스크린 인쇄에 의해 충전하고, 건조, 경화시킨다 (도 2(A)). 이것은, 스루홀 부분에 개구를 형성한 마스크를 탑재한 기판 상에, 인쇄법으로 도포함으로써 스루홀에 충전시키고, 충전 후, 건조, 경화시킨다.

계속해서, 그리고, 스루홀 (36) 로부터 비져나온 충전제 (37) 를, #600 의 벨트 연마지 (산쿄 이화학 제조) 를 이용한 벨트 샌더 연마에 의해 제거하고, 추가로 이 벨트 샌더 연마에 의한 흠집을 제거하기 위한 버프 연마를 실시하여, 기판 (30) 의 표면을 평탄화시킨다 (도 2(B) 참조). 이와 같이 하여, 스루홀 (36) 의 측벽 도체층 (36b) 과 수지 충전제 (37) 가 조화층 (36α) 을 통하여 강고하게 밀착된 기판 (30) 을 얻는다.

(4) 상기 (3) 에서 평탄화한 기판 (30) 표면에, 팔라듐 촉매 (아트텍크 제조) 를 부여하여, 무전해 구리 도금을 실시함으로써, 두께 0.6㎛ 의 무전해 구리 도금막 (23) 을 형성한다 (도 2(C) 참조).

(5) 이어서, 이하의 조건에서 전해 구리 도금을 실시하여, 두께 15㎛ 의 전해 구리 도금막 (24) 을 형성하고, 도체 회로 (34) 가 되는 부분의 두께 부여, 및 스루홀 (36) 에 충전된 충전제 (37) 를 덮는 덮개 도금층 (스루홀 랜드) 이 되는 부분을 형성한다 (도 2(D)).

〔전해 도금 수용액〕

황산 180g/l

황산 구리 80g/l

첨가제 (아트텍크 재팬 제조, 상품명 : 카파라시드 GL) 1 ml/l

〔전해 도금 조건〕

전류 밀도 1A/d㎡

시간 70 분

온도 실온

(6) 도체 회로 및 덮개 도금층이 되는 부분을 형성한 기판 (30) 의 양면에, 시판되는 감광성 드라이 필름을 부착시키고, 마스크를 탑재하여, 100mJ/㎠ 로 노광, 0.8% 탄산나트륨으로 현상 처리하여, 두께 15㎛ 의 에칭 레지스트 (25) 를 형성한다 (도 2(E) 참조). 덮개 도금층의 형상은 마스크의 패턴을 조정함으로써 변경할 수 있다.

(7) 그리고, 에칭 레지스트 (25) 를 형성하고 있지 않는 부분의 도금막 (23, 24) 과 구리박 (32) 을, 염화 제 2 구리를 주성분으로 하는 에칭액으로 용해 제거하고, 추가로 에칭 레지스트 (25) 를 5% KOH 로 박리 제거하여, 독립적인 도체 회로 (34), 및, 충전제 (37) 를 덮는 덮개 도금층 (36a, 36d) 을 형성한다 (도 3(A) 참조).

(8) 다음으로, 도체 회로 (34) 및 충전제 (37) 를 덮는 덮개 도금층 (36a, 36d) 의 표면에 Cu-Ni-P 합금으로 이루어지는 두께 2.5㎛ 의 조화층 (요철층 ; 34β) 을 형성하고, 그리고 이 조화층 (34β) 의 표면에 두께 0.3㎛ 의 Sn 층을 형성하였다 (도 3(B) 참조, 단, Sn 층에 대해서는 도시하지 않는다).

(9) 기판의 양면에, 기판보다 조금 큰 층간 수지 절연층용 수지 필름 (아지 노모토사 제조 : 상품명 ; ABF-45SH ; 50γ) 을 기판 상에 탑재하고, 압력 0.45MPa, 온도 80℃, 압착 시간 10 초의 조건에서 가압착하여 재단한 후, 추가로 이하의 방법에 의해 진공 라미네이터 장치를 이용하여 접착함으로써 층간 수지 절연층 (50) 을 형성하였다 (도 3(C)). 즉, 층간 수지 절연층용 수지 필름을 기판 상에, 진공도 67Pa, 압력 0.47MPa, 온도 85℃, 압착 시간 60초의 조건에서 본압착하고, 그 후, 170℃ 에서 40 분간 열경화시켰다.

(10) 다음으로, 파장 10.4㎛ 의 CO₂ 가스 레이저로, 빔 직경 4.0mm, 탑 하트모드, 펄스폭 3~30μ 초, 마스크의 관통공의 직경 1.0~5.0mm, 1~3 쇼트의 조건에서 층간 수지 절연층 (2) 에 비아홀용 개구 (51) 를 형성하였다 (도 3(D)). 여기서, 덮개 도금층 (36a, 36d) 상에는, 비아홀 바닥면의 반경이 22.5㎛ 가 되도록, 상기 레이저 조건을 조정하였다. 또, 그 형성 위치는, 레이저 가공용의 얼라인먼트 마크를 판독하여, 얼라인먼트 기준대로 가공하거나, 보정하여 가공함으로써 비아홀 가공의 위치를 조정하였다. 제 1 실시예에서는 비아홀의 바닥의 바깥 둘레가 스루홀의 중심을 중심으로 하는 반경=R+r/3 에 접하고, 또한 그 바닥이 그 원 내로 하였다.

(11) 비아홀용 개구 (51) 를 형성한 기판을, 60g/l 의 과망간산을 함유하는 80℃ 의 용액에 10 분간 침지하고, 층간 수지 절연층 (2) 의 표면에 존재하는 입자를 제거함으로써, 비아홀용 개구 (51) 의 내벽을 포함하는 층간 수지 절연층 (50) 의 표면에 조화면 (50α) 을 형성하였다 (도 4(A)).

(12) 다음으로, 상기 처리를 끝낸 기판을, 중화 용액 (시프레이사 제조) 에 침지하고 나서 수세하였다.

추가로, 조면화 처리 (조화 깊이 3㎛) 한 그 기판의 표면에, 팔라듐 촉매를 부여함으로써, 층간 수지 절연층의 표면 및 비아홀용 개구의 내벽면에 촉매 핵을 부착시켰다. 즉, 상기 기판을 염화 팔라듐 (PdCl₂) 과 염화 제 1 주석 (SnCl₂) 을 함유하는 촉매액 중에 침지하고, 팔라듐 금속을 석출시킴으로써 촉매를 부여하였다.

(13) 다음으로, 카미무라 공업사 제조의 무전해 구리 도금 수용액 (스루캅 PEA) 중에, 촉매를 부여한 기판을 침지하여, 조면 전체에 두께 0.3~3.0㎛ 의 무전해 구리 도금막을 형성하고, 비아홀용 개구 (51) 의 내벽을 포함하는 층간 수지 절연층 (50) 의 표면에 무전해 구리 도금막 (52) 이 형성된 기판을 얻었다 (도 4(B)).

〔무전해 도금 조건〕

34℃ 의 액체 온도에서 45분

(14) 무전해 구리 도금막 (52) 이 형성된 기판에 시판되는 감광성 드라이 필름을 부착하고 마스크를 탑재하여, 110mJ/㎠ 로 노광하고, 0.8% 탄산나트륨 수용액으로 현상 처리함으로써, 두께 25㎛ 의 도금 레지스트 (54) 를 형성하였다 (도 4(C)).

(15) 이어서, 기판을 50℃ 의 물로 세정하여 탈지하고, 25℃ 의 물로 세정 후, 다시 황산으로 세정하고 나서, 이하의 조건에서 전해 도금을 실시하여, 도금 레지스트 (54) 비형성부에, 두께 15㎛ 의 전해 구리 도금막 (56) 을 형성하였다 (도 5(A)).

〔전해 도금액〕

황산 2.24mol/l

황산 구리 0.26mol/l

첨가제 19.5mol/l (아트텍크 재팬사 제조, 카파라시드 GL)

〔전해 도금 조건〕

전류 밀도 1A/d㎡

시간 70분

온도 22±2℃

(16) 또한, 도금 레지스트 (54) 를 5% KOH 로 박리 제거한 후, 그 도금 레지스트 하의 무전해 도금막을 황산과 과산화 수소의 혼합액으로 에칭 처리하여 용해 제거하고, 독립적인 도체 회로 (58) 및 비아홀 (60A, 60B) 로 하였다 (도 5(B)).

(17) 이어서, 상기 (4) 와 동일한 처리를 실시하고, 도체 회로 (58) 및 비아홀 (60A, 60B) 의 표면에 조화면 (58α) 을 형성하였다. 하층의 도체 회로 (58) 의 두께는 15㎛ 의 두께였다 (도 5(C)). 단, 하층의 도체 회로의 두께는, 5~25㎛ 사이에서 형성해도 된다.

(18) 상기 (9)~(17) 의 공정을 반복함으로써, 추가로 상층의 도체 회로 (158), 비아홀 (160) 을 갖는 층간 절연층 (150) 을 형성하여, 다층 배선판을 얻었다 (도 5(D)). 여기서, 비아홀 (160) 바닥면의 반경은 25㎛ 가 되도록 조정하였다.

(19) 다음으로, 다층 배선 기판의 양면에, 시판되는 솔더 레지스트 조성물 (70) 을 20㎛ 의 두께로 도포하고, 70℃ 에서 20 분간, 70℃ 에서 30 분간의 조건에서 건조 처리를 실시한 후, 솔더 레지스트 개구부의 패턴이 묘화된 두께 5mm 의 포토마스크를 솔더 레지스트층 (70) 에 밀착시켜, 1000mJ/㎠ 의 자외선으로 노광하고, DMTG 용액으로 현상 처리하여, 200㎛ 직경의 개구 (71) 를 형성하였다 (도 6(A)).

그리고, 다시 80℃ 에서 1 시간, 100℃ 에서 1 시간, 120℃ 에서 1 시간, 150℃ 에서 3 시간의 조건에서 각각 가열 처리를 하여, 솔더 레지스트층을 경화시키고, 개구를 가지고, 그 두께가 15~25㎛ 인 솔더 레지스트 패턴층을 형성하였다.

(20) 다음으로, 솔더 레지스트층 (70) 을 형성한 기판을, 염화 니켈 (2.3×10^-1mol/l), 하이포아인산 나트륨 (2.8×10^-1mol/l), 시트르산 나트륨 (1.6×10^-1mol/l) 을 함유하는 pH=4.5 의 무전해 니켈 도금액에 20 분간 침지하고, 개구부 (71) 에 두께 5㎛ 의 니켈 도금층 (72) 를 형성하였다. 또한 그 기판을 시안화금 칼륨 (7.6×10^-3mol/l), 염화 암모늄 (1.9×10^-1mol/l), 시트르산 나트륨 (1.2×10^-1mol/l), 하이포아인산 나트륨 (1.7×10^-1mol/l) 을 함유하는 무전해 금 도금액에 80℃ 의 조건에서 7.5 분간 침지하여, 니켈 도금층 (72) 상에, 두께 0.03㎛ 의 금 도금층 (74) 을 형성하였다 (도 6(B)). 니켈-금층 이외에도, 주석, 귀금속층 (금, 은, 팔라듐, 백금 등) 의 단층을 형성해도 된다.

(21) 그 후, 기판의 IC 칩을 탑재하는 면의 솔더 레지스트층 (70) 의 개구 (71) 에, 주석-납을 함유하는 땜납 페이스트를 인쇄하고, 그리고 타방 면의 솔더 레지스트층의 개구에 주석-안티몬을 함유하는 땜납 페이스트를 인쇄한 후, 200℃ 에서 리플로우함으로써 땜납 범프 (땜납체) 를 형성하고, 땜납 범프 (78U, 78D) 를 갖는 다층 프린트 배선판을 제조하였다 (도 7).

땜납 범프 (78U) 를 개재하여 IC 칩 (90) 을 장착한다. 그리고, 땜납 범프 (78D) 를 개재하여 도터 보드 (94) 에 장착한다 (도 8).

이하에, 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판 (10) 의 효과를 실증하기 위한 실시예에 대해 설명한다. 먼저, 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥의 반경, 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥의 위치, 제 2 비아홀 바닥의 반경, 스루홀의 반경, 스루홀의 피치 등과 가열·냉각을 반복한 후의 전기 저항의 변화율의 관계에 대해 설명한다. 여기에서는, 도 10~도 13 중에 나타내는 실시예 1~120, 비교예 1~6 의 다층 프린트 배선판을 상기 서술한 제 1 실시예에 준하여 제작하였다. 구체적으로는, 도 1(B) 에 있어서, 천공에 이용하는 드릴의 직경을 변화시켜 개구 (16) 의 직경을 변화시키고, 그 피치는 천공기에 구멍 형성 위치 데이터를 입력하여 변화시켰다. 또, 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥의 반경 및 제 2 비아홀 바닥의 반경은, (10) 공정 중에서 나타낸 레이저 조건을 조정함으로써 실시하고, 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥의 위치는, (10) 공정에서 나타낸 바와 같이 레이저 가공기에 얼라인먼트 마크 위치에 대한 보정량을 설정함으로써 실시하였다. 이와 같이 제작한 각 실시예, 비교예의 다층 프린트 배선판에 IC 칩을 실장하고, 그 후 IC 칩과 다층 프린트 배선판 사이에 밀봉 수지를 충전하여 IC 탑재 기판으로 하였다. 그리고, IC 칩을 개재시킨 특정 회로의 전기 저항 (IC 탑재 기판의 IC 칩 탑재면과는 반대측 면에 노출시켜 IC 칩과 도통하고 있는 한 쌍의 전극간의 전기 저항) 을 측정하고, 그 값을 초기치로 하였다. 그 후, 그들 IC 탑재 기판에, -55도×5분, 125도×5분을 1 사이클로 하고, 이것을 2000회 반복하는 히트 사이클 시험을 실시하였다. 이 히트 사이클 시험에 있어서, 500, 1000, 1500, 1750, 2000 사이클째의 전기 저항을 측정하여, 초기치와의 변화율 (100×(측정치-초기치)/초기치(%)) 을 구하였다. 그 결과를 도 10~도 13 중에 나타낸다. 도면 중, 전기 저항의 변화율이 ±5% 이내인 것을 「양호」(○), ±5~10% 인 것을 「보통」(△), ±10 을 초과한 것을 「불량」(×) 으로 하였다. 한편, 목표 스펙는 1000 사이클째의 변화율이 ±10% 이내 (즉 평가로 「양호」하거나 「보통」) 이다. 또한, ±10% 이내의 것을 「합격」으로 하였다.

이 평가 결과에서, 덮개 형상 도체층 상에 형성되는 비아홀 바닥을, 스루홀의 중심을 중심으로 하는 반경 (R+r/3) 의 원 내로 하고, 또한 덮개 형상 도체층 상의 비아홀 바닥의 반경 (이하, 제 1 반경이라고 한다) 을, 제 2 층간 수지 절연층에 형성되는 비아홀 (제 2 비아홀) 바닥의 반경 (이하, 제 2 반경이라고 한다) 보다 작게 한 실시예 1~120 은, 적어도 목표 스펙을 클리어하고, 또한 1500 사이클째에서도 합격이었다 (R: 스루홀의 반경, r : 덮개 형상 도체층 상의 비아홀 바닥의 반경). 반면에, 덮개 형상 도체층 상에 형성되는 비아홀 바닥이 스루홀의 중심을 중심으로 하는 반경 (R+r/3) 의 원 내이기는 하지만, 덮개 형상 도체층 상의 비아홀 바닥의 반경과 제 2 반경이 동등한 비교예 1~비교예 6 은, 목표 스펙의 사이클에 있어서, 「보통」이거나 「불량」으로서, 1500 사이클째에서는 모두 「불량」이었다. 비교예 1~비교예 6 에서는, 제 1 반경과 제 2 반경이 동등하므로, 덮개 형상 도체층과 덮개 형상 도체층 상 비아홀 사이의 접합이 응력에 대해서 강고해진다. 왜냐하면, 덮개 형상 도체층과 덮개 형상 도체층 상 비아홀 사이의 응력이 작기 때문이다. 그 때문에, 덮개 형상 도체층 상 비아홀이나 그 주위의 수지 절연층 등이 응력을 완화하도록 변형되기 어려워지므로, 가열·냉각시의 응력이 제 2 비아홀 바닥부와 하층의 도체층 (랜드 ; 58) 간에 집중되어, 제 2 비아홀 바닥부와 랜드간의 접합이 약해져 접속 저항이 증가된 것이 아닌 것으로 추찰하고 있다.

또, 비교예 1~비교예 4 와 비교예 5, 비교예 6 의 비교에서, 제 1 반경과 제 2 반경이 동등하여도, 스루홀 직경과 그 피치가 저밀도인 경우에는, 목표 스펙을 클리어하고 있지만, 제 1 반경과 제 2 반경이 동등하며, 스루홀의 반경이 100㎛ 이하이고 그 피치가 385㎛ 이하가 되면 1000 사이클째에서 불량이었다. 이 차이는, 후자 쪽이 발생하는 응력이 크기 때문이라고 추찰하고 있다. 그 이유는, 비교예 5, 비교예 6 에서는, 절연성 기판 (30) 에 절연성 기판 (열팽창 계수 : 50~60ppm) 과는 열팽창 계수가 크게 상이한 스루홀 도체 (구리:16ppm) 가 고밀도로 설치되기 때문에, 다층 프린트 배선판의 변형이 커지기 때문이라고 추찰하고 있다. 따라서, 스루홀의 반경이 100㎛ 이하이고 그 피치가 385㎛ 이하인 다층 프린트 배선판에 본원 발명을 적용하는 의의가 큰 것을 알 수 있다.

제 1 실시예 1~120 에 있어서의 1500, 1750 사이클째의 결과에서, 제 2 비아홀의 반경/제 1 비아홀의 반경이, 1.3~1.7 이 바람직한 것을 알 수 있다. 이것은, 이러한 범위이면, 덮개 형상 도체층과 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥 사이의 접합력 (단위 면적 당의 밀착력×접합 면적) 이, 제 2 비아홀과 하층의 도체층 (랜드 ; 58) 사이의 접합력보다 낮아도, 양자 사이에 있어서의 응력에 차이가 있기 때문에, 접합력/응력이 거의 동등해지기 때문이라고 추찰하고 있다 (양자에 차이가 있으면 약한 쪽에 응력이 집중되어, 그 부분에서 박리 등의 문제가 발생하기 쉽다).

또한 1750, 2000 사이클째의 결과에서, 덮개 형상 도체층 상 비아홀의 바닥은, R+r/6 이내가 바람직한 것을 알 수 있다. 이것은, 덮개 형상 도체층 상 비아홀 바닥 내, R+r/6 을 초과하고 R+r/3 내에 위치하는 부분이 많아지면, 절연성 기판 상에 위치하는 부분이 많아지므로, 스루홀과 절연성 기판의 양방의 물성 (영률, 푸아송비, 열팽창 계수 등) 의 영향을 받아 변형되므로, 그 움직임이 복잡해져, 보다 많은 응력이 제 2 비아홀에 전달되는 것이 아닌가 하고 추찰하고 있다.

도면의 간단한 설명

도 1 은 본 발명의 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 2 는 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 3 은 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 4 는 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 5 는 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 6 은 제 1 실시예의 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

도 7 은 제 1 실시예에 관련되는 다층 프린트 배선판의 단면도이다.

도 8 은 제 1 실시예에 관련되는 다층 프린트 배선판에 IC 칩을 탑재한 상태를 나타내는 단면도이다.

도 9 는 스루홀의 덮개 도금층의 평면도이다.

도 10 은 실시예의 평가 결과를 나타내는 도표이다.

도 11 은 실시예의 평가 결과를 나타내는 도표이다.

도 12 는 실시예의 평가 결과를 나타내는 도표이다.

도 13 은 실시예 및 비교예의 평가 결과를 나타내는 도표이다.

부호의 설명

30 기판

34 도체 회로

36 스루홀

36a 덮개 도금층 (스루홀 랜드)

36b 측벽 도체층

36d 덮개 도금층 (스루홀 랜드)

40 수지 충전층

50 층간 수지 절연층

58 도체 회로

60A, 60B 비아홀

70 솔더 레지스트층

71 개구

78U, 78D 땜납 범프

160 비아홀

Claims

반경 R 인 스루홀을 갖는 코어 기판에, 제 1 층간 수지 절연층과 무전해 도금막 및 전해 도금막으로 이루어지는 바닥 반경 r 인 제 1 비아홀, 및 상기 제 1 비아홀에 접속된 도체 회로를 적층하고, 그 제 1 층간 수지 절연층 상에 제 2 층간 수지 절연층과 무전해 도금막 및 전해 도금막으로 이루어지는 제 2 비아홀, 도체 회로를 적층하여 이루어지는 다층 프린트 배선판으로서,

상기 스루홀 단에는 그 스루홀을 폐색하는 덮개 형상 도체층이 형성되고,

스루홀 중심을 중심으로 하는 반경 D = (R+r/3) 의 영역 내에 바닥이 있고, 또한, 상기 덮개 형상 도체층 상에 형성되어 있는 제 1 비아홀은, 바닥의 반경을, 상기 제 2 비아홀 바닥의 반경보다 작게 하고,

상기 제 2 비아홀은 상기 제 1 비아홀에 접속된 상기 도체 회로 상에 접속된 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판.
제 1 항에 있어서,

상기 제 1 비아홀 바닥의 반경에 대한 상기 제 2 비아홀 바닥의 반경의 비 (제 2 비아홀 바닥의 반경/제 1 비아홀 바닥의 반경) 가 1.077 ~ 2.167 로 설정되는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판.