KR101024724B1 - 시어 절단성이 우수한 대입열 용접용 후강판 - Google Patents
시어 절단성이 우수한 대입열 용접용 후강판 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (11)
- C : 0.030 내지 0.15 %(질량%의 의미, 이하 동일), Si : 1.0 % 이하(0 %를 포함하지 않음), Mn : 0.8 내지 2.0 %, P : 0.03 % 이하(0 %를 포함하지 않음), S : 0.01 % 이하(0 %를 포함하지 않음), Al : 0.01 내지 0.10 %, Ti : 0.015 내지 0.03 %, B : 0.0010 내지 0.0035 %, N : 0.0050 내지 0.01 %, Ca : 0.005 % 이하(0 %를 포함하지 않음), O : 0.01 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 각각 함유하는 동시에, 하기 (1)식 및 (2)식을 만족하는 후강판이며, 또한 베이나이트 분율이 95 면적% 이상의 조직이고, 베이나이트의 블록 사이즈의 평균 원 상당 직경이 40 ㎛ 이하인 동시에, 베이나이트의 블록 사이즈의 최대 원 상당 직경과 상기 평균 원 상당 직경의 차가 40 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 시어 절단성이 우수한 대입열 용접용 후강판.1.5 ≤ [Ti]/[N] ≤ 4.0 … (1)40 ≤ X값 ≤ 160 … (2)X값 = 500[C] + 32[Si] + 8[Mn] - 9[Nb]+ 14[Cu] + 17[Ni] - 5[Cr] - 25[Mo] - 34[V][식 중, [ ]는 각 원소의 함유량(질량%)을 나타냄]
- 제1항에 있어서, δ영역의 온도 범위가 40 ℃ 이하인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 깊이 t/4의 위치(t = 판 두께)에 있어서, Ti계 탄·질화물의 평균 입자 직경이 43 ㎚ 이하인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Nb : 0.035 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Cu : 2.0 % 이하(0 %를 포함하지 않음), Ni : 2.0 % 이하(0 %를 포함하지 않음) 및 Cr : 2.0 % 이하(0 %를 포함하지 않음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 함유하는 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Mo : 1.0 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, V : 0.1 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Mg, Sr 및 Ba로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상 : 합계 0.01 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 희토류 원소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상 : 합계 0.01 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Zr, Ta 및 Hf로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상 : 합계 0.05 % 이하(0 %를 포함하지 않음)를 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, Co : 2.5 % 이하(0 %를 포함하지 않음), W : 2.5 % 이하(0 %를 포함하지 않음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 함유하는 것인 대입열 용접용 후강판.
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