KR101149937B1 - 유기 전계 발광 소자 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 라인들 위에 절연층이 형성된 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다. 제 1 인듐주석산화물층들 및 이와 교차하는 금속전극층들을 포함하는 유기 전계 발광 소자는 복수의 데이터 라인들 및 복수의 스캔 라인들을 포함한다. 상기 데이터 라인들은 상기 제 1 인듐주석산화물층들에 연결된다. 상기 스캔 라인들은 상기 금속전극층들에 연결된다. 여기서, 상기 라인들 중 일부 라인들 위에 각기 라운드형 절연층이 형성되어 있다. 상기 유기 전계 발광 소자는 절연층이 라인들의 금속층을 보호하므로, 상기 라인들 사이에 단락이 발생되지 않는다.
유기 전계 발광 소자, 데이터 라인, 스캔 라인, 절연층
Description
도 1a는 종래의 유기 전계 발광 소자를 도시한 평면도이다.
도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이다.
도 2a는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자를 도시한 평면도이다.
도 2b는 본 바람직한 일 실시예에 따른 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이다.
도 2c는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 스캔 라인을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자 제조 과정 중 스캔 라인 제조 과정을 도시한 단면도들이다.
본 발명은 유기 전계 발광 소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 라인들 위에 라운드형 절연층이 형성된 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.
유기 전계 발광 소자는 발광 소자로서 소정 전압이 인가되는 경우 소정 파장의 빛을 발생시킨다.
도 1a는 종래의 유기 전계 발광 소자를 도시한 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이다. 다만, 도 1a에서는 설명의 편의를 위하여 실링 영역(112)에서 기판과 접착되는 셀캡을 도시하지 않았다.
도 1a를 참조하면, 종래의 유기 전계 발광 소자는 셀부(100), 데이터 라인들(108), 스캔 라인들(110a 및 110b) 및 실링 영역(112)을 포함한다.
셀부(100)는 제 1 인듐주석산화물층들(first Indium Tin Oxide Films, 102, 이하 "제 1 ITO층들"이라 함) 및 금속전극층들(104)을 포함한다.
또한, 제 1 ITO층들(102)과 금속전극층들(104)이 교차하는 발광 영역들에는 복수의 픽셀들(106)이 형성된다.
데이터 라인들(108)은 제 1 ITO층들(102)에 각기 연결된다.
스캔 라인들(110a 및 110b)은 금속전극층들(104)에 각기 연결된다.
실링 영역(112)은 실링 공정, 즉 상기 셀캡과 상기 기판이 접착할 때 실링제(114)가 도포되는 영역이다.
여기서, 실링제(114)는 도 1a에 도시된 바와 같이 스페이서(spacer, 116)를 포함한다.
스페이서(116)는 상기 실링 공정시 상기 셀캡과 상기 기판 사이의 높이를 유지시킨다.
도 1b를 참조하면, 각 스캔 라인들(110a 및 110b)은 기판(120) 위에 순차적으로 적층된 제 2 ITO층(122) 및 몰리브덴(Mo)으로 이루어진 금속층(124)을 포함한다.
또한, 각 데이터 라인들(108)도 도 1b에 도시된 바와 같은 구조를 가졌다.
여기서, 스페이서(116)는 실링 영역(112)에서 기판(120)뿐만 아니라 금속층(124) 위에 놓인다.
상기 실링 공정시, 금속층(124) 위에 놓인 스페이서(116)가 금속층(124)에 압력을 가하게 되고, 그래서 금속층(124)이 손상될 수 있었다.
이 경우, 금속층(124)의 파티클이 라인들(108, 110a 및 110b) 사이에 놓일 수 있었고, 그 결과 라인들(108, 110a 및 110b)이 단락될 수 있었다.
그러므로, 라인들이 단락되지 않도록 상기 라인들에 포함된 금속층을 보호할 수 있는 유기 전계 발광 소자가 요구된다.
본 발명의 목적은 라인들에 포함된 금속층을 보호할 수 있는 유기 전계 발광 소자를 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 제 1 인듐주석산화물층들 및 이와 교차하는 금속전극층들을 포함하는 유기 전 계 발광 소자는 복수의 데이터 라인들 및 복수의 스캔 라인들을 포함한다. 상기 데이터 라인들은 상기 제 1 인듐주석산화물층들에 연결된다. 상기 스캔 라인들은 상기 금속전극층들에 연결된다. 여기서, 상기 라인들 중 일부 라인들 위에 각기 라운드형 절연층이 형성되어 있다.
본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 제 1 인듐주석산화물층들 및 이와 교차하는 금속전극층들을 포함하는 유기 전계 발광 소자는 복수의 데이터 라인들 및 복수의 스캔 라인들을 포함한다. 상기 데이터 라인들은 상기 제 1 인듐주석산화물층들에 연결된다. 상기 스캔 라인들은 상기 금속전극층들에 연결된다. 여기서, 상기 전 라인들 위에 각기 라운드형 절연층이 형성되어 있다.
본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 절연층이 라인들의 금속층을 보호하므로, 상기 라인들 사이에 단락이 발생되지 않는다.
또한, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 라인들은 다층 구조의 금속층들을 포함하므로, 상기 라인들의 저항이 작아질 수 있다.
더욱이, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 절연층이 라운드형이므로, 스페이서가 상기 절연층상에서 미끌어져서 금속층이 더 잘 보호된다.
게다가, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 금속층 위에만 절연층을 형성하므로, UV를 이용한 실링제 경화시 UV 투과 영역을 최대한 확보할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 금속층 위에만 절연층을 형성하므로, 실링제와 상기 절연층의 접촉 면적을 최소화함으로써 상기 실링제의 접착력을 최대한 확보할 수 있다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 바람직한 실시예들을 자세히 설명하도록 한다.
도 2a는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자를 도시한 평면도이다. 또한, 도 2b는 본 바람직한 일 실시예에 따른 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이고, 도 2c는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 스캔 라인을 도시한 사시도이다. 다만, 도 2a에서는 설명의 편의를 위하여 실링 영역(212)에서 기판과 접착되는 셀캡을 도시하지 않았다.
도 2a를 참조하면, 본 발명의 유기 전계 발광 소자는 셀부(200), 데이터 라인들(208), 스캔 라인들(210a 및 210b) 및 실링 영역(212)을 포함한다.
셀부(200)는 제 1 인듐주석산화물층들(first Indium Tin Oxide Films, 202, 이하 "제 1 ITO층들"이라 함) 및 금속전극층들(204)을 포함한다.
또한, 제 1 ITO층들(202)과 금속전극층들(204)이 교차하는 발광 영역들에는 복수의 픽셀들(206)이 형성된다.
각 픽셀들(206)은 기판 위에 순차적으로 적층된 제 1 ITO층(202), 유기물층 및 금속전극층(204)을 포함한다.
상기 유기물층은 제 1 ITO층(202) 위에 순차적으로 형성된 정공수송층(Hole Transporting Layer, HTL), 발광층(Emitting Layer, ETL) 및 전자수송층(Electron Transporting Layer, ETL)을 포함한다.
데이터 라인들(208)은 애노드에 해당하며, 제 1 ITO층들(202)에 각기 연결된 다.
스캔 라인들(210a 및 210b)은 캐소드에 해당하며, 금속전극층들(204)에 각기 연결된다.
실링 영역(212)은 실링 공정, 즉 상기 셀캡과 상기 기판이 접착할 때 실링제(214)가 도포되는 영역이다.
여기서, 실링제(214)는 도 2a에 도시된 바와 같이 스페이서(spacer, 216)를 포함한다.
스페이서(216)는 상기 실링 공정시 상기 셀캡과 상기 기판 사이의 높이를 유지시킨다.
도 2b를 참조하면, 각 스캔 라인들(210a 및 210b)은 기판(220) 위에 순차적으로 적층된 제 2 ITO층(222) 및 금속층(224)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 금속층(224)은 몰리브덴(Mo)으로 이루어져 있다.
각 스캔 라인들(210a 및 210b) 위에는 도 2b에 도시된 바와 같이 라운드형 절연층(round-typed insulating layer, 226)이 형성되어 있다.
절연층(226)은 강도 특성이 우수하며, 스페이서(216)로부터 금속층(224)을 보호한다.
더욱이, 본 발명의 절연층(226)이 라운드 형태를 가지므로, 스페이서(216)가 절연층(226)에서 미끌어진다.
그 결과, 금속층(224)은 스페이서(216)로 인한 충격을 덜 받는다.
도 2c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스캔 라인들(210a 및 210b)에 있어서 금속층(224)은 제 2 ITO층(222)의 일부 영역 위에 형성될 수 있다.
이 경우, 절연층(226)은 금속층(224) 영역 위에만 형성된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 스캔 라인들(210a 및 210b)에 있어서 절연층은 금속층(224) 중 실링 영역(212)에 해당하는 영역에만 형성될 수 있다.
위에서는 스캔 라인들(210a 및 210b) 위에만 절연층(226)이 형성되었으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 라인들(208) 위에도 절연층(226)이 형성될 수 있다.
요컨대, 본 발명의 라인들(208, 210a 및 210b)의 전부 또는 일부 위에 라운드형 절연층(226)이 형성될 수 있다.
그러므로, 스페이서(216)로 인한 금속층(224) 파티클이 발생하지 않고, 그래서 라인들(208, 210a 및 210b) 사이에 단락이 발생되지 않는다.
즉, 본 발명의 유기 전계 발광 소자는 종래의 유기 전계 발광 소자와 달리 라운드형 절연층(226)을 이용하여 라인들(208, 210a 및 210b)을 보호한다.
또한, 본 발명의 유기 전계 발광 소자는 금속층(224) 위에만 절연층(226)을 형성하므로, UV(Ultraviolet)를 이용한 실링제(214) 경화시 UV 투과 영역을 최대한 확보할 수 있다.
상세하게는, 실링제(214)는 상기 기판을 통하여 전송되는 UV에 의해 경화된다.
이 경우, 절연층(226)이 금속층(224) 위에만 형성되므로, UV 투과 영역이 최 대한 확보된다.
게다가, 상기 유기 전계 발광 소자는 금속층(224) 위에만 절연층(226)을 형성하므로, 실링제(214)와 절연층(226)의 접촉 면적을 최소화함으로써 실링제(214)의 접착력을 최대한 확보할 수 있다.
도 3은 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 도 2a의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 스캔 라인을 도시한 단면도이다.
도 3을 참조하면, 스캔 라인들(210a 및 210b)은 기판(220) 위에 순차적으로 형성된 제 2 ITO층(230) 및 다층 구조의 금속층들을 포함한다.
바람직하게는, 상기 금속층들은 제 2 ITO층(230) 위에 순차적으로 적층된 제 1 금속층(232), 제 2 금속층(234) 및 제 3 금속층(236)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 및 3 금속층들(232 및 236)은 몰리브덴(Mo)으로 이루어진다.
또한, 제 2 금속층(234)은 금속전극층들(204)을 이루고 있는 금속과 동일한 금속으로 이루어진다.
예를 들어, 제 2 금속층(234)은 알루미늄(Al)으로 이루어진다.
절연층(238)은 스캔 라인들(210a 및 210b), 상세하게는 제 3 금속층(236) 위에 형성되어 제 3 금속층(236)을 보호한다.
위에서는 스캔 라인들(210a 및 210b)만을 언급하였으나, 데이터 라인들(208)도 스캔 라인들(210a 및 210b)과 동일한 구조를 가질 수 있다.
요컨대, 본 발명의 라인들(208, 210a 및 210b)이 다층 구조의 금속층들을 포 함하므로, 상기 금속층들의 저항이 작아진다.
그 결과, 라인들(208, 210a 및 210b)의 라인 저항이 작아진다.
또한, 라인들(208, 210a 및 210b)의 전부 또는 일부 위에 라운드형 절연층(238)이 형성되어 제 3 금속층(236)을 보호하므로, 라인들(208, 210a 및 210b) 사이에 단락이 발생되지 않는다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자 제조 과정 중 스캔 라인 제조 과정을 도시한 단면도들이다.
도 4a를 참조하면, 기판(400) 위에 제 2 ITO층들(402) 및 금속층들(404)이 순차적으로 형성된다.
이어서, 금속층들(404)이 형성된 기판(400) 위에 네거티브 포토레지스트(negative photoresist, 406)가 증착된다.
계속하여, 도 4b에 도시된 바와 같이 마스크(408)를 이용하여 네거티브 포토레지스트(406)를 노광시킨다.
이어서, 네거티브 포토레지스트(406)를 현상시킨다.
그 결과, 도 4c에 도시된 바와 같이 각 금속층들(404) 위에 라운드형 절연층(410)이 형성된다.
이 경우, 절연층을 직육면체형으로 형성하기 위한 금속층(404)과 마스크(408) 사이의 거리가 100㎛인 경우, 본 발명의 라운드형 절연층(410)을 형성하기 위해서 금속층(404)과 마스크(408) 사이의 거리를 약 200㎛로 설정한다.
위에서는 네거티브 포토레지스트(406)를 이용하여 절연층(410)을 형성하였으 나, 포지티브 포토레지스트(positive photoresist)를 사용하여 절연층(410)을 형성할 수도 있다.
이 경우, 금속층(404)과 마스크(408) 사이의 거리를 약 50㎛로 설정한다.
또한, 절연층이 그 위에 형성되는 데이터 라인들을 형성하는 과정도 상기 스캔 라인을 형성하는 과정과 동일하다.
상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 라운드형 절연층이 라인들의 금속층을 보호하므로, 상기 라인들 사이에 단락이 발생되지 않는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 라인들은 다층 구조의 금속층들을 포함하므로, 상기 라인들의 저항이 작아지는 장점이 있다.
더욱이, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 절연층이 라운드형이므로, 스페이서가 상기 절연층상에서 미끌어져서 금속층이 더 잘 보호되는 장점이 있다.
게다가, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 금속층 위에만 절연층을 형성하므로, UV를 이용한 실링제 경화시 UV 투과 영역을 최대한 확보할 수 있는 장점 이 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자는 금속층 위에만 절연층을 형성하므로, 실링제와 상기 절연층의 접촉 면적을 최소화함으로써 상기 실링제의 접착력을 최대한 확보할 수 있는 장점이 있다.
Claims (10)
- 제 1 인듐주석산화물층들 및 이와 교차하는 금속전극층들을 포함하는 유기 전계 발광 소자에 있어서,상기 제 1 인듐주석산화물층들에 연결되는 복수의 데이터 라인들; 및상기 금속전극층들에 연결되는 복수의 스캔 라인들을 포함하되,상기 라인들 중 일부 라인들 위에 각기 라운드형 절연층이 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 항에 있어서, 상기 각 라인들은 기판 위에 순차적으로 형성된 제 2 인듐주석산화물층 및 금속층을 포함하되,상기 절연층은 상기 금속층 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 항에 있어서, 상기 각 라인들은 기판 위에 순차적으로 형성된 제 2 인듐주석산화물층 및 다층 구조의 금속층들을 포함하되,상기 절연층은 상기 금속층들 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 항에 있어서, 상기 절연층은 상기 일부 라인들 중 스페이서를 포함하는 실링제가 도포되는 실링 영역 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 항에 있어서, 상기 절연층은 상기 데이터 라인들 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 항에 있어서, 상기 절연층은 상기 스캔 라인들 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 1 인듐주석산화물층들 및 이와 교차하는 금속전극층들을 포함하는 유기 전계 발광 소자에 있어서,상기 제 1 인듐주석산화물층들에 연결되는 복수의 데이터 라인들; 및상기 금속전극층들에 연결되는 복수의 스캔 라인들을 포함하되,상기 전 라인들 위에 각기 라운드형 절연층이 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 7 항에 있어서, 상기 각 라인들은 기판 위에 순차적으로 형성된 제 2 인듐주석산화물층 및 금속층을 포함하되,상기 절연층이 상기 금속층 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 7 항에 있어서, 상기 각 라인들은 기판 위에 순차적으로 형성된 제 2 인듐주석산화물층 및 다층 구조의 금속층들을 포함하되,상기 절연층은 상기 금속층들 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 제 7 항에 있어서, 상기 절연층은 상기 복수의 데이터 라인들 및 상기 복수의 스캔 라인들에서 선택된 일부 라인들 중 스페이서를 포함하는 실링제가 도포되는 실링 영역 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
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