KR101093349B1 - 포토레지스트 두께 자동제어 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 포토레지스트 두께 자동제어 장치에 관한 것이다.

본 발명의 포토레지스트 두께 자동 제어 장치는 글래스에 포토레지스트를 코팅 하는 코터와, 상기 글래스에 코팅된 포토레지스트의 코팅 두께에 관한 정보를 생성하는 포토센서와, 상기 코팅 두께에 관한 정보에 따라 상기 포토레지스트의 코팅 두께를 계산하고 상기 계산된 두께를 기설정 두께와 비교하여 상기 결과에 따라 코터를 제어하는 코팅 두께 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

따라서, 코터에서 코팅된 포토레지스트의 두께를 실시간으로 확인이 가능하며, 이로인해 두께 수정작업이 사람의 손을 거치지 않고 자동으로 이루어지므로 두께 측정 작업 시간이 단축 된다. 그리고 별도의 두께측정 장비를 사용하지 않으므로 비용이 절약되며 코터의 코팅조건 수정 및 보정작업이 바로 시행할 수 있어 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께를 측정하는 시간이 단축되는 효과를 얻을 수 있다.

Description

포토레지스트 두께 자동제어 장치{APPARATUS FOR CONTROLLING A THICKNESS OF PHOTO RESIST}

도 1은 일반적인 박막 트랜지스터 어레이 기판을 나타내는 평면도이다.

도 2는 도 1에 도시된 박막 트랜지스터 어레이 기판을 선"Ⅱ-Ⅱ'"를 따라 절단하여 도시한 단면도이다.

도 3a 내지 도 3h는 도 2에 도시된 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법을 단계적으로 도시한 단면도들이다.

도 4 종래의 박막트랜지스터 코팅장비의 블록 구성도이다.

도 5는 본 발명에 따른 포토레지스트의 두께 자동제어 장치의 블록도이다.

도 6은 도 5에 도시된 포토레지스트의 두께 자동제어 장치의 동작을 예시하는 도면이다.

도 7는 도 5에 도시된 포토레지스트의 두께 자동제어 장치의 동작을 설명하는 공정 순서도이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >

101 : 카세트 111 : 로보트

121 : 세정기 131 : 코터

141 : 타이틀러 151 : 정렬기

161 : 현상기 201 : 포토센서

211 : 코팅 두께 제어부 301 : 글래스

321 : 콘베이어 341 : 광

본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device)에 관한 것으로 특히, 스핀리스 코터(Spinless Coater)의 공정 안정성을 높이기 위하여 각 유리에 코팅되는 포토레지스트의 두께를 실시간 계산 및 처리 함으로서 공정 능력 향상을 향상시킬 수 있는 박막트랜지스터의 포토레지스트의 두께 자동제어 장치에 관한 것이다.

최근의 정보화 사회에서 표시소자는 시각정보 전달매체로서 그 중요성이 어느 때보다 강조되고 있다. 현재 주류를 이루고 있는 음극선관(Cathode Ray Tube) 또는 브라운관은 무게와 부피가 큰 문제점이 있다. 이러한 음극선관의 한계를 극복할 수 있는 많은 종류의 평판표시소자(Flat Panel Display)가 개발되고 있다.

평판표시소자에는 액정표시패널(Liquid Crystal Display Panel), 전계 방출 표시소자(Field Emission Display : FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP) 및 일렉트로루미네센스(Electroluminescence : EL) 등이 있다.

액정표시패널은 전자제품의 경박단소 추세를 만족할 수 있고 최근들어 양산성이 향상되어 많은 응용분야에서 음극선관을 빠른 속도로 대체하고 있다.

특히, 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)를 이용하여 액정셀을 구동하는 액정표시패널은 화질이 우수하고 소비전력이 낮은 장점이 있으며, 최근의 양산기술 확보와 연구개발의 성과로 대형화와 고해상도화로 급속히 발전하고 있다.

이러한 액정표시패널을 통해 화상을 표시하는 액정표시장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 액정표시장치는 하부기판과 상부기판에 대향하게 배치된 화소전극과 공통전극 사이에 형성되는 전계에 의해 액정을 구동하게 된다.

액정표시장치는 서로 대향하여 합착된 박막트랜지스터 어레이가 형성된 하부기판과 컬러필터 어레이가 형성된 상부기판과, 이 두 기판 사이에서 셀 갭(cell gap)을 일정하게 유지시키기 위한 스페이서와, 그 셀 갭에 채워진 액정을 구비한다.

박막트랜지스터 어레이는 다수의 게이트라인 및 데이터라인으로 이루어진 신호 배선들의 교차되는 부분에 형성된 박막 트랜지스터와, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 배향막으로 구성된다. 컬러필터 어레이는 컬러 구현을 위한 컬러 필터 및 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스와, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 배 향막으로 구성된다.

도 1은 일반적인 박막트랜지스터 어레이 기판을 도시한 평면도이고, 도 2는 도 1에서 선 "Ⅱ-Ⅱ'"를 따라 절취한 박막트랜지스터 어레이 기판을 도시한 단면도이다.

도 1 및 도 2에 도시된 박막트랜지스터 어레이 기판은 하부 기판(1) 위에 게이트 절연막(12)을 사이에 두고 교차하게 형성된 게이트 라인(2) 및 데이터 라인(4)과, 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터(30)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소 전극(22)과, 게이트라인(2)과 스토리지전극(28)의 중첩부에 형성된 스토리지 캐패시터(40)와, 게이트 라인(2)과 접속된 게이트 패드(50)와, 데이터 라인(4)과 접속된 데이터 패드(60)를 구비한다.

게이트 신호를 공급하는 게이트 라인(2)과 데이터 신호를 공급하는 데이터 라인(4)은 교차 구조로 형성되어 화소 영역(5)을 규정한다.

박막 트랜지스터(30)는 게이트 라인(2)의 게이트 신호에 응답하여 데이터 라인(4)의 화소 신호가 화소 전극(22)에 충전되어 유지되게 한다.

이를 위하여, 박막 트랜지스터(30)는 게이트 라인(2)에 접속된 게이트 전극(6)과, 데이터 라인(4)에 접속된 소스 전극(8)과, 화소 전극(22)에 접속된 드레인 전극(10)을 구비한다. 또한, 박막 트랜지스터(30)는 게이트 전극(6)과 게이트 절연막(12)을 사이에 두고 중첩되면서 소스 전극(8)과 드레인 전극(8) 사이에 채널을 형성하는 활성층(14)을 더 구비한다. 그리고, 활성층(14)은 데이터 라인(4), 데이터 패드 하부 전극(62), 그리고 스토리지 전극(28)과도 중첩되게 형성된다. 이러 한 활성층(14) 위에는 데이터 라인(4), 소스 전극(8), 드레인 전극(8), 데이터 패드 하부 전극(62), 그리고 스토리지 전극(28)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(16)이 더 형성된다.

화소 전극(22)은 보호막(18)을 관통하는 제1 콘택홀(20)을 통해 박막 트랜지스터(30)의 드레인 전극(10)과 접속되어 화소 영역(5)에 형성된다.

이에 따라, 박막 트랜지스터(30)를 통해 화소 신호가 공급된 화소 전극(22)과 기준 전압이 공급된 공통 전극(도시하지 않음) 사이에는 전계가 형성된다. 이러한 전계에 의해 하부 어레이 기판과 상부 어레이 기판 사이의 액정 분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 된다. 그리고, 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소 영역(5)을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 계조를 구현하게 된다.

스토리지 캐패시터(40)는 게이트 라인(2)과, 그 게이트 라인(2)과 게이트 절연막(12), 활성층(14), 그리고 오믹 접촉층(16)을 사이에 두고 중첩되는 스토리지 전극(28)과, 그 스토리지 전극(28)과 보호막(18)에 형성된 제2 콘택홀(42)을 통해 접속된 화소 전극(22)으로 구성된다. 이러한 스토리지 캐패시터(40)는 화소 전극(22)에 충전된 화소 신호가 다음 화소 신호가 충전될 때까지 안정적으로 유지되게 한다.

게이트패드(50)는 게이트드라이버(도시하지 않음)와 접속되어 게이트라인(2)에 게이트신호를 공급한다. 이러한 게이트 패드(50)는 게이트 라인(2)으로부터 연장되는 게이트 패드 하부 전극(52)과, 게이트 절연막(12) 및 보호막(18)을 관통하는 제3 콘택홀(56)을 통해 게이트 패드 하부 전극(52)과 접속된 게이트 패드 상부 전극(54)으로 구성된다.

데이터패드(60)는 데이터 드라이버(도시하지 않음)와 접속되어 데이터라인(4)에 데이터신호를 공급한다. 이러한 데이터 패드(60)는 데이터 라인(4)으로부터 연장되는 데이터 패드 하부 전극(62)과, 보호막(18)을 관통하는 제4 콘택홀(66)을 통해 데이터 패드 하부 전극(62)과 접속된 데이터 패드 상부 전극(64)으로 구성된다.

이러한 구성을 가지는 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법은 도 3a 내지 도 3h를 참조하여 다음과 같이 설명한다. 이와 관련하여, 본 방법은 예를 들면 4마스크 공정을 이용한 제조 방법에 대하여 설명된다.

먼저, 하부 기판(1) 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 도 3a에 도시된 바와 같이 게이트금속층(5)이 형성된다. 이어서, 차단영역(S2)과 노광영역(S1)을 정의하는 제1 마스크(70)를 이용한 노광 및 현상공정을 포함하는 포토리쏘그래피 공정으로 포토레지스트패턴(72)이 형성된다. 이 포토레지스트패턴(72)을 이용한 식각공정으로 게이트금속층(5)이 패터닝됨으로써 도 3b에 도시된 바와 같이 하부기판(1) 상에 게이트 라인(2), 게이트 전극(6) 및 게이트 패드 하부 전극(52)을 포함하는 제1 도전 패턴군이 형성된다.

제1 도전 패턴군이 형성된 하부기판(1) 상에 PECVD, 스퍼터링 등의 증착 방법을 통해 도 3c에 도시된 바와 같이 게이트 절연막(12), 비정질 실리콘층(15), n+ 비정질 실리콘층(17), 그리고 데이터금속층(19)이 순차적으로 형성된다. 이어서, 데이터 금속층(19) 위에 노광영역(S1), 차단영역(S2) 및 부분 노광 영역(S3)을 정 의하는 제2 마스크(74)를 이용한 노광 및 현상공정을 포함하는 포토리쏘그래피 공정으로 포토레지스트 패턴(76)이 형성된다. 이 경우 제2 마스크(74)로는 박막 트랜지스터의 채널부에 회절 노광부를 갖는 회절 노광 마스크를 이용함으로써 채널부의 포토레지스트 패턴(76)이 다른 소스/드레인 패턴부 보다 낮은 높이를 갖게 한다. 그런 다음, 포토레지스트 패턴(76)을 이용한 습식 식각 공정으로 데이터 금속층(19)이 패터닝됨으로써 데이터 라인(4), 소스 전극(8), 그 소스 전극(8)과 일체화된 드레인 전극(10), 스토리지 전극(28)을 포함하는 제2 도전 패턴군이 형성된다. 그 다음, 동일한 포토레지스트 패턴을 이용한 건식 식각공정으로 n+ 비정질 실리콘층과 비정질 실리콘층이 동시에 패터닝됨으로써 오믹 접촉층(14)과 활성층(16)이 형성된다. 그리고, 애싱(Ashing) 공정으로 채널부에서 상대적으로 낮은 높이를 갖는 포토레지스트 패턴이 제거된 후 건식 식각 공정으로 채널부의 소스/드레인 금속 패턴 및 오믹 접촉층(16)이 식각된다. 이에 따라, 채널부의 활성층(14)이 노출되어 소스 전극(8)과 드레인 전극(10)이 분리된다.

제2 도전 패턴군이 형성된 게이트 절연막(12) 상에 도 3e에 도시된 바와 같이 PECVD 등의 증착 방법으로 보호막(18)이 전면 형성된다. 이어서, 보호막(18) 상에 노광영역(S1)과 차단영역(S2)을 정의하는 제3 마스크(78)를 이용한 노광 및 현상공정을 포함하는 포토리쏘그래피 공정으로 포토레지스트패턴(80)이 형성된다. 이 포토레지스트패턴(80)을 이용한 식각공정으로 보호막(18)이 패터닝됨으로써 도 3f에 도시된 바와 같이 제1 내지 제4 콘택홀들(20,42,56,66)이 형성된다.

제1 내지 제4 콘택홀(20,42,56,66)을 가지는 보호막(18) 상에 스퍼터링 등의 증착 방법으로 도 3g에 도시된 바와 같이 투명 도전막(23)이 도포된다. 이어서, 노광영역(S1)과 차단영역(S2)을 정의하는 제4 마스크(82)를 이용한 노광 및 현상공정을 포함하는 포토리소그래피 공정으로 포토레지스트패턴(84)이 형성된다. 이 포토레지스트패턴(84)을 이용한 식각 공정으로 투명 도전막(23)이 패터닝됨으로써 도 3h에 도시된 바와 같이 화소 전극(22), 게이트 패드 상부 전극(54), 데이터 패드 상부 전극(64)을 포함하는 제3 도전 패턴군이 형성된다.

도 4는 도 3의 제조방법에서 포토레지스트를 코팅하기위한 코팅장비의 구성을 도시한다.

도 4을 참조하면, 포토레지스트 코팅장비는 글래스를 수용하는 카세트(101)와, 카세트(101)로부터 글래스를 이동시키는 로보트(111)와, 이동된 글래스를 세척하는 세정기(121)와, 세정된 글래스에 포토레지스트를 코팅하는 코터(Coater)와; 글래스에 번호를 세기는 타이틀러(Titler)(141)와, 글래스를 줄을 맞춰 흐름선을 전환 시키는 정렬기(151)와, 정렬된 글래스를 현상하는 현상기(101)로 구성된다.

카세트(101)는 순서별로 예를들면 1,2,3,4의 순서별로 복수개의 글래스가 진열되어 있으며 코팅공정을 시작하는 글래스와 공정이 완료된 글래스를 분류하여 저장하고 있다.

로보트(111)는 카세트(101)로 부터 글래스를 빼내어 세정기(12)에 올려놓으며, 글래스는 세정기(121)에서 깨끗이 세척된다. 이렇게 세척된 글래스는 도시안된 콘베이어를 통해 코터(131)로 제공된다.

코터(131)는 세척된 글래스에 대하여 포토레지스트 코팅을 실시한다.

타이틀러(141)는 포토 레지스트가 코팅된 글래스에 글래스 식별 번호(예;6AA45D00100)를 새기는 역할을 한다.

정렬기(151)는 글래스가 다른 방향으로 가지 못하도록 줄을 맞추고 흐름선이 바뀔 때는 글래스의 흐름방향을 전환시킨다.

현상기(161)는 포토레지스트가 코팅된 글래스를 현상한다.

현상기(161)에 의해 현상된 글래스는 공정라인을 따라가서 로보트(11)에 의해서 다시 카세트(101)로 옮겨진다. 카세트(101)에 옮겨진 글래스는 샘플을 정해, 뽑아서 코팅된 상태 즉,포토레지스트 코팅된 두께를 확인하기 위하여 두께측정 장비를 이용하여 검사 된다. 검사가 끝나고 이상이 있는 글래스에 따라 두께측정 장비를 통해 나온 검사결과를 정리하고 그 정리결과에 따라 코터(131)에 의해 수행될 포토레지스트 코팅의 두께 값을 수정하게 된다.

이렇게 종래에는 코터(131)에서 코팅된 글래스는 별도의 두께 측정 장비에서 포토레지스트 코팅된 글래스를 샘플링해서 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께를 측정하고 있다. 이렇게 측정된 데이터를 분석 후, 코터(131)에서 수행될 포토레지스트의 코팅 두께의 수정 및 수정된 결과에 따라 다시 포토레지스트 코팅을 수행하는 확인 작업을 반복하여 실시한다. 통상적으로, 카세트(101)에 진열된 글래스 중에서 코팅된 상태 즉, 코팅된 포토레지스트의 두께를 검사하는 대상이 되는 글래스는 대략 30장인데 이들 글래스를 모두 검사하는데 상당한 시간, 예를들면, 1시간 30분이 소요된다. 따라서, 전체적인 액정표시장치의 제조 시간이 길어지는 단점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 포토레지스트 코팅 공정에 따라 코팅공정이 이루어질때 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께를 자동으로 측정하여 그 두께를 조절하는 장치를 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 코터장비의 포토레지스트 두께 자동 제어 장치는, 글래스에 포토레지스트를 코팅 하는 코터; 상기 글래스에 코팅된 포토레지스트의 코팅 두께에 관한 정보를 생성하는 포토센서; 상기 코팅 두께에 관한 정보에 따라 상기 포토레지스트의 코팅 두께를 계산하고 상기 계산된 두께를 기설정 두께와 비교하여 상기 결과에 따라 코터를 제어하는 코팅 두께 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 코터장비의 포토레지스트 두께 자동제어 장치.

상기 포토센서는 상기 글래스와 상기 글래스에 코팅된 포토레지스트로부터 반사되는 광의 굴절율을 상기 코팅 두께에 관한 정보로서 상기 코팅 두께 제어부로 제공하는 것을 특징으로 한다.

상기 코팅두께 제어부는 상기 계산된 코팅두께가 상기 코터에 기설정된 코팅조건과 일치하지 않을 때 상기 기설정된 코팅 조건을 조절하도록하는 제어신호를 상기 코터에 제공하는 것을 특징으로 한다.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예 에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.

이하 도 5 내지 도 7를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 포토레지스트 두께 자동제어 장치를 도시한다.

도 5를 참조하면, 포토레지스트 두께 자동제어 장치는 카세트(101)와, 카세트(101)로부터 글래스를 이동시키는 로보트(111)와, 이동된 글래스를 세척하는 세정기(121)와, 세정된 글래스를 포토레지스트 코팅하는 코터(131)와, 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께에 관한 정보를 제공하는 포토센서(201)와, 포토센서(201)와 코터의 사이에 위치하는 코팅 두께 제어부(211)와, 글래스에 번호를 새기는 타이틀러(141)와, 글래스를 줄을 맞춰 흐름선을 전환시키는 정렬기(151)와, 포토레지스트가 코팅된 글래스를 현상시키는 현상기(101)로 구성되어 있다.

카세트(101)는 순서별로 글래스가 진열되어 있으며 공정을 시작하는 글래스와 공정이 완료된 글래스를 분류하여 저장한다.

로보트(111)는 카세트(101)로 부터 글래스를 빼내어 세정기(121)에 올려놓는다. 글래스는 세정기(121)에 의해 깨끗이 세척된다.

글래스를 코팅하는 코터(131)는 세척된 글래스에 대하여 포토레지스트 코팅을 실시한다.

포토센서(201)는 빛을 이용하여 글래스에 코팅이 진행되고 있는 포토레지스터의 두께에 관한 정보를 생성한다. 이렇게 포터센서(201)에서 생성된 포토레지스 트의 코팅두께에 관한 정보는 코팅 두께 제어부(211)에 보내진다.

코팅 두께 제어부(211)는 포토센서(201)와 데이터 송수신용 케이블로 연결되어 있으며, 포토센서(201)로부터 제공된 코팅 두께에 관한 정보에 응답하여 현재 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께를 실시간으로 계산한다. 코팅 두께 제어부(211)는 실시간으로 계산된 포토레지스트의 두께에 따라 코터(131)에서 수행되는 코팅 동작을 제어한다. 보다 상세히 말해서, 글래스에 코팅된 포토 레지스트의 두께가 코터(131)에 기설정된 코팅 조건, 즉 코팅 두께에 도달하지 않으면, 코터(131)로 하여금 기설정된 포토레지스트 두께만큼 코팅되도록 제어한다. 또한, 글래스(301)에 코팅된 포토 레지스트의 두께가 코터(131)에 기설정된 코팅 두께에 도달하면, 코터(131)로 하여금 더 이상의 코팅 동작이 수행되지 않도록 한다. 그러나, 만일 글래스에 코팅된 포토 레지스트의 두께가 기설정된 코팅 두께를 초과하는 경우에는, 코팅 두께 제어부(211)는 코터(131)에 지령하여 코팅 조건을 변경하도록 한다. 즉, 코터(131)에 의해 포토레지스트가 기설정된 두께 이상으로 코팅되므로, 포토 레지스트 코팅 두께에 관한 코팅 조건을 조절하도록 한다. 이와 같은 포토레지스트 코팅 두께가 조절됨으로써 코터(131)에 의해 글래스(301)에는 항시 정밀하게 제어되는 두께로 포토레지스트가 코팅될 수 있다.

포토레지스트가 코팅된 글래스(301)는 다음단의 타이틀러(141)로 이동되고 타이틀러(141)에 의해 글래스에 번호(예;6AA45D00100)가 새겨진다.

정렬기(151)는 글래스가 다른 방향으로 가지 못하도록 줄을 맞추고 흐름선이 바뀔 때는 글래스의 흐름방향을 전환시킨다. 이후, 포토 레지스트가 코팅된 글래스 는 현상기(10)에의해 현상된다.

도 6a와 도 6b는 도 5에 도시된 포토레지스트 코팅 코팅 두께 제어부(211)의 포토 센서(201)의 동작을 설명하기 위한 단면도를 도시한다.

도 6a에 도시된 바와 같이, 포토센서(201)는 콘베이어(321) 상에 글래스(301)가 지나가는 경로상에 배치된다. 이러한 포토센서(201)는 글래스(301)로 부터 일정거리 위에서 광(341)을 쏘아 되돌아오는 빛으로 글래스(301)의 포토 레지스트 두께에 관한 정보를 생성한다.

보다 상세히 말해서, 글래스(301)상에 코팅된 포토 레지스트(350)는 빛에 투과 가능한 물질로 이루어진다. 여기서, 포토센서(201)로부터 글래스(301)로 방사된 빛은 포토레지스트(350)를 투과하고 글래스(301)의 표면에서 반사된 다음 다시 포토센서(201)로 입사된다. 포토센서(201)에 의해 생성되는 포토레지스트(350)의 두께에 관한 정보는 코팅 두께 제어부(211)에 보내지고, 코팅 두께 제어부(211)에 의해 코팅 두께가 계산되어 코터(131)에 실시간으로 제어 신호를 제공한다.

도 6b는 본 발명의 코팅 두께 측정 원리를 설명하는 계략도이다. 도 6b에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 두꼐 측정방법은 측정시편-공기의 계면에서의 반사 및 굴절의 원리를 이용한다.

본 발명에 따라 코팅 두께를 측정하려는 글래스(301)에 소정의 입사각(θ)으로 광(341)을 입사시키면, 이 광선은 글래스(301)상의 포토레지스트(350)에서 일차 굴절을 하고 글래스(301)에 반사 되어 나오다가 이차 굴절하면서 두개의 굴절광이 생성되어 L이라는 간격을 가지게 된다. 이렇게 생성된 입사각( θ)과 굴절 간격 L 은 코팅 두께에 관한 정보로서 코팅 두께 제어부(211)로 제공된다. 코팅 두께 제어부(211)는 코팅두께에 관한 정보를 이용하여 글래스(301)상에 코팅된 포토레지스트의 두께를 실시간으로 계산하여 코터(131)에 의해 코팅된 포토레지스트의 두께를 조절하게 된다.

도 7는 본 발명에 따른 박막트랜지스터의 포토 레지스트 두께 제어 장치(211)의 공정 순서도이다.

도 7에 도시된 바와 같이, 로보트(111)가 카세트(101)로부터 글래스(301)를 집어 콘베이어(321)에 올려 놓는다(단계 S1).

이렇게 콘베이어(321)에 올려진 글래스(301)는 콘베이어(321)를 타고 세정기(121)로 이동한다. 세정기(121)에 글래스가 놓여졌을 때 세정기(121)는 글래스(301)에 있는 이물질을 제거하는 세정작업을 실시한다(단계 S2).

이렇게 세정된 글래스(301)는 코터(131)로 이동한다. 코터(131)는 콘베이어(321)를 타고 온 글래스(301)에 대하여 포토레지스트 코팅을 실시한다(단계 S3).

포토센서(201)는 코터(131)에의해 포토레지스트(350)가 코팅되고 있는 글래스(301)에 대하여 빛을 방사하고, 글래스(301)로부터 방사되는 빛을 수광한다. 포토센서(201)에 의해서 수광된 빛에는 포토레지스트(350)의 두께에 관한 정보가 포함되어 있으며, 이 정보는 코팅 두께 제어부(211)에 제공된다(S4 단계).

코팅 두께 제어부(211)는 포토센서(201)가 보낸 코팅 두께 정보를 이용하여 코팅된 두께를 계산하고 계산된 두께를 기설정 두께와 비교하여 포토레지스트가 정상적인 두께로 코팅되었는지를 판단한다(단계 S5).

만일 포토레지스트의 코팅 두께가 기설정된 두께에 도달하지않거나 초과 되는 경우에는 다시 코터(131)에 의해 코팅작업이 지속되도록 하거나 코터(131)의 코팅 조건을 변경하는 제어신호를 제공한다. 그러나, 코팅이 정상적으로 수행되었다면 글래스(301)가 콘베이어(321)를 타고 정렬기(151)위치로 와서 방향 전환이 이루어진다(S6 단계).

이렇게 방향전환이 된 글래스(301)는 현상기(161)로 이동을 하고 현상기(101)에 의해 현상이 된다(S7 단계).

그리고 다시 로보트(111)로 이동하여 로버트(111)에 의해서 카세트(101)로 진열 된다(S8 단계).

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 박막트랜지스터코터장비의 포토레지스트두께 자동제어 장치에 의하면 코터에서 코팅된 포토레지스트의 두께를 실시간으로 확인이 가능하며, 이로인해 두께 수정작업이 사람의 손을 거치지 않고 자동으로 이루어지므로 두께 측정 작업 시간이 단축 된다. 그리고 별도의 두께측정 장비를 사용하지 않으므로 비용이 절약되며 코터의 코팅조건 수정 및 보정작업이 바로 시행할 수 있어 글래스에 코팅된 포토레지스트의 두께를 측정하는 시간이 단축되는 효과를 얻을 수 있다.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (5)

1. 코터장비의 포토레지스트 두께 자동 제어 장치에 있어서,

   글래스에 포토레지스트를 코팅 하는 코터와;

   상기 글래스 상에 배치되어 상기 글래스 전면에 코팅된 포토레지스트의 코팅 두께에 관한 정보를 생성하는 포토센서와;

   상기 코팅 두께에 관한 정보에 따라 상기 포토레지스트의 코팅 두께를 계산하고 상기 계산된 두께를 기설정 두께와 비교하여 상기 결과에 따라 코터를 제어하는 코팅 두께 제어부를 포함하고,

   상기 포토센서는 상기 글래스에 일정한 입사각으로 광이 출사되고, 상기 광이 상기 포토레지스트에서 1차 굴절되고, 상기 글래스에 반사되어 2차 굴절되어 상기 제1 및 제2 굴절광의 간격으로 상기 포토레지스트의 두께에 대한 정보를 생성하여 상기 코팅 두께 제어부에 제공하는 것을 특징으로 하는 코터장비의 포토레지스트 두께 자동제어 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 포토센서는 상기 글래스와 상기 글래스에 코팅된 포토레지스트로부터 반사되는 광의 굴절율을 상기 코팅 두께에 관한 정보로서 상기 코팅 두께 제어부로 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 두께 자동제어 장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 코팅두께 제어부는 상기 계산된 코팅두께가 상기 코터에 기설정된 코팅조건과 일치하지 않을 때 상기 기설정된 코팅 조건을 조절하도록하는 제어신호를 상기 코터에 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 두께 자동제어 장치.
4. 글래스에 포토레지스트를 코팅하는 단계; 및

   상기 글래스 전면상에 다수의 포토 센서가 구비되어 상기 포토레지스트의 코팅 두께를 실시간으로 검출하고, 상기 포토 센서로부터 검출된 상기 포토레지스트의 두께에 대한 정보를 계산하여 계산된 두께를 기설정 두께와 비교하여 상기 포토레지스트를 코팅하는 코터를 제어하는 단계를 포함하고,

   상기 포토센서는 상기 글래스에 일정한 입사각으로 광이 출사되고, 상기 광이 상기 포토레지스트에서 1차 굴절되고, 상기 글래스에 반사되어 2차 굴절되어 상기 제1 및 제2 굴절광의 간격으로 상기 포토레지스트의 두께에 대한 정보를 생성하여 코팅 두께 제어부에 제공하는 것을 특징으로 하는 코터장비의 포토레지스트 두께 자동제어 방법.
5. 제4 항에 있어서,

   상기 코팅 두께 제어부는 계산된 코팅두께가 상기 코터에 기설정된 코팅조건과 일치하지 않을 때 상기 기설정된 코팅 조건을 조절하도록하는 제어신호를 상기 코터에 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 두께 자동제어 방법.

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