KR101024233B1 - 시클로헥사논 옥심의 제조방법 - Google Patents
시클로헥사논 옥심의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101024233B1 KR101024233B1 KR1020030040998A KR20030040998A KR101024233B1 KR 101024233 B1 KR101024233 B1 KR 101024233B1 KR 1020030040998 A KR1020030040998 A KR 1020030040998A KR 20030040998 A KR20030040998 A KR 20030040998A KR 101024233 B1 KR101024233 B1 KR 101024233B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cyclohexanone
- titanium silicate
- cyclohexanone oxime
- reaction
- hydrogen peroxide
- Prior art date
Links
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] Chemical compound [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 20
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 10
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 abstract description 6
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- -1 Titanium silicates Chemical class 0.000 description 8
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 1-ethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2CC HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-2-[5-[5-[6-hydroxy-6-(hydroxymethyl)-3,5-dimethyloxan-2-yl]-3-methyloxolan-2-yl]-5-methyloxolan-2-yl]-2,8-dimethyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-9-yl]-2-methyl-3-propanoyloxypentanoic acid Chemical compound C1C(O)C(C)C(C(C)C(OC(=O)CC)C(C)C(O)=O)OC11OC(C)(C2OC(C)(CC2)C2C(CC(O2)C2C(CC(C)C(O)(CO)O2)C)C)CC1 ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000887 hydrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000378 hydroxylammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C249/04—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
시클로헥사논 옥심은, 티타늄 실리케이트 및 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물의 존재 하에서, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된다. 상기 방법에서, 촉매로서 티타늄 실리케이트의 불활성화를 억제하여 반응을 수행함으로써, 고 수율의 시클로헥사논 옥심을 제조한다.
시클로헥사논 옥심, 티타늄 실리케이트
Description
본 발명은 암모니아 및 과산화수소를 사용하여 시클로헥사논으로부터 시클로헥사논 옥심을 제조하는 방법에 관한 것이다. 시클로헥사논 옥심은 ε-카프로락탐의 제조를 위한 개시 물질 등으로 유용하다.
시클로헥사논 옥심의 제조를 위해서, 타타늄 실리케이트 촉매의 존재 하에, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시키는 방법이 제안되어 왔다 (예를 들어, 미국 특허 제 (US-)4,745,221 호에 대응하는 일본 특허 출원 공개 제 (JP-A-)62-59256 호; 미국 특허 제 US-5,312,987 호에 대응하는 일본 특허 출원 공개 제 JP-A-6-49015 호; 미국 특허 제 US-5,227,525 호에 대응하는 일본 특허 출원 공개 제 JP-A-6-92922 호; 및 미국 특허 제 US-5,683,952 호, 제 US-5,691,266 호 및 제 US-5,874,596 호에 대응하는 일본 특허 출원 공개 제 JP-A-7-100387 호). 시클로헥사논 옥심의 종래 제조방법에서는 히드록실아민 술페이트로 중화를 수행하는 반면, 상기 방법은 암모니아로 황산을 중화시킬 필요가 없다는 점, 및 고체 촉매를 사용하기 때문에 촉매로부터 생성물의 분리를 용이하게 수행할 수 있다는 점에서 유리하다.
그러나, 시클로헥사논과 과산화수소 및 암모니아와의 상기 반응에서, 티타늄 실리케이트 촉매의 촉매 활성은 반응 시간이 경과함에 따라 점차 저하되어, 시클로헥사논의 전환률이 불충분하게 될 수 있다.
본 발명의 목적 중 하나는, 시클로헥사논과 과산화수소 및 암모니아와의 반응에서 티타늄 실리케이트의 불활성화를 억제함으로서, 고 수율의 시클로헥사논 옥심의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들의 예의 연구 결과로서, 타타늄 실리케이트의 존재 하에, 시클로헥사논을 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물과 함께 반응시킴으로써, 상기 목적 및 기타 목적을 달성할 수 있음이 밝혀졌고, 본 발명이 완성되었다.
본 발명은 시클로헥사논 옥심의 제조방법으로서, 티타늄 실리케이트 및 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물의 존재 하에서, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시키는 단계를 포함하는 방법을 제공한다.
본 발명에서, 시클로헥사논 옥심은 시클로헥사논의 암모옥심화(ammoximation)에 의해 제조되며, 여기서 시클로헥사논은, 티타늄 실리케이트 및 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물의 존재 하에서, 과산화수소 및 암모니아와 반응한다.
본 발명에서 사용되는 티타늄 실리케이트는 그것의 골격 구조 내 원소로서 티타늄, 규소 및 산소를 포함하는 제올라이트일 수 있다. 티타늄 실리케이트는 티타늄, 규소 및 산소, 또는 이들 원소뿐만 아니라 임의적인 기타 원소들로 실질적 으로 구성된 골격 구조를 가질 수 있다. 티타늄 실리케이트는 10 내지 1000 의 규소 대 티타늄의 원자비를 가질 수 있고, 미세 분말, 펠릿 등의 형태일 수 있다. 티타늄 실리케이트는 미국 특허 제 US-4,410,501 호에 대응하는 일본 특허 제 JP-A-56-96720 호에 개시된 방법 등에 의해서 제조될 수 있다.
본 발명에서, 상기 티타늄 실리케이트 및 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물을 사용함으로써, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시켜 시클로헥사논 옥심을 수득한다.
본 발명에서 개시 물질로서 사용되는 시클로헥사논은, 예를 들어 시클로헥산을 산화시키거나, 시클로헥센을 수화시킨 후, 탈수소 반응시키거나, 또는 페놀을 수소화 반응시켜 수득될 수 있다.
본 발명에서 사용되는 과산화수소는 소위 안트라퀴논 (anthraquinone) 방법에 의해 제조될 수 있다. 안트라퀴논 방법은, 예를 들어 α-에틸안트라퀴논을 벤젠과 같은 비수용성 용매에 용해시킨 후, 촉매 수소화 반응시켜 히드로안트라퀴논을 수득하고, 히드로안트라퀴논을 α-에틸안트라퀴논으로 산화시키면서, 과산화수소를 제공하는 방법에 의해 수행될 수 있다. 약 10 중량% 내지 약 70 중량% 의 농도를 갖는 수용액인 시판용 과산화수소를 또한 본 발명에서 사용할 수 있다. 과산화수소의 상대 몰량은, 시클로헥사논 1 몰을 기준으로, 바람직하게는 약 0.5 몰 내지 약 3 몰의 범위, 더 바람직하게는 약 0.5 몰 내지 약 1.5 몰의 범위이다. 본 발명에서 사용되는 과산화수소는, 예를 들어 소듐 포스페이트와 같은 포스페이트 염, 소듐 피로포스페이트 및 소듐 트리폴리포스페이트와 같은 폴리포스페이트 염, 피로포스포릭산, 아스코르브산, 에틸렌디아민-테트라아세트산, 니트로 트리-아세트산, 아미노 트리-아세트산, 디에틸렌트리아미노 펜타-아세트산 등을 포함하는 안정화제를 포함할 수 있다.
본 발명에서, 암모니아는 기체 상태, 액체 상태, 또는 물, 유기 용매 등을 사용한 용액 상태로 사용될 수 있다. 암모니아의 상대 몰량은, 시클로헥사논 1 몰을 기준으로, 바람직하게는 약 1 몰 이상, 더 바람직하게는 약 1.5 몰 이상이다.
암모니아 및 과산화수소를 사용한 시클로헥사논 옥심의 제조 반응은 용매를 사용하여 용액에서 수행될 수 있다. 용매의 예로는, 알콜, 예컨대 메틸 알콜, 에틸 알콜, n-프로필 알콜, 이소프로필 알콜, n-부틸 알콜, sec-부틸 알콜, tert-부틸 알콜 및 tert-아밀 알콜, 물, 및 그의 혼합물을 포함한다.
본 발명에서, 암모니아 및 과산화수소를 사용한 시클로헥사논 옥심의 제조 반응은, 티타늄 실리케이트의 존재 하에서 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물과 함께 수행된다. (이하, 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물은 어떤 경우에 "규소 화합물" 로 간단히 언급될 수 있다.) 티타늄 실리케이트와 함께 규소 화합물을 사용함으로써, 티타늄 실리케이트의 불활성화를 억제할 수 있고, 그럼으로써 반응에서 촉매로 사용되는 티타늄 실리케이트의 양을 줄일 수 있다. 비용 감소 측면에서, 통상 상대적으로 비싼 티타늄 실리케이트 보다 덜 비싼 규소 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 규소 화합물은, 그 자체로서, 반응에서 실질적으로 촉매 활성을 갖지 않을 수 있다.
규소 화합물의 예로는, 규소 및 산소 함유 화합물, 예컨대 실리카 겔, 규산 및 실리케이트를 포함한다. 또한, 각각 제올라이트형 구조를 갖는, 결정체 실리카 겔 및 메탈로-실리케이트를 사용하는 것이 바람직하다. 규소 화합물은 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 필요한 경우, 둘 이상의 규소 화합물을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서, 티타늄 실리케이트 및 규소 화합물을, 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로, 각각 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량% 의 농도로 사용하는 것이 바람직하며, 따라서, 타타늄 실리케이트 및 규소 화합물이 혼합물에 현탁된다.
티타늄 실리케이트의 촉매 활성의 불활성화를 억제하는 효과는, 물이 약 10 중량% 이상의 농도로 반응 혼합물에 존재하는 경우에 특히 두드러진다.
암모니아 및 과산화수소를 사용한 시클로헥사논 옥심의 제조 반응은 배치 방식으로, 또는 연속 방식으로 수행될 수 있다. 배치 방식 반응은, 예를 들어 반응기에 시클로헥사논, 암모니아, 티타늄 실리케이트, 규소 화합물 및 용매를 충전시키고, 거기에 교반하면서 과산화수소를 도입시키는 방법에 의해; 또는 반응기에 시클로헥사논, 티타늄 실리케이트, 규소 화합물 및 용매를 충전시키고, 거기에 교반하면서 과산화수소 및 암모니아를 도입시키는 방법에 의해; 또는 반응기에 티타늄 실리케이트, 규소 화합물 및 용매를 충전시키고, 거기에 교반하면서 시클로헥사논, 과산화수소 및 암모니아를 도입시키는 방법에 의해 수행될 수 있다. 연속 반응은, 예를 들어 시클로헥사논, 과산화수소, 암모니아 및 용매가 부가 도입되는 반응기에서 티타늄 실리케이트 및 규소 화합물의 현탁액을 제조하면서, 생성 반응 혼합물의 액체 부분을 반응기로부터 필터를 통해 추출하는 방법에 의해서 수행될 수 있다. 과산화수소의 분해 방지의 관점에서, 유리 라이닝 반응기, 스테인레스 스틸 반응기 등을 사용하는 것이 바람직하다.
반응 온도는 약 50 ℃ 내지 100 ℃ 의 범위일 수 있다. 반응은 표준 압력에서 수행될 수 있고, 암모니아의 반응 혼합물 중 액체 부분으로의 용해도를 증가시키기 위한 압력이 바람직하다. 압력 하 반응의 경우, 질소 기체 및 헬륨 기체와 같은 불활성 기체를 사용하여 압력을 조정할 수 있다.
반응 혼합물로부터의 시클로헥사논 옥심의 분리와 같은 후 취급 과정은 제한되지 않으며, 공지된 방법을 사용하여 적절히 수행될 수 있다. 예를 들어, 시클로헥사논 옥심의 분리는, 티타늄 실리케이트 및 규소 화합물을 여과 등에 의해 반응 혼합물로부터 분리시켜, 반응 혼합물의 액체 부분을 수득한 후, 액체 부분을 증류시키는 것과 같은 방식으로 수행될 수 있다.
본 발명에 따르면, 촉매로서의 티타늄 실리케이트의 불활성화를 억제하면서, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시켜, 고 수율의 시클로헥사논 옥심을 제조한다.
본 발명이 상기처럼 설명되는 바, 그 동일 발명이 많은 방법으로 변형될 수 있다는 것이 명백할 것이다. 상기 변형은 본 발명의 취지 및 범위 내에 있는 것으로 간주되고, 당업자에게 명백한 모든 상기 변형은 하기 청구항의 범위 내에 있을 것이다.
명세서, 특허청구범위 및 요약서를 가리키는, 2002 년 6 월 28 일에 출원된 일본 특허 출원 제 2002-189450 호의 전체 개시가 전체적으로 참고로서 본원에 인 용되었다.
실시예
본 발명은 하기 실시예를 참고로 더 상세히 설명되나, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.
실시예 및 비교예에서, 시클로헥사논 및 시클로헥사논 옥심을 기체-크로마토그래피로 분석하였고, 시클로헥사논의 전환률, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도,및 시클로헥사논 옥심의 수율을 분석 결과를 기초로 계산하였다.
실시예 1
반응기로서의 1 ℓ오토클레이브에 시클로헥사논, 함수 t-부틸 알콜 (물 12 중량% 함유) 및 과산화수소 60 중량% 를, 각각 67 g/hour, 252 g/hour 및 43 g/hour 의 속도로 충전하였다. 동시에, 암모니아를 반응기에 공급하여 생성 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로 2 중량% 의 농도로 존재하도록 하면서, 반응 혼합물의 액체 부분을 필터를 통해 반응기로부터 배출하여, 반응을 연속적으로 수행하였다. 반응 동안에, 티타늄 실리케이트 및 실리카 겔 (상표명: WAKO GEL LP-20, Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 사제) 을, 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로, 각각 0.9 중량% 및 6 중량% 의 양으로 반응기에 넣었다. 85 ℃ 의 온도 및 0.25 MPa 의 압력 하에서 72 분의 체류 시간으로 연속 반응을 수행하였다. 5.5 시간의 반응 후에 수득된 액체 부분의 분석 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 99.1 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 99.5 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 98.6 % 였다.
비교예 1
티타늄 실리케이트의 양을 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로 0.9 중량% 에서 1.3 중량% 로 바꾸고, 실리카 겔을 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 연속 반응을 수행하였다. 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 98.6 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 99.5 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 98.1 % 였다.
비록 비교예 1 에서 사용된 티타늄 실리케이트의 양이 실시예 1 에서의 양보다 많다고 하더라도 (양은 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로, 각각 1.3 중량% 및 0.9 중량% 임), 비교예 1 에서는 실리카 겔을 사용하지 않았기 때문에, 비교예 1 에서의 시클로헥사논의 전환률은 실시예 1 에서의 전환률과 거의 같거나 그 미만임을 발견하였다.
비교예 2
티타늄 실리케이트의 양을 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로 0.9 중량% 에서 1.2 중량% 로 바꾸고, 실리카 겔을 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 연속 반응을 수행하였다. 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 93.0 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 99.0 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 92.1 % 였다.
비록 비교예 2 에서 사용된 티타늄 실리케이트의 양이 실시예 1 에서의 양보다 많다고 하더라도 (양은 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로, 각각 1.2 중량% 및 0.9 중량% 임), 비교예 2 에서는 실리카 겔을 사용하지 않았기 때문에, 비교예 2 에서의 시클로헥사논의 전환률은 실시예 1 에서의 전환률보다 약 6 중량% 작음을 발견하였다.
실시예 2
교반하면서, 80 ℃ 의 온도에서, 반응기로서의 200 ㎖ 오토클레이브 (SUS316 으로 제조) 에 시클로헥사논 (12.8 g), 암모니아수 25 중량% (13.2 g), 함수 t-부틸 알콜 (19.7 g) (물 13 중량% 함유), 티타늄 실리케이트 (1 g) 및 규산 (3 g) (Nakalai Chemicals Co., Ltd. 사제) 을 충전하였다. 반응기에 30 % 과산화수소 (14.9 g) 를 55 분에 걸쳐 공급하였고, 생성 반응 혼합물을 35 분 동안 유지하였다. 반응 혼합물로부터 촉매를 분리하였고, 잔류 액체 부분을 분석하였다. 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 70.9 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 74.4 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 52.7 % 였다.
비교예 3
규산을 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 2 에서와 동일한 방식으로 반응을 수행하였다. 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 68.0 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 70.6 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 48.0 % 였다.
실시예 3
티타늄 실리케이트의 양을 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로 0.9 중량% 에서 1 중량% 로 바꾼 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 연속 반응을 수행하였다. 반응 시간이 16 시간 경과할 때까지, 촉매의 불활성화로 인 한 기체 부분에서의 산소 농도 증가가 관찰되지 않았다. 15.5 시간의 반응 후에 수득된 액체 부분의 분석 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 85.3 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 96.7 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 82.5 % 였다.
비교예 4
티타늄 실리케이트의 양을 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로 0.9 중량% 에서 1 중량% 로 바꾸고, 실리카 겔을 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 연속 반응을 수행하였다. 반응 시간이 6 시간 경과했을 때, 촉매의 불활성화로 인한 기체 부분에서의 산소 농도 증가가 관찰되었다. 5.5 시간의 반응 후에 수득된 액체 부분의 분석 결과로서, 시클로헥사논의 전환률은 87.6 % 였고, 시클로헥사논 옥심에 대한 선택도는 90.4 % 였으며, 시클로헥사논 옥심의 수율은 79.3 % 였다.
본 발명에 따라, 촉매로서 티타늄 실리케이트의 불활성화를 억제하여 반응을 수행함으로써, 고 수율의 시클로헥사논 옥심이 제공된다.
Claims (4)
- 티타늄 실리케이트 및 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물의 존재 하에서, 시클로헥사논을 과산화수소 및 암모니아와 반응시키는 단계를 포함하는 시클로헥사논 옥심의 제조 방법으로서, 티타늄 실리케이트 이외의 규소 화합물이 실리카 겔 또는 제올라이트로부터 선택된 하나 이상의 화합물인 옥심의 제조 방법.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 티타늄 실리케이트 및 규소 화합물을, 반응 혼합물의 액체 부분을 기준으로, 각각 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량% 의 농도로 사용하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 반응 혼합물을 기준으로, 약 10 중량% 이상의 양의 물의 존재 하에서 반응을 수행하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002189450 | 2002-06-28 | ||
JPJP-P-2002-00189450 | 2002-06-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040002660A KR20040002660A (ko) | 2004-01-07 |
KR101024233B1 true KR101024233B1 (ko) | 2011-03-29 |
Family
ID=29717673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030040998A KR101024233B1 (ko) | 2002-06-28 | 2003-06-24 | 시클로헥사논 옥심의 제조방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6828459B2 (ko) |
EP (1) | EP1375473A1 (ko) |
KR (1) | KR101024233B1 (ko) |
CN (1) | CN1307149C (ko) |
TW (1) | TWI324990B (ko) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2003246098A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-19 | China Petroleum And Chemical Corporation | Oxamidination process of carbonyl compounds |
JP4534428B2 (ja) * | 2003-04-09 | 2010-09-01 | 住友化学株式会社 | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 |
JP4577025B2 (ja) * | 2005-01-27 | 2010-11-10 | 住友化学株式会社 | シクロアルカノンオキシムの製造方法 |
JP4577077B2 (ja) * | 2005-04-25 | 2010-11-10 | 住友化学株式会社 | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 |
SG133514A1 (en) * | 2005-12-07 | 2007-07-30 | Sumitomo Chemical Co | Process for producing cyclohexanone oxime |
US20090009427A1 (en) * | 2006-03-15 | 2009-01-08 | Nikon Corporation | Head-Mount Display |
US8262835B2 (en) * | 2007-12-19 | 2012-09-11 | Purdue Research Foundation | Method of bonding carbon nanotubes |
JP4683083B2 (ja) * | 2008-07-15 | 2011-05-11 | 住友化学株式会社 | オキシムの製造方法 |
DE102008041870A1 (de) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Evonik Degussa Gmbh | Reaktor mit Titansilikat-Rezyklierung |
JP2012020966A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | オキシムの製造方法 |
JP2012067044A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Sumitomo Chemical Co Ltd | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 |
TWI480100B (zh) | 2011-04-27 | 2015-04-11 | China Petrochemical Dev Corp Taipei Taiwan | Titanium-silicon molecular sieve and its preparation method and method for producing cyclohexanone oxime using the molecular sieve |
TWI508935B (zh) | 2011-08-11 | 2015-11-21 | China Petrochemical Dev Corp Taipei Taiwan | Titanium-silicon molecular sieve and its preparation method and method for producing cyclohexanone oxime using the molecular sieve |
CN103896801B (zh) | 2012-12-25 | 2016-03-16 | 中国石油化学工业开发股份有限公司 | 制造酮肟的方法 |
US10655733B2 (en) * | 2016-11-18 | 2020-05-19 | Schaublin Sa | Elastomeric seal having impact protecting protrusions |
CN107118124B (zh) * | 2017-06-19 | 2019-04-23 | 中触媒新材料股份有限公司 | 一种抑制环己酮氨氧化催化剂流失的方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000026387A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-25 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 |
JP2000080067A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | オキシムの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1214622B (it) * | 1985-07-10 | 1990-01-18 | Montedipe Spa | Processo catalitico per laproduzione di cicloesanonossima. |
IT1244680B (it) * | 1991-01-23 | 1994-08-08 | Montedipe Srl | Processo a piu' stadi per l'ammossimazione in fase liquida dei composti carbonilici |
IT1255745B (it) * | 1992-04-01 | 1995-11-15 | Enichem Anic Srl | Processo in due stadi per la produzione in fase liquida di ossime |
HU214200B (hu) * | 1992-12-03 | 1998-01-28 | Leuna-Katalysatoren Gmbh. | Oxidációs katalizátorok, valamint azok előállítására és alkalmazására szolgáló eljárások |
EP0638362B1 (en) * | 1993-08-11 | 2001-03-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Titanosilicate catalyst particle |
IT1270196B (it) * | 1994-06-09 | 1997-04-29 | Enichem Spa | Procedimento catalitico per la produzione di ossime |
DE10047435A1 (de) * | 2000-09-26 | 2002-04-11 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Oximen |
-
2003
- 2003-06-03 TW TW092114996A patent/TWI324990B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-06-04 EP EP03012191A patent/EP1375473A1/en not_active Withdrawn
- 2003-06-10 US US10/457,383 patent/US6828459B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-24 KR KR1020030040998A patent/KR101024233B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-06-26 CN CNB031487939A patent/CN1307149C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000026387A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-25 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 |
JP2000080067A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | オキシムの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040002619A1 (en) | 2004-01-01 |
CN1468841A (zh) | 2004-01-21 |
KR20040002660A (ko) | 2004-01-07 |
CN1307149C (zh) | 2007-03-28 |
US6828459B2 (en) | 2004-12-07 |
EP1375473A1 (en) | 2004-01-02 |
TW200400168A (en) | 2004-01-01 |
TWI324990B (en) | 2010-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7161036B2 (en) | Process for producing oxime | |
KR101024233B1 (ko) | 시클로헥사논 옥심의 제조방법 | |
EP0564040B1 (en) | Two-step process for liquid-phase production of oximes | |
KR101084021B1 (ko) | 시클로헥사논 옥심 제조 방법 | |
JPS5934642B2 (ja) | 過酸化水素の合成 | |
CA2369269A1 (en) | Process for production of oximes cocatalysed by ammonium salts or substituted ammonium salts | |
EP1674450B1 (en) | Process for producing cyclohexanone oxime | |
JP4633337B2 (ja) | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 | |
US20120078014A1 (en) | Method for manufacturing cyclohexanone oxime | |
JP5014651B2 (ja) | オキシムの製造方法 | |
US8003825B2 (en) | Process for producing cycloalkanone oximes | |
JP4548409B2 (ja) | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 | |
JP2000026387A (ja) | シクロヘキサノンオキシムの製造方法 | |
KR20070060017A (ko) | 시클로헥사논 옥심의 제조 방법 | |
JP2000026439A (ja) | プロピレンオキサイドの製造方法 | |
JP2000072737A (ja) | オキシムの製造方法 | |
JP2970470B2 (ja) | 1,3−ジ−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)−ベンゼンの製造方法 | |
JPS6023350A (ja) | ジシクロヘキシルアミンの製造法 | |
JP2000086608A (ja) | メチルエチルケトンオキシムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |