KR101100274B1 - 약액 공급장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (8)
- 약액을 공급하는 약액 공급라인;상기 약액 공급라인을 통해 약액을 공급받아 저장하는 약액 저장탱크;상기 약액 저장탱크에 저장된 약액을 배출 위치로 이송하는 약액 배출라인;상기 약액 저장탱크와 연통되어 상기 약액 저장 탱크의 일측에 위치하는 약액 레벨 지시관;상기 약액 레벨 지시관의 일측에 위치하여 약액의 레벨을 측정하는 레벨 센서; 및상기 약액 저장탱크를 퍼지하기 위한 퍼지 가스를 상기 약액 저장탱크에 제공하는 가스 공급 라인을 포함하되,상기 약액 레벨 지시관은,수직으로 연장된 수직관;상기 수직관의 상단에서 수평 연장되어 상기 약액 저장탱크와 연통되는 제 1 상부관;상기 제 1 상부관의 위치보다 더 높은 위치의 상기 수직관의 상단에서 수평 연장되어 상기 가스 공급라인과 연통되는 제 2 상부관; 및상기 수직관의 하단에서 수평 연장되어 상기 약액 저장탱크와 연통되는 하부관을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 제1 상부관은,상기 약액 저장탱크 쪽을 향하여 아래로 경사진 것을 특징으로 하는 약액 공급장치.
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 저장탱크와 인접한 상기 가스 공급라인의 일측에는 퍼지 가스를 배출하기 위한 가스 배출라인이 연결되며,상기 제 2 상부관은 상기 가스 배출라인의 위치보다 더 높은 위치의 상기 수직관의 상단에서 수평 연장되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 약액 저장탱크와 연통되어 상기 약액 저장탱크의 일측에 위치하는 약액 레벨 지시관과, 상기 약액 레벨 지시관의 일측에 위치하는 레벨 센서에 의해 약액의 레벨을 측정하여 약액을 공급하는 방법에 있어서,상기 약액 저장탱크에 가스를 공급하는 가스 공급라인과 상기 약액 레벨 지시관을 연통하여 가스압에 의해 상기 약액 레벨 지시관 내의 응결된 약액을 제거하는 것을 특징으로 하는 약액 공급방법.
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080105864A KR101100274B1 (ko) | 2008-10-28 | 2008-10-28 | 약액 공급장치 및 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1020080105864A KR101100274B1 (ko) | 2008-10-28 | 2008-10-28 | 약액 공급장치 및 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100046836A KR20100046836A (ko) | 2010-05-07 |
KR101100274B1 true KR101100274B1 (ko) | 2011-12-30 |
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ID=42274033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080105864A KR101100274B1 (ko) | 2008-10-28 | 2008-10-28 | 약액 공급장치 및 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101100274B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517033B1 (ko) * | 2013-12-20 | 2015-05-04 | 주식회사 케이씨텍 | 케미컬 공급장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10573540B2 (en) | 2016-03-30 | 2020-02-25 | Shibaura Mechatronics Corporation | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP6861039B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2021-04-21 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517033B1 (ko) * | 2013-12-20 | 2015-05-04 | 주식회사 케이씨텍 | 케미컬 공급장치 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100046836A (ko) | 2010-05-07 |
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
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