KR101085487B1 - 스크린인쇄용 전도성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 각종 전기전자 소재의 전극형성 또는 패키징이나 어셈블리 등에 사용되는 전도성 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 RFID 태그를 포함하는 전기전자 기기 부품용 스크린 인쇄에 사용되는 전도성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법에 관한 것이다.

본 발명에서는 종래에 비하여 분산성, 저장 안정성, 스크린 인쇄 적성, 인쇄 피막의 접착력 및 전기 전도성이 우수한 스크린 인쇄용 전도성 페이스트를 제조하고자 하며, 이를 위하여 본 발명에서는 스크린 인쇄에 사용되는 전도성 페이스트에 있어서, 전기 전도성을 가지는 금속 성분인 은 충전재와 상기 페이스트에 전도성 외의 특성을 부여하기 위한 바인더를 포함하여 구성되는 것으로서, 상기 전도성 페이스트 100 wt% 에 대하여 은 충전재의 함량이 50~90 wt%이고, 바인더 수지의 함량이 10~50 wt% 인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법에 관하여 개시한다.

스크린 인쇄, 은, 충전재, 바인더 수지, 희석용제, 분산성, 저장 안정성, 인쇄 적성, 접착력, 전기 전도성

Description

스크린인쇄용 전도성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법{Conductive paste composite for screen printing and screen printing method using the same}

본 발명은 전도성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 각종 전기전자 소재 또는 기기에 사용되는 것으로서 분산성, 저장 안정성, 인쇄 적성, 접착력 및 전기 전도성이 우수한 스크린인쇄용 전도성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 스크린 인쇄방법에 관한 것이다.

일반적으로 스크린 인쇄(Screen printing)란 비단이나 화학섬유의 천, 금속 등의 그물 망 형태의 구조를 팽팽하게 하여 스크린으로 하고, 비화선부(非畵線部)가 되는 부분을 형지(型紙) 또는 아교재(材)로 덮어씌운 다음, 그 위에서 잉크를 부여하면 화선부(畵線部)에만 잉크가 스크린을 통하여 인쇄된다. 최근에는 금속 박막에 레이저나 전자 빔 등으로 패턴의 화선부를 천공하여 정밀한 전자 부품 인쇄에 사용하며 이 경우 판의 정확성, 내쇄성(耐刷性)이 우수하다.

스크린 인쇄는 스퀴지(squeegee)라는 밀대로 잉크를 밀어내는 손 인쇄가 가능하나, 실크 스크린 인쇄 전용의 인쇄기가 사용되고 있다. 스크린 인쇄의 특색으 로는 잉크 층이 매우 두껍고 색 수(色數)도 자유로이 사용할 수 있는 점이다. 또, 유리, 도자기, 금속, 플라스틱 필름 등 어떤 피 인쇄물에도 인쇄가 가능하다. 포스터나 천 또는 대형 입간판(立看板) 따위의 적은 부수의 인쇄에서부터 전기 전자 부품처럼 정밀하고 대량 인쇄에도 사용이 가능하다.

이러한 스크린 인쇄를 전기전자 부품에 응용하는 경우에 전도성 접착제 또는 페이스트가 잉크 재료로 사용되는데, 안테나, 자기콘덴서 및 저항기 등에 사용된다.

특히, 프린터 배선판, RFID (Radio frequency identification) 안테나, 전자파 차폐, 멤브레인(membrane) 스위치, 압전소자 등의 일렉트로닉스 분야에서도 유연성이 좋은 제품이 활발히 연구되고 있으며, 이러한 유연성 전자 디스플레이 및 일렉트로닉스 제품에 전도성 패턴은 폭넓게 사용될 전망이다.

전도성 패턴 형성방법으로는 에칭법, 포토리소그래피법(photolithography), 스크린 인쇄법(screen printing) 등이 사용되고 있으나, 에칭법 및 포토리소그래피법은 공정이 복잡하고 생산성이 낮으며 많은 장비를 필요로 하고 재료의 낭비율이 높고, 유해 물질이 다량 발생, 환경처리비용이 추가적으로 발생하는 등의 단점이 있다. 스크린 인쇄법은 전도성 패턴 형성방법 중 가장 널리 사용되고 있는 방식이며 필요한 부분에만 인쇄되는 직접 인쇄법으로서 전도성 페이스트의 손실이 적으며, 공정이 간단하고, 제판비가 저렴하다는 장점이 있다. 최근 금속 마스크 기술의 발전으로 정밀한 패턴의 인쇄가 가능하고, 장비의 대형화로 인쇄 생산성을 높이고 있다.

또한, 스크린 인쇄에 의해 전도성 패턴을 형성하는 데에는 전도성 페이스트라는 특수한 잉크가 필요하게 되는데, 현재 나노 은(Ag) 페이스트가 활발히 연구되고 있는 실정이다. 하지만, 종래 나노 은 페이스트의 경우 가격이 매우 고가이므로 전도성 페이스트로 사용하기에는 문제점이 있어왔다.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로서, 본 발명의 목적은 나노 은 입자를 사용하지 않고 ㎛ 단위의 은 입자를 사용하여도 종래에 비하여 스크린 인쇄 적성, 인쇄 피막의 접착성 및 유연성과 나노 은 페이스트나 가능했던 전기 전도성이 우수한 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물을 스크린 인쇄 방법으로 유연한 폴리에스테르 필름 소재에 인쇄하여 사용하는 것이다. 이는 본 발명에 따른 전도성 페이스트는 스크린 인쇄 방법으로 유연한 폴리에스테르 필름 소재에 인쇄가 가능하기 때문이다.

본 발명의 또 다른 목적은 RFID를 본 발명 페이스트 조성물로 폴리에스테르 필름에 스크린 인쇄함으로써, 생산성이 높고 8m 거리에서 인식할 수 있으며 유연성이 높은 RFID를 제조할 수 있도록 한 것이다.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는, 스크린 인쇄에 사용 되는 전도성 페이스트에 있어서, 전기 전도성을 가지는 금속 성분인 은 충전재와 상기 페이스트에 전도성 외의 특성을 부여하기 위한 바인더를 포함하여 구성되는 것으로서, 상기 전도성 페이스트 100 wt% 에 대하여 은 충전재의 함량이 50~90 wt%이고, 바인더의 함량이 10~50 wt% 정도인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물에 관하여 개시한다.

또한, 본 발명은 다른 목적을 달성하기 위하여, 전도성 페이스트를 사용한 스크린 인쇄방법에 있어서,

(a) 피 인쇄체에 은 충전재의 함량이 50~90 wt%이고, 폴리우레탄계 또는 폴리에스테르계 바인더 수지의 함량이 10~50 wt%로 이루어지는 전도성 페이스트를 1차 스크린 인쇄한 단계; 및

(b) 상기 1차 스크린 인쇄 상에 상기 (a) 전도성 페이스트 100 wt%에,

(ⅰ) 황산, 초산, 개미산, 인산, 마론산, 마레인산, 염산 및 스테아린산으로 이루어지는 군에서 선택된 산 첨가물과;

(ⅱ) 폴리실록산계 소포제, 실리콘계 레벨링제 또는 알코올계 레벨링제, 헥사플로로안티모네이트, 트리플릭산으로 블록되어 있는 암모늄 및 무기 충전제로 이루어지는 군에서 선택된 첨가물;로 이루어지는 첨가물 0.01~3.0 wt%가 더 첨가된 전도성 페이스트를 사용하여 2차 스크린 인쇄하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 스크린 인쇄방법을 개시한다.

여기서, 상기 바인더 수지에는 전도성 페이스트 100 wt%에 대하여 수지 고형분 5~25 wt%, 수지 고형분의 희석용제 5~25 wt%의 조성비로 이루어지는 것이 바람 직하다. 이는 바인더 수지에 수지 고형분이 5 wt% 미만을 사용하면 전도성 페이스트의 점도가 낮고 25 wt%를 초과하면 점도가 높아서 스크린 인쇄 시 작업성이 낮아지기 때문이다.

또한, 본 발명에서는 상기 전도성 페이스트 100 wt%에 대하여 페이스트에 전도성, 분산성, 저장 안정성, 인쇄 적성 등의 특성들을 부여하는 첨가제 0.1~3 wt%를 더 첨가하는 것이 바람직하다. 이는 첨가제가 0.1 wt% 미만을 더 첨가하여 사용하면 상술한 특성을 부여하기가 어렵고, 3 wt%를 초과하여 첨가하면 오히려 전도 효율이나 인쇄 적성이 저하될 수 있기 때문이다.

더 바람직하게는 전도성, 분산성, 저장 안정성, 인쇄 적성 등을 고려하여 수지 고형분 6~12 wt%와 수지 고형분의 희석용제 6~24 wt%에 나머지는 은 충전제로 이루어진 전도성 페이스트 100 wt%에 대하여 첨가제 0.1~3 wt% 가 더 포함하는 것이 바람직하다.

상기 은 충전재의 형상은 판상형(flake type)이며, 입경의 범위가 0.1~10 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이는 상기 은 충전재의 형상이 판상형이 아닌 구형(sphere type)의 경우, 스크린 인쇄된 막의 은 충전재는 서로 간에 면 접촉을 하지 못하고 점접촉을 하게 되어 도전 패스가 형성되기 어렵고 요구되는 전기 전도성을 얻지 못하는 문제가 있고 또한, 중량부를 기준으로 전도성 페이스트를 형성함에 있어서 부피가 작은 구형의 은 충전재를 사용하는 경우 인쇄된 막의 전체 부피 중에서 은 충전재가 차지하는 부피가 작게 되어 인쇄된 전도성 패턴에 핀홀이 발생하는 등 은 충전재의 패킹 불량이 발생하여 전기 전도성이 떨어지는 문제점이 발생할 수 있기 때문이다.

상기 바인더 수지에서 고형분 수지는 유리전이온도가 5~40 ℃ 의 범위이고, 수평균 분자량이 20,000~100,000의 범위 내, 바람직하게는 수평균 분자량이 60,000~80,000인 용제 증발형 폴리에스테르나 폴리우레탄 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다. 이는 스크린 인쇄용 피인쇄체로서는 각종 재료를 사용할 수 있지만 유연성이 우수한 RFID를 제조하기 위해서는 주로 PET 필름(polyethylene terephthalate film)이 사용되는데, 피인쇄체에 대한 인쇄 피막의 접착력과 인쇄적성을 고려하면 상기 유리전이온도와 수평균 분자량을 갖는 폴리우레탄 및 폴리에스테르 수지가 바인더의 수지로 가장 바람직하기 때문이다. 하지만, 본 발명의 전도성 페이스트가 적용되는 피인쇄체는 PET필름에 국한되지는 않는다.

상기 희석용제는 비점이 130~240 ℃ 범위 내인 N-메칠피로리돈, 부틸 셀로솔브, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸 캐비톨, 에틸 캐비톨 아세테이트 및 부틸 캐비톨, 에톡시에틸 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등을 포함하여 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것이 바람직하다.

이때, 상기 희석용제는 보다 구체적으로 테르피네올, N-메칠피로리돈(N-Methylpyrrolidone,b.p 202 ℃), 부틸 셀로솔브(butyl cellosolve, b.p 171.2 ℃), 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트(Ethylene glycol monobutyl ether acetate, b.p 192 ℃), 에틸 캐비톨(Ethyl carbitol, b.p 201.9 ℃), 에틸 캐비톨 아세테이트(Ethyl cabitol acetate, b.p 217.4 ℃), 부틸 캐비톨(Butyl cabitol, b.p 230.6 ℃) 에톡시에틸 아세테이트(Ethoxyethyl acetate, b.p 156.3 ℃), 에틸 셀로소브(Ethyl cellosolve, b.p 135 ℃), 부틸 아세테이트 (Butyl acetate, b.p 126 ℃), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(Propylene glycol monomethyl ether, b.p 121 ℃), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(Propylene glycol monomethyl ether acetate, b.p 146 ℃) 등을 사용할 수 있으며, 그 중 피인쇄체에 대한 인쇄 피막의 접착력과 인쇄적성 등을 고려하여 테르피네올(Terpineol b.p: 217 ℃)을 사용하는 것이 가장 바람직하다.

본 발명에서 상기 첨가물은 (a)스테아린산, 초산, 개미산 인산, 마론산, 마레인산, 염산 및 황산 등에서 선택된 산 첨가물과; (b) 디메틸폴리실록산, 메틸에틸폴리실록산 및 디에틸폴리실록산 등에서 선택된 폴리실록산계 소포제, 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 등에서 선택된 실리콘계 레벨링제 또는 메탄올, 에탄올, 부탄올 등에서 선택된 알코올계 레벨링제, 헥사플로로안티모네이트, 트리플릭산으로 블록되어 있는 암모늄 및 무기 충전제 등에서 선택된 첨가물;로 이루어지는 첨가물을 사용하는 것이 전도성 페이스트의 특성상 바람직하다. 하지만, 본 발명이 상술한 첨가물로 국한되는 것은 아니며 전도성 페이스트 분야에서 상업적으로 판매되는 것을 사용해도 무방하다.

본 발명에 따른 전도성 페이스트의 점도는 스크린 인쇄, 특히 PET 피인쇄체의 인쇄 적성 및 작업성을 감안하여 6,000~140,000 cps 의 범위 내인 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 전도성 페이스트는 KS M 5463의 연화도 시험방법에 의거하여 연화도를 측정한 결과 최대 7㎛의 분산성, 평균적으로는 5㎛ 이하의 분산성을 갖는 것을 특징으로 한다.

<기존 기술과의 차별성>

특허 출원번호 10-2008-0014351 ‘그라비어 프린팅용 전도성 페이스트 조성물’에서는 은 충전제는 판상이고 평균입경 3~4 (㎛), 비표면적, 최대/ 최소 입경 등이 출원하고자 하는 본 내용과 유사하나, 본문에서는 인쇄 방법을 스크린 프린팅으로 하고 여기에 맞는 페이스트 성질을 갖도록 수지를 폴리에스테르와 폴리우레탄 수지를 주로 사용하였고, 인쇄 공정도 2액형 2도 인쇄로 하여 전도성을 향상시킨 것이다. 즉, 본 발명에 따른 2액형 2도 인쇄란 피인쇄체에 첨가물을 포함하지 않는 전도성 페이스트로 이루어진 액을 사용하여 1회 스크린 인쇄를 하고, 그 위에 다시 첨가물을 더 포함한 전도성 페이스토로 이루어진 액을 스크린 인쇄하는 것을 말한다.

본 발명의 전도성 페이스트는 페이스트의 분산성, 저장 안정성, 스크린 인쇄 적성, 인쇄 피막의 접착력, 유연성, 전기 전도성이 매우 우수하므로 각종 전기전자기기를 위한 스크린 인쇄에 매우 효율적으로 적용 가능하며 인쇄 품질 또한 매우 우수하여 제품의 신뢰도를 향상시킬 수 있게 된다.

[공시 재료]

1. 은 충전제

본 발명에서는 전도성 금속재료로서 은 충전재를 사용하는데, 그 물성은 아래 표 1과 같다. 도 1은 본 발명의 은 충전재의 SEM 사진으로 은 충전재의 형상을 나타낸 것으로서, 본 발명에서 사용한 은 충전재는 0.1~10 ㎛ 의 입도 분포(A)를 갖는 평평한 형태의 판상형(flake type, B)인 것을 특징으로 한다.

2. 바인더 수지

2-1. 수지 고형분

본 발명에서는 전도성 페이스트에 점성을 부여하는 바인더의 수지로서 폴리우레탄 및 폴리에스테르 수지가 사용되고, 그 물성은 아래의 표 2와 같다.

이때, 상기 폴리우레탄 수지의 점도는 60,000~80,000 cps 인 것을 선택하였고, 폴리에스테르세 수지의 점도는 55,000~70,000cps인 것을 선택하였다.

[실시예]

1. 전도성 페이스트 제조

본 실시 예에서는 판상형은 74 wt% 사용하여 페이스트를 제조하였다. 폴리우레탄 및 폴리에스테르계 수지를 12 wt% 사용하였고, 테르피네올을 14 wt% 수지 용제로 사용하여 전도성 페이스트를 제조하였고, 여기에 첨가제로 소포제, 스테아린산 등을 미량 투입하였다. 이때, 비교예는 아크릴 수지를 제외하고는 본 실시예와 동일한 방법으로 전도성 페이스트를 제조하였다.

2. 스크린 인쇄

본 실시 예에서는 상기 실시예 1에서 제조한 전도성 페이스트를 각각 200메쉬와 325메쉬에 스크린 인쇄를 하였다.

즉, 전도성 페이스트를 스크린 판위에서 스크래퍼로 롤링(rolling)하여 도포시킨 다음, 스퀴지로 스크린 판의 화선부로 토출시키면서 판분리를 하여 피인쇄체에 레벨링되면서 도막이 형성시켜 스크린 인쇄를 완료하였다.

[실험 예]

1. 피막의 분산성

상기 실시 예 1에서 제조한 스크린 인쇄용 전도성 페이스트의 분산성을 측정하기 위하여, 연화도 측정방법인 KS M 5463(도료의 연화도 시험방법)에 의거하여 측정하였다. 여기서는 홈의 깊이가 0~25 ㎛ 까지 측정할 수 있는 입도계와 스크래퍼로 되어 있는 입도계(grindometer cat-NO.1510, Germany)를 사용하였다. 이 장비는 분산이 적절히 되지 않는 경우 스크래퍼에 의해 긁힘이 발생하는 것을 이용하는 것인데, 측정 결과 5 ㎛ 이하의 분산성을 가져야 안정적이라고 할 수 있다.

이의 결과, 아래 표 3과 도 2에 나타낸 바와 같이 폴리에스테르(B) 및 폴리우레탄(C) 수지를 바인더로 사용한 경우, 아크릴 수지(A)를 사용한 경우보다 Ag 필러를 잘 감쌌기 때문에, 분산 특성이 더 우수함을 알 수 있었다.

2. 피막의 평활성

상기 실시 예 2로부터 형성된 피막에 대해 SEM으로 확인하고, 이의 결과를 도 3에 나타내었다.

이의 결과, 도 3에 도시한 바와 같이 아크릴 수지(A)를 바인더로 사용한 Ag paste의 경우, 폴리우레탄 수지(C)나 폴리에스테르(A)와 비교하여 Ag 필러를 잘 감싸지 못해 분산 특성이 떨어졌는데 분산 특성이 좋지 못한 paste로 인쇄 피막을 형성하게 되면, 형성한 막 역시 평활하지 못하고 불균일함을 알 수 있다.

본 실험 예에서는 폴리우레탄 수지로 제조한 전도성 페이스트의 평활성이 가장 우수하였다.

3. 접착성

상기 실시 예 2에서 시험적으로 인쇄한 샘플을 크로스 커팅한 후, 접착 정도를 육안으로 확인하였다.

이의 결과, 도 4에 도시한 바와 같이 형성된 인쇄피막이 위치에 상관없이 본 발명에 따라 폴리우레탄(C) 및 폴리에스테르(B)를 바인더의 수지로 제조한 인쇄 피막의 경우, 아크릴 수지(A)와 비교하여 피인쇄체에 대한 접착력이 매우 우수함을 알 수 있다.

4. 저항성

형성된 전극패턴에 대한 저항성은 멀티메타기(2000 Multimeter, KEITHLEY)로 측정하여 하기 표 4에 나타내었다.

이의 결과, 본 발명에 따라 제조된 인쇄피막은 비교 예와 비교하여 인쇄 위치에 상관없이 균일한 막을 형성하고 있으면서 분산성, 접착력뿐만 아니라 인쇄 피막의 전도성도 우수함을 알 수 있었다.

본 발명의 전도성 페이스트는 스크린 인쇄방식으로 전도성 패턴을 형성하는 경우 RFID 테그의 안테나 제조용으로 적합하며, 전기전자기기 또는 부품의 전극이나 회로를 형성하는데 적용 가능하다. 전도성 페이스트의 분산성, 저장 안정성, 인쇄 적성, 접착력 및 전기 전도성이 매우 우수하므로 각종 산업 제품군에 신뢰성 있게 적용 가능하다.

더구나, 최근에 각광을 받고 있는 플렉시블 디스플레이 장치에 적용하는 경우 매우 신뢰성 있는 패턴 형성 작업이 가능하게 되므로 관련 산업의 발전에도 기여하게 될 것이다.

도 1은 본 실시예에서 사용한 은 충전제의 입도(A)와 판상형(B)을 SEM 사진으로 나타낸 것이다.

도 2는 KS M 5463에 의거하여 아크릴(A), 폴리에스테르(B) 및 폴리우레탄(C) 수지별 피막의 분산성을 나타낸 사진이다.

도 3은 200메쉬와 325 메쉬의 스크린을 통해 피인쇄체에 인쇄하여 형성시킨 피막의 평활성을 아크릴(A), 폴리에스테르(B) 및 폴리우레탄(C) 수지별 SEM 사진(단면도)으로 나타낸 것이다.

도 4는 200메쉬와 325 메쉬의 스크린을 통해 피인쇄체에 인쇄하여 형성시킨 샘플(전)을 크로스 커팅한 다음 아크릴(A), 폴리에스테르(B) 및 폴리우레탄(C) 수지별(후) 접착성을 사진으로 나타낸 것이다.

Claims (9)

1. 스크린 인쇄에 사용되는 전도성 페이스트에 있어서,

   판상형(flake type)이며, 입경의 범위가 0.1~10 ㎛ 인 은 충전재의 함량이 50~90 wt%이고; 수지 고형분 5~25 wt%와 수지 고형분의 희석용제 5~25 wt%로 이루어진 폴리우레탄계 또는 폴리에스테르계 바인더 수지의 함량이 10~50 wt%;로 이루어진 페이스트 100 wt% 기준에,

   (a) 황산, 초산, 개미산, 인산, 마론산, 마레인산, 염산 및 스테아린산으로 이루어지는 군에서 선택된 산 첨가물과;

   (b) 폴리실록산계 소포제, 실리콘계 레벨링제 또는 알코올계 레벨링제, 헥사플로로안티모네이트, 트리플릭산으로 블록되어 있는 암모늄 및 무기 충전제로 이루어지는 군에서 선택된 첨가물;

   로 이루어지는 첨가물 0.01~3.0 wt%가 더 첨가되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물.
2. 삭제
3. 삭제
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 바인더 수지에서 고형분 수지는 유리전이온도가 5~40 ℃의 범위이고, 수평균 분자량이 20,000~100,000의 범위인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 희석용제는 비점이 130~240 ℃ 인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물.
6. 제 5 항에 있어서,

   상기 희석용제는 테르피네올, NMP, 부틸 셀로솔브, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸 캐비톨, 에틸 캐비톨 아세테이트 및 부틸 캐비톨, 에톡시에틸 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트를 포함하여 이루어지는 군에서 선택된 희석용제인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물.
7. 제 1항, 제 4항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 전도성 페이스트의 점도는 6,000~140,000 cps 의 범위 내인 것을 특징으로 하는 스크린 인쇄용 전도성 페이스트 조성물.
8. 삭제
9. 전도성 페이스트를 사용한 스크린 인쇄방법에 있어서,

   (a) 피 인쇄체에 판상형(flake type)이며, 입경의 범위가 0.1~10 ㎛ 인 은 충전재의 함량이 50~90 wt%이고, 수지 고형분 5~25 wt%와 수지 고형분의 희석용제 5~25 wt%로 이루어진 폴리우레탄계 또는 폴리에스테르계 바인더 수지의 함량이 10~50 wt%로 이루어지는 전도성 페이스트를 1차 스크린 인쇄한 단계; 및

   (b) 상기 1차 스크린 인쇄 상에

   상기 (a) 전도성 페이스트 100 wt% 기준에,

   (ⅰ) 황산, 초산, 개미산, 인산, 마론산, 마레인산, 염산 및 스테아린산으로 이루어지는 군에서 선택된 산 첨가물과;

   (ⅱ) 폴리실록산계 소포제, 실리콘계 레벨링제 또는 알코올계 레벨링제, 헥사플로로안티모네이트, 트리플릭산으로 블록되어 있는 암모늄 및 무기 충전제로 이루어지는 군에서 선택된 첨가물;로 이루어지는 첨가물 0.01~3.0 wt%가 더 첨가된 전도성 페이스트를 사용하여 2차 스크린 인쇄하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 스크린 인쇄방법.

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