KR101113065B1 - 액정표시장치용 광학 마스크 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀 형성에 이용되는 광학 마스크에 관한 것으로, 상기 직사각형의 콘택홀 내부 중 특히 단축면에 있어 기판의 표면으로부터 상부로 갈수록 상기 콘택홀의 면적이 점점 넓어지도록 하기 위한 테이퍼 구조를 갖도록 형성하기 위한 광학 마스크에 관한 것이다.
통상적으로 기판상의 직사각형 형태의 콘택홀에 대응하여 광학 마스크 상의 패턴은 상기 콘택홀과 동일한 형태로 형성되고 있으며, 이러한 광학 마스크를 이용하여 마스크 공정을 진행하여 형성된 콘택홀은 그 단축의 단면모양이 역테이퍼 구조를 갖게됨으로써 상기 콘택홀을 통해 상부와 하부층을 연결하는 패턴은 스탭커버리지 등이 좋지않게 되어 단선 및 저항의 증가 등에 의해 액정표시장치의 특성을 저하시키고 있지만, 본 발명의 따른 액정표시장치용 광학 마스크는 상기 직사각형 콘택홀에 대응되는 부분이 직사각형 형태를 갖는 제 1 영역 패턴과 상기 제 1 영역의 양측면에 특정 모양을 갖거나 또는 슬릿구조를 갖는 제 2 영역 패턴을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 광학 마스크를 제공함으로써 기판상에 테이퍼 구조의 콘택홀을 형성함으로써 전술한 문제를 해결할 수 있다.
광학 마스크, 노광, 액정표시장치, 콘택홀, 테이퍼 구조

Description

액정표시장치용 광학 마스크{Optical mask for Liquid Crystal Display Device}
도 1은 일반적인 액정표시장치의 분해사시도.
도 2는 일반적인 액정표시장치용 어레이 기판에 있어, 하나의 화소영역에 대한 평면도.
도 3은 도 2를 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 단면도.
도 4는 액정표시장치용 어레이 기판 상에 콘택홀 형성을 위한 종래의 광학 마스크의 상기 콘택홀에 대응되는 영역 패턴 일부를 도시한 평면도.
도 5a 와 도 5b는 종래의 광학 마스크를 이용하여 형성한 어레이 기판 상의 콘택홀에 있어, 그 장축을 절단선으로하여 상기 콘택홀 단축을 가로지르며 상기 콘택홀의 중앙을 절단한 단면도.
도 6a와 도 6b는 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위해 이용된 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크의 일부를 도시한 평면도.
도 7a와 도 7b는 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위해 이용된 본 발명의 제 3 및 제 4 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크의 일부를 도시한 평면도.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예의 변형예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크 일부를 도시한 평면도.
도 9는 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위해 이용된 본 발명의 제 5 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크의 일부를 도시한 평면도.
도 10은 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위해 이용된 본 발명의 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크의 일부를 도시한 평면도.
도 11a 내지 도 11d는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 이용하여 어레이 기판상에 직사각형 형상의 데이터 패드 콘택홀을 형성하는 방법을 도시한 제조 공정 단면도.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
510 : 광학 마스크
520 : 기판상의 콘택홀에 대응되는 광학 마스크 내의 패턴
535 : 바 패턴
D1 : 광학 마스크의 패턴 내의 제 3 영역
D2 : 광학 마스크의 패턴 내의 제 4 영역
rw6 : 제 3 영역(D1)의 폭
x : 채널 길이 방향
y : 채널 폭 방향
본 발명은 액정표시장치용 어레이 기판의 제조에 이용되는 광학 마스크 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다.
이러한 액정표시장치 중에서도 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on),오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.
일반적으로, 액정표시장치는 박막트랜지스터 및 화소전극을 형성하는 어레이 기판 제조 공정과 컬러필터 및 공통 전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조 공정을 통해 각각 어레이 기판 및 컬러필터 기판을 형성하고, 이 두 기판 사이에 액정을 개재하는 액정 셀 공정을 거쳐 완성된다.
도 1은 일반적인 액정표시장치의 분해사시도이다.
도시한 바와 같이, 일반적인 액정표시장치는 액정층(70)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(80)이 대면 합착된 구성을 갖는데, 이중 하부의 어레 이 기판(10)은 투명한 제 1 절연기판(11) 및 이의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(15)과 데이터 배선(40)을 포함하며, 이들 두 배선(15, 40)의 교차지점에는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(65)과 일대일 대응 접속되어 있다.
또한, 상기 어레이 기판(10)과 마주보는 상부의 컬러필터 기판(80)은 투명한 제 2 절연기판(81) 및 이의 배면으로 상기 게이트 배선(15)과 데이터 배선(40) 그리고 박막트랜지스터(Tr) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(85)가 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(85)의 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(89(89a, 89b, 89c))이 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(85)와 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(89) 하부로 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(92)이 마련되어 있다.
그리고, 상기 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(80)의 각 외부면에는 편광축과 평행한 빛만을 투과시키는 제 1, 2 편광판(미도시)이 위치하고, 상기 제 1 편광판(미도시) 하부에는 별도의 광원인 백라이트(back light)(미도시)가 배치되어 있다.
도 2는 일반적인 액정표시장치용 어레이 기판에 있어, 하나의 화소영역에 대한 평면도이며, 도 3은 도 2를 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하여 종래의 액정표시장치용 어레이 기판의 하나의 화소영역의 평면구조 및 그 단면구조에 대해 설명한다.
도시한 바와 같이, 기판(11)에 있어 가로 방향으로 게이트 배선(15)이 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(15)과 교차하여 데이터 배선(40)이 형성됨으로써 상기 두 배선(15, 40)에 의해 화소영역(P)이 정의되고 있으며, 상기 화소영역(P)에는 상기 게이트 배선(15)과 소정간격 이격하여 공통배선(20)이 형성되어 있다.
또한, 상기 게이트 배선(15)과 데이터 배선(40)이 교차하는 영역에는 스위칭 소자로서 최하부에 게이트 전극(18)과, 그 상부로 게이트 절연막(30)과, 상기 게이트 절연막(30) 상부로 액티브층(35a)과 오믹콘택층(35b)으로 이루어진 반도체층(35)과, 상기 반도체층(35) 위로 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(43, 46)으로 구성된 박막트랜지스터(Tr)가 형성되어 있으며, 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(46)과 접촉하며 상기 화소영역(P)별로 독립된 화소전극(65)이 형성되어 있다. 또한, 상기 화소전극(65)은 상기 공통배선(20)과 중첩되어 형성됨으로써 상기 화소영역(P)내에서 상기 공통배선(20)을 제 1 스토리지 전극(23)으로 상기 공통배선(20)과 중첩되는 화소전극 영역을 제 2 스토리지 전극(66)으로 하고, 상기 제 1 및 제 2 스토리지 전극(23, 66) 사이에 구성된 게이트 절연막(30) 및 보호층(55)을 유전체 물질층으로 하는 스토리지 커패시터(StgC)를 형성하고 있다.
전술한 액정표시장치용 어레이 기판(11)에 있어서, 게이트 배선(15) 및 데이터 배선(40)과, 게이트 전극(18)과 소스 및 드레인 전극(43, 46)을 패터닝하거나 또는 드레인 콘택홀(57) 등을 형성하기 위해서는 마스크 공정을 진행해야 한다.
마스크 공정이란, 기판 상에서 특정형태를 갖는 패턴들 예를들면 배선 또는 전극 등을 형성하기 위한 물질을 증착 또는 도포하여 금속층 또는 게이트 절연막 등의 절연층을 형성하고, 이러한 금속층 및 절연층 위로 감광성 물질인 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트층을 형성하고, 상기 포토레지스트층 위로 형성해야 할 패턴의 모양대로 빛을 투과시키는 투과영역을 형성하거나 또는 빛을 차단하는 차단영역으로 형성하거나 해서, 이렇게 특정 패턴 모양으로 형성된 투과영역과 차단영역을 갖는 마스크를 통해 상기 포토레지스트층에 노광 공정을 실시하며, 상기 노광 공정 후에 상기 포토레지스트층을 현상액에 노출시켜 현상하게 되면, 상기 포토레지스트 타입에 따라 빛을 받은 부분이 기판 상에 남게되거나 또는 빛을 받은 부분이 제거됨으로써 포토레지스트 패턴이 형성되고, 이렇게 상기 포토레지스트 패턴 외부로 노출된 절연층 또는 금속층을 식각함으로써 기판 상에 배선 또는 전극 또는 콘택홀 등을 형성하는 일련의 공정을 말한다.
이러한 마스크 공정을 진행하는데 있어, 특히, 보호층(55) 상에 드레인 콘택홀(57) 또는 도면에 나타나지 않았으나, 게이트 또는 데이터 패드 콘택홀(미도시)을 형성함에 있어, 상기 콘택홀의 형태가 통상적으로 직사각형 형태로 형성되고 있는 바, 콘택홀 형성을 위한 광학 마스크의 콘택홀에 대응되는 패턴 일부를 도시한 평면도인 도 4에 도시한 바와 같이, 이러한 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위한 노광 공정에 이용되는 마스크(95)에 있어서도, 상기 기판 상의 콘택홀 형성 부분에 대응되는 마스크(95) 내의 영역은 통상적으로 직사각형 형태로 패턴(96)이 형성되고 있으며, 상기 패턴(96)이 빛을 차단하는 차단영역(BA)으로 형성되고, 그 외의 영역은 빛을 투과하는 투과영역(TA)으로 구성되거나, 또는 그 반대로 상기 직사각형 형태 패턴이 빛을 투과시키는 투과영역으로 구성되고 그 외의 영역은 차단영 역으로 구성되고 있다.
하지만, 이렇게 기판 상에 콘택홀 형성을 위한 광학 마스크(95)에 있어, 기판 상의 콘택홀에 대응되는 영역이 직사각형 형태로 형성된 경우, 이러한 마스크를 이용하여 노광, 현상, 식각을 실시하여 실제적으로 기판 상에 완성되는 콘택홀은, 기판상의 콘택홀을 그 장축을 절단선으로하여 상기 콘택홀 단축을 가로지르며 상기 콘택홀의 중앙을 절단한 단면도인 도 5a 와 도 5b에 도시한 바와 같이, 단축(sa1, sa2)을 이루는 콘택홀(130)의 측벽이 상기 콘택홀(130)을 통해 노출된 하부층(120) 표면으로부터 상부로 갈수록 좁아지게 되는 역테이퍼 구조(도 5a참조) 또는 기판(110)의 표면과 거의 수직인 형태(도 5b참조)로 형성되고 있다.
따라서, 이러한 구조를 갖는 상기 콘택홀(130)을 통해 하부층(120)과 접촉하도록 형성하는 물질층(135)이 상기 콘택홀(130) 내부에서 단선이 발생하거나 또는 역테이퍼 구조로 인해 스텝 커버리지가 좋지 못하여 상기 물질층이 매우 급한 각도로 꺾어지며 형성됨으로써 상기 꺾여진 부분(xA)에서 저항의 증가로 인해 전압강하를 유발시켜 액정표시장치의 특성을 저하시키게 되는 문제가 발생하고 있다.
특히, 최근에 생산성을 높이고자 기판이 대형화됨으로써 종래의 스핀 코팅 장치를 이용한 포토레지스트층 형성이 불가능해짐에 따라 최근에는 바 코터 또는 슬릿 코터 장치를 통해 기판 상에 포토레지스트층을 형성하고 있는데, 이렇게 바 코터 또는 슬릿 코터 장치를 통래 포토레지스트층을 형성하는 것은 그 장비 특성상 상기 스핀 코팅 장치를 통한 포토레지스트층의 두께대비 더욱 두껍게 형성되는 바, 이렇게 두껍게 형성되는 포토레지스트층을 이용하여 기판 상에 콘택홀을 형성하게 되면 그 단축 부분에서는 더욱더 역테이퍼 구조의 콘택홀이 형성되고 있으며, 이에 의해 배선 또는 전극의 단선불량이 더욱 심각해지고 있는 실정이다.
따라서, 본 발명의 목적은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로 액정표시장치용 어레이 기판을 제조하는데 사용되는 광학 마스크에 있어서, 기판 상에 직사각형 형상 콘택홀 형성을 위해 대응되는 부분의 구조 특히, 상기 콘택홀의 단축 부분에 대응되는 마스크 상의 패턴 구조를 변경함으로써, 이를 이용하여 액정표시장치용 어레이 기판 상에 콘택홀을 형성할 시, 상기 콘택홀이 노출된 하부층으로부터 상부로 갈수록 상기 콘택홀의 면적이 넓어지는 구조 즉 테이퍼 구조로 상기 콘택홀을 형성할 수 있는 광학 마스크를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
따라서, 테이퍼 구조의 콘택홀을 액정표시장치용 어레이 기판에 형성함으로써 상기 콘택홀을 통해 하부층과 접촉하는 물질층에 있어 단선 발생을 방지하면, 스텝커버리지를 향상시켜 과부하를 방지하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크는 어레이 기판 상의 직사각형 형태의 콘택홀 형성에 이용되는 액정표시장치용 광학 마스크에 있어서, 상기 어레이 기판 상의 각 콘택홀 형성 부분의 중앙부에 대응하여 제 1 폭을 갖는 사각형 형상의 제 1 영역 패턴과; 상기 제 1 영역 패턴의 양 측면에서 각각 연장하며, 상기 제 1 폭보다 더 큰 제 2 폭을 가지며 형성된 제 2 영역 패턴을 포함한다.
이때, 상기 제 2 영역 패턴은 사각형 또는 윗변이 상기 제 1 영역 패턴의 끝단과 접촉하는 사다리꼴 형상인 것이 특징이다.
본 발명에 또 따른 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크는 어레이 기판 상의 직사각형 형태의 콘택홀 형성에 이용되는 액정표시장치용 광학 마스크에 있어서, 상기 어레이 기판 상의 각 콘택홀 형성 부분의 중앙부에 대응하여 제 1 폭을 갖는 사각형 형상의 제 1 영역 패턴과; 상기 제 1 영역 패턴의 양 측면에 바(bar) 패턴과 상기 바(bar) 패턴 사이의 슬릿영역을 갖는 제 2 영역 패턴을 포함한다.
이때, 상기 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴 양끝단에서 각각 연장되어 상기 제 1 폭 방향에 대해 수직한 방향으로 그 길이 방향을 가지며 배치된 것이 특징이며, 이때, 상기 제 2 영역 패턴의 상부 및 하부에, 상기 제 1 폭 방향으로 각각 연장하여 상기 제 2 패턴 영역과 동일한 구조를 갖는 제 3 영역 패턴이 더욱 형성된 것이 특징이며, 이때, 상기 제 2 영역 패턴과 제 3 영역 패턴 내의 상기 바 패턴은 상기 제 1 영역 패턴과 먼 쪽에 위치한 끝단이 일치하는 것이 특징이다.
또한, 상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 제 1 폭의 중앙부와 가까워질수록 더 짧은 길이를 갖는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제 2 영역 패턴 내의 바(bar) 패턴은 상기 제 1 폭 방향으로 그 길이를 가지며, 상기 제 2 영역 패턴의 양 끝단이 연장하는 방향으로 이격하며 배치된 것이 특징이며, 이 경우, 상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단에서 멀어질수록 더 작은 길이를 갖는 것이 특징이다.
또한, 상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴 중 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단과 이웃한 바 패턴은 그 길이가 상기 제 1 폭과 동일한 크기를 갖거나, 또는 상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단에서 멀어질수록 더 큰 길이를 갖는 것이 특징이며, 이 경우, 상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴 중 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단과 이웃한 바(bar) 패턴은 그 길이가 상기 제 1 폭과 동일한 크기를 갖는 것이 바람직하며, 이때, 상기 바 패턴은 그 양 끝단부에서 각각 상기 제 1 영역 패턴 쪽으로 절곡된 부분이 형성됨으로써 "[","]"형태로 형성된 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 어레이 기판 제조용 광한 마스크 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조 방법에 대해 도면을 참조하여 설명한다.
<제 1, 2 실시예>
도 6a와 도 6b는 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 도시한 평면도로서 액정표시장치용 어레이 기판상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하는데 이용되는 광학 마스크의 평면도 일부를 도시한 것이다. 설명의 편의상 상기 마스크상의 직사각형 패턴의 장축방향을 x 방향, 단축방향을 y방향이라 정의한다.
도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크(210, 310)는 기판(미도시)상의 직사각형 형태의 콘택홀(미도시) 형성 부분에 대응하는 직사각형 패턴(220, 320)에 있어, 그 중앙부분(A1, B1)의 폭(rw1, rw3)은 그대로 두고, 그 양측 끝단 즉, 단축 근처의 소정 영역(A2, B2)의 폭(rw2, rw4)을 증가시킨 구조를 보이고 있다. 즉, 상기 마스크(210, 310) 상의 직사각형 패턴(220, 320) 중 x방향의 양끝단 부분(A2, B2)을 y방향으로 소정간격 연장하여 형성한 것을 특징으로 하고 있다.
좀 더 상세히 설명하면, 상기 마스크(210, 310) 내의 직사각형 패턴(220, 320)의 단축 길이의 제 1 폭(rw1, rw3)을 갖는 제 1 영역(A1, B1)이, 상기 직사각형 패턴(220, 320)의 x방향의 양 끝단부에 있어서는 상기 단축 길이의 제 1 폭(rw1, rw3)보다 넓은 제 2 폭(wr2, wr4)을 갖는 제 2 영역(A2, B2)을 가지며 형성되고 있다. 이때, 제 1 실시예에서는 도 6a에 도시한 바와 같이, 상기 제 2 영역(A2)에 있어, 상기 제 2 영역(A2) 전체가 동일한 크기로 제 2 폭(rw2)을 가지며 형성됨으로써 상기 제 2 영역(A2) 자체가 y방향으로 장축이 위치하는 직사각형 형태로 형성된 것을 보이고 있다.
또한, 제 2 실시예에서는 도 6b에 도시한 바와 같이, 직사각형 모양의 제 1 영역(B1) 양 끝단부의 제 2 영역(B2)이 상기 제 1 폭(rw3)의 단축을 윗변, 상기 1 폭(rw3)보다 더 길어진 제 1 길이(L1)를 밑변으로 하여 상기 밑변이 상기 제 1 영역(B1)의 양 끝단의 단축과 접촉 대응되는 형태의 사다리꼴 구조로 형성됨으로써 상기 제 2 폭(rw4)이 양 끝단부로 갈수록 점점 더 커지는 구조를 갖는 것이 특징이 다.
전술한 제 1 및 제 2 실시예에 있어, 상기 제 1 및 제 2 영역((A1,B1),(A2, B2))을 포함하는 패턴(220, 320)은 빛을 차단하는 차단영역(BA)으로 형성되고 그 외의 영역이 빛을 투과시키는 투과영역(TA)으로 형성될 수도 있고, 도면에 나타내지 않았지만, 그 반대로 상기 제 1 및 제 2 영역을 포함하는 패턴이 투과영역, 그 외의 영역이 차단영역으로 형성될 수도 있다.
이는 상기 마스크(210, 310)를 이용하여 노광하는 포토레지스트의 특성에 따라 달라지기 때문이다. 즉, 빛을 받는 부분이 현상 시 기판 상에 남게되는 네가티브 타입(negative type)의 포토레지스트를 이용한 경우, 콘택홀에 대응되는 부분이 투과영역이 대응되어야 하므로 상기 마스크 내의 제 1, 2 영역은 차단영역으로 구성하여야 하고, 반대로 빛을 받은 부분이 현상 시 제거되는 포지티브 타입(positive) 포토레지스트를 이용하였을 경우, 상기 마스크 상의 제 1, 2 영역은 투과영역으로 구성되어야 하기 때문이다.
<제 3, 4 실시예>
도 7a와 도 7b는 본 발명의 제 3 및 제 4 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 도시한 평면도로서 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하는데 이용되는 광학 마스크의 평면도 일부를 도시한 것이다.
도시한 바와 같이, 본 발명의 제 3과 제 4 실시예에 의한 액정표시장치용 광학 마스크(410, 510)는 기판(미도시)의 직사각형의 콘택홀 형성부에 대응하는 패턴 (420, 520)에 있어 중앙의 제 3 영역(C1, D1)은 직사각형 또는 정사각형 모양을 이루고, 상기 사각형 모양의 제 3 영역(C1, D1)의 x방향으로의 양측 끝단부에는 슬릿 구조를 갖는 제 4 영역(C2, D2)이 형성된 것이 특징이다.
이때, 제 3 실시예에 있어서는 상기 슬릿 구조를 갖는 제 4 영역(C2)이 y방향으로 소정폭을 가지며, x방향으로 길게 연장하는 형태의 바(bar) 모양의 패턴(435)이 서로 소정간격 이격하며 다수개 형성되어 있으며, 상기 바 모양의 패턴(435)의 일끝단이 각각 상기 제 3 영역(C1)과 접촉하며 마치 상기 제 3 영역(C1)에서 분기한 형태로 형성되고 있는 것이 특징이다. 이때, 상기 제 4 영역(C2)에 형성된 바 모양의 패턴(435)은 상기 제 3 영역(C1)의 폭(rw5) 중앙에 대응하여 가장 짧은 길이를 가지며, 상기 폭 중앙으로부터 각각 y방향으로 멀어지며 점점 더 긴 길이를 가지며 형성되고 있는 것이 또 다른 특징이 되고 있다.
한편, 제 4 실시예에서는 슬릿 구조의 제 4 영역(D2)에 구비된 바 형태의 패턴(535)이 중앙에 위치한 제 3 영역(D1)을 기준으로 양끝단에서 소정간격 이격하여 각각 상기 제 3 영역(D1)의 폭(rw6)과 동일한 크기로서 그 길이를 갖는 제 1 바 패턴(535a)이 형성되고 있으며, 상기 제 3 영역(D2) 양측의 제 1 바 패턴(535a)의 외측으로 소정간격 이격하여 상기 제 1 바 패턴(535a)보다 작은 길이를 갖는 제 2 바 패턴(535b)이 형성되고 있으며, 이러한 구조로 상기 제 3 영역(D1)의 양끝에서 멀어질수록 점점 더 짧은 길이를 갖는 바 패턴(535)이 소정간격 이격하여 형성되어 있는 것이 특징이다.
또한, 제 4 실시예의 변형예로써 도 8을 참조하면, 마스크(610) 내 기판상의 콘택홀 형성 영역에 대응되는 패턴(620) 중앙의 제 5 영역(E1)의 양끝단의 제 6 영역(E2) 각각 구비된 바(bar) 패턴(635)에 있어, 상기 제 5 영역(E1)의 양 끝단부에서 점점 멀어질수록 더 긴 길이를 갖는 바(bar) 패턴(635a, 635b, 635c)이 형성되고 있는 것이 특징이다.
즉, 도시한 바와 같이, 상기 제 5 영역(E1)의 폭(rw7)과 동일한 크기를 그 길이로 하는 제 1 바 패턴(635a)이 상기 제 5 영역(E1)의 외측으로 소정간격 이격하여 배치되고 있으며, 상기 제 1 바 패턴(635a)에서 그 외측으로 소정간격 이격하여 상기 제 1 바 패턴(635a)보다 더 긴 길이를 갖는 제 2 바 패턴(635b)이 형성되고 있으며, 동일하게 상기 제 5 영역(E1)에서 멀어질수록 더 긴 길이를 갖는 다수의 바 패턴(635a, 635b, 635c)이 소정간격 이격하여 형성되고 있는 것이 특징이다.
<제 5 실시예>
도 9는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 도시한 평면도로서 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하는데 이용되는 광학 마스크의 평면도 일부를 도시한 것이다.
도시한 바와 같이, 본 발명의 제 5 실시예에 있어, 기판상의 콘택홀 형성 영역에 대응하는 마스크 내 패턴(720)은, 사각형 형상의 중앙부 이루는 제 7 영역(F1)과, 상기 제 7 영역(F1)의 양측 끝단부에 상기 사각형 형태의 제 7 영역(F1)의 폭(rw8)보다 상기 폭 방향 즉 y방향으로 더 넓은 폭을 갖는 영역에 x방향으로 길이를 갖는 다수의 바 패턴(735)이 y방향으로 소정 폭 이격하며 배열된 슬릿 구조의 제 8 영역(F2)으로 구성된 것이 특징이다.
이는 본 발명의 제 1 또는 제 2 실시예와 제 3 실시예를 혼합한 구조를 갖게 된다. 즉, 패턴(720) 중앙의 제 7 영역(F1)을 기준으로 제 1 또는 제 2 실시예서와 같이 상기 제 7 영역(F1)의 양측 끝단부에 위치한 제 8 영역(F2)이 더 넓은 폭(rw9)을 가지며 형성되고 있으며, 이때, 상기 제 8 영역(F2)은 제 3 실시예와 같이 x방향으로 길이를 갖는 다수의 바 패턴(735)이 서로 동일한 길이를 가지며 y방향으로 소정 폭 이격하며 형성됨으로써 슬릿구조를 형성하고 있는 것이 특징이다.
<제 6 실시예>
도 10은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 도시한 평면도로서 액정표시장치용 어레이 기판 상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하는데 이용되는 광학 마스크의 평면도 일부를 도시한 것이다.
도시한 바와 같이, 본 발명의 제 6 실시예에 있어, 기판(미도시)상의 콘택홀 형성 영역(미도시)에 대응하는 마스크(810) 내 패턴(820)은, 사각형 형상의 중앙부를 이루는 제 9 영역(G1)과, 상기 제 9 영역(G1)의 양측 끝단부로부터 상기 사각형 형태의 제 9 영역의 폭(rw10)보다 더 큰 값의 y방향으로의 길이를 가지며, 그 양끝단이 절곡되어 마치 '['형태 또는 ']'형태를 갖는 다수의 절곡된 형상의 바 패턴(835)이 x방향으로 소정 폭 이격하며 배열된 슬릿 구조의 제 10 영역(G2)으로 구성된 것이 특징이다.
전술한 제 1 내지 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 이용하여 기판상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하면, 직사각형 형태의 패턴 양끝단에 상기 직사각형 패턴의 폭보다 더 넓은 폭을 갖는 영역을 구비하거나 또는 슬릿구조를 갖도록 x방향 또는 y방향으로 소정간격 이격하며 배열되는 (바) 패턴을 형성함으로써 이러한 구조를 갖는 마스크를 이용하여 포토레지스트층을 노광하고, 노광된 상기 포토레지스트층을 현상하면 기판상에 콘택홀이 형성되는 영역에 대응하여 상기 포토레지스트층 하부의 물질층 표면을 기준으로 위로 갈수록 더욱 넓어지는 형상 즉 테이퍼 구조의 홈이 상기 포토레지스트층 내에 형성되고, 이러한 테이퍼 구조의 홈을 갖는 포토레지스층에 의해 그 하부의 물질층을 식각하게 되면 상기 포토레지스트층과 유사한 테이퍼 구조의 콘택홀을 형성하게 된다.
이하, 도면을 참고하여 전술한 본 발명의 제 1 내지 제 6 실시예에 의한 액정표시장치용 광학마스크를 이용하여 마스크를 이용하여 어레이 기판상의 콘택홀 형성하는 방법에 대해 설명한다. 이때, 액정표시장치용 어레이 기판상에서 통상적으로 콘택홀은 화소영역 내에서는 어레이 기판상의 최상부층에 형성되는 화소전극과 각 화소영역마다 구비된 박막트랜지스터와 드레인 전극을 전기적으로 연결시키기 위해 상기 박막트랜지스터와 화소전극 사이에 위치한 보호층 내에 형성되고 있거나, 또는 회부의 구동회로기판과 연결하기 위한 게이트 및 데이터 패드부에 있어, 게이트 패드 전극 또는 데이터 패드 전극과 상기 게이트 및 데이터 패드전극의 전식을 방지하기 위한 게이트 및 데이터 보조 패드전극을 접촉시키기 위해 상기 게이트 및 데이터 패드 전극과 게이트 및 데이터 보조 패드 전극 사이에 형성된 보호 층 내에 형성되고 있으므로, 그 콘택홀 형성방법은 동일하므로 전술한 제 1 내지 제 6 실시예에 따른 광학 마스크 중 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 이용하여 데이터 패드부에 데이터 패드 콘택홀을 형성하는 방법에 대해서만 일례로서 설명한다.
도 11a 내지 도 11d는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 액정표시장치용 광학 마스크를 이용하여 어레이 기판상에 직사각형 형상의 데이터 패드 콘택홀을 형성하는 방법을 도시한 제조 공정 단면도이다. 이때, 상기 단면은 평면상으로 직사각형 형태의 데이터 패드 콘택홀이 형성될 부분을 상기 직사각형의 장축방향 즉, x방향으로 절단한 부분에 대해 도시한 것이다.
우선, 도 11a에 도시한 바와 같이, 게이트 절연막(910)과, 상기 게이트 절연막(910) 위로 데이터 패드 전극(920)과, 상기 데이터 패드 전극(920) 위로 보호층(930)이 형성된 기판(901)에 있어, 상기 보호층(930) 위로 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트층(980)을 형성한다. 이때, 상기 포토레지스트는 빛을 받으면 현상 시 남게되는 네가티브 타입(negative type)인 것을 이용한 것으로 한다.
다음, 상기 포토레지스트층(980) 위로 제 6 실시예에 따른 광학 마스크(810)를 위치시키고, 상기 기판(901)상의 보호층(930) 내에 데이터 패드 콘택홀이 형성되어야 할 영역에 상기 마스크(810) 내의 빛을 차단하는 차단영역(BA)으로 이루어진 패턴(820)이 대응되도록 정렬한다.
이후, 상기 광학 마스크(810)를 통해 노광을 실시하면, 상기 마스크(810)내의 상기 패턴(820) 중, 사각형 형태의 제 9 영역(G1)에 대응된 상기 포토레지스트 층 영역(P1)은 빛이 완전히 차단되고, 상기 제 9 영역(G1)의 양측으로 서로 이격하는 다수의'['또는']'형태의 절곡된 바(bar) 패턴(835)으로 구성된 제 10 영역(G2)에 대응된 포토레지스트층 영역(P2)은 상기 소정간격 이격하며 형성된 '['또는 ']'의 형태의 절곡된 바(bar)패턴(835)에 의해 빛이 차단되는 부분과, 상기 마스크 내의 절곡된 바(bar) 패턴(835)과 바(bar) 패턴(835) 사이의 이격된 영역에 의해 상기 이격된 영역으로 빛이 통과하여 상기 포토레지스트층(980)에 일부의 빛이 도달함으로써 빛이 완전히 투과하는 투과영역(TA)에 대응되는 포토레지스트층보다(P3)는 적은 빛에너지를 받게 되지만, 그 일부의 투과되는 빛에 의해 상기 포토레지스트층(980)이 반응하게 된다. 이때, 상기 제 10 영역에서 상기 절곡된 바(bar) 패턴(835)의 폭과, 상기 바 패턴간의 이격된 간격을 적절히 조절하게 되면, 노광된 빛이 상기 바(bar) 패턴과 바(bar) 패턴 사이를 통과하며 회절을 하게 되어 상기 제 10 영역(G2)에 대응하는 포토레지스트층 부분(P2) 전체에 그 빛량이 매우 낮지만 도달하게 되며 이때 상기 포토레지스트층(980)은 상기 빛과 반응을 하게된다.
따라서, 도 11b에 도시한 바와 같이, 노광된 포토레지스트층(980)을 현상액 속에 담구거나 또는 스프레이함으로써 현상액에 노출시키면, 적당량 이상의 에너지를 갖는 빛을 받은 부분은 상기 현상액과 반응하여 기판(901)으로부터 떨어져 나가거나 상기 현상액에 의해 녹아 제거되고, 빛이 차단되어 빛과 반응하지 않은 부분은 그대로 상기 보호층(930) 위에 남아있게 되고, 상기 마스크(도 11a의 810)내의 절곡된 바(bar) 패턴(도 11a의 835)과 바(bar) 패턴(도 11a의 835) 사이의 이격된 부분에 의해 노광된 부분의 빛량이 조절되어 소량의 빛과 반응한 포토레지스트 영 역(도 11a의 P2)은 도시한 바와 같이 마치 계단 형태로 얇게 두께가 조절되어 형성된다.
따라서, 상기 현상공정을 완전히 마친 상태에서 상기 포토레지스트층(980) 내에 형성된 홈(985)을 살펴보면, 상기 홈(985)의 중앙부(H1)는 완전히 포토레지스트층이 제거되어 하부의 보호층(930)을 노출시키고 있고, 상기 홈(985)의 중앙부(H1)에서 외부측에 위치한 테두리 영역(H2)으로는 아래서 위로 올라가는 계단 형태로 테이퍼 구조로써 포토레지스트층(980)이 형성되고 있다.
다음, 도 11c에 도시한 바와 같이, 상기 계단 형태의 테이퍼 구조를 갖는 홈(985)에 의해 노출된 보호층(930)을 식각공정을 진행하면, 상기 홈(985) 내부로 노출된 보호층(930) 부분만이 식각액과 반응하여 식각되어지는데, 이때, 상기 식각되는 형태는 상부의 포토레지스트층(980)의 형태에 영향을 받게되어 테이퍼 구조로써 데이터 패드 콘택홀(945)이 형성되어 진다.
이렇게 포토레지스트층(980)의 형태에 따라 그 하부층의 식각 형태가 영향을 받는다는 것을 실험적으로 확인된 상태이며, 이러한 실험을 토대로 하여 보호층(930) 내에 (드레인 패드) 콘택홀(945) 형성을 위해 그 상부에 형성하는 포토레지스트층(980)을 본 발명의 각 실시예에 따른 마스크를 이용하여 노광, 현상하여 그 단면이 테이퍼 구조를 갖도록 포토레지스트층(980)을 형성함으로써 최종적으로 보호층(930) 내에 그 단면이 테이퍼 구조를 이루는 (드레인 패드) 콘택홀(945)을 포함하는 콘택홀을 형성할 수 있다.
다음, 도 11d에 도시한 바와 같이, 상기 보호층(930) 내에 테이퍼 구조의 데 이터 패드 콘택홀(945)이 형성된 기판(901) 상에 남아있는 포토레지스트층(도 11c의 980)을 스트립(strip)하여 제거하고, 상기 보호층(930) 위로 투명 도전성 물질을 증착하고 이를 패터닝함으로써 상기 테이퍼 구조를 갖는 데이터 패드 콘택홀(945)을 통해 상기 데이터 패드 전극(920)과 접촉하는 데이터 보조 패드전극(950)을 형성한다.
이때, 상기 직사각형 형태의 데이터 패드 콘택홀(945)은 그 내부가 전체적으로 테이퍼 구조를 형성하게 됨으로써 상기 투명 도전성 물질을 증착 시 보호층(930)의 표면과 상기 데이터 패드 콘택홀(945) 내측면이 90ㅀ이상의 각을 가지므로 스텝 커버리지가 좋아 단선의 가능성이 거의 없으며, 상기 스텝 커버리지가 우수함으로서 상기 데이터 보조 패드전극(950) 등의 전극이 과도히 꺾임 등에 의한 과부하 등이 발생하지 않으므로 전압강하 등의 문제를 방지할 수 있다.
기판 상에 콘택홀을 형성하는 방법으로써 본 발명의 제 6 실시예에 의한 광학 마스크를 이용한 것만 보이고 있으나, 그 외의 본 발명의 제 1 내지 제 5 실시예에 의한 광학 마스크를 이용하여도 전술한 바와 동일한 결과를 얻을 수 있다. 일례로 제 1 실시예에 의한 광학 마스크를 이용 시, 직사각형 형태의 패턴 양측 끝단의 폭을 더욱 늘려줌으로 해서, 상기 직사각형 형태의 장축 길이 정도를 갖도록 하여, 종래의 슬릿 코팅 장치를 이용하여 형성한 포토레지스트층 대비 더욱 두꺼운 두께로 형성되는, 바 코터나 또는 슬릿 코터를 이용하여 형성한 포토레지스트층을 노광된 빛과의 반응이 충분히 이루어지도록 함으로써 테이퍼 구조의 포토레지스트층을 형성하고, 최종적으로는 테이퍼 구조의 콘택홀을 형성하게 되는 것이다.
이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 어레이 기판상에 직사각형 형태의 콘택홀을 형성하기 위한 액정표시장치용 광학 마스크는 직사각형 형태의 패턴을 구조 변경함으로써, 이러한 광학 마스크를 이용하여 포토레지스트층을 노광 한 후, 상기 포토레지스트층을 현상하고, 현상 후 남아있는 포토레지스트층을 이용하여 기판상의 보호층 내에 테이퍼 구조를 갖는 콘택홀을 형성하는 효과가 있다.
따라서, 기판상에 스탭커버리지가 우수한 테이퍼 구조의 콘택홀을 형성함으로써 종래의 역테이퍼 구조의 콘택홀을 구비한 어레이 기판에 발생하는 단선 또는 전압강하에 의한 액정표시장치의 불량을 방지하는 효과가 있다.

Claims (13)

  1. 어레이 기판 상의 직사각형 형태의 콘택홀 형성에 이용되는 액정표시장치용 광학 마스크에 있어서,
    상기 어레이 기판 상의 각 콘택홀 형성 부분의 중앙부에 대응하여 제 1 폭을 갖는 사각형 형상의 제 1 영역 패턴과;
    상기 제 1 영역 패턴의 양 측면에서 각각 연장하며, 상기 제 1 폭보다 더 큰 제 2 폭을 가지며 형성된 제 2 영역 패턴
    을 포함하는 액정표시장치용 광학 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴은 사각형 또는 윗변이 상기 제 1 영역 패턴의 끝단과 접촉하는 사다리꼴 형상인 액정표시장치용 광학 마스크.
  3. 어레이 기판 상의 직사각형 형태의 콘택홀 형성에 이용되는 액정표시장치용 광학 마스크에 있어서,
    상기 어레이 기판 상의 각 콘택홀 형성 부분의 중앙부에 대응하여 제 1 폭을 갖는 사각형 형상의 제 1 영역 패턴과;
    상기 제 1 영역 패턴의 양 측면에 바(bar) 패턴과 상기 바(bar) 패턴 사이의 슬릿영역을 갖는 제 2 영역 패턴
    을 포함하는 액정표시장치용 광학 마스크.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴 양끝단에서 각각 연장되어 상기 제 1 폭 방향에 대해 수직한 방향으로 그 길이 방향을 가지며 배치된 액정표시장치용 광학 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴의 상부 및 하부에, 상기 제 1 폭 방향으로 각각 연장하여 상기 제 2 패턴 영역과 동일한 구조를 갖는 제 3 영역 패턴이 더욱 형성된 액정표시장치용 광학 마스크.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴과 상기 제 3 영역 패턴 내의 상기 바 패턴은 상기 제 1 영역 패턴과 먼 쪽에 위치한 끝단이 일치하는 액정표시장치용 광학 마스크.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 제 1 폭의 중앙부와 가까워질수록 더 짧은 길이를 갖는 액정표시장치용 광학 마스크.
  8. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 바(bar) 패턴은 상기 제 1 폭 방향으로 그 길이를 가지며, 상기 제 2 영역 패턴의 양 끝단이 연장하는 방향으로 이격하며 배치된 액정표시장치용 광학 마스크.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단에서 멀어질수록 더 작은 길이를 갖는 액정표시장치용 광학 마스크.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴 중 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단과 이웃한 바 패턴은 그 길이가 상기 제 1 폭과 동일한 크기를 갖는 액정표시장치용 광학 마스크.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴은 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단에서 멀어질수록 더 큰 길이를 갖는 액정표시장치용 광학 마스크.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 영역 패턴 내의 각 바(bar) 패턴 중 상기 제 1 영역 패턴의 양끝단과 이웃한 바(bar) 패턴은 그 길이가 상기 제 1 폭과 동일한 크기를 갖는 액정표시장치용 광학 마스크.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 바 패턴은 그 양 끝단부에서 각각 상기 제 1 영역 패턴 쪽으로 절곡된 부분이 형성됨으로써 "[", "]"형태로 형성된 액정표시장치용 광학 마스크.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20020056110A (ko) * 2000-12-29 2002-07-10 구본준, 론 위라하디락사 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020056110A (ko) * 2000-12-29 2002-07-10 구본준, 론 위라하디락사 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법

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