KR101157122B1 - 플라즈마 고도수처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대장균이나 각종 세균은 플라즈마 방전을 이용하여 제거하고, 각종 난분해성 유기물은 오존 등의 라디칼 발생원을 통하여 제거하는 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 처리대상수를 위한 제1소통로와 라디칼 반응용 기체를 위한 제2소통로를 갖는 이중관체에 플라즈마 방전용 전극을 도입하고, 외부에 구비된 수조에서 플라즈마 방전 처리된 오염 처리대상수와 오존 등의 라디칼 발생원의 접촉 반응을 유도하여 완벽한 수처리를 보장하는 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치는 상호 분리된 처리대상수를 위한 제1소통로와 라디칼 반응용 기체를 위한 제2소통로를 갖는 이중관체; 상기 이중관체의 제1 및 제2 소통로에 각각 배열된 전극과, 이 전극과 연결된 전원부를 포함하는 플라즈마 발생수단; 및 상기 이중관체와 연결되어 처리대상수와 라디칼 발생원의 반응이 이루어지는 수조를 포함하여 이루어진다.

Description

플라즈마 고도수처리 장치{ADVANCED WATER TREATMENT APPARATUS USING PLASMA}
본 발명은 대장균이나 각종 세균은 플라즈마 방전을 이용하여 제거하고, 각종 난분해성 유기물은 오존 등의 라디칼 발생원을 통하여 제거하는 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것으로,
보다 상세하게는 처리대상수를 위한 제1소통로와 라디칼 반응용 기체를 위한 제2소통로를 갖는 이중관체에 플라즈마 방전용 전극을 도입하고, 외부에 구비된 수조에서 플라즈마 방전 처리된 오염 처리대상수와 오존 등의 라디칼 발생원의 접촉 반응을 유도하여 완벽한 수처리를 보장하는 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마 또는 오존을 이용한 고도수처리와 관련된 기술로는 실용신안등록 제0288954호(2002년08월31일) [오존발생장치]가 있다.
상기 등록고안은 하나의 오존 발생부에서 유전체 장벽방전을 이용한 오존 발생 방법과 자외선 원을 사용한 자외선 오존 발생 방법을 동시에 수행하는 오존 발생장치를 제공하여, 오존 발생률을 향상시킴과 동시에 높은 전력효율을 가지는 오존 발생기를 제시하고 있다.
그러나 상기 등록고안을 현실성과 관련하여 수처리 분야에 적용하기에는 난관이 큰 데, 특히 상온 이상의 온도에서 오존의 수율이 현격히 떨어지는 문제에 대한 해결책(고압 무선 방전 방식 및 자외선 방식 모두 열을 일으킨다)을 제시하고 있지 않다.
또 특허등록 제0572514호(2006년04월13일) [습식 플라즈마를 이용한 수중 용존 오존 및 과산화수소의 동시 생성장치]가 있는데,
상기 등록특허는 고주파 전원을 사용하여 기체, 액체 및 고체가 공존하는 영역에 습식 플라즈마를 발생시켜 수중에서 산화반응의 주요한 인자로 작용하는 용존 오존량을 증가시키고 수중 용존 오존의 자기분해 속도를 증가시킬 수 있는 과산화수소를 동시에 생성하는 장치를 제시하고 있다.
그러나 상기 등록특허 역시 상온 이상의 온도에서 오존의 수율이 현격히 떨어지는 문제에 대한 해결책을 제시하고 있지 못하며, 가정용 정수시설 등의 소단위 수처리에는 적합할지 모르나 대단위 수처리 용도로는 부적합하다.
나아가 특허등록 제0797027호(2008년01월16일) [유전체장벽 방전관에서 발생되는 자외선 및 산화성 물질을 이용한 폐수처리 장치 및 이를 이용한 폐수처리방법]이 있는데,
상기 등록특허는 금속봉 및 이를 둘러싸는 석영관으로 이루어진 유전체방벽 방전관, 상기 방전관의 상단에 고전압 발생기 및 상기 방전관의 주변과 폐수처리 장치의 내부에 원통형의 광촉매망을 포함하는 폐수처리 장치를 제시하고 있다.
이 등록특허는 폐수에 담겨진 유전체장벽 방전관 내부에서 전기적인 방전을 일으켜 각종 산화성 성분들과 자외선을 발생시키고, 이들 산화성 성분들을 미세한 기포형태로 폐수 내에 분산시켜 폐수 내의 유기물이 산화되어 제거되도록 하고, 동시에 유전체장벽 방전관에서 방출되는 자외선을 이용하여 광촉매를 활성화시키거나 폐수를 직접 조사하여 유기물이 제거되도록 함으로써 본 발명은 두 가지 이상의 메커니즘에 의해 유기물을 처리할 수 있는 처리장치와 방법을 제공하여 궁극적으로 간단한 반응장치에서 적은 전력으로 유기물이 고효율로 제거하는 효과가 있는 것으로 언급되어 있다.
그러나 상기 등록특허는 처리 용량이 기본적으로 유전체장벽 방전관의 크기에 의존하는 점에서 불리하며, 체류시간을 보장하여야 하므로 흐르는 물에 대한 수처리 용도로는 부적합해 보인다.
또 특허등록 제0833814호(2008년05월26일) [정수 처리 장치]가 있는데,
상기 등록특허는 페록시라디칼과 오존 조합 공정을 이용하여 고도의 정수 능력을 갖는 정수 처리 장치를 제공하여, 정수 처리 능력을 향상시킬 수 있고, 페록시라디칼의 생성과 정수 처리를 같은 공간에서 동시에 수행함으로써 종래의 오존 단독 공정에 의한 정수 처리 장치에 비해 정수 처리 비용을 줄일 수 있는 장점을 제공하는 것으로 기술되어 있다.
그러나 상기 등록특허는 역시 오존의 수율 보장이라든가 다용량 수처리 기술과는 무관하다.
이에 본 발명은 대장균이나 각종 세균은 플라즈마 방전을 이용하여 제거하고, 각종 난분해성 유기물은 오존 등의 라디칼 발생원을 통하여 제거할 수 있도록 처리대상수를 위한 제1소통로와 라디칼 반응용 기체를 위한 제2소통로를 갖는 이중관체에 플라즈마 방전용 전극을 도입하고, 외부에 구비된 수조에서 플라즈마 방전 처리된 오염 처리대상수와 오존 등의 라디칼 발생원의 접촉 반응을 유도하여 완벽한 수처리를 보장하는 플라즈마 고도수처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또 본 발명은 제1소통로에 다수의 유전체 비드를 충진하고, 이 비드가 통과하는 처리대상수와의 충돌에 따라 랜덤하게 움직여 제1소통로 내에서 안정적인 전위를 발생시켜 각종 세균이나 다양한 병원성 균을 보다 효과적으로 제거할 수 있도록 한 플라즈마 고도수처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
아울러 본 발명은 이중관체의 제1소통로와 제2소통로의 각 토출구와 연결되는 통합 배관과, 이 통합 배관과 수조 사이에 배열된 펌프로 구성된 미세기포 발생수단을 도입하여 처리대상수와 오존 등의 라디칼 발생원의 접촉효율을 높이고 라디칼 발생원의 용존 효율 또한 높여 수처리 효율을 획기적으로 높일 수 있도록 한 플라즈마 고도수처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
나아가 본 발명은 이중관체를 다수 집적 배열하고, 이를 수조와 연결하여 일부는 순환배관을 통하여 이중관체로 반복 순환하고 일부는 배출하는 방식으로 구성하여 수처리 효율을 높이면서 가정용 소단위 수처리에서부터 상수도용 대단위 수처리에 이르기까지 다양한 용량 및 수처리를 필요로 하는 현장에 적용할 수 있도록 한 플라즈마 고도수처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 그리고 최종적으로 배출되는 저농도의 오존성분은 관련 수처리 계통상에서 원수의 전처리 또는 인근 호소, 하천, 수계, 유역 등을 수처리하로자 할 경우에는 원수처리용으로 이용할 수 있고 기타의 방법으로는 활성탄 등을 이용하여 잔류 오존 파괴 등의 방식으로 수처리 이후에 배출되는 배오존의 문제의 해결이 가능하다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치는
처리대상수가 통과하는 제1소통로와 라디칼 반응용 기체가 통과하는 제2소통로를 갖는 이중관체;
상기 이중관체의 제1 및 제2 소통로에 각각 배열된 전극과, 이 전극과 연결된 전원부를 포함하는 플라즈마 발생수단; 및
상기 이중관체와 연결되어 처리대상수와 라디칼 발생원의 반응이 이루어지는 수조를 포함하여 이루어진다.
또 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치에서
상기 이중관체의 제1소통로에는 처리대상수 통과에 따라 랜덤하게 움직여 제1소통로 내에서 안정적인 전위를 발생시키는 다수의 유전체 비드가 충진되어 있고,
상기 이중관체의 제1소통로와 제2소통로의 각 토출구와 연결되는 통합 배관, 이 통합 배관과 수조 사이에 배열된 펌프로 구성된 미세기포 발생수단을 더 구비하고 있으며,
상기 이중관체의 제1소통로는 유리 소재의 내부관에 의하여 감싸인 내부통로이고, 제2소통로는 내부관과 외부관 사이에 형성되고,
제2소통로에 배열된 전극은 코일 형태를 이루는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치는 각종 난분해성물질, 대장균, 각종 세균과 바이러스, 수중의 독성물질 등은 플라즈마 방전에 의한 제1소통로 내의 강한 전계(電界)와 이에 의한 전해물질발생, 제1소통로 외주면에 발생되는 UV등의 플라즈마 빛(光)에너지 그리고 이 플라즈마에 의한 오존발생과 주입 산소에 의해 제거가 가능한데, 이 플라즈마 고도수처리 장치는 처리대상수를 통수하기 위한 제1소통로, 활성화된 여기 또는 전리 산소와 오존 등의 라디칼 반응용 기체의 이동을 위한 제2소통로 그리고 이중관체 내에 구성되는 플라즈마 방전용 전극으로 구성되고, 외부에 구비된 수조내의 미처리된 오염 처리대상수는 플라즈마 방전에너지를 가지는 플라즈마 고도수처리 장치 내에서 발생된 오존, 라디칼, 전해물질, 수중 이온성분 등과의 접촉 반응으로 완벽한 수처리를 보장할 수 있으며, 또한 이 오존, 라디칼, 전해물질, 수중 이온성분 등은 제1소통로 내에서 다수의 충진된 유전체 비드(Bead) 외주면 및 주위를 통과하는 처리대상수와의 희석 및 충돌 등에 의해 랜덤하게 움직여 제1소통로 내에서 각종 세균이나 다양한 병원균, 바이러스, 난분해성 물질 등을 보다 효과적으로 제거한다. 아울러 이중관체의 제1소통로와 제2소통로의 각 토출구와 연결되는 통합 배관과, 이 통합 배관과 접촉, 저류 및 수처리를 위한 수조 사이에 배열된 산소발생용 펌프로 구성된 미세기포 발생수단을 도입하여 처리대상수와 오존 등의 이온성 라디칼 물질과의 접촉효율을 높여 용존 효율을 극대화, 수처리 효율을 획기적으로 높일 수 있고, 나아가 집적 다수 배열된 이중관체를 수조와 연결하여 일부는 순환배관을 통하여 이중관체로 반복 순환이 가능하게 하고 일부는 배출하는 방식으로 구성하여 수처리 효율을 높이면서 가정용 소단위 수처리부터 상수도용 대단위 수처리에 이르기까지 적용할 수 있다. 그리고 최종적으로 배출되는 저농도의 오존성분은 관련 수처리 계통상에서 원수의 전처리 또는 인근 호소, 하천, 수계, 유역 등을 수처리하고자 할 경우에는 원수처리용으로 이용할 수 있어 플라즈마 고도수처리 장치에서 사용된 모든 에너지의 대부분은 관련 수처리에 사용 가능한 특징이 있으며, 기타의 미세오존의 경우에 있어서의 처리방법으로는 활성탄 등을 이용하여 미세 배오존을 쉽게 제거할 수 있는 특징이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치의 요부인 이중관체와 플라즈마 발생수단에 대한 개략적인 결합 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치를 중?대단위 수처리에 적합한 형태로 배열한 개략도.
이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
각 도면에서 동일한 참조부호, 특히 십의 자리 및 일의 자리 수, 또는 십의 자리, 일의 자리 및 알파벳이 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 기능을 갖는 부재를 나타내고, 특별한 언급이 없을 경우 도면의 각 참조부호가 지칭하는 부재는 이러한 기준에 준하는 부재로 파악하면 된다.
또 각 도면에서 구성요소들은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께를 과장되게 크거나(또는 두껍게) 작게(또는 얇게) 표현하거나, 단순화하여 표현하고 있으나 이에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 안 된다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
본 명세서에서 기재한 ~제1~, ~제2~ 등은 서로 다른 구성 요소들임을 구분하기 위해서 지칭할 것일 뿐, 제조된 순서에 구애받지 않는 것이며, 발명의 상세한 설명과 청구범위에서 그 명칭이 일치하지 않을 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)는 크게 처리대상수와 라디칼 반응용 기체가 각각 통과하는 제1 및 제2 소통로(11A)(13A)를 갖는 이중관체(10), 플라즈마발생수단(20), 그리고 처리대상수와 라디칼 발생원의 반응이 이루어지는 수조(30)를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)는 가정용 정수시설과 같은 최소단위 수처리 장치나, 하폐수 처리장의 후단 설비에 맞는 중?대규모 수처리 장치, 마을단위 취수정과 연계된 수돗물 공급이나 대도시 수돗물 공급을 위한 정수시설과 같은 다양한 소중대규모 상수 처리시설을 위하여 다양하게 접목될 수 있다. 또한 호소, 하천 등에 존재하는 조류 제거 및 다양한 물질을 산화제거하여 수질을 대폭 개선하는데 사용이 가능한 장치이다.
본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)에서 플라즈마 발생수단은 대장균이나 각종 세균, 기타 다양한 병원성 세균의 박멸과 하천과 수계의 조류 및 유해물질의 제거를 주목적으로 하고, 오존과 같은 라디칼 발생원은 각종 난분해성 유기물, 독성물질과 수중 생태독성 등을 분해 처리하는 것이 주목적으로 한다.
무엇보다도 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)는 상수원, 수돗물, 오폐수처리시설 등의 수원(W)과 연계되어 있으므로 외부에서 새로 지속적으로 공급되는 처리대상수로 인하여
플라즈마 방전으로 인한 열발생에도 불구하고 이중관체(10)가 수온에 맞게 냉각되므로 온도에 취약한 오존 등의 라디칼 발생원의 열적 안전성이 확보되어 오존발생 수율 및 처리효율이 향상된다.
구체적으로 상기 이중관체(10)는 내부관(11)과 외부관(13), 두 관(11)(13)을 이격 고정하는 양단 캡(15)으로 이루어진다. 내부관(11)과 외부관(13)은 석영유리나 파이렉스(상표명)와 같은 붕규산 유리 등 다양한 유리소재로 제조될 수 있으며, 기본적으로 절연성을 갖는다.
제1소통로(11A)와 제2소통로(13A)를 흐르는 유체는 임의로 선택할 수 있으나, 본 발명에서는 플라즈마 방전 효율과 유전체 비드(17)의 도입 편리성을 고려하여,
내부관(11)의 제1소통로(11A)를 처리대상수가 통과하는 용도로 선택하였다.
내부관(11)은 각 캡(15)의 끼움부(15A)에 외접하고, 끼움부(15A)와 나사결합하는 고정마개(15B)를 돌리면 끼움부가 내부관을 조여 내부관의 고정과 밀폐성이 동시에 보장된다. 필요에 따라 다양한 형태의 패킹링이 도입될 수 있고, 고정마개의 조임에 따라 내부관에 끼움부(15A)가 조임-밀착되는 방식은 다양한 공지의 배관 연결용 조인트 구조를 채용하여 변형될 수 있다.
또 외부관(13)은 각 캡(15)에 내접하는 형태이고, 실리콘 수지와 같은 다양한 밀봉체(S)를 통하여 밀폐성을 보장할 수 있다. 그러나 필요에 따라 캡을 변형하여 내부관 고정 구조와 같은 고정 및 밀폐구조를 도입할 수 있다.
또 상기 캡(15)에는 각종 수원(W)과 연결된 유입구(11a)와 토출구(11b)가 형성되어 있고, 오존과 같은 라디칼 발생원 형성을 위한 라디칼 반응용 기체를 제공하는 기체공급원(A)(순수 산소 또는 공기 등 공급)과 연결된 유입구(13a)와 토출구(13b)가 형성되어 있다.
한편, 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)에서 플라즈마 발생수단(20)은 전원부(21)(예: 4kV내외 제공)와, 이와 연결된 제1 및 제2 전극(23)(25)을 포함한다.
제1전극(23)은 제1소통로(11A)에 배열된 직선형이고, 제2전극(25)은 제2소통로(13A)에 배열된 코일형이다. 그러나 필요에 따라 망사(메쉬)형 전극이나 이중 코일형 전극 등 다양한 전극이 선택 도입될 수 있다.
제1전극(23) 일단은 전원부(21)와 연결되어 일측 캡(15)을 관통한 후 내부관(11) 중앙에 배열되고, 제1전극(23) 타단은 타측 캡(15)에 끼워져 지지되는 구조를 취하고 있다.
또 제2전극(25) 일단은 전원부(21)와 연결되어 타측 캡(15)과 외부관(13) 사이를 통과한 후, 내부관(11)에 외접하면서 코일 형태로 권선되어 있는 구조인데,
각 전극(23)(25)과 다른 구성요소 사이에는 적절한 밀봉체(S)를 도입하여 감전이나 누전 등의 각종 전기 안전사고 및 유체 누설 문제가 발생하지 않도록 하는 것이 바람직하다.
캡(15)과 내외관(11)(13)의 결합구조나 밀봉체의 구조는 성능, 안전성, 생산성 등을 고려하여 다양하게 변형될 수 있다.
본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)에서는 플라즈마 방전에 따라 발생되는 자외선에 의한 살균 효과 또한 기대할 수 있다.
나아가 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)는 이중관체(10)의 내부관(11), 즉 제1소통로(11A)에 유전체 비드(17)가 다수 충진되어 있는 것이 바람직하다. 상기 유전체 비드는 처리대상수 통과에 따라 물과 충돌하여 랜덤하게 움직여 제1소통로 내에서 안정적인 전위를 발생시켜 각종 세균이나 다양한 병원성 균을 보다 효과적으로 제거하는 기능을 하게 된다.
이러한 유전체 비드는 세라믹, 특히 지르코늄, 티타늄, 알루미나 또는 복합소재와 같은 공지의 기능성 세라믹으로 이루어져 제1소통로 내에서 안정적 전위 발생 기능과 함께 원적외선 및 자외선 방사, 악취제거, 흡착기능 등과 같은 세라믹 물질 고유의 기능을 겸하도록 할 수 있다.
도 2에서와 같이 상기 수조(30)는 1, 2개의 이중관체(10)와 연결된 것이 아니라 수처리 규모에 따라 수십, 수백 개의 이중관체와 연결될 수 있으며(도면에서는 편의상 6개의 이중관체 도시), 이러한 수조가 또한 다수 개 도입되어 플라즈마 고도수처리 시스템을 구성하여, 본 발명의 개념을 가정용 소단위 수처리부터 상수도용 대단위 수처리에까지 적용하도록 확장하는 것이 바람직하다.
나아가 상기 수조(30), 특히 좌측의 처리수 유입 수조(30B)에는 처리수 배출배관(35) 외에 이중관체(10) 또는 이중관체 집합체를 거친 물이 수조에서 라디칼 발생원과 반응한 후 다시 플라즈마 방전 처리를 거치도록 순환배관(31)과 순환펌프(33)를 더 연결 도입하는 것이 바람직하다.
순환배관(31)을 통하여 이중관체(10) 또는 이중관체 집합체와 수조(30)를 순환하는 물의 양 및 배출공급/체류 비율은 처리대상수의 오염 정도나 처리수의 수질 요건 등을 고려하여 선택할 수 있다.
또 필요에 따라 이중관체(10) 및 플라즈마 발생수단(20)으로 이루어진 플라즈마 처리 어셈블리(T1)는 도 1에서 1열 배열된 것으로 되어 있으나, 2열 이상 배열하여 다중 처리를 도모할 수 있고,
오존 등의 라디칼 발생원과 처리대상수의 반응이 이루어지는 수조 역시 2열 이상 다중 배열할 수 있다.
다음으로 본 발명에 따른 플라즈마 고도수처리 장치(T)에서는 도 2 및 도 1에 도시된 바와 같이, 미세기포 발생수단을 도입하여 수조(30)에서 처리대상수와 오존 등의 라디칼 발생원의 접촉효율을 높이고 라디칼 발생원의 용존효율 또한 높여 수처리 효율을 획기적으로 높이는 것을 도모하고 있다.
먼저 제1미세기포 발생수단(B1)은 이중관체(10)의 제1소통로(11)와 제2소통로(13)의 각 토출구(11b)(13b)와 연결되는 통합 배관(41) 및 이 통합 배관(41)과 수조(30) 사이에 배열된 펌프(43)로 구성되는데,
보다 구체적으로 토출구(11b)는 처리수 배관(41a)과 연결되고, 토출구(13b)는 오존 배출 배관(41b)과 연결되어 통합 배관(41)에서 합쳐져 펌프(43)의 흡입력에 의하여 수조(30), 특히 처리수 유입 수조(30B)로 유입된다.
한편, 이중관체(10)의 내부관(11)으로 처리대상수를 공급하는 상수원, 수돗물, 오폐수처리시설 등의 수원(W)은 직접적으로 배관을 통하여 연결될 수 있으나,
본 발명에서는 지속적이고 안정적인 처리대상수 공급을 보장하고 수처리 효율을 높이기 위하여 하나의 수조(30)를 처리수 유입 수조(30B)와 처리대상수 유입 수조(30A)로 분리 구성하고 있고,
상기 처리수 유입 수조(30B)에 상기 통합 배관(41)이 연결 구비되어서 상기 처리수 유입 수조(30B)에서 처리수와 라디칼 발생원의 반응이 이루어지고, 상기 처리대상수 유입 수조(30A)는 상기 처리수 유입 수조(30B) 옆에 구비되어서 수원(W)으로부터 다양한 처리대상수가 유입된다.
상기 처리대상수 유입 수조(30A)의 처리대상수가 순환펌프(33)에 의하여 펌핑되어 순환배관(31)을 거쳐 각 플라즈마 처리 어셈블리(T1)의 이중관체(10)로 공급되는 형태로 구성하였다.
또 필요에 따라 처리수 유입 수조(30B) 및 처리대상수 유입 수조(30A) 사이의 격벽에 밸브(V2)를 구성하고, 이 밸브(V2)를 개방한 상태에서 수원(W)에 구비된 밸브(V1)를 폐쇄하거나 개방(부분 개방 가능)한 상태에서
처리수를 반복 순환하여 처리효율을 높일 수도 있다.
처리수 유입 수조(30B) 및 처리대상수 유입 수조(30A) 사이의 격벽은 필수적인 것이 아니며(따라서 하나의 수조(30)에 처리수 유입 수조(30B) 및 처리대상수 유입 수조(30A)를 배열한 구성은 예시적인 것이다) 물리적으로 분리된 두 수조가 각각 제1 및 제2 수조를 구성하고, 두 수조는 배관으로 연결되며, 이 배관에 밸브를 도입한 형태 또한 가능하다.
다음으로 제1미세기포 발생수단(B1)과 함께 운전되거나 독자적으로 운전될 수 있는 제2미세기포 발생수단(B2)은 순환배관(31)과 순환펌프(33), 오존 배출 배관(31b)으로 구성된다.
독자 운전시 제1미세기포 발생수단(B1)의 오존 배출 배관(41b)의 오존밸브(V1a)는 닫고,
제2미세기포 발생수단(B2)의 오존 배출 배관(31b)의 밸브(V1b)를 개방한 상태에서
처리대상수 유입 수조(30A)와 연결된 배관(31a)에 구비된 밸브(V3a) 역시 개방하면
순환펌프(33)에 의하여 처리대상수가 순환배관(31)에서 통합되어 미세기포를 함유한 처리대상수가 플라즈마 처리 어셈블리(T1)의 이중관체(10) 내부관(11)으로 공급된다.
무엇보다도 제2미세기포 발생수단(B2)은 기포가 유전체비드(17)와 충돌하면서 더욱 작게 쪼게 지므로 용존산소량을 높일 수 있고 미세기포에 의한 다양한 수처리 효율이 획기적으로 향상된다.
이상에서 제2미세기포 발생수단(B2)을 구성하는 '순환배관'(31)은 제1미세기포 발생수단(B1)의 '통합배관'(41)과 같은 기능을 하는 것이며, 본질적으로 제1소통로(11)와 제2소통로(13)의 각 토출구(11b)(13b)와 연결되고, 이와 같이 통합배관 역할을 하는 '순환배관'(31)과 처리대상수 유입 수조(30A) 사이에는 펌프(33)가 배열되어 있으므로, 청구범위 제3항의 기술된 범위에 상응한다.
본 명세서에서 미세기포 발생수단 및 수조와 관련하여 ~제1~, ~제2~로 구분하여 지칭하는 것은 상호 구분을 위한 것으로 중요도나 제조 순서 등과 무관한 것이며, 특히 편의상 상호 비교하여 기술할 때 ~제1~, ~제2~를 붙여 구분한다.
또 본 명세서에서 '처리수'와 '처리대상수'는 엄격한 지칭은 아니며, 대략적으로 플라즈마 처리 어셈블리(T1)로의 유입시에는 '처리대상수'로 지칭하고, 플라즈마 처리 어셈블리(T1)에서 배출되는 경우에는 '처리수'로 지칭하였다.
한편, 필요에 따라 처리대상수와 라디칼 발생원의 접촉효율을 높이고 수처리 효율을 향상시키기 위하여 상기 수조에는 임펠러 타입의 교반기나 다양한 산기관이 더 도입될 수 있다.
나아가 상기 수원(W) 및 기체공급원(A) 각각과 이중관체(10)를 연결하는 배관이나, 기타 배관 상의 필요 부위에는 밸브(V)가 더 도입되는 것이 바람직하다.
또 전원부(21), 펌프(33)(43), 다양한 밸브(V)(V1)(V1a)(V1b)(V2)(V3a)(V3b, 최종 처리수 배출시 사용되도록 처리수 배출배관(35)에 구비됨) 등의 제어는 각종 마이컴, PLC(Programmable Logic controller) 등으로 제어부를 구성하여 반자동 또는 자동 운전 제어하는 것이 바람직하다.
이상의 설명에서 플라즈마 발생 방법 및 그 메커니즘, 전원부의 구체 사양, 전극의 구체 사양, 펌프들의 사양, 처리 용량, 제어방법 등과 관련된 통상의 공지된 기술을 생략되어 있으나, 당업자라면 용이하게 이를 추측 및 추론하고 재현할 수 있다.
또 이상에서 본 발명을 설명함에 있어 첨부된 도면을 참조하여 특정 형상과 구조를 갖는 플라즈마 고도수처리 장치를 위주로 설명하였으나 본 발명은 당업자에 의하여 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능하고, 이러한 수정, 변경 및 치환은 본 발명의 보호범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.
T: 수처리 장치 W: 수원
A: 기체공급원 S: 밀봉체
10: 이중관체 11: 내부관
11A: 제1소통로 13: 외부관
13A: 제2소통로 15: 캡
17: 유전체 비드 20: 플라즈마 발생수단
21: 전원부 23,25: 전극
30: 수조 31: 순환배관
33: 순환펌프 B1,B2: 미세기포 발생수단
41: 통합배관 43: 펌프

Claims (4)

  1. 처리대상수가 통과하는 제1소통로(11A)와 라디칼 반응용 기체가 통과하는 제2소통로(13A)가 형성되어 있으며, 상기 제1소통로(11A)와 제2소통로(13A)를 형성하기 위한 내부관(11)과 외부관(13)이 구비되어 있는 이중관체(10);
    상기 이중관체(10)의 제1 및 제2 소통로(11A, 13A)에 각각 배열된 전극(23, 25)과, 상기 전극(23, 25)과 연결된 전원부(21)를 포함하는 플라즈마 발생수단(20); 및
    상기 이중관체(10)와 연결되어 상기 제1소통로(11A)로부터 유출되는 처리수와 상기 제2소통로(13A)로부터 유출되는 라디칼 발생원의 반응이 이루어지는 수조(30)를 포함하여 구성되고,
    상기 이중관체(10)의 제1소통로(11A)는 내부관(11)에 의하여 감싸인 내부통로이고, 상기 제2소통로(13A)는 내부관(11)과 외부관(13) 사이에 형성되며,
    상기 이중관체(10)의 제1소통로(11A)에는 처리수 통과에 따라 랜덤하게 움직여 제1소통로 내에서 안정적인 전위를 발생시키는 다수의 유전체 비드(17)가 충진되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 고도수처리 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 이중관체(10)는 복수로 구비되고,
    상기 이중관체(10)의 제1소통로(11A)와 제2소통로(13A)의 각 토출구(11b, 13b)와 연결되는 통합 배관(41), 상기 통합 배관(41)과 수조(30) 사이에 배열된 펌프(43)로 구성된 미세기포 발생수단이 더 포함되어 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 고도수처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 수조(30)에는 상기 이중관체(10)에서 처리된 처리수가 수조(30)에서 라디칼 발생원과 반응한 후 다시 플라즈마 방전 처리를 거치도록 순환배관(31)과 순환펌프(33)가 더 포함되어서 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 고도수처리 장치.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101388535B1 (ko) 2012-03-21 2014-04-23 자원전자 주식회사 누수감지센서가 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR200472395Y1 (ko) 2012-03-21 2014-04-23 자원전자 주식회사 플라즈마 고도수 처리장치
KR101402935B1 (ko) * 2014-03-20 2014-06-02 (주)에프에이대원 용해조를 구비한 플라즈마 수처리시스템
KR101590623B1 (ko) * 2013-08-07 2016-02-02 자원전자 주식회사 오존수 역류방지 기능이 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR101596869B1 (ko) * 2015-10-06 2016-02-23 (주)아이온크린 저온 플라즈마 수처리 장치 및 수처리 방법
KR20160146922A (ko) * 2014-04-24 2016-12-21 엔씨에이취 코오포레이션 고 전압 방전 및 오존을 가진 용수 시스템들을 처리하기 위한 시스템 및 방법
KR20180135381A (ko) 2017-06-12 2018-12-20 자원전자 주식회사 오존 생성량 제어 기능이 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR20200100326A (ko) 2019-02-18 2020-08-26 지닉스 주식회사 자외선램프 내장형 플라즈마 고도수처리용 방전관
US10934182B2 (en) 2013-05-01 2021-03-02 Nch Corporation System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone
KR20220087591A (ko) * 2020-12-16 2022-06-27 주식회사 골든타임세이퍼 전기 수질 정화 장치

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013069799A1 (ja) * 2011-11-11 2013-05-16 国立大学法人佐賀大学 プラズマ生成装置
CN103301724B (zh) * 2013-06-14 2015-08-26 华南理工大学 一种自冷却活性粒子激发器
EP3108721B1 (en) * 2014-02-18 2021-04-07 King Abdullah University Of Science And Technology Systems and methods for producing electrical discharges in compositions
KR101694113B1 (ko) * 2014-10-24 2017-01-10 한국기초과학지원연구원 에틸렌 처리장치 및 이를 이용한 에틸렌 처리방법
KR20170097063A (ko) * 2014-12-15 2017-08-25 테크니쉐 유니버시테이트 아인트호벤 플라즈마 활성화된 물
WO2016191696A1 (en) * 2015-05-28 2016-12-01 The Regents Of The University Of Michigan Plasma water purifier having packed bed discharges with water dielectric barriers
KR101669185B1 (ko) * 2015-08-24 2016-11-10 한국식품연구원 배관용 플라즈마 살균장치
KR101680522B1 (ko) * 2016-06-22 2016-11-29 한주호 수처리용 자율기포생성 플라즈마 유닛
CN109661244B (zh) * 2016-08-30 2021-08-10 国立大学法人东北大学 病原体及害虫的驱除装置以及其反应容器
KR101946821B1 (ko) * 2016-11-18 2019-02-12 농업회사법인 주식회사 부림아그로텍 수중 플라즈마 토치
CN108112152A (zh) * 2017-12-20 2018-06-01 国网陕西省电力公司电力科学研究院 一种温控水中大体积放电产生装置及其方法
RU185700U1 (ru) * 2018-09-28 2018-12-14 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) Плазмокаталитический реактор обработки жидкости барьерным разрядом
RU189390U1 (ru) * 2019-01-30 2019-05-21 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) Плазмогазокаталитический реактор обработки жидкости
CN110092448B (zh) * 2019-05-06 2021-12-17 重庆工商大学 一种同心圆双电极放电等离子体o/w乳化液破乳装置
KR102483967B1 (ko) * 2020-03-13 2023-01-04 지닉스 주식회사 착유세척수 처리장치
US11535532B1 (en) * 2020-07-17 2022-12-27 Dmitry Medvedev System and method of water purification and hydrogen peroxide generation by plasma
RU204654U1 (ru) * 2021-03-05 2021-06-03 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Московский государственный строительный университет" (НИУ МГСУ) Плазмогенератор объемного барьерного разряда
TWI766703B (zh) * 2021-05-27 2022-06-01 凱撒衛浴股份有限公司 電漿液系統

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990009569A (ko) * 1997-07-10 1999-02-05 이종수 플라즈마 리액터와 이를 이용한 수처리 방법 및 장치
JPH11114359A (ja) 1997-10-13 1999-04-27 Agency Of Ind Science & Technol 揮発性有害物質のプラズマ分解法及びプラズマ分解装置
JP2000117049A (ja) * 1998-08-10 2000-04-25 Sandensha:Kk 窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置
KR20090097340A (ko) * 2008-03-11 2009-09-16 주식회사 다원시스 Ｄｂｄ 플라즈마 방전을 이용한 오폐수 정화방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6182453B1 (en) * 1996-04-08 2001-02-06 Worldwide Water, Inc. Portable, potable water recovery and dispensing apparatus
US7186334B1 (en) * 1999-09-10 2007-03-06 Barnes Ronald L Combined chlorine and ozone generator sterilization system
US7959860B2 (en) * 2001-10-22 2011-06-14 Faries Jr Durward I System and method of detecting fluid and leaks in thermal treatment system basins
US6749759B2 (en) * 2002-07-12 2004-06-15 Wisconsin Alumni Research Foundation Method for disinfecting a dense fluid medium in a dense medium plasma reactor
JP4111858B2 (ja) * 2003-03-06 2008-07-02 正之 佐藤 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置
US20080063559A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-13 Joseph Alexander Fan forced electric unit that incorporates a low power cold plasma generator and method of making same
JP5067802B2 (ja) * 2006-12-28 2012-11-07 シャープ株式会社 プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
KR20090110060A (ko) * 2008-04-17 2009-10-21 주식회사 에스디알앤디 수중 플라즈마 발생장치 및 방법
US8905074B2 (en) * 2010-10-22 2014-12-09 Applied Materials, Inc. Apparatus for controlling gas distribution using orifice ratio conductance control

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990009569A (ko) * 1997-07-10 1999-02-05 이종수 플라즈마 리액터와 이를 이용한 수처리 방법 및 장치
JPH11114359A (ja) 1997-10-13 1999-04-27 Agency Of Ind Science & Technol 揮発性有害物質のプラズマ分解法及びプラズマ分解装置
JP2000117049A (ja) * 1998-08-10 2000-04-25 Sandensha:Kk 窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置
KR20090097340A (ko) * 2008-03-11 2009-09-16 주식회사 다원시스 Ｄｂｄ 플라즈마 방전을 이용한 오폐수 정화방법

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200472395Y1 (ko) 2012-03-21 2014-04-23 자원전자 주식회사 플라즈마 고도수 처리장치
KR101388535B1 (ko) 2012-03-21 2014-04-23 자원전자 주식회사 누수감지센서가 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
US10934182B2 (en) 2013-05-01 2021-03-02 Nch Corporation System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone
KR101590623B1 (ko) * 2013-08-07 2016-02-02 자원전자 주식회사 오존수 역류방지 기능이 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR101402935B1 (ko) * 2014-03-20 2014-06-02 (주)에프에이대원 용해조를 구비한 플라즈마 수처리시스템
KR102109641B1 (ko) * 2014-04-24 2020-05-29 엔시이에이취코오포레이션 고 전압 방전 및 오존을 가진 용수 시스템들을 처리하기 위한 시스템 및 방법
KR20160146922A (ko) * 2014-04-24 2016-12-21 엔씨에이취 코오포레이션 고 전압 방전 및 오존을 가진 용수 시스템들을 처리하기 위한 시스템 및 방법
KR101596869B1 (ko) * 2015-10-06 2016-02-23 (주)아이온크린 저온 플라즈마 수처리 장치 및 수처리 방법
KR20180135381A (ko) 2017-06-12 2018-12-20 자원전자 주식회사 오존 생성량 제어 기능이 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR101942369B1 (ko) * 2017-06-12 2019-01-25 자원전자 주식회사 오존 생성량 제어 기능이 구비된 플라즈마 고도수처리 장치
KR20200100326A (ko) 2019-02-18 2020-08-26 지닉스 주식회사 자외선램프 내장형 플라즈마 고도수처리용 방전관
KR102328319B1 (ko) * 2019-02-18 2021-11-18 지닉스 주식회사 자외선램프 내장형 플라즈마 고도수처리용 방전관
KR20220087591A (ko) * 2020-12-16 2022-06-27 주식회사 골든타임세이퍼 전기 수질 정화 장치
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