KR101086335B1 - 슬라브 에지용 스카핑 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 슬라브 에지용 스카핑 장치는 슬라브가 안착되는 안착부와, 상기 안착된 슬라브를 이송시키는 이송부와, 상기 이송되는 슬라브의 상부에 마련되어, 상기 슬라브의 가장자리를 향해 일정 각도로 고압의 산소와 가스를 분사하는 스카핑 어셈블리를 포함한다.
상기와 같은 발명은 슬라브 상부 가장자리의 스카핑을 기계에 균일하게 수행됨으로써, 슬라브의 불량을 저하시키는 동시에 생산 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.
슬라브, 스카핑, 이송부, 산소, 도시 가스

Description

슬라브 에지용 스카핑 장치{APPARATUS FOR SACFING OF SLAB EDGE}
본 발명은 스카핑 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 슬라브 가장자리의 결함을 제거하기 위한 슬라브 에지용 스카핑 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 제철소의 연주공정에서는 슬라브(Slab)가 생산되는데, 이러한 슬라브는 절단되어 일정한 크기를 갖게되고 표면결합이 없는 경우 열연 가열로를 거쳐 열연코일 및 냉연코일로 압연된다.
상기 슬라브에 표면 결함이 있는 경우에는 제품 품질의 저하를 초래하므로 이러한 표면 결함은 제품의 품질 향상을 위해 제거되어야 하며, 상기와 같이 슬라브의 표면 결함을 제거하는 작업을 스카핑(Scarfing)이라고 한다.
이러한 스카핑 작업은 슬라브의 표면에 고압의 산소(O2)와 가스(LPG Gas)를 분사하여 슬라브의 표면을 용융시킨 후 불어냄으로써 슬라브의 표면에 발생된 표면 결합을 제거한다.
슬라브의 전면은 주로 스카핑 장치에 의해 표면 결함 제거가 이루어지지만, 도 1에 도시된 바와 같이, 슬라브(10)의 가장자리(20)는 작업자(30)가 별도의 도 구(40)를 사용하여 슬라브 가장자리(20) 표면의 결함을 제거하고 있다.
하지만, 작업자(30)가 스카핑 작업을 직접 수행하기 때문에 슬라브 가장자리(20)의 깊이 및 폭의 편차가 발생되며, 이로 인해 제품의 불량율이 높아져 품질 저하를 초래한다.
또한, 최근에는 자동차 강판, API재 등의 고급강을 대량으로 생산해야 하지만 작업자(30)의 수작업을 통해 스카핑을 수행하는 시간이 상당히 오래 걸려 생산 효율이 떨어지는 문제점이 발생된다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 슬라브의 품질 저하를 방지하는 동시에 슬라브의 생산 효율을 높이기 위한 슬라브 에지용 스카핑 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 슬라브 에지용 스카핑 장치는 슬라브가 안착되는 안착부와, 상기 안착된 슬라브를 이송시키는 이송부와, 상기 이송되는 슬라브의 상부에 마련되어, 상기 슬라브의 가장자리를 향해 일정 각도로 고압의 산소와 가스를 분사하는 스카핑 어셈블리를 포함한다.
상기 스카핑 어셈블리는 일면에 경사면이 형성된 매니폴드와, 상기 경사면에 결합되어 이송되는 슬라브의 선단부를 향해 30 내지 60도로 기울어져 장착되는 분사 유닛으로 구성될 수 있다.
상기 경사면에는 산소 라인, 예열가스 라인, 고압산소 라인 및 가스 라인이 매니 폴드의 상부면으로부터 연장 형성될 수 있다.
상기 매니 폴드에 형성된 고압산소 라인은 장방형 형상으로 형성되고, 그 폭방향의 길이는 8 내지 30mm일 수 있다.
상기 분사 유닛은 매니 폴드 경사면에 형성된 산소 라인 및 예열가스 라인이 연장 형성되도록 장착된 상부분사유닛과, 상기 상부분사유닛의 하부에 고압산소 라인 및 가스 라인이 연장 형성되도록 장착되는 하부분사유닛으로 구성될 수 있다.
상기 매니폴더 및 하부분사유닛에 형성된 고압산소 라인의 일측 내벽은 수평면으로부터 95도 내지 115도로 기울어져 형성되고, 그 대향하는 타측 내벽은 수평면으로부터 70도 내지 90도로 기울어져 형성될 수 있다.
상기 하부분사유닛에 형성된 고압산소 라인의 선단부의 폭은 20 내지 70mm이고, 선단부의 높이는 6 내지 28mm일 수 있다.
상기 상부분사유닛의 선단부와 슬라브의 거리는 20 내지 80mm이고, 하부분사유닛의 선단부와 슬라브의 거리는 20 내지 120mm일 수 있다.
상기 스카핑 어셈블리에는 스카핑 어셈블리를 상하 및 좌우로 이동시키는 구동 유닛이 더 연결될 수 있다.
본 발명은 슬라브 상부 가장자리의 스카핑을 기계에 균일하게 수행됨으로써, 슬라브의 불량을 저하시키는 동시에 생산 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 스카핑 장치의 최적화된 수치를 제공함으로써, 품질 향상을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 스카핑 장치를 나타낸 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리를 나타낸 결합도이고, 도 4는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리를 나타낸 분해 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴 드를 나타낸 단면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴드를 나타낸 배면도이고, 도 7은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴드의 내부를 나타낸 단면도이고, 도 8은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 상부분사유닛을 나타낸 사시도이고, 도 9는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 상부분사유닛을 나타낸 단면도이고, 도 10은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 하부분사유닛을 나타낸 정면도이고, 도 11은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 하부분사유닛을의 내부를 나타낸 단면도이고, 도 12는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 유동성 분석을 나타낸 도면이고, 도 13은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 작업을 수행하는 모습을 나타낸 단면도이고, 도 14는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 작업을 수행하는 모습을 나타낸 사시도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 스카핑 장치는 슬라브(S)가 안착되는 안착부(200)와, 상기 안착된 슬라브(S)를 이송시키는 이송부(300)와, 상기 이송되는 슬라브(S)의 상부에 마련되어, 상기 슬라브(S)의 가장자리(100)를 향해 일정 각도로 고압의 산소와 가스를 분사하는 스카핑 어셈블리(500)를 포함한다.
안착부(200)는 회전되는 다수의 이송 롤러로 구성되며, 다수개의 이송 롤러가 수평으로 배치되어 프레임 상에 고정 설치된다. 이로 인해 일정한 크기의 형태로 잘라진 형상의 슬라브(S)는 안착부(200) 상에 배치되어 스카핑 작업이 수행된다.
안착부(200)에 안착된 슬라브(S)를 이동시키기 위해 안착부(200)의 일측에는 이송부(300)가 마련되어 있으며, 이송부(300)는 슬라브(S)의 상부에 마련되어 슬라 브(S)를 이동시키는 핀치롤(320)과, 상기 핀치롤(320)에 연결되어 핀치롤(320)을 지지하는 지지대(340)로 구성된다. 핀치롤(320)은 원기둥 형상으로 슬라브(S)의 폭 방향에 대응되는 길이로 형성되며 지지대(320)는 핀치롤(320)을 지지하는 동시에 핀치롤(320)의 위치를 상하로 가변시키도록 실린더(360)에 의해 작동된다.
또한, 이송부(300)의 일측에는 슬라브(S)의 상부 가장자리(100)에 스카핑 작업을 수행하기 위한 스카핑 어셈블리(500)가 마련되며, 스카핑 어셈블리(500)는 이송되는 슬라브(S)의 상부에서 슬라브(S) 가장자리(100)를 향해 일정한 속도와 압력으로 슬라브(S)의 가장자리(100)에 고압 산소 및 가스를 분사함으로써, 슬라브(S) 상부 가장자리(100)에 스카핑 작업을 수행한다.
이러한 스카핑 어셈블리(500)에는 스카핑 어셈블리(500)를 지지하는 동시에 스카핑 어셈블리(500)를 상하, 좌우로 이동시키기 위한 구동 유닛(400)이 연결되며, 스카핑 어셈블리(500)는 구동 유닛(400)의 일측에 연결된 'ㄴ'자 형상의 멤버(440)의 하부에 장착된다.
구동 유닛(400)에는 에어 실린더(420)가 장착되어 있으며, 이로 인해 구동 유닛(400)에 장착된 스카핑 어셈블리(500)를 상하로 이동시킬 수 있다. 스카핑 어셈블리(500)의 좌우 이동은 구동 유닛(400)에 장착된 멤버(440)의 의해 작동되며, 이를 위해 멤버(440)에는 드라이버 모터(미도시)가 장착될 수 있다.
또한, 드라이버 모터에는 거리측정 센서(미도시)가 더 장착될 수 있으며, 거리측정 센서는 스카핑 어셈블리(500)가 슬라브(S)의 상부면과의 거리를 조절하며 이동할 수 있도록 도와준다.
스카핑 어셈블리(500)의 상부에는 스카핑 어셈블리(500)에 산소 및 가스를 공급할 수 있도록 유틸리티(Utility, 520)가 연결되며, 예컨대, 산소, 예열가스, 고압산소 및 도시가스를 별도로 공급할 수 있도록 다수개가 마련될 수 있다. 여기서, 산소와 고압산소, 예열가스와 도시가스는 각각 동일한 구성 요소이나 설명의 편의상 명칭을 다르게 표현하였다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 스카핑 어셈블리(500)는 매니 폴드(600)와, 상기 매니 폴드(600)의 일측에 수직축으로부터 일정 각도로 기울어져 장착되는 분사 유닛(700, 800)과, 매니 폴드(600)의 하부에 장착되는 하부 블럭(900)으로 구성된다. 여기서, 하부 블럭(900)은 분사 유닛(700, 800)의 하부를 지지하며 슬라브(S)의 상부면과 밀착되기 위해 슬라브(S)의 상부면과 평행하도록 형성된다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 매니 폴드(600)는 사각 박스 형상으로 형성되며, 일면에는 내측으로 소정 홈이 경사를 가지도록 경사면(610)이 형성된다. 이러한 경사면(610)의 각도(θ1)는 수평으로부터 30 내지 90도 바람직하게는 45도로 형성될 수 있다.
매니 폴드(600)의 상부에는 유틸리티(520)로부터 산소 및 가스를 공급받기 위한 산소 라인(620), 예열가스 라인(640), 고압산소 라인(660) 및 가스 라인(680)이 형성되어 있으며, 각각의 라인(620, 640, 660, 680)들은 매니 폴드(600)의 일면에 형성된 경사면(610)에 연통되도록 연장 형성된다.
매니 폴드(600)의 경사면(610)에 형성된 산소 라인(620), 예열가스 라인(640) 및 가스 라인(680)은 약 4개의 구멍을 통해 매니 폴드(600)로부터 분사되 며, 고압산소 라인(660)은 장방형 형상의 구멍을 통해 매니 폴드(600)로부터 분사된다. 여기서, 매니 폴드(600)의 하부면에 형성된 장방형 형상의 고압 가스라인(660)의 폭 방향 길이(h1)는 8 내지 30mm 바람직하게는 22mm로 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 고압산소 라인(660)의 내부는 도 7에 도시된 바와 같이, 매니 폴드(600)의 상부로부터 폭이 갈수록 좁아지는 형상으로 형성되며, 고압산소 라인(660)의 일측 내벽(662)의 각도(θ2)는 수평으로부터 95도 내지 115도, 바람직하게는 108도를 유지하도록 형성되며, 타측 내벽(664)의 각도(θ3)는 수평으로부터 70도 내지 90도, 바람직하게는 87도를 유지하도록 형성될 수 있다.
이로부터 고압산소 라인(660)의 일측 내벽(662)은 수직축으로부터 18도 기울어진 상태로 고압 산소를 분사할 수 있으며, 고압산소 라인(660)의 타측 내벽(664)은 수직축으로부터 3도 기울진 상태로 고압산소를 분사할 수 있다. 물론, 이러한 분사 각도는 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.
한편, 매니 폴드(600)의 내부에는 도 5에 도시된 바와 같이, 매니 폴드(600)의 내부에 형성된 산소 라인(620), 예열가스 라인(640), 고압산소 라인(660) 및 가스 라인(680)과 간섭되지 않도록 냉각 라인(690)이 더 형성될 수 있으며, 이러한 냉각 라인(690)은 냉각수 또는 냉각 가스가 삽입 순환됨으로써, 스카핑 어셈블리(500)가 과열되는 것을 방지할 수 있다.
상기에서는 매니 폴드(600)에 냉각 라인(690)이 형성된 모습을 나타내었지만, 이에 한정되지 않고, 이후 설명될 분사 유닛 및 하부 블럭에도 형성될 수 있음 은 물론이다.
매니 폴드(600)의 일측에 형성된 경사면(610)에는 분사 유닛(700, 800)이 결합되며, 이러한 분사 유닛(700, 800)은 슬라브(S)의 상부 가장자리(100)를 예열하는 상부분사유닛(700)과, 슬라브(S)의 상부 가장자리(100)에 스카핑을 수행하기 위한 하부분사유닛(800)으로 구성된다.
상부분사유닛(700)은 도 8에 도시된 바와 같이, 전면부에는 슬라브(S)의 가장자리(100)에 산소 및 예열가스를 분사시키기 위한 산소 분사구멍(720) 및 예열가스 분사구멍(740) 상하로 이격되어 형성되어 있다.
또한, 도 9에 도시된 바와 같이, 상부분사유닛(700)의 내부에는 산소 라인(760) 및 예열가스 라인(780)이 매니 폴드에 형성된 산소 라인 및 예열가스 라인과 대응되도록 연장 형성된다. 이로 인해 매니 폴드(600)에 공급된 산소 및 예열가스는 매니 폴드(600)를 거쳐 상부분사유닛(700)으로 이동되고, 상부분사유닛(700)으로 이동된 산소 및 예열가스는 상부분사유닛(700)에 형성된 산소 분사구멍(720) 및 예열가스 분사구멍(720)을 통해 슬라브(S)를 향해 분사된다.
하부분사유닛(800)은 상부분사유닛(700)의 하부에 결합되며, 하부분사유닛(800)의 상부면에는 도 10에 도시된 바와 같이, 매니 폴드(600)로부터 공급된 고압산소를 이동시키기 위해 고압산소 라인(820)이 연장 형성되어 있으며, 하부분사유닛(800)의 전면부에는 가스 분사구멍(840)이 수평으로 다수개가 형성되어 있다.
하부분사유닛(800)에 형성된 고압산소 라인(820)은 내측으로 오목한 홈 형상으로 형성되며, 상부분사유닛(700)을 하부분사유닛(800)의 상부에 밀착 결합시킴으 로써 하부분사유닛(800)의 상부에 형성된 홈의 상부는 페쇄되어 고압산소를 이동시킬 수 있다.
여기서, 하부분사유닛(800)에 형성된 고압산소 라인(820)의 내부는 도 11에 도시된 바와 같이, 폭이 하부를 향해 갈수록 작아지는 것이 바람직하며, 매니 폴드(600)에 형성된 고압산소 라인(660)과 대응되는 각도를 가지도록 하부분사유닛(800)의 고압산소 라인(820)의 일측 내벽(822)의 각도(θ4)는 수평으로부터 95도 내지 115도, 바람직하게는 108도를 유지하도록 형성되며, 타측 내벽(824)의 각도(θ5)는 수평으로부터 70도 내지 90도, 바람직하게는 87도를 유지하도록 형성될 수 있다.
한편, 하부분사유닛(800) 고압산소 라인(820)의 선단부 폭(W)은 20 내지 70mm 바람직하게는 57mm로 형성하고, 높이(h2)는 6 내지 28mm 바람직하게는 18mm로 형성하는 것이 바람직하다.
상기와 같이, 매니 폴드(600) 및 하부분사유닛(800)에 각각 형성된 고압산소 라인(660, 820)의 세부적인 수치는 고압산소 라인의 내부 압력 및 속도를 최적화시킬 수 있으며, 이로 인해 도 12에서 도시된 바와 같이, 속도와 압력이 일정한 방향을 유지하여 슬라브(S) 가장자리의 깊이가 확보될 수 있도록 스카핑 작업 효율을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.
이하에서는 도 2, 도 13 및 도 14를 참조하여 본 발명에 따른 스카핑 장치에 작동에 대해 설명한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 슬라브(S)가 안착부(200)의 상부에 진입하면 핀치 롤(320)은 슬라브(S)가 스카핑이 수행될 수 있도록 스카핑 어셈블리(500)의 하부로 이동시킨다. 이어서, 스카핑 어셈블리(500)는 멤버(440)에 장착된 드라이버 모터에 의해 좌우로 이동하여 슬라브(S) 가장자리(100)의 상부에 위치된다. 이때, 슬라브(S) 가장자리(100)의 위치는 모터에 장착된 거리측정센서에 의해 측정될 수 있다.
스카핑 어셈블리(500)는 구동 유닛(400)에 연결된 에어 실린더(420)에 의해 하강하게 되고, 하강된 스카핑 어셈블리(500)는 슬라브(S)의 상부 표면에 밀착된다. 밀착이 완료된 스카핑 어셈블리(500)는 슬라브(S) 가장자리(100)를 예열하기 위해 슬라브(S) 표면으로부터 약 10mm 정도 상승한다.
여기서, 도 13에 도시된 바와 같이, 상부분사유닛(700)과 슬라브(S)와의 거리(D1)는 20 내지 80mm 바람직하게는 40mm로 형성되고, 하부분사유닛(800)과 슬라브(S)와의 거리(D2)는 20 내지 120mm 바람직하게는 34mm로 형성되는 것이 바람직하다.
이어서, 스카핑 어셈블리(500)의 상부에 연결된 유틸리티(520)로부터 산소 및 예열 가스가 매니 폴드(600)에 공급되고, 매니 폴드(600)에 공급된 산소 및 예열 가스는 스카핑 어셈블리(500)의 상부분사유닛(700)을 통해 분사되면서 슬라브(S) 상부 가장자리(100)의 예열을 시작한다.
예열이 지속되는 동안 슬라브(S)의 상부 가장자리(100)는 용융 물이 형성되고, 도 14에 도시된 바와 같이, 일정 각도를 가지고 하부분사유닛(800)으로부터 고압의 산소 및 가스가 분사되면서 스카핑 작업이 수행된다. 여기서, 스카핑되는 슬 라브(S) 가장자리(100)의 깊이는 하부분사유닛(800)과 슬라브(S)와의 거리, 슬라브(S)를 이동시키는 핀치롤(320)의 스피드 및 고압 산소의 압력에 의해 결정될 수 있다.
상기에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명은 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음은 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 종래 슬라브 상부 가장자리의 스카핑 작업을 수행하는 모습을 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 스카핑 장치를 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리를 나타낸 결합도.
도 4는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리를 나타낸 분해 사시도.
도 5는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴드를 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴드를 나타낸 배면도.
도 7은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 매니 폴드의 내부를 나타낸 단면도.
도 8은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 상부분사유닛을 나타낸 사시도.
도 9는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 상부분사유닛을 나타낸 단면도.
도 10은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 하부분사유닛을 나타낸 정면도.
도 11은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 하부분사유닛의 내부를 나타낸 단면도.
도 12는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 유동성 분석을 나타낸 도면.
도 13는 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 작업을 수행하는 모습을 나타낸 단면도.
도 14은 본 발명에 따른 스카핑 어셈블리의 작업을 수행하는 모습을 나타낸 사시도.
< 도면 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
S: 슬라브 100: 슬라브 가장자리
200: 안착부 300: 이송부
320: 핀치롤 400: 구동 유닛
500: 스카핑 어셈블리 600: 매니 폴드
700: 상부분사유닛 800: 하부분사유닛

Claims (9)

  1. 슬라브가 안착되는 안착부와, 상기 안착된 슬라브를 이송시키는 이송부와, 상기 이송되는 슬라브의 상부에 마련되어, 상기 슬라브의 가장자리를 향해 일정 각도로 고압의 산소와 가스를 분사하는 스카핑 어셈블리를 포함하고,
    상기 스카핑 어셈블리는 일면에 경사면이 형성된 매니폴드와, 상기 경사면에 결합되어 이송되는 슬라브의 선단부를 향해 30 내지 60도로 기울어져 장착되는 분사 유닛으로 구성된 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 경사면에는 산소 라인, 예열가스 라인, 고압산소 라인 및 가스 라인이 매니 폴드의 상부면으로부터 연장 형성된 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 매니 폴드에 형성된 고압산소 라인은 장방형 형상으로 형성되고, 그 폭 방향의 길이는 8 내지 30mm인 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 분사 유닛은 매니 폴드 경사면에 형성된 산소 라인 및 예열가스 라인이 연장 형성되도록 장착된 상부분사유닛과, 상기 상부분사유닛의 하부에 고압산소 라인 및 가스 라인이 연장 형성되도록 장착되는 하부분사유닛으로 구성된 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 매니폴더 및 하부분사유닛에 형성된 고압산소 라인의 일측 내벽은 수평면으로부터 95도 내지 115도로 기울어져 형성되고, 그 대향하는 타측 내벽은 수평면으로부터 70도 내지 90도로 기울어져 형성된 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 하부분사유닛에 형성된 고압산소 라인의 선단부의 폭은 20 내지 70mm이고, 선단부의 높이는 6 내지 28mm인 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  8. 청구항 5에 있어서,
    상기 상부분사유닛의 선단부와 슬라브의 거리는 20 내지 80mm이고, 하부분사유닛의 선단부와 슬라브의 거리는 20 내지 120mm인 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 스카핑 어셈블리에는 스카핑 어셈블리를 상하 및 좌우로 이동시키는 구동 유닛이 더 연결된 것을 특징으로 하는 슬라브 에지용 스카핑 장치.
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