KR101022782B1 - Glass substrate cleaning unit and glass substrate cleaning system having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템은 글라스 기판을 수평 반송하는 컨베이어 유닛; 및 상기 컨베이어 유닛에 의해 반송되는 글라스 기판의 이송 경로상에 설치되며, 글라스 기판의 표면상의 이물질을 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 제거하는 스크러빙 부재를 갖는 세정 유닛들을 포함하되; 상기 스크러빙 부재는 구동모터에 의해 회전되는 샤프트; 상기 샤프트에 연결되는 홀더; 및 상기 홀더에 개별적으로 탈부착이 가능하게 설치되는 연마바들을 포함한다.

Figure R1020090038132

글라스,세정,이물

A system for cleaning a glass substrate of the present invention includes a conveyor unit for horizontally conveying a glass substrate; And cleaning units installed on a conveying path of the glass substrate conveyed by the conveyor unit, the cleaning units having a scrubbing member for removing foreign matter on the surface of the glass substrate by applying a rotating scrubbing force drawing a circular trajectory; The scrubbing member is a shaft rotated by a drive motor; A holder connected to the shaft; And polishing bars individually detachably installed in the holder.

Figure R1020090038132

Glass, washing, foreign objects

Description

글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템{unit for cleaning glass substrate and system for cleaning glass substrate having the same} Unit for cleaning glass substrate and system for cleaning glass substrate having the same

본 발명은 액정패널용 글라스 기판을 세정하기 위한 유닛 및 그것을 구비한 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a unit for cleaning a glass substrate for a liquid crystal panel and a system having the same.

최근, TFT-LCD는 소형/경량화, 넓은 시야 각, 저 소비 전력 등과 같은 그것의 다양한 장점으로 인해 각종의 표시 장치로서 각광을 받고 있다.Recently, TFT-LCDs have been spotlighted as various display devices due to their various advantages such as miniaturization / light weight, wide viewing angle, low power consumption, and the like.

TFT-LCD의 제조 공정은 크게 TFT 공정, 컬러 필터(이하 CF) 공정, 셀(Cell) 공정, 모듈 공정으로 나뉘어 진행된다. 이중에서 셀 공정은 TFT공정과, CF공정을 거친 두개의 글라스를 합착하고 절단한 후 그 사이에 액정을 주입하여 TFT-LCD 셀(Cell)을 제조하는 공정이다. 셀 공정을 거치게 되면 실제 사용되는 패널 크기 수준으로 만들어지게 되고, 이후 모듈 공정으로 넘어가게 된다. 모듈 공정은 완제품 패널을 만들기 위한 마지막 공정으로 셀 공정으로 만들어진 TFT-LCD 셀(Cell)에 편광판과 PCB, 백라이트유닛등을 부착하게 되며, 그러한 상태의 것을 TFT-LCD 모듈이라고 한다. 즉, TFT-LCD 모듈이란 TFT-LCD 패널과 PCB가 TCP에 의해 전기적으로 서로 도전될 수 있는 상태의 단위 세트라 할 수 있다.The TFT-LCD manufacturing process is largely divided into a TFT process, a color filter (hereinafter referred to as CF) process, a cell process, and a module process. Among them, the cell process is a process of manufacturing a TFT-LCD cell (Cell) by bonding and cutting two glasses that have undergone the TFT process and the CF process, and then injecting a liquid crystal therebetween. After the cell process, it is made to the actual panel size level and then moved to the module process. The module process is a final process for making a finished product panel. The polarizer, PCB, and backlight unit are attached to a TFT-LCD cell made of a cell process, and such a state is called a TFT-LCD module. In other words, the TFT-LCD module is a unit set in a state in which the TFT-LCD panel and the PCB can be electrically conductive to each other by TCP.

여기서, TFT-LCD 패널의 양면에 부착되는 편광판은 선택적으로 일정 방향으로 진동하는 광만이 입사되고 외부로 투과되도록 하여 TFT-LCD가 양호한 표시 기능을 발휘하도록 보조하는 역할을 한다. 그러나, 편광판이 부착되고 나서 TFT-LCD 모듈로서 완성된 제품 중에는 TFT-LCD셀 표면에 묻어 있는 이물질(먼지,파티클, 고착성 이물 등)로 인한 불량품이 발생된다. 특히, TFT-LCD셀이 셀 공정에서 모듈 공정으로 운반(대기)되는 과정에서 셀 표면에 파티클 뿐만 아니라 고착성 이물이 달라붙으며, 고착성 이물은 일반적인 세정 방식으로는 쉽게 제거되지 않는 문제점이 있다. Here, the polarizing plates attached to both surfaces of the TFT-LCD panel selectively serve to allow only the light oscillating in a certain direction to be incident and transmitted to the outside, thereby assisting the TFT-LCD to exhibit a good display function. However, defective products due to foreign matter (dust, particles, adherent foreign matters, etc.) on the surface of the TFT-LCD cell are generated in the finished product as the TFT-LCD module after the polarizing plate is attached. In particular, in the process of transporting (waiting) the TFT-LCD cell from the cell process to the module process, not only particles but also adherent foreign matters adhere to the cell surface, and the adherent foreign matters are not easily removed by a general cleaning method.

본 발명의 목적은 TFT-LCD셀(이하 글라스 기판이라고 함) 표면상의 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 세정 유닛 및 그것을 사용한 글라스 기판 세정 시스템을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a cleaning unit capable of effectively removing foreign matter on the surface of a TFT-LCD cell (hereinafter referred to as a glass substrate) and a glass substrate cleaning system using the same.

본 발명의 또 다른 목적은 연마 패드를 막대 형상으로 중앙에서 가장자리까지 영점 조정 정밀도를 향상시킬 수 있는 세정 유닛 및 그것을 사용한 글라스 기판 세정 시스템을 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a cleaning unit capable of improving the zeroing accuracy from the center to the edge of the polishing pad in the shape of a rod, and a glass substrate cleaning system using the same.

본 발명의 또 다른 목적은 접촉 면적을 줄여 진동 및 소음을 최소화할 수 있는 세정 유닛 및 그것을 사용한 글라스 기판 세정 시스템을 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a cleaning unit capable of minimizing vibration and noise by reducing a contact area and a glass substrate cleaning system using the same.

본 발명의 또 다른 목적은 세정력을 조절할 수 있는 세정 유닛 및 그것을 사 용한 글라스 기판 세정 시스템을 제공하는데 있다.Still another object of the present invention is to provide a cleaning unit capable of adjusting cleaning power and a glass substrate cleaning system using the cleaning unit.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The problem to be solved by the present invention is not limited thereto, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 상술한 과제를 달성하기 위한 것으로, 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템은 글라스 기판을 수평 반송하는 컨베이어 유닛; 및 상기 컨베이어 유닛에 의해 반송되는 글라스 기판의 이송 경로상에 설치되며, 글라스 기판의 표면상의 이물질을 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 제거하는 스크러빙 부재를 갖는 세정 유닛들을 포함하되; 상기 스크러빙 부재는 구동모터에 의해 회전되는 샤프트; 상기 샤프트에 연결되는 홀더; 및 상기 홀더에 개별적으로 탈부착이 가능하게 설치되는 연마바들을 포함한다.The present invention is to achieve the above object, the system for cleaning the glass substrate is a conveyor unit for horizontal conveying the glass substrate; And cleaning units installed on a conveying path of the glass substrate conveyed by the conveyor unit, the cleaning units having a scrubbing member for removing foreign matter on the surface of the glass substrate by applying a rotating scrubbing force drawing a circular trajectory; The scrubbing member is a shaft rotated by a drive motor; A holder connected to the shaft; And polishing bars individually detachably installed in the holder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들은 상기 홀더의 회전 중심으로부터 방사상으로 배치된다.According to an embodiment of the invention, the polishing bars are arranged radially from the center of rotation of the holder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들 각각은 일직선으로 곧은 막대형상 또는 회전 방향으로 라운드진 막대형상으로 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, each of the polishing bars has a rod shape that is straight in a straight line or round in the direction of rotation.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들 각각은 글라스 기판과 접촉하는 아래면이 상기 홀더에 부착되는 윗면보다 좁은 것이 바람직하다.According to an embodiment of the present invention, each of the polishing bars preferably has a lower surface in contact with the glass substrate than the upper surface attached to the holder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 홀더는 상기 연마바를 자력으로 고정하기 위한 자석; 및 상기 연마바에 형성된 삽입홈들에 삽입되는 고정핀들을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the holder may include a magnet for magnetically fixing the polishing bar; And fixing pins inserted into insertion grooves formed in the polishing bar.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들 각각은 금속 재질의 상판; 상기 상판의 저면에 제공되는 완충 작용을 위한 쿠션패드; 상기 쿠션패드의 저면에 제공되고 글라스 기판과 면 접촉하는 저면을 갖는 원판 형상의 클리닝 패드를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, each of the polishing bars is a metal upper plate; A cushion pad for a cushioning action provided on the bottom of the top plate; And a disk-shaped cleaning pad provided on a bottom surface of the cushion pad and having a bottom surface in surface contact with the glass substrate.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 세정 유닛들은 상기 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 글라스 기판의 상면을 세정하는 제1 세정 유닛들; 및 상기 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 글라스 기판의 저면을 세정하는 제2 세정 유닛들을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the cleaning units include: first cleaning units for cleaning an upper surface of the glass substrate moved by the conveyor unit; And second cleaning units for cleaning a bottom surface of the glass substrate moved by the conveyor unit.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1세정 유닛들과 상기 제2세정 유닛들은 글라스 기판을 사이에 두고 서로 대향되게 설치된다.According to an embodiment of the present invention, the first cleaning units and the second cleaning units are installed to face each other with a glass substrate therebetween.

본 발명에 따른 글라스 기판의 표면상의 이물질을 제거하는 세정 유닛은 글라스 기판의 표면으로 세정액을 분사하면서 글라스 기판의 표면을 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 글라스 기판상의 이물질을 제거하는 스크러빙 부재를 포함하되; 상기 스크러빙 부재는 구동모터에 의해 회전되며, 외부로부터 공급되는 세정액이 흐르는 제1유로를 갖는 샤프트; 상기 제1유로와 연통되는 제2유로를 갖는 그리고 상기 샤프트에 연결되며 저면에 다수의 자석을 갖는 홀더; 및 상기 홀더에 자력에 의해 탈착 가능하게 설치되는 연마바들을 포함한다.The cleaning unit for removing the foreign matter on the surface of the glass substrate according to the present invention by applying a rotating scrubbing force to draw a circular trajectory on the surface of the glass substrate while spraying the cleaning liquid to the surface of the glass substrate scrubbing to remove the foreign matter on the glass substrate Including a member; The scrubbing member is rotated by a drive motor, the shaft having a first flow path for the cleaning liquid supplied from the outside; A holder having a second flow passage in communication with the first flow passage and connected to the shaft and having a plurality of magnets at a bottom thereof; And polishing bars detachably installed in the holder by magnetic force.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들은 상기 홀더의 회전 중심으로부터 방사상으로 배치된다.According to an embodiment of the invention, the polishing bars are arranged radially from the center of rotation of the holder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들 각각은 일직선으로 곧은 막대형상 또는 회전 방향으로 라운드진 막대형상으로 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, each of the polishing bars has a rod shape that is straight in a straight line or round in the direction of rotation.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바들 각각은 상기 홀더로부터 탈착될 때 작업자가 파지할 수 있는 손잡이를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, each of the polishing bars further includes a handle that can be gripped by an operator when detached from the holder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 홀더는 상기 연마바에 형성된 삽입홈에 삽입되는 고정핀을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the holder includes a fixing pin inserted into the insertion groove formed in the polishing bar.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 연마바는 금속 패드; 상기 금속패드의 저면에 제공되는 완충 작용을 위한 쿠션패드; 상기 쿠션패드의 저면에 제공되고 글라스 기판과 면접하는 저면을 갖는 원판 형상의 클리닝 패드를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the polishing bar comprises a metal pad; A cushion pad for a cushioning action provided on a bottom surface of the metal pad; It includes a disk-shaped cleaning pad provided on the bottom surface of the cushion pad and having a bottom surface in contact with the glass substrate.

본 발명에 의하면, TFT-LCD셀(이하 글라스 기판이라고 함) 표면상의 이물질을 효과적으로 제거할 수 있다.According to the present invention, foreign matter on the surface of a TFT-LCD cell (hereinafter referred to as a glass substrate) can be effectively removed.

또한, 본 발명에 의하면 막대 형상의 연마 패드들을 사용함으로써 중앙에서 가장자리까지 영점 조정 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to improve the zero adjustment accuracy from the center to the edge by using rod-shaped polishing pads.

또한, 본 발명에 의하면 접촉 면적을 줄여 진동 및 소음을 최소화할 수 있다.In addition, according to the present invention it is possible to minimize the vibration and noise by reducing the contact area.

또한, 본 발명에 의하면 연마바들의 개수를 늘이거나 줄여서 세정력을 조절할 수 있다. In addition, according to the present invention it is possible to control the cleaning power by increasing or decreasing the number of polishing bars.

또한, 본 발명에 의하면 In addition, according to the present invention

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 10를 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 10. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated to emphasize a more clear description.

본 실시예에서 글라스 기판은 TFT공정과, CF공정을 거친 두개의 글라스를 합착하고 절단한 후 그 사이에 액정을 주입한 TFT-LCD 셀(Cell)일 수 있으며, 본 발명의 글라스 기판 세정 시스템은 유리 기판과 같은 평판형 기판에 대한 세정 공정, 특히 모듈 공정에서 글라스 기판의 양면에 편광판을 부착하기 직전에 행해지는 세정 공정을 수행하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다. In the present embodiment, the glass substrate may be a TFT-LCD cell in which a liquid crystal is injected therebetween after bonding and cutting two glasses through a TFT process and a CF process, and the glass substrate cleaning system of the present invention It can be preferably used to perform a cleaning process for a flat substrate such as a glass substrate, in particular, a module process in order to perform the cleaning process performed immediately before attaching the polarizing plate to both surfaces of the glass substrate.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템의 개략도이다. 1 is a schematic diagram of a system for cleaning a glass substrate according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 글라스 기판 세정 시스템(1)은 전처리 세정부(10), 메인 세정부(20), 세척부(30), 건조부(40) 그리고 세정액 공급부(50)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a glass substrate cleaning system 1 according to an exemplary embodiment of the present invention may include a pretreatment cleaning unit 10, a main cleaning unit 20, a cleaning unit 30, a drying unit 40, and a cleaning liquid supply unit ( 50).

본 발명의 기판 세정 시스템(1)은 세정부(10), 메인 세정부(20), 세척부(30) 그리고 건조부(40)가 일렬로 배치되며, 글라스 기판(2)이 세정부(10), 메인 세정부(20), 세척부(30) 그리고 건조부(40)를 통과하는 동안 전처리 세정, 메인 세정, 세척 그리고 건조 공정 등이 순차적으로 수행될 수 있다. In the substrate cleaning system 1 of the present invention, the cleaning unit 10, the main cleaning unit 20, the cleaning unit 30, and the drying unit 40 are arranged in a line, and the glass substrate 2 is disposed in the cleaning unit 10. ), While passing through the main cleaning unit 20, the cleaning unit 30, and the drying unit 40, pretreatment cleaning, main cleaning, washing, and drying processes may be sequentially performed.

전처리 세정부(10)에서는 글라스 기판(2)이 메인 세정부(20)로 유입되기 전에 글라스 기판 표면 상의 이물(특히 입자가 큰 이물질)을 제거하는 전처리 세정 공정이 진행된다. 전처리 세정부(10)는 글라스 기판(2)을 반송하는 컨베이어 유 닛(12), 반송되는 글라스 기판으로 세정액을 분사하는 분사노즐(14)들 그리고 반송되는 글라스 기판(2)의 상면과 저면을 밀착 회전하면서 입자가 큰 이물을 제거하는 롤 브러쉬 유닛(16)들을 포함한다. In the pretreatment cleaning unit 10, a pretreatment cleaning process for removing foreign matter (particularly large particles) on the glass substrate surface is performed before the glass substrate 2 flows into the main cleaning unit 20. The pretreatment cleaning unit 10 includes a conveyor unit 12 for transporting the glass substrate 2, injection nozzles 14 for spraying the cleaning liquid onto the transported glass substrate, and upper and lower surfaces of the transported glass substrate 2. Roll brush units 16 for removing the foreign particles large particles while rotating closely.

메인 세정부(20)에서는 전처리 세정부(10)에서 1차 세정 처리된 글라스 기판의 표면상에 원형의 궤적을 그리며 회전하는 스크러빙 부재들을 사용하여 고착성 이물을 제거하는 세정 공정이 진행된다. 메인 세정부(20)는 아래위 한쌍으로 이루어진 반송롤러들을 포함하는 컨베이어 유닛과, 스크러빙 부재를 갖는 세정 유닛들 그리고 노즐드를 포함하며, 메인 세정부에 대한 설명은 아래에서 좀 더 상세하게 설명하기로 한다. In the main cleaning unit 20, a cleaning process is performed to remove adherent foreign matter using a scrubbing member that rotates while drawing a circular trajectory on the surface of the glass substrate subjected to the primary cleaning treatment in the pretreatment cleaning unit 10. The main cleaning unit 20 includes a conveyor unit including a pair of up and down conveying rollers, a cleaning unit having a scrubbing member, and a nozzle, and the description of the main cleaning unit will be described in more detail below. do.

세척부(30)에서는 메인 세정부(20)에서 세정이 완료된 글라스 기판을 초순수로 세척하는 세척 공정이 진행된다. 세척부(30)는 글라스 기판을 반송하는 컨베이어 유닛(32)과 글라스 기판의 상면과 저면으로 초순수를 분사하는 초순수 분사 노즐(34)들을 포함한다. In the washing unit 30, a washing process of washing the glass substrate having been cleaned in the main washing unit 20 with ultrapure water is performed. The washing unit 30 includes a conveyor unit 32 for conveying the glass substrate and ultrapure water spray nozzles 34 for spraying ultrapure water onto the upper and lower surfaces of the glass substrate.

건조부(40)에서는 세척부(30)에서 세척된 글라스 기판상에 물기를 제거하는 건조 공정이 진행된다. 건조부(40)는 글라스 기판을 반송하는 컨베이어 유닛(42)과 글라스 기판에 물기를 에어로 분사하여 제거하는 에어 나이프 노즐(44)들을 포함한다. In the drying unit 40, a drying process of removing moisture on the glass substrate washed by the washing unit 30 is performed. The drying unit 40 includes a conveyor unit 42 for conveying the glass substrate and air knife nozzles 44 for spraying and removing water from the glass substrate.

세정액 공급부(50)는 세정액이 저장되어 있는 탱크(52), 탱크(52)에 저장되어 있는 세정액을 전처리 세정부(10)의 노즐(14)들과 메인 세정부(20)의 노즐들 그리고 세정 유닛들로 공급하기 위한 공급라인(54) 및 공급라인(54)에 설치된 펌 프(56) 그리고 필터(58) 등을 포함한다. 전처리 세정부 및 메인 세정부에서 사용된 세정액은 회수라인(59)을 통해 다시 탱크(52)로 회수된다. The cleaning liquid supply unit 50 cleans the tank 52 in which the cleaning liquid is stored, the cleaning liquid stored in the tank 52, the nozzles 14 of the pretreatment cleaning unit 10, the nozzles of the main cleaning unit 20, and the cleaning solution. A supply line 54 for supplying the units, a pump 56 installed in the supply line 54, a filter 58, and the like. The cleaning liquid used in the pretreatment cleaning unit and the main cleaning unit is recovered back to the tank 52 through the recovery line 59.

본 발명의 글라스 기판 세정 시스템(1)은 전처리 세정 공정부터 건조 공정까지 자동으로 이루어지는 자동화 시스템을 제공한다. 기판 세정 시스템에는 편광판 부착을 위한 설비가 인라인으로 연결될 수 있다. The glass substrate cleaning system 1 of the present invention provides an automated system which is automatically performed from a pretreatment cleaning process to a drying process. The substrate cleaning system may be connected inline with facilities for attaching the polarizer.

참고로, 세척부(30)와 건조부(40)에서는 글라스 기판으로 물리적인 힘이 가해지지 않기 때문에 기판의 저면만을 지지하면서 반송하는 회전롤러들로 이루어지는 일반적인 컨베이어 유닛(32,42)이 적용될 수 있다. 하지만, 전처리 세정부(10)와 메인 세정부(20)에서는 글라스 기판으로 수직한 방향으로 물리적인 힘이 가해진다. 따라서, 전처리 세정부(10)와 메인 세정부(20)에서 글라스 기판을 반송하는 컨베이어 유닛은 글라스 기판의 상면과 저면을 모두 지지한 상태에서 회전하는 일군의 제1,2회전롤러들이 적용되는 것이 바람직하다. For reference, in the washing unit 30 and the drying unit 40, since no physical force is applied to the glass substrate, general conveyor units 32 and 42 made of rotating rollers supporting and supporting only the bottom surface of the substrate may be applied. have. However, the physical force is applied in the direction perpendicular to the glass substrate in the pretreatment cleaning unit 10 and the main cleaning unit 20. Therefore, the conveyor unit for conveying the glass substrate from the pretreatment cleaning unit 10 and the main cleaning unit 20 is applied with a group of first and second rotating rollers that rotate while supporting both the top and bottom surfaces of the glass substrate. desirable.

도 2는 도 1에 도시된 메인 세정부를 설명하기 위한 정면도이다. 도 3은 도 2에 도시된 메인 세정부의 평면도이다. 도 4는 도 2에 도시된 세정 유닛을 보여주는 도면이다. FIG. 2 is a front view illustrating the main cleaning unit shown in FIG. 1. 3 is a plan view of the main cleaning unit shown in FIG. 2. 4 is a view showing the cleaning unit shown in FIG.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 메인 세정부(20)는 컨베이어 유닛(100), 세정 유닛(200)들 그리고 세정액 분사 노즐(500)들을 포함한다.2 to 4, the main cleaning unit 20 includes the conveyor unit 100, the cleaning units 200, and the cleaning liquid spray nozzles 500.

컨베이어 유닛(100)은 일군의 제1,2회전롤러(110,120)들과, 일군의 제1,2회전롤러들을 회전시키기 위한 구동부(130)를 포함할 수 있다. The conveyor unit 100 may include a group of first and second rotating rollers 110 and 120 and a driver 130 for rotating the group of first and second rotating rollers.

제1,2회전롤러(110,120)들은 일방향으로, 예를 들면 글라스 기판(2)의 이송 방향을 따라 서로 평행하게 배열된다. 그리고 제1회전롤러(110)는 글라스 기판의 저면을 지지한 상태에서 회전되며, 제2회전롤러(120)는 제1회전롤러(110)와 대향되게 글라스 기판의 상면을 지지한 상태에서 제1회전롤러(110)와는 반대방향으로 회전되며, 제1회전롤러(110)와 제2회전롤러(120) 사이에 있는 글라스 기판은 이들 롤러들의 회전에 의해 일방향으로 이송될 수 있다. The first and second rotating rollers 110 and 120 are arranged in one direction, for example, parallel to each other along the conveying direction of the glass substrate 2. The first rotating roller 110 is rotated while supporting the bottom surface of the glass substrate, and the second rotating roller 120 is supported by the first surface of the glass substrate to face the first rotating roller 110. The rotating roller 110 is rotated in the opposite direction, and the glass substrate between the first rotating roller 110 and the second rotating roller 120 may be transferred in one direction by the rotation of these rollers.

구동부(130)는 회전력을 발생시키는 동력원(132)과, 동력원(132)의 회전력을 제1,2회전롤러(110,120)들로 전달하는 동력전달부(134)를 포함할 수 있다. 동력원(132)은 회전력을 발생시키는 부분으로 전기력에 의해 작동하는 모터 또는 화학에너지를 기계적 운동으로 전환시키는 엔진을 포함할 수있다. 동력 전달부(134)는 동력원(132)에 의해 발생한 회전력을 제1,2회전롤러(110,120)들로 전달하기 위하여 다양하게 구성될 수 있다. 예를 들면, 동력 전달부(134)는 기어들의 조합이나, 타이밍 벨트와 다수의 풀리 등에 의해 구현될 수 있으나, 가장 바람직한 것은 동력 전달이 정확한 기어들의 조합에 의해 구현되는 것이 좋다.The driver 130 may include a power source 132 that generates a rotational force, and a power transmission unit 134 that transmits the rotational force of the power source 132 to the first and second rotation rollers 110 and 120. The power source 132 may include a motor that operates by electric force or an engine that converts chemical energy into mechanical motion as a portion that generates rotational force. The power transmission unit 134 may be variously configured to transmit the rotational force generated by the power source 132 to the first and second rotating rollers 110 and 120. For example, the power transmission unit 134 may be implemented by a combination of gears, a timing belt and a plurality of pulleys, but most preferably, the power transmission is implemented by a combination of accurate gears.

세정 유닛(200)은 컨베이어 유닛(100)에 의해 반송되는 글라스 기판의 이송 경로상에 설치되며, 스크러빙 부재(210)와 승강부재인 실린더(250) 그리고 공압 공급부(260)를 포함할 수 있다. The cleaning unit 200 may be installed on a transport path of the glass substrate conveyed by the conveyor unit 100, and may include a scrubbing member 210, a cylinder 250 as a lifting member, and a pneumatic supply unit 260.

세정 유닛(200)들은 컨베이어 유닛(100)에 의해 이동되는 글라스 기판의 상면을 세정하는 상면 세정용 세정 유닛(제1세정 유닛)들과 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 글라스 기판의 저면을 세정하는 저면 세정용 세정 유닛(제1세정 유닛)들로 구분될 수 있다. 제1세정 유닛들과 제2세정 유닛들은 글라스 기판을 사이에 두고 서로 대향되게 설치될 수 있다. 또는 도 10에서와 같이, 제1세정 유닛들과 제2세정 유닛들은 상이한 위치에 배치될 수 있다.The cleaning units 200 are top cleaning units for cleaning the upper surface of the glass substrate moved by the conveyor unit 100 (first cleaning units) and bottom cleaning for cleaning the bottom surface of the glass substrate moved by the conveyor unit. It can be divided into the cleaning unit (first cleaning unit). The first cleaning units and the second cleaning units may be installed to face each other with the glass substrate therebetween. Alternatively, as in FIG. 10, the first cleaning units and the second cleaning units may be disposed at different positions.

도 3에서와 같이, 세정 유닛(200)들은 글라스 기판이 이송되는 길이방향과 직교하는 폭 방향으로 2열로 배치된다. 물론, 글라스 기판의 크기 등에 따라 2열 이상으로 배치될 수도 있다. 다시 도 3을 참조하면, 제1열에는 3개의 세정 유닛들이 배치되고 제2열에는 제1열의 세정 유닛들 사이에 위치되도록 2개의 세정유닛들이 배치된다. 제1열의 세정 유닛들 사이의 간격(D1)은 제2열의 세정 유닛들의 클리닝 패드의 지름(D2)보다 좁은 것이 바람직하다. 이처럼, 제1열의 세정 유닛들과 제2열의 세정유닛들은 세정 영역이 오버랩되도록 지그재그로 배치된다. As shown in FIG. 3, the cleaning units 200 are arranged in two rows in the width direction perpendicular to the longitudinal direction in which the glass substrate is transferred. Of course, it may be arranged in two or more rows depending on the size of the glass substrate. Referring again to FIG. 3, three cleaning units are arranged in the first row and two cleaning units are arranged in the second row so as to be positioned between the cleaning units in the first row. The spacing D1 between the cleaning units of the first row is preferably narrower than the diameter D2 of the cleaning pads of the cleaning units of the second row. As such, the cleaning units of the first row and the cleaning units of the second row are zigzag so that the cleaning regions overlap.

한편, 제1열의 3개의 세정 유닛들 중에서 양측 가장자리에 배치되는 세정 유닛들은 글라스 기판(2)의 폭 방향(Y)으로 이동 가능하게 설치된다. 이를 위해, 제1열의 양측 세정 유닛들에는 폭 방향 이동을 위한 직선구동부(290)(도 2에 표시됨)가 설치될 수 있다. 직선 구동부(290)는 모터와 모터에 의해 회전되는 볼스크류 방식, 리니어 모터 또는 벨트 풀리 방식과 같은 다양한 직선 구동 방식이 적용될 수 있다. Meanwhile, among the three cleaning units in the first row, the cleaning units disposed at both edges thereof are provided to be movable in the width direction Y of the glass substrate 2. To this end, the linear driving unit 290 (shown in FIG. 2) for moving in the width direction may be installed in both side cleaning units of the first row. The linear driving unit 290 may be applied to various linear driving methods such as a ball screw method, a linear motor or a belt pulley method rotated by the motor and the motor.

그리고, 양측 가장자리에 배치되는 세정 유닛들은 글라스 기판의 측면을 걸친 상태에서 세정을 하게 되면 클리닝 패드(226)가 손상될 수 있기 때문에 연마바(220)들이 글라스 기판(2)의 측면을 벗어나지 않도록 위치에서 글라스 기판을 세정하는 것이 바람직하다. In addition, the cleaning units disposed at both edges are positioned so that the polishing bars 220 do not leave the side of the glass substrate 2 because the cleaning pad 226 may be damaged if the cleaning units are disposed on the side of the glass substrate. It is preferable to clean the glass substrate.

본 발명의 세정 시스템(1)은 글라스 기판의 사이즈에 따라 세정 유닛들의 세 정 폭을 조정할 수 있다. The cleaning system 1 of the present invention can adjust the cleaning width of the cleaning units according to the size of the glass substrate.

스크러빙 부재(210)는 글라스 기판의 표면상에서 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 글라스 기판(2)의 이물을 제거한다. 스크러빙 부재(210)는 구동모터(212), 샤프트(214), 홀더(216) 그리고 연마바(220)들을 포함한다. The scrubbing member 210 removes foreign substances from the glass substrate 2 by applying a rotating scrubbing force that draws a circular trajectory on the surface of the glass substrate. The scrubbing member 210 includes a drive motor 212, a shaft 214, a holder 216 and polishing bars 220.

도 5는 연마바들이 설치된 홀더를 보여주는 도면이다. 도 6은 연마바들이 설치된 홀더를 저면에서 바라본 도면이다. 도 7은 도 6에 표시된 A-A선 단면도이다. 5 is a view illustrating a holder in which polishing bars are installed. 6 is a view of the holder with the polishing bars installed from the bottom. 7 is a cross-sectional view taken along the line A-A shown in FIG.

도 5 내지 도 7을 참조하면, 샤프트(214)는 구동모터(212)에 의해 회전되며, 외부로부터 공급되는 세정액이 흐르는 제1유로(214a)를 갖는다. 5 to 7, the shaft 214 is rotated by the drive motor 212 and has a first flow passage 214a through which a cleaning liquid supplied from the outside flows.

홀더(216)는 샤프트(214)의 일단에 연결되며 제1유로(214a)와 연통되는 제2유로(216a)를 갖는다. 홀더(216)는 원판 형상으로 이루어지며, 홀더(216)는 연마바(220)들을 자력으로 고정하기 위한 다수의 자석(217)들과 연마바(220)에 형성된 삽입홈(221)들에 삽입되는 고정핀(218)들을 포함할 수 있다. 고정핀(218)은 원심력에 의해 연마바(220)들이 홀더(216)로부터 이탈되는 것을 방지하는 목적과 홀더(216)와 연마바(220)들의 위치정렬을 위한 목적으로 사용된다. 이처럼, 홀더(216)의 자석(217)들과 고정핀(218)은 연마바(220)들의 탈부착을 위한 수단으로 사용되는 것이다. The holder 216 is connected to one end of the shaft 214 and has a second flow passage 216a in communication with the first flow passage 214a. The holder 216 is formed in a disc shape, and the holder 216 is inserted into the plurality of magnets 217 and the insertion grooves 221 formed in the polishing bar 220 to magnetically fix the polishing bars 220. May include fixing pins 218. The fixing pin 218 is used for the purpose of preventing the polishing bars 220 from being separated from the holder 216 by the centrifugal force and for the purpose of aligning the holders 216 and the polishing bars 220. As such, the magnets 217 and the fixing pins 218 of the holder 216 are used as a means for attaching and detaching the polishing bars 220.

연마바(220)들은 홀더(216)의 저면에 탈착 가능하게 설치된다. 연마바(220)들은 홀더(216)의 회전 중심으로부터 방사상으로 배치된다. 연마바(220)는 일직선으로 곧은 막대형상으로 이루어진다. 도 8에서와 같이, 연마바(220)는 회전 방향으 로 라운드진 막대형상으로 이루어질 수 도 있다. 한편, 연마바(220)는 글라스 기판과 접촉하는 아래면이 홀더에 부착되는 윗면보다 좁을 수 있다. 연마바(220)들은 소모품으로써 일정 기간 사용한 후에는 새로운 연마바들로 교체하여 사용하게 된다. 따라서 연마바(220)들은 홀더(216)로부터 탈부착이 가능해야 하며, 본 실시예에서는 자력을 이용한 탈부착 방식이 적용된다. The polishing bars 220 are detachably installed at the bottom of the holder 216. The polishing bars 220 are disposed radially from the center of rotation of the holder 216. The polishing bar 220 is formed in a straight bar shape. As shown in FIG. 8, the polishing bar 220 may be formed in a rod shape round in the rotation direction. On the other hand, the polishing bar 220 may be narrower than the upper surface is attached to the holder in contact with the glass substrate. The polishing bars 220 are replaced with new polishing bars after a certain period of time as consumables. Therefore, the polishing bars 220 should be detachable from the holder 216, and in this embodiment, a detachable method using magnetic force is applied.

도 7에서와 같이, 연마바(220)는 3개의 서로 다른 재질의 층으로 구성되는 막대 형상으로 이루어진다. 연마바(220)는 상부층에 해당되는 금속(steel) 재질의 상판(222), 하부층에 해당되고 글라스 기판(2)과 면접촉하는 저면을 갖는 클리닝 패드(226) 그리고 중간층에 해당되는 완충을 위한 쿠션 패드(224)를 포함할 수 있다. 클리닝 패드(226)는 글라스 기판(2)의 표면에 스크래치를 발생시키지 않으면서 글라스 기판 상의 이물을 제거할 수 있는 소프트한 소재로 이루어질 수 있다. 쿠션 패드(224)는 글라스 기판을 세정하는 과정에서 글라스 기판으로 가해질 수 있는 충격을 완화시켜준다. As shown in FIG. 7, the polishing bar 220 has a rod shape composed of three layers of different materials. The polishing bar 220 is a top plate 222 of a steel material corresponding to an upper layer, a cleaning pad 226 having a bottom surface corresponding to a lower layer and in surface contact with the glass substrate 2, and a buffer corresponding to an intermediate layer. It may include a cushion pad 224. The cleaning pad 226 may be made of a soft material capable of removing foreign substances on the glass substrate without causing scratches on the surface of the glass substrate 2. The cushion pad 224 mitigates the impact that may be applied to the glass substrate in the process of cleaning the glass substrate.

연마바(220)들은 클리닝 패드(226)의 저면(226a) 중심(회전 중심)에서 가장자리로 세정액을 흐르게 함으로써 세정시 글라스 기판으로부터 떨어져나온 이물제거가 용이하고 제거된 이물이 원활하게 클리닝 패드 밖으로 배출할 수 있다. The polishing bars 220 allow the cleaning liquid to flow from the center (rotational center) of the bottom surface 226a of the cleaning pad 226 to the edge to facilitate removal of foreign matters falling from the glass substrate during cleaning and to smoothly remove the removed foreign substances out of the cleaning pad. can do.

도 9는 실린더와 공압 공급부를 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining the cylinder and the pneumatic supply.

도 9를 참조하면, 실린더(250)는 연마바(220)들이 글라스 기판(2)의 표면을 가압하도록 스크러빙 부재(210)를 승강시키는 승강 장치로써, 실린더(250)는 외부 공기와 충분히 밀폐되어 있는 실린더 몸체(251)와 그 내부에 설치되는 피스 톤(252), 피스톤(252)에 수직으로 연결되어 외부로 승강 동력을 전달하는 피스톤 로드(253)를 포함하고 있으며 실린더 몸체(251)의 상방과 하방에는 각각 공기의 입출입을 위한 공기 입출포트(254.256)가 구비된다. 공기 입출포트(254,256)에는 공압 공급부(260)로부터 제공되는 공기가 유입되는 에어라인(262,263)이 연결되어 있다. 피스톤 로드(252)의 일단에는 연결브라켓(259)을 통해 스크러빙 부재(210)와 연결된다. 실린더(250)는 피스톤(252)에 의해 격리된 두 공간을 제 1 공기실(257)과 제 2 공기실(258)이라고 부르고 제 1 공기실(257)과 제 2공기실(258)의 공기 압력의 차가 피스톤(252)의 운동을 유발하게 된다. Referring to FIG. 9, the cylinder 250 is a lifting device for elevating the scrubbing member 210 so that the polishing bars 220 pressurize the surface of the glass substrate 2, and the cylinder 250 is sufficiently sealed with external air. And a piston rod 253 vertically connected to the piston 252 installed in the cylinder body 251 and a piston 252 to transfer the lifting power to the outside, and above the cylinder body 251. Air inlet and outlet ports 254.256 are provided in and below, respectively. Air inlets and outlets 254 and 256 are connected to air lines 262 and 263 through which air provided from the pneumatic supply unit 260 flows. One end of the piston rod 252 is connected to the scrubbing member 210 through a connecting bracket 259. The cylinder 250 calls the two spaces isolated by the piston 252 the first air chamber 257 and the second air chamber 258 and the air of the first air chamber 257 and the second air chamber 258. The difference in pressure causes the piston 252 to move.

공압 공급부(260)는 연마바(220)들이 일정한 압력으로 글라스 기판을 가압하도록 실린더(250)에 작동압력을 제공한다. 즉, 세정 유닛(200)들 각각의 연마바(220)들이 모두 동일한 면압력으로 글라스 기판(2)을 가압해야만 동일한 세정이 가능하다. 만약, 글라스 기판(2)의 특정 구역에 굴곡이 있거나 또는 두꺼운 이물이 존재하는 경우 그 해당 구역을 세정하는 세정 유닛의 연마바(220)들에는 기설정된 면압력보다 높은 압력 변화가 생기게 됨으로써 동일한 세정이 불가능해진다. 하지만, 본 실시예에 따른 공압 공급부(260)는 이러한 실린더(250) 내부의 작동 압력 변화를 실시간으로 체크하여 항상 일정한 압력으로 글라스 기판을 세정할 수 있는 구성들을 포함한다. The pneumatic supply part 260 provides an operating pressure to the cylinder 250 so that the polishing bars 220 pressurize the glass substrate at a constant pressure. That is, the same cleaning is possible only when the polishing bars 220 of each of the cleaning units 200 press the glass substrate 2 at the same surface pressure. If a curved area or a thick foreign material is present in a specific area of the glass substrate 2, the polishing bars 220 of the cleaning unit for cleaning the corresponding area may have a pressure change higher than a predetermined surface pressure, thereby providing the same cleaning. This becomes impossible. However, the pneumatic supply unit 260 according to the present embodiment includes components that can always check the operating pressure change inside the cylinder 250 to clean the glass substrate at a constant pressure at all times.

공압 공급부(260)는 에어 공급원(261)과, 에어 공급원(261)으로부터 제1공기실(257)과 제2공기실(258)로 에어를 제공하는 제1,2에어라인(262,263), 제1에어라인(262) 상에 설치되는 전공 레귤레이터(270)와 밸브(264) 그리고 제2에어라 인(263)상에 설치되는 정압 레귤레이터(266)를 포함한다. The pneumatic supply unit 260 includes an air supply source 261 and first and second air lines 262 and 263 which supply air from the air supply source 261 to the first air chamber 257 and the second air chamber 258. The electric regulator 270 installed on the first air line 262, the valve 264, and the positive pressure regulator 266 installed on the second air line 263 are included.

제2공기실(258)에는 제2에어라인(263)을 통해 항상 일정한 제1에어 압력이 제공된다. 그리고 글라스 기판의 세정 공정이 진행될 시점에서는 제1공기실(257)로 제1에어라인(262)을 통해 제1에어 압력보다 큰 제2에어 압력이 제공됨으로써, 제 1 공기실(257)과 제 2공기실(258)의 공기 압력의 차로 인해 피스톤(252)이 이동하여 연마바(220)가 글라스 기판(2)의 표면에 면 접촉한 상태에서 이물질을 제거하게 된다.The second air chamber 258 is always provided with a constant first air pressure through the second air line 263. In addition, when the cleaning process of the glass substrate is performed, the second air pressure greater than the first air pressure is provided to the first air chamber 257 through the first air line 262, thereby providing the first air chamber 257 and the first air chamber. Due to the difference in the air pressure of the two air chambers 258, the piston 252 is moved to remove foreign substances in the state in which the polishing bar 220 is in surface contact with the surface of the glass substrate (2).

한편, 제1에어 라인(262)에 설치되는 전공 레귤레이터(270)는 실린더(250)에 제공되는 작동압력(제2에어 압력)이 일정하게 유지되도록 작동압력을 조절한다. 전공 레귤레이터(270)는 실린더의 제1공기실(257)로 제공된 작동압력(제2에어 압력) 변화를 실시간으로 감지하는 센서(272)와, 센서(272)에서 감지된 압력값이 기설정된 압력값보다 올라가는 경우 기설정 압력으로 유지되도록 작동 압력을 외부로 배기하는 솔레노이드 밸브(274)를 포함한다. 도 9에서와 같이, 연마바(220)들이 글라스 기판(2)의 표면에 면 접촉하여 이물질을 제거하는 과정에서 글라스 기판에 이물로 인해 실린더(250)의 제1공기실(257)의 압력이 높아지는 경우 센서(272)가 이를 감지하고 솔레노이드 밸브(274)는 이러한 센서 신호에 따라 작동되어 제1공기실(257)과 전공 레귤레이터(270) 사이의 에어라인의 에어 일부를 배출하여 자동으로 일정 압력으로 조절시켜준다. 이처럼, 본 발명은 실린더에 에어를 제공하는 공압 공급부에 전공 레귤레이터를 사용하여 공압을 컨트롤 함으로써 세정 유닛들의 각각의 연마바들의 면압력을 일정하게 유지시켜줄 수 있다. On the other hand, the electric regulator 270 installed in the first air line 262 adjusts the operating pressure to maintain a constant operating pressure (second air pressure) provided to the cylinder 250. Electro-optic regulator 270 is a sensor 272 for detecting in real time the change in the operating pressure (second air pressure) provided to the first air chamber 257 of the cylinder, and the pressure value detected by the sensor 272 is a preset pressure It includes a solenoid valve 274 for exhausting the working pressure to the outside so as to remain at the predetermined pressure when going above the value. As shown in FIG. 9, in the process of removing the foreign matter by contacting the surface of the glass substrate 2 with the polishing bar 220, the pressure of the first air chamber 257 of the cylinder 250 is reduced due to the foreign matter on the glass substrate. If this is the case, the sensor 272 detects this and the solenoid valve 274 operates according to this sensor signal to automatically discharge a portion of the air in the air line between the first air chamber 257 and the electro-pneumatic regulator 270 to automatically maintain a constant pressure. Adjust with As such, the present invention can maintain a constant surface pressure of each of the polishing bars of the cleaning units by controlling the pneumatic pressure by using the electro-pneumatic regulator in the pneumatic supply unit for supplying air to the cylinder.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템의 개략도이다. 1 is a schematic diagram of a system for cleaning a glass substrate according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 메인 세정부를 설명하기 위한 정면도이다. FIG. 2 is a front view illustrating the main cleaning unit shown in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 메인 세정부의 평면도이다. 3 is a plan view of the main cleaning unit shown in FIG. 2.

도 4는 도 2에 도시된 세정 유닛을 보여주는 도면이다. 4 is a view showing the cleaning unit shown in FIG.

도 5는 연마바들이 설치된 홀더를 보여주는 도면이다. 5 is a view illustrating a holder in which polishing bars are installed.

도 6은 연마바들이 설치된 홀더를 저면에서 바라본 도면이다. 6 is a view of the holder with the polishing bars installed from the bottom.

도 7은 도 6에 표시된 A-A선 단면도이다. 7 is a cross-sectional view taken along the line A-A shown in FIG.

도 8은 라운드진 막대형상의 연마바들이 설치된 홀더를 저면에서 바라본 도면이다. FIG. 8 is a view of the holder provided with rounded bar-shaped polishing bars from the bottom.

도 9는 실린더와 공압 공급부를 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining the cylinder and the pneumatic supply.

도 10은 세정 유닛들의 다른 배치 상태를 보여주는 도면이다.10 shows another arrangement of cleaning units.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 전처리 세정부10: pretreatment cleaning unit

20 : 메인 세정부20: main cleaning unit

30 : 세척부30: cleaning unit

40 : 건조부40: drying unit

100 : 컨베이어 유닛100: conveyor unit

200 : 세정 유닛200: cleaning unit

Claims (15)

글라스 기판을 세정하기 위한 시스템에 있어서:In a system for cleaning a glass substrate: 글라스 기판을 수평 반송하는 컨베이어 유닛; 및A conveyor unit for horizontally conveying the glass substrate; And 상기 컨베이어 유닛에 의해 반송되는 글라스 기판의 이송 경로상에 설치되며, 글라스 기판의 표면상의 이물질을 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 제거하는 스크러빙 부재를 갖는 세정 유닛들을 포함하되;A cleaning unit installed on a conveying path of the glass substrate conveyed by the conveyor unit, the cleaning units having a scrubbing member for removing foreign matter on the surface of the glass substrate by applying a rotating scrubbing force drawing a circular trajectory; 상기 스크러빙 부재는 The scrubbing member is 구동모터에 의해 회전되는 샤프트;A shaft rotated by a drive motor; 상기 샤프트에 연결되는 홀더; 및A holder connected to the shaft; And 상기 홀더에 개별적으로 탈부착이 가능하게 설치되는 연마바들을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.And polishing bars individually removably mounted to said holder. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 연마바들은The polishing bars are 상기 홀더의 회전 중심으로부터 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.And radially disposed from the center of rotation of the holder. 제1항 또는 제2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 연마바들 각각은 Each of the polishing bars 일직선으로 곧은 막대형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.A system for cleaning a glass substrate, characterized in that it consists of straight rods. 제1항 또는 제2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 연마바들 각각은Each of the polishing bars 회전 방향으로 라운드진 막대형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.A system for cleaning a glass substrate, characterized in that it consists of a rod-shaped round in the rotational direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 연마바들 각각은Each of the polishing bars 글라스 기판과 접촉하는 아래면이 상기 홀더에 부착되는 윗면보다 좁은 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.A bottom surface in contact with a glass substrate is narrower than an upper surface attached to the holder. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홀더는 The holder is 상기 연마바를 자력으로 고정하기 위한 자석; 및A magnet for fixing the polishing bar by magnetic force; And 상기 연마바에 형성된 삽입홈들에 삽입되는 고정핀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.And fixing pins inserted into insertion grooves formed in the polishing bar. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 연마바들 각각은Each of the polishing bars 금속 재질의 상판; Metal tops; 상기 상판의 저면에 제공되는 완충 작용을 위한 쿠션패드;A cushion pad for a cushioning action provided on the bottom of the top plate; 상기 쿠션패드의 저면에 제공되고 글라스 기판과 면 접촉하는 저면을 갖는 원판 형상의 클리닝 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템. And a disk-shaped cleaning pad provided on the bottom surface of the cushion pad and having a bottom surface in surface contact with the glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 세정 유닛들은The cleaning units 상기 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 글라스 기판의 상면을 세정하는 제1 세정 유닛들; 및First cleaning units cleaning upper surfaces of the glass substrates moved by the conveyor unit; And 상기 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 글라스 기판의 저면을 세정하는 제2 세정 유닛들을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템.And second cleaning units for cleaning the bottom surface of the glass substrate moved by the conveyor unit. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 제1세정 유닛들과 상기 제2세정 유닛들은 글라스 기판을 사이에 두고 서로 대향되게 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하기 위한 시스템. And the first cleaning units and the second cleaning units are installed to face each other with a glass substrate interposed therebetween. 글라스 기판의 표면상의 이물질을 제거하는 세정 유닛에 있어서:In the cleaning unit for removing foreign matter on the surface of the glass substrate: 글라스 기판의 표면으로 세정액을 분사하면서 글라스 기판의 표면을 원형의 궤적을 그리는 회전하는 스크러빙 힘을 작용시켜 글라스 기판상의 이물질을 제거하는 스크러빙 부재를 포함하되; It includes a scrubbing member for applying a rotating scrubbing force to draw a circular trajectory on the surface of the glass substrate while spraying the cleaning liquid to the surface of the glass substrate to remove foreign matter on the glass substrate; 상기 스크러빙 부재는 The scrubbing member is 구동모터에 의해 회전되며, 외부로부터 공급되는 세정액이 흐르는 제1유로를 갖는 샤프트; A shaft rotated by the drive motor and having a first flow path through which a cleaning liquid supplied from the outside flows; 상기 제1유로와 연통되는 제2유로를 갖는 그리고 상기 샤프트에 연결되며 저면에 다수의 자석을 갖는 홀더; 및 A holder having a second flow passage in communication with the first flow passage and connected to the shaft and having a plurality of magnets at a bottom thereof; And 상기 홀더에 자력에 의해 탈착 가능하게 설치되는 연마바들을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛. And a polishing bar detachably mounted to the holder by magnetic force. 제10항에 있어서, The method of claim 10, 상기 연마바들은The polishing bars are 상기 홀더의 회전 중심으로부터 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛. A cleaning unit for cleaning the glass substrate, characterized in that disposed radially from the center of rotation of the holder. 제10항에 있어서, The method of claim 10, 상기 연마바들 각각은 Each of the polishing bars 일직선으로 곧은 막대형상 또는 회전 방향으로 라운드진 막대형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛. A cleaning unit for cleaning a glass substrate, characterized in that it consists of a rod shape straight in a straight line or a rod shape round in a rotational direction. 제11항 또는 제12항에 있어서, 13. The method according to claim 11 or 12, 상기 연마바들 각각은 Each of the polishing bars 상기 홀더로부터 탈착될 때 작업자가 파지할 수 있는 손잡이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛. And a handle that can be gripped by an operator when detached from the holder. 제11항 또는 제12항에 있어서, 13. The method according to claim 11 or 12, 상기 홀더는 The holder is 상기 연마바에 형성된 삽입홈에 삽입되는 고정핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛.The cleaning unit for cleaning the glass substrate, characterized in that it comprises a fixing pin which is inserted into the insertion groove formed in the polishing bar. 제11항에 있어서, The method of claim 11, 상기 연마바는The polishing bar is 금속 패드; Metal pads; 상기 금속패드의 저면에 제공되는 완충 작용을 위한 쿠션패드;A cushion pad for a cushioning action provided on a bottom surface of the metal pad; 상기 쿠션패드의 저면에 제공되고 글라스 기판과 면접하는 저면을 갖는 원판 형상의 클리닝 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 글라스 기판을 세정하는 세정 유닛.And a disk-shaped cleaning pad provided on the bottom surface of the cushion pad and having a bottom surface in contact with the glass substrate.
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