KR101038184B1

KR101038184B1 - 화장 활성물질의 제조 방법

Info

Publication number: KR101038184B1
Application number: KR1020067000305A
Authority: KR
Inventors: 라마찬드라 바트; 비노드쿠마르 람니란잔 다누카; 비잔 하리치안
Original assignee: 유니레버 엔.브이.
Priority date: 2003-07-08
Filing date: 2004-06-28
Publication date: 2011-06-01
Also published as: DE602004017747D1; MXPA05014007A; CN1812950A; EP1654209B1; PL1654209T3; KR20060033000A; ATE414053T1; ES2315670T3; CN100439307C; BRPI0412124A; US20050054884A1; WO2005005355A1; JP2009513503A; US6911562B2; EP1654209A1

Abstract

본 발명은 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매의 혼합물의 존재하에 하기 화학식 II의 화합물을 수소 및 물로부터 선택된 수소원과 반응시킴으로써 하기 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다:

<화학식 I>

<화학식 II>

상기 식에서, R은 수소이거나, 또는 쇄 또는 고리내 임의의 위치에 산소, 질소 또는 황 헤테로원자가 있거나 없는 직쇄, 분지쇄 또는 시클릭 C₁ _-6 알킬기이다.

레조르시놀, 화장 조성물

Description

화장 활성물질의 제조 방법{PROCESS FOR THE PREPARATION OF A COSMETIC ACTIVE}

본 발명은 하기 화학식 II의 화합물로부터 출발하여, 하기 화학식 I의 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하는 신규한 방법에 관한 것이다.

상기 식에서, R은 수소이거나, 또는 쇄 또는 고리내 임의의 위치에 헤테로원자(산소, 질소 또는 황)가 있거나 없는, 탄소수 1 내지 6의 직쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬기이다.

본 발명은 화장 조성물의 제조에 유용한 화합물을 제조하는데 특히 유용하 다.

레조르시놀 및 그의 유도체는 광범위한 용도를 갖는다. 레조르시놀은 바람직한 경화 수지가 레조르시놀을 기제로 하는 타이어 산업에서 가장 많이 소비된다. 레조르시놀 및 그의 유도체의 다른 부가가치 용도는 화장품이다. 2,4-디히드록시아세토페논과 같은 일부 화합물은 일광차단 용도 또는 일광차단을 제공하기 위한 조성물에 사용되어 왔다.

알킬 및 아릴 레조르시놀은 중요한 치료적 및 방부적 특성을 가지는 것으로 보고되어 있다. 특히, 4-알킬 레조르시놀은 인간 피부에 적용될 때 피부를 아름다워지게 하는 효과 및 낮은 독성과 자극을 나타내는 것으로 보고되어 있다. 4-n-부틸 레조르시놀과 같은 알킬 레조르시놀은 우수한 표백 및 항균 효과를 나타내는 것으로 주장되는 피부 크림 및 로션에 사용되어 왔다. 2-알킬 레조르시놀(알킬기가 선형임)은 피부 탈색 특성을 나타내는 것으로 보고된 바 있다.

문헌[Synthetic Communications 15(14), 1315-24 (1985)]에는 메탄올 매질내에서 2,4-디히드록시 아세토페논과 나트륨 보로시아노 히드라이드의 반응에 의해 4-에틸 레조르시놀을 제조하는 방법이 기술되어 있다. 이 방법은 산업적 규모로 실시하기가 어렵고, 나트륨 보로 시아노 히드라이드가 촉매가 아니라 반응물중 하나이므로 반응에 의해 환경적으로 안전하게 처리하기가 어려운 부산물이 다량으로 생성되기 때문에 비용효과적이 아니다.

화학식 II의 화합물로부터 출발하여 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한, 아 연 및 수은 화합물의 용도에 관한 다수의 문헌이 있다. 문헌[J. Am. Chem. Soc., 52, 4866-82 (1930)]에는, 염산 용액내에서 2,4-디히드록시 아세토페논과 Zn 및 염화수은의 반응에 의해 4-에틸 레조르시놀이 82％의 수율로 제조된 방법이 보고되어 있다. 문헌[Rec. trav. Chim. 50, 848-50 (1931)]에는 Zn 및 묽은 염산의 존재하에 상응하는 케톤의 반응에 의해 R이 탄소쇄 길이 5의 직쇄 알킬기인 화학식 I의 화합물이 84％의 수율로 제조됨이 기술되어 있다. 동일한 생성물이 문헌[Acad. Rep. Populare Romine. Studii cercetari chim., 3, 13-18 (1955)]에서 촉매로서 Zn 및 염화수은을 사용함으로써 71％의 수율로 제조된 것으로 보고된 바 있다. 상기 방법은 공정이, 처리하기 어려운 수은을 함유하는, 유독성이고 비환경친화적인 화학약품의 사용을 포함하기 때문에 산업상 실행가능하지 않다.

문헌[Tr. Tallin. Politekhn. In-ta (543) 78-83 (1983)]에는 염산의 존재하에 2,4-디히드록시아세토페논으로부터의 4-에틸 레조르시놀의 제조(비접촉 반응)가 보고되어 있다. 보고된 최대 수율은 겨우 42％이고, 따라서 산업상 실행할 수 없다.

문헌[Australian Journal of Chemistry, 22(3), 601-5 (1969)]에는 2,4-디히드록시아세토페논과 나트륨 보로히드라이드의 반응(비접촉 반응)에 의한 4-에틸 레조르시놀의 제조가 기술되어 있다. 이 반응은 사용되어야 하는 다량의 나트륨 보로히드라이드 및 하류 부문의 정제 문제로 인하여 산업상 실행할 수 있는 반응이 아니다.

문헌[Journal of Medicinal Chemistry 29 (5), 606-11 (1986)]에는 에탄올 매질내에서 촉매로서 팔라듐을 사용하여 상응하는 화학식 II의 화합물을 수소 기체 및 아세트산과 반응시킴으로써 탄소쇄 길이 14의 훨씬 더 긴 화학식 I의 화합물이 제조되는 것으로 보고되었다. 이 반응에 의해 바람직한 생성물이 불량한 수율로 생성되고, 반응 속도는 시간에 따라 점차 느려진다.

문헌[J. Am. Chem. Soc. (1939), 61, 249-54]에는 팔라듐 촉매에 의한 디히드록시 아세토페논의 환원은 불량한 수율의 4-에틸 레조르시놀을 제공하여서 연구가 확대되지 않았음이 기술되어 있다.

따라서, 화학식 I의 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하는, 산업상 실행가능한 방법일 수 있는 방법을 개발하는 것이 당업계에서 필요하다. 본 발명자들은 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택된 2종 이상의 촉매의 혼합물의 존재하에 화학식 II의 화합물을 수소원과 반응시킴으로써 화학식 I의 화합물을 매우 높은 수율 및 순도로 제조할 수 있음을 발견하였다.

발명의 목적:

따라서, 본 발명의 목적은 화학식 I의 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하는 것이다.

본 발명의 또 하나의 목적은 고수율 및 고순도의 화학식 I의 화합물을 오직 하나의 반응 용기만을 필요로 하는 1단계 반응으로 제조하는 것이다.

본 발명의 또 하나의 목적은 경제적인 가격으로 쉽게 입수할 수 있고 더 경제적으로 쉽게 재순환되는 화학약품/원료를 사용함으로써 화학식 I의 화합물을 제조하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 분리하기 어렵거나 비환경친화적인 부산물을 생성하지 않는 방법에 의해, 경제적인 비용으로 쉽게 이용할 수 있는 화학약품/원료를 사용하여 화학식 I의 화합물을 제조하는 것이다.

발명의 요약

본 발명의 기본적인 양상에 따르면, 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매의 혼합물(팔라듐 함량이 촉매의 10중량％ 이하임)의 존재하에 전술된 화학식 II의 화합물을 수소 및 물로부터 선택된 수소원과 반응시킴을 포함하는, 전술된 화학식 I의 화합물의 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 바람직한 양상에 따르면, 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매(팔라듐 함량이 촉매의 10중량％ 이하임)의 존재하에 전술된 화학식 II의 화합물을 압력 300 내지 750psig의 수소 기체와 반응시킴을 포함하는, 전술된 화학식 I의 화합물의 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 다른 바람직한 양상에 따르면, pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매(팔라듐 함량이 촉매의 10중량％ 이하임)의 존재하에, 전술된 화학식 II의 화합물을 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질과 혼합된 물과 반응시킴을 포함하는, 전술된 화학식 I의 화합물의 제조 방법이 제공된다.

반응은 pH 4.0 내지 7.0의 범위내에서 수행되는 것이 특히 바람직하다.

본 발명은 화학식 II의 화합물로부터 출발하여, 화학식 I의 화합물을 제조하는 신규한 방법을 제공한다.

화학식 I에 상응하는 화합물은 하기 구조를 갖는다:

<화학식 I>

본 방법은 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매의 혼합물(팔라듐 함량이 촉매의 10중량％ 이하임)의 존재하에 화학식 II의 화합물을 수소 및 물로부터 선택된 수소원과 반응시킴을 포함하는 1단계 반응이다.

화학식 II에 상응하는 화합물은 하기 구조를 갖는다:

<화학식 II>

상기 식에서, R은 수소이거나, 또는 쇄 또는 고리내 임의의 위치에 헤테로원자(예: 산소, 질소 또는 황)가 있거나 없는, 탄소수 1 내지 6의 직쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬기이다.

본 발명에 따라 원료는 화학식 II에 상응하는 화합물이지만, 본 방법은 또한 화학식 II의 화합물의 선구물질로부터 출발하여 수행될 수 있는데, 당업계에 널리 알려진 반응을 사용하여 먼저 화학식 II의 화합물을 제조하고, 그 후 본 발명의 방법을 수행할 수 있었다.

반응은 본질적으로 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택된 2종 이상의 촉매의 존재하에 수행한다. 니켈 촉매는 그 자체로 사용될 수 있거나, 또는 예를 들어 실리카상에 지지될 수 있다. 팔라듐이 사용되는 경우, 팔라듐은 탄소상 팔라듐의 형태인 것이 바람직하다. 니켈 및 레이니 니켈이 사용되는 두 촉매일 경우, 이들은 임의의 비로 사용될 수 있었다. 팔라듐이 촉매중 하나일 경우, 팔라듐은 촉매의 0.01 내지 10중량％, 더 바람직하게는 촉매의 0.01 내지 2중량％, 가장 바람직하게는 촉매의 0.01 내지 1중량％의 범위로 존재한다. 촉매는 화학식 II의 화합물의 0.1 내지 40중량％, 더 바람직하게는 화학식 II의 화합물의 5 내지 30중량％의 범위로 사용된다.

수소원은 수소 또는 물이다. 수소가 수소원으로서 사용되는 경우, 바람직한 수소 압력 범위는 150 내지 750psig이다. 물도 또한 수소원으로서 사용될 수 있다. 물이 용매 매질의 50중량％보다 많이 사용되는 경우, 반응은 대기압에서 수행될 수 있다. 본 발명에 따라 물 75％ 이하를 포함하는 용매 매질을 사용하여 본 방법을 수행하는 것이 가능하다.

반응은 탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 수행한다. 용매 매질은 알콜이 아닌 용매를 포함할 수 있고, 이러한 바람직한 용매는 1,2-디클로로에탄 및 테트라히드로푸란이다. 사용되는 알콜은 100％ 순도의 것이거나 또는 물/수분을 포함할 수 있다. 화학식 II의 화합물이 전부 용매 매질에 용해될 필요는 없다. 물이 수소원일 경우, 물은 용매 매질과 혼합될 수 있다. 알콜은 바람직하게는 메탄올, 에탄올 또는 이소프로필 알콜이다. 반응은 pH 7.0 미만, 바람직하게는 4.0 내지 7.0의 범위에서 수행된다. 산성 물질을 사용하여 반응 매질의 pH를 얻을 수 있다. 사용될 수 있는 산성 물질로는 메탄 술폰산, 황산, 염산, 인산, p-톨루엔 술폰산, 아세트산, 염화 아연, 및 앰버리스트(Amberlyst)(롬 앤 하스(Rohm & Haas)로부터 입수가능함) 및 도웩스(Dowex)(다우 케미칼스(Dow chemicals)로부터 입수가능함)와 같은 산성 이온교환 수지가 있다.

본 발명에 따른 반응은 바람직하게는 20 내지 80℃에서 수행된다.

반응이 끝나면, 바람직한 생성물은 임의의 공지의 분리 방법을 사용하여 용매의 분리에 의해 정제할 수 있다. 용매로부터 바람직한 생성물을 분리하는 바람직한 방법은 용매를 증류한 후 촉매를 여과하는 것이다. 용매 매질이 물 및 알콜을 함유하는 경우, 알콜은 반응이 끝날 때 증류에 의해 분리된다. 생성물은 잔여 물에 가용성이지만, 반응하지 않은 화학식 I의 화합물은 물에 불용성이므로 분리되어 추가의 반응을 위해 재순환될 수 있다.

이제 본 발명을 하기 비제한적인 실시예에 의해 설명하겠다.

도 1은 4-에틸 레조르시놀의 NMR 결과이다.

도 2는 4-에틸 레조르시놀 및 2,4-디히드록시 아세토페논의 기체 크로마토그래피 결과이다.

도 3은 4-에틸 레조르시놀의 적외선 스펙트럼이다.

방법 및 물질:

기체 크로마토그래피/질량 분광분석(GC-MS):

GC-MS는 GCQ 2.0 MS/MS 소프트웨어와 연결된 A200S 오토샘플러 시리즈 플러스(Autosampler Series Plus) 기체 크로마토그래프가 장착된 피니겐(Finigen) MAT 질량 분광광도계에서 수행하였다.

기체 크로마토그래피(GC):

GC는 BP1 모세관(30m×0.25㎜)을 사용하여 케미토(Chemito) 2000 기체 크로마토그래퍼(화염 이온화)에서 수행하였다.

적외선(IR)

IR 스펙트럼은 NaCl 셀을 사용하는 시무쓰(Shimutzu) FT-IR -8101A 분광계에서 기록되었다. 피크 위치는 vs(매우 강함), s(강함), m(보통), w(약함) 또는 br(넓음)로서 ㎝^-1로 기재된다.

양성자 자기 공명(NMR):

NMR 스펙트럼은 브루커(Bruker) 200 MHz 기기에서 기록되었다. 화학적 이동은 내부 표준물질로서 테트라메탄실란으로부터 백만부당 부로 기록된다. 스핀 중첩도는 다음과 같이 표시된다: s(1중선), d(2중선), t(3중선), m(다중선) 및 br(넓음). 중수소화 NMR 용매는 표시된 위치에 중수소 99.00 내지 99.9％를 함유한다.

모든 용매는 시약급이었고, 받은 대로 사용되었다. 모든 시약은 알드리흐(Aldrich) 또는 시그마 케미칼 캄파니(Sigma Chemical Company)로부터 구입하였고, 달리 나타내지 않는 한 받은 대로 사용되었다.

실시예 1:

수소화 반응기(1ℓ)에 2,4-디히드록시 아세토페논(0.5몰) 76g, 메탄올(300㎖) 및 레이니 니켈(칼린(Kallin)의 F-형) 7.6g을 첨가하였다. 반응기를 질소로 수차례 세정하였다. 수소 압력을 500psi로 조절하고, 반응 혼합물을 12시간동안 75 내지 80℃로 가열하였다. 진한 갈색의 반응 혼합물(pH>8.0)을 실온으로 냉각시키고 여과시켰다. 용매를 로타뱁(rotavap)에서 제거하고(60℃ 미만), 진한 액상의 갈색 잔류물을 GC, NMR 및 질량 분광분석에 의해 특징화하였다. 분광분석 데이터는 2,4-디히드록시 아세토페논의 이량체를 포함하는 몇몇 부산물과 함께 4-에틸 레 조르시놀이 낮은 수율(<30％)로 형성됨을 나타내었다.

실시예 2:

수소화 반응기(1ℓ)에 2,4-디히드록시 아세토페논(0.5몰) 76g, 메탄올(300㎖) 및 레이니 니켈(칼린의 F-형, pH 8 내지 9) 15.2g을 첨가하였다. 반응기를 질소로 수차례 세정하였다. 수소 압력을 400psi로 조절하고, 반응 혼합물을 10시간동안 75 내지 80℃로 가열하였다. 반응 혼합물(pH>8.0)을 실온으로 냉각시키고 여과시켰다. 용매를 로타뱁에서 제거하고(60℃ 미만), 진한 갈색 잔류물을 GC, NMR 및 질량 분광분석에 의해 특징화하였다. 분광분석 데이터는 2,4-디히드록시 아세토페논의 이량체를 포함하는 몇몇 부산물과 함께 에틸 레조르시놀이 낮은 수율(<30％)로 형성됨을 나타내었다.

실시예 3:

1ℓ들이 고압솥 반응기에, 메탄올(300㎖)과 함께 2,4-디히드록시 아세토페논(76g, 0.5몰) 및 레이니 니켈(15.2g-pH 7.0이 될 때까지 물 및 물/메탄올로 수회 세척함) 및 Pd/C 750㎎을 투입하였다. 고압솥을 질소 100 내지 200psi를 사용하여 누출이 있는지 확인하였다. 고압솥을 수소로 300psi로 가압하고 70℃에서 8시간동안 교반하였다. 이 시간동안 수소의 이론적 수치의 95％가 소비되었다. 반응물을 배기시키고, 내용물을 밀리포어(milipore) 여과기를 통해 여과시켜 밝은 황색의 용액을 얻었다. 이 용액을 진공 농축시켜 고체를 얻었다. 이 고체를 1,2-디클로로에탄으로부터 결정화하여 4-에틸 레조르시놀을 70％ 단리 수율로 얻었다. 반응하지 않은 2,4-디히드록시 아세토페논을 반응 혼합물로부터 회수하여(~27％) 재순환 시켰다. 4-에틸 레조르시놀의 구조는 NMR, 기체 크로마토그래피, IR 및 질량 분광분석을 사용하여 특징화하였다.

실시예 4:

1ℓ들이 고압솥 반응기에, 메탄올(300㎖)과 함께 2,4-디히드록시 아세토페논(76g, 0.5몰), 아세트산(5㎖) 및 레이니 니켈(15.2g, 물 및 물/메탄올로 수회 세척함) 및 Pd/C 750㎎을 투입하였다. 시스템의 pH는 5.0이었다. 고압솥을 질소를 사용하여 누출이 있는지 확인하였다. 고압솥을 수소로 500psi로 가압하고 70 내지 75℃에서 8시간동안 교반하였다. 이 시간동안 수소의 이론적 수치의 97％가 소비되었다. 반응물을 배기시키고, 내용물을 밀리포어(milipore) 여과기를 통해 여과시켜 황색의 용액을 얻었다. 이 용액을 진공 농축시켜 고체를 얻었다. 이 고체를 1,2-디클로로에탄으로부터 결정화하여 4-에틸 레조르시놀을 85％ 단리 수율로 얻었다. 반응하지 않은 2,4-디히드록시 아세토페논을 반응 혼합물로부터 회수하여(~13％) 재순환시켰다. 4-에틸 레조르시놀 및 2,4-디히드록시 아세토페논의 구조는 NMR(도 1), 기체 크로마토그래피(도 2), IR(도 3) 및 질량 분광분석에 의해 특징화하였다. 질량 분광분석은 질량이 138임을 나타내었다.

실시예 5:

3구 환저 플라스크(응축기, 부가 깔때기 및 기계적 교반기가 장착됨)에 레이니 니켈과 실리카상에 지지된 Ni의 혼합물(50:50) 15.2g을 첨가하였다. 에탄올:물 50:50의 혼합물 100㎖를 첨가하고, 반응물을 환류 조건에서 가열하였다. 물:에탄올 100㎖ 및 아세트산 10㎖내 2,4-디히드록시 아세토페논 15.2g을 부가 깔때기에 위치시키고 혼합물에 서서히 첨가하였다(적가). 반응물을 밀리포어 여과기를 통해 여과시켜 연한 황색의 용액을 얻었다. 이 용액을 진공 농축시켜 고체를 얻었다. 이 고체를 1,2-디클로로에탄으로부터 결정화하여 4-에틸 레조르시놀을 80％ 단리 수율로 얻었다. 반응하지 않은 2,4-디히드록시 아세토페논을 반응 혼합물로부터 회수하여(~17％) 재순환시켰다. 4-에틸 레조르시놀 및 2,4-디히드록시 아세토페논의 구조는 NMR, 기체 크로마토그래피, IR 및 질량 분광분석에 의해 특징화하였다.

실시예 6 내지 16:

실시예 6 내지 16을 수행한 조건을 하기 표 1에 요약하였다. 이들 실험이 수행된 과정도 또한 표 1에 제공되어 있고, 이들 과정을 하기에 과정 1 및 과정 2로서 나타내었다.

과정 1

수소화 반응기(1ℓ)에 2,4-디히드록시 아세토페논, 알콜(300㎖) 및 촉매 또는 촉매 혼합물을 첨가한다. 반응기를 질소로 세정한다. 수소 압력을 100 내지 500psi로 조절하고, 반응 혼합물을 12시간동안 70 내지 80℃로 가열한다. 촉매를 여과하고, 로타뱁을 사용하여 용매를 제거한다(60℃ 미만). 잔류물을 GC, NMR 및 질량 분광분석에 의해 특징화한다.

과정 2

3구 환저 플라스크(응축기, 부가 깔때기 및 기계적 교반기가 장착됨)에 촉매 또는 촉매 혼합물을 첨가하였다. 에탄올:물 50:50의 혼합물 100㎖를 첨가하고, 반응물을 환류 조건으로 가열하였다. 물:에탄올 100㎖(산의 존재하 또는 부재하)내 2,4-디히드록시 아세토페논을 부가 깔때기에 위치시키고 혼합물에 첨가하였다(적가, 2-4시간). 반응물을 밀리포어 여과기를 통해 여과시키고, 진공 농축시켜 고체를 얻었다. 이 고체를 1,2-디클로로에탄으로부터 결정화하여 4-에틸 레조르시놀을 얻었다. 반응하지 않은 2,4-디히드록시 아세토페논을 매질로부터 회수하여 재순환시킨다. 4-에틸 레조르시놀 및 2,4-디히드록시 아세토페논의 구조는 NMR, 기체 크로마토그래피, IR 및 질량 분광분석을 사용하여 특징화하였다.

실시예 No.	과정 No.	2,4-디히드록시 아세토페논 양	촉매의 양(g) 및 종류	pH	온도 (℃)	수소압력 (psi)	반응시간 (h)	4-에틸 레조르시놀(수율)
6	1	76g	레이니 Ni 22.8g	~8.5	75-80	300	3-10	~10％
7	1	76g	실리카상 Ni 22g	~8.0	75-80	500	3-12	~30％
8	1	76g	실리카상 Ni 및 레이니 Ni(50:50) 22.5g	~8.5	70-80	300-500	2-10	~10-30％％
9	1	76g	Pd/C 7.6g	~7.5	70-80	400	8	~10％
10	1	76g	레이니 Ni 22.8g	~7.00	70-80	500	6-10	45-50％
11	1	76g	레이니 Ni 및 실리카상 Ni(50:50) 21.8g 및 아세트산 5㎖	~5	70-80	500	8	75％
12	2	76g	레이니 Ni 및 실리카상 Ni 22.0g	7.00	환류	14.7psi	3-10	70-90％
13	2	14.5g	레이니 Ni 및 실리카상 Ni(50:50) 28.90g 및 아세트산 5㎖	5.00	환류	14.7 (대기압)	2-10	79-92％
14	1	76g	레이니 Ni 및 Pd/C(95:5) 22.0g	7.0	70	300-500	3-6	75-90％
15	1	76g	레이니 Ni 및 실리카상 Ni(50:50) 22.5g	7.0	75	300-500	3-12	70-90％
16	1	76g	레이니 Ni 및 실리카상 Ni 및 Pd/C(50:45:5) 21.0g	6.50	70	200-400	2-8	65-92％

실시예 3 내지 5 및 실시예 11 내지 16은 본 발명에 따른 방법을 사용하여 화학식 I의 화합물이 고수율로 제조될 수 있음을 나타낸다.

Claims

탄소쇄 길이 3 이하의 알콜을 포함하는 용매 매질내에서 pH 7.0 미만에서, 니켈, 레이니 니켈 및 팔라듐으로부터 선택되는 2종 이상의 촉매의 혼합물의 존재하에 하기 화학식 II의 화합물을 수소 및 물로부터 선택된 수소원과 반응시킴으로써 하기 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법:

<화학식 I>

<화학식 II>

상기 식에서, R은 수소이거나, 또는 쇄 또는 고리내 임의의 위치에 산소, 질소 또는 황 헤테로원자가 있거나 없는 직쇄, 분지쇄 또는 시클릭 C₁ _-6 알킬기이다.
제1항에 있어서, 팔라듐 함량이 촉매의 10중량％ 이하인 방법.
제2항에 있어서, 팔라듐 함량이 촉매의 0.01 내지 1중량％인 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 수소원이 압력 300 내지 750psig의 수소 기체인 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 수소원이 물인 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 용매 매질이 물 75％ 이하인 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 반응을 pH 4.0 내지 7.0 범위내에서 수행하는 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 촉매를 화학식 II의 화합물의 5 내지 30중량％로 사용하는 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 반응을 20 내지 80℃에서 수행하는 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 팔라듐이 탄소상 팔라듐의 형태인 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 II의 화합물의 선구물질을 반응시켜 화학식 II의 화합물을 제조하는 추가의 제1 단계를 포함하는 방법.