KR101112550B1 - 광마스크 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 - Google Patents
광마스크 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 Download PDFInfo
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- 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계,상기 게이트선 위에 제1 절연막을 형성하는 단계,상기 제1 절연막 위에 반도체층을 형성하는 단계,상기 반도체층 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선, 드레인 전극 및 유지 축전기용 도전체를 형성하는 단계,제2 절연막을 증착하는 단계,상기 제2 절연막 위에 감광막을 도포하고 상기 감광막 위에 광마스크를 정렬하는 단계,상기 광마스크를 통하여 상기 감광막에 빛을 조사한 후 현상하여, 상기 제2 절연막 위에 제1 부분과 상기 제1 부분보다 두께가 얇은 제2 부분을 포함하는 감광막을 형성하는 단계,상기 감광막을 마스크로 하여 상기 제2 및 제1 절연막을 식각하여 상기 드레인 전극 및 상기 유지 축전기용 도전체의 일부를 드러내는 한편 상기 감광막의 상기 제2 부분 아래의 상기 제2 절연막의 제1 부분을 남기는 단계,도전막을 증착하는 단계, 그리고상기 감광막의 제1 부분을 제거하여 상기 드레인 전극 및 상기 유지 축전기용 도전체와 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 광마스크는 차광 영역, 반투과 영역 및 투과 영역을 포함하고,상기 반투과 영역은 차단되는 빛의 양이 다른 복수의 영역을 각각 갖는 복수의 차광부를 포함하는박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제6항에서,상기 반투과 영역은 복수의 차광부를 포함한 슬릿 형태를 갖는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제7항에서,상기 각 차광부의 복수의 영역은 상이한 폭을 갖는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제8항에서,상기 각 차광부는,상기 유지 축전기용 도전체가 형성되어 있지 않은 부분에 대응하는 제1 영역,상기 유지 축전기용 도전체의 단부 부근에 대응하는 제2 영역,상기 유지 축전기용 도전체가 형성되어 있는 부분에 대응하는 제3 영역,상기 게이트선의 확장부의 단부 부근에 대응하는 제4 영역, 그리고상기 게이트선의 확장부가 형성되어 있는 부분에 대응하는 제5 영역을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제9항에서,상기 제1 영역, 상기 제2 영역, 상기 제3 영역, 상기 제4 영역, 및 상기 제5 영역 중에서 상기 제1 영역의 세로 폭이 가장 좁은 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제9항에서,상기 감광막의 제2 부분은 상기 유지 축전기용 도전체의 가장자리 부근 위에 위치하는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제6항에서,인접한 차광부의 간격을 변화시켜 차단되는 빛의 양을 변화시키는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제6항에서,상기 제2 절연막 식각 단계는 상기 데이터선의 일부와 상기 드레인 전극의 일부를 드러내는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
- 제6항에서,상기 감광막과 상기 제1 절연막의 동시 식각 단계는 상기 게이트선의 일부를 드러내는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법.
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