KR20110081545A - Substrate transfer conveyor apparatus and substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20110081545A KR1020100001753A KR20100001753A KR20110081545A KR 20110081545 A KR20110081545 A KR 20110081545A KR 1020100001753 A KR1020100001753 A KR 1020100001753A KR 20100001753 A KR20100001753 A KR 20100001753A KR 20110081545 A KR20110081545 A KR 20110081545A
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Abstract

PURPOSE: A substrate transfer conveyor device and a substrate processing device are provided to prevent a roller from becoming worn out by the contamination and of the roller and foreign materials. CONSTITUTION: A substrate transfer conveyor device comprises driven shafts(210), power transfer members, a driving member and a roller cleaning member(290). The driven shafts are arranged side by side in one direction. The driven shaft comprises a plurality of rollers, which make direct contact with a substrate. The power transfer member is installed on the driven shaft. The power transfer members transfers torque between them. The driving member supplies torque to at least one of the power transfer members. The roller cleaning member is located under the driven shaft and washes out foreign materials from the rollers.

Description

기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치{SUBSTRATE TRANSFER CONVEYOR APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}SUBSTRATE TRANSFER CONVEYOR APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

본 발명은 LCD(Liquid Crystal Display)기판 등과 같은 각종 반도체 부품을 이송하는 컨베이어 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 LCD Glass의 평면 가공에 사용되는 기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conveyor apparatus for transferring various semiconductor components such as an LCD (Liquid Crystal Display) substrate, and more particularly, to a substrate conveying conveyor apparatus and a substrate processing apparatus used for planar processing of LCD glass.

일반적으로, 평판 표시 패널을 제작하는 기판 처리 장치는 대형의 글래스 기판을 복수 개의 단위 기판으로 절단하는 면취 공정을 처리한다. 이와 같은 기판 처리 장치는 글래스 기판을 스크라이빙(scribing), 브레이킹(breaking) 및, 연마 등 일련의 공정들을 처리한다. 스크라이빙 공정은 레이저나 스크라이빙 휠 등을 이용하여 절단 예정인 기판 표면에 스크라이브 라인(scribe line)을 형성한다. 브레이킹 공정은 스크라이빙 선이 형성된 글래스 기판에 전기적 또는 물리적인 충격을 가하여 단위 기판으로 절단한다. 또 연마 공정은 기판의 절단면을 연마하여 라운딩 처리한다. 면취 공정이 완료되면, 글래스 기판에는 면취 공정에 의해 발생되는 유리 가루 등의 파티클이 잔존하게 되는데, 기판 처리 장치는 파티클을 제거하기 위하여 면취 후 세정 공정을 처리한다.Generally, the substrate processing apparatus which manufactures a flat panel display panel processes the chamfering process which cuts a large glass substrate into a some unit substrate. Such a substrate processing apparatus processes a series of processes such as scribing, breaking, and polishing a glass substrate. The scribing process forms a scribe line on the surface of the substrate to be cut using a laser or a scribing wheel. The braking process cuts the unit substrate by applying an electrical or physical impact to the glass substrate on which the scribing lines are formed. In the polishing step, the cut surface of the substrate is polished and rounded. When the chamfering process is completed, particles such as glass powder generated by the chamfering process remain on the glass substrate, but the substrate treating apparatus processes the chamfering and cleaning process to remove the particles.

면취 후 세정 공정을 처리하는 기판 처리 장치는 기판 이송 방향으로 나란히 배치된 복수 개의 처리 유닛들과, 처리 유닛들 간에 기판을 이송하는 기판 이송 장치를 가진다. 기판 이송 장치는 예를 들어, 각각의 처리 유닛들 하부에 배치되는 컨베이어 장치로 구비된다. A substrate processing apparatus for processing a chamfering and cleaning process includes a plurality of processing units arranged side by side in the substrate transfer direction, and a substrate transfer apparatus for transferring a substrate between the processing units. The substrate transfer apparatus is provided with, for example, a conveyor apparatus disposed under each processing unit.

면취 후 세정 공정을 처리하는 기판 처리 장치에 설치되는 컨베이어 장치는 기판에 묻어 있는 파우더 등의 이물들이 롤러에 고착되는 문제가 있다. 이로 인해 롤러의 마모가 발생되고, 롤러에 의해 오염이 발생될 뿐만 아니라 기판이 불안정하게 반송되는 등의 문제점이 발생된다.Conveyor apparatus installed in the substrate processing apparatus for processing the cleaning process after chamfering, there is a problem that foreign matters such as powder on the substrate is fixed to the roller. As a result, wear of the rollers occurs, not only contamination occurs by the rollers, but also problems such as unstable transfer of the substrates occur.

본 발명의 목적은 롤러의 오염을 방지할 수 있는 기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate conveying conveyor apparatus and a substrate processing apparatus capable of preventing contamination of a roller.

또 다른 본 발명의 목적은 이물에 의해 롤러가 마모되는 것을 방지할 수 있는 기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate conveying conveyor apparatus and a substrate processing apparatus which can prevent the roller from being worn by foreign matter.

또 다른 본 발명의 목적은 기판을 안정적으로 반송할 수 있는 기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate conveying conveyor apparatus and a substrate processing apparatus capable of stably conveying a substrate.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 기판 처리 장치는 격벽에 의해 기판 처리실과, 동력 제공실로 구분되고, 상기 기판 처리실의 양측에 지지프레임이 설치된 챔버; 상기 기판 처리실의 지지프레임에 양단이 회전 가능하게 지지되고, 기판과 직접 접촉하는 롤러들을 갖는 복수의 종동 샤프트들; 상기 동력 제공실에 설치되고, 모터의 회전력을 제공받아 회전되는 복수의 구동 샤프트들; 상기 구동 샤프트에 설치되며 자석들을 가지는 구동 마그네틱 판; 상기 종동 샤프트에 설치되며 자석들을 가지는, 그리고 상기 격벽을 사이에 두고 상기 구동 마그네틱 판과 마주보게 설치되는 종동 마그네틱 판; 상기 기판 처리실의 지지프레임에 지지되고, 상기 종동 샤프트 아래에 위치되며, 상기 롤러들의 일부가 세정액에 잠기도록 세정액이 담겨진 세정조를 갖는 롤러 크리닝 부재를 포함한다.In order to achieve the above objects, the substrate processing apparatus of the present invention is divided into a substrate processing chamber and a power providing chamber by a partition wall, and a chamber in which support frames are provided on both sides of the substrate processing chamber; A plurality of driven shafts rotatably supported at a support frame of the substrate processing chamber and having rollers in direct contact with the substrate; A plurality of drive shafts installed in the power providing chamber and rotated by a rotational force of a motor; A drive magnetic plate mounted to the drive shaft and having magnets; A driven magnetic plate installed on the driven shaft and having magnets, and installed to face the driving magnetic plate with the partition therebetween; And a roller cleaning member supported by a support frame of the substrate processing chamber, positioned below the driven shaft, and having a cleaning bath in which a cleaning liquid is contained so that some of the rollers are immersed in the cleaning liquid.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 롤러 크리닝 부재는 상기 세정조의 양단에 설치되고 상기 지지 프레임에 고정되는 고정부를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the roller cleaning member further includes a fixing part installed at both ends of the cleaning tank and fixed to the support frame.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 세정조는 양단에 상기 종동 샤프트가 지나갈 수 있는 홈이 형성되고, 저면에 세정액이 공급되는 공급포트를 갖는다According to an embodiment of the present invention, the cleaning tank has grooves through which the driven shaft passes, and a supply port through which the cleaning liquid is supplied at the bottom thereof.

상술한 바와 같이, 본 발명의 기판 반송 컨베이어 장치는 롤러의 오염을 방지할 수 있다.As mentioned above, the substrate conveyance conveyor apparatus of this invention can prevent the contamination of a roller.

또한, 본 발명의 기판 반송 컨베이어 장치는 이물에 의해 롤러가 마모되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the substrate conveyance conveyor apparatus of the present invention can prevent the roller from being worn by foreign matter.

또한, 본 발명의 기판 반송 컨베이어 장치는 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.Moreover, the substrate conveyance conveyor apparatus of this invention can convey a board | substrate stably.

도 1은 본 발명에 따른 컨베이어 장치가 설치된 기판 처리 장치를 보여주는 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 롤러 크리닝 부재와 종동 샤프트를 보여주는 도면이다.
도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 롤러 크리닝 부재를 보여주는 사시도 및 단면도이다.1 is a block diagram showing a substrate processing apparatus equipped with a conveyor apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a view showing the roller cleaning member and the driven shaft shown in FIG. 1.
3 and 4 are a perspective view and a cross-sectional view showing the roller cleaning member shown in FIG.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be interpreted as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shapes and the like of the components in the drawings are exaggerated in order to emphasize a clearer explanation.

이하 첨부된 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4.

본 발명의 기판 처리 장치는 LCD Glass의 평면 가공(면취 공정) 후 세척작업이 이루어지는 세정 처리 장치에 관한 것이다. LCD Glass는 고도의 평면도와 두께의 정밀도를 요하므로, 통상적으로 제작된 유리판을 그 표면을 아주 정밀하게 연마하여 사용한다. 이와 같은 공정을 면취공정이라고 한다. 대량생산과 정밀한 가공을 위하여 LCD Glass의 면취공정은 소재 유리판의 이송, 표면 연마공정, 검사공정, 세정공정 등 일련의 공정들이 연속적으로 자동화 공정에 의하여 이루어지고 있다. 특히 LCD Glass는 고도의 청정도가 요구되므로 세정공정이 아주 중요하고, 연마과정에서 유리판에 남아있는 유리 자체의 분진, 절삭액, 연마공구의 분진 등이 완벽하게 제거되어야 하며, 본 발명에서는 면취 공정에서 발생된 이물질에 의해 오염되는 롤러들을 크리닝 할 수 있는 구조적인 특징을 갖는다. The substrate processing apparatus of the present invention relates to a cleaning processing apparatus in which a cleaning operation is performed after planar processing (chamfering process) of LCD glass. LCD Glass requires a high degree of flatness and thickness precision, and therefore, a glass plate manufactured is usually used to precisely polish the surface thereof. Such a process is called a chamfering process. In order to mass production and precise processing, the LCD glass chamfering process is a series of automated processes such as transfer of material glass plate, surface polishing process, inspection process and cleaning process. In particular, since the LCD glass requires a high degree of cleanliness, the cleaning process is very important, and the dust of the glass itself, the cutting liquid, and the grinding tool, which remain on the glass plate during the polishing process, must be completely removed. It has a structural feature capable of cleaning rollers contaminated by foreign substances generated.

도 1은 본 발명에 따른 컨베이어 장치가 설치된 기판 처리 장치를 보여주는 구성도이다. 도 2는 도 1에 도시된 롤러 크리닝 부재와 종동 샤프트를 보여주는 도면이고, 도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 롤러 크리닝 부재를 보여주는 사시도 및 단면도이다. 1 is a block diagram showing a substrate processing apparatus equipped with a conveyor apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a view showing the roller cleaning member and the driven shaft shown in FIG. 1, and FIGS. 3 and 4 are a perspective view and a cross-sectional view showing the roller cleaning member shown in FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 4개의 측벽(112a-112d)에 의해 제공되는 기판 처리실(110)과, 기판 처리실(110)의 측벽(112b)을 사이에 두고 제공되는 동력 제공실(120)로 구분되는 챔버(100)를 포함한다. 기판 처리실(110)의 측벽(112a,112c)에는 기판 출입구(114)가 설치된다. 1 and 2, a substrate processing apparatus 1 is provided with a substrate processing chamber 110 provided by four sidewalls 112a-112d and a sidewall 112b of the substrate processing chamber 110 interposed therebetween. The chamber 100 is divided into a power providing room 120 to be. Substrate entrances and exits 114 are provided on the sidewalls 112a and 112c of the substrate processing chamber 110.

컨베이어 장치(200)는 기판 처리실(110) 내에 구비되는 다수의 종동 샤프트들(210), 롤러 크리닝 부재(290)들을 포함하며, 동력 제공실(120) 내에 구비되는 구동 샤프트들(280), 구동모터(282)의 동력을 각각의 구동 샤프트들로 전달하는 동력전달수단들을 포함한다. The conveyor apparatus 200 includes a plurality of driven shafts 210 and roller cleaning members 290 provided in the substrate processing chamber 110, and drive shafts 280 and drives provided in the power providing chamber 120. Power transmission means for transmitting the power of the motor 282 to the respective drive shafts.

도면에서 보여주는 바와 같이, 컨베이어 장치(200)는 대면적의 기판을 반송하기 위해 종동 샤프트들(210)이 촘촘하게 배치된다. 종동 샤프트(210)들은 기판 처리실(110)에 배치되며, 각각의 종동 샤프트(210)에는 기판의 저면과 직접적으로 접촉하여 지지하는 복수의 반송롤러(212)들이 일정한 간격으로 설치되어 있다. 종동 샤프트(210)의 양단은 지지프레임(119)에 의해 회전 가능하게 지지되며, 종동 샤프트(210)의 일 단에는 종동 마그네틱판(230)이 설치된다. As shown in the figure, the conveyor apparatus 200 is closely arranged with driven shafts 210 to convey a large area substrate. The driven shafts 210 are disposed in the substrate processing chamber 110, and each of the driven shafts 210 is provided with a plurality of transfer rollers 212 that are in direct contact with and supported by the bottom surface of the substrate. Both ends of the driven shaft 210 are rotatably supported by the support frame 119, and a driven magnetic plate 230 is installed at one end of the driven shaft 210.

챔버(110) 외부 일측인 동력 제공실(120)에는 복수의 구동 샤프트(240)들이 설치되며, 이 구동 샤프트(240)들을 회전 구동하기 위한 구동모터(242)와 벨트(244)들 그리고 풀리(pulley;246)들이 설치된다. 풀리(246)들은 구동 샤프트(240)들의 일단에 각각 설치되고 이들 사이에는 벨트(244)들이 걸쳐진다. 각 구동 샤프트(240)들은 구동모터의 구동력을 전달받아 동일 방향으로 회전된다. 예컨대, 벨트는 일체형으로 이루어질 수 있다. A plurality of drive shafts 240 are installed in the power providing chamber 120, which is one side outside the chamber 110, and a drive motor 242, belts 244, and pulleys for rotationally driving the drive shafts 240. pulleys 246 are installed. Pulleys 246 are respectively installed at one end of drive shafts 240 and belts 244 span between them. Each drive shaft 240 is rotated in the same direction by receiving the driving force of the drive motor. For example, the belt may be integral.

구동 샤프트(240)들의 일단에는 구동 마그네틱판(250)이 설치된다. 구동 마그네틱판(250)은 기판 처리실의 측벽(112b)을 통해서 종동 마그네틱판(230)과 마주보도록 배치된다. 구동 마그네틱판 (250)의 회전에 의해 종동 마그네틱판(230)이 회전된다. 즉, 구동 모터(242)에 의한 회전운동이 벨트(244)를 통해서 구동 샤프트(240)들로 전달되고, 구동 마그네틱판(250)이 회전된다. 구동 마그네틱판(250)의자석들(미도시됨)과 종동 마그네틱판(230)의 자석(미도시됨)들이 자성에 의해 끌어 당기고, 그것에 의해 종동 마그네틱판(230)이 종동 샤프트(210)와 함께 회전하며, 그로 인해 반송롤러(212)들에 의해 지지된 기판(s)이 반송된다.One end of the drive shafts 240 is provided with a drive magnetic plate 250. The driving magnetic plate 250 is disposed to face the driven magnetic plate 230 through the side wall 112b of the substrate processing chamber. The driven magnetic plate 230 is rotated by the rotation of the driving magnetic plate 250. That is, the rotational motion by the drive motor 242 is transmitted to the drive shafts 240 through the belt 244, and the drive magnetic plate 250 is rotated. The magnets (not shown) of the driving magnetic plate 250 and the magnets (not shown) of the driven magnetic plate 230 are attracted by the magnetic, whereby the driven magnetic plate 230 is driven by the driven shaft 210. It rotates together, and the board | substrate s supported by the convey rollers 212 is conveyed by it.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 롤러 크리닝 부재(290)는 종동 샤프트(210) 아래에 위치된다. 롤러 크리닝 부재(290)는 기판을 반송하는 과정에서 반송롤러(212) 표면에 묻은 이물질을 초순수(세정액)로 씻어내기 위한 것이다. 롤러 크리닝 부재(290)는 반송롤러(212)들의 일부가 세정액에 잠기도록 세정액이 담겨진 세정조(292)와, 세정조(292)의 양단에 설치되고 종동 샤프트(210)가 지지되는 지지 프레임(118)에 설치되는 고정부(299)를 포함한다. 세정조(292)는 상부가 개방된 박스 형태로써 양단에는 종동 샤프트(210)가 지나갈 수 있도록 홈(293)이 형성되어 있고, 세정조(292)의 바닥에는 세정액이 공급되는 공급포트(294)가 형성되어 있다. 2 to 4, the roller cleaning member 290 is positioned below the driven shaft 210. The roller cleaning member 290 is used to wash away foreign substances on the surface of the conveying roller 212 with ultrapure water (cleaning liquid) in the process of conveying the substrate. The roller cleaning member 290 is provided with a cleaning tank 292 in which the cleaning liquid is contained so that a part of the conveying rollers 212 are immersed in the cleaning liquid, and a support frame provided at both ends of the cleaning tank 292 and supporting the driven shaft 210. 118 includes a fixing portion 299 is installed. The cleaning tank 292 has a box shape with an open top, and grooves 293 are formed at both ends thereof so that the driven shaft 210 can pass, and a supply port 294 through which a cleaning liquid is supplied to the bottom of the cleaning tank 292. Is formed.

상술한 구조를 갖는 컨베이어 장치(200)는 종동 샤프트(210)의 반송롤러(212)들이 롤러 크리닝 부재(290)의 세정조(292)에 일부가 담겨진 상태(도 4에 도시되어 있음)에서 회전하기 때문에 롤러 표면에 이물질이 묻더라도 곧바로 세정조(292)에 채워져 있는 세정액에 의해 씻겨진다. 특히, 종동 샤프트(210)의 반송롤러(212)를 세정하는 크리닝 부재(290)가 각각의 종동 샤프트 아래에 위치되어 해당되는 종동 샤프트(210)의 반송롤러(212)들을 세정하기 때문에 컨베이어 장치 상부에 설치된 노즐(미도시됨)을 사용해서 반송롤러들을 세정하는 방법에 비해 세정액 소모량을 줄일 수 있다. The conveyor apparatus 200 having the above-described structure is rotated in a state in which the conveying rollers 212 of the driven shaft 210 are partially contained in the cleaning tank 292 of the roller cleaning member 290 (shown in FIG. 4). Therefore, even if foreign matter gets on the surface of the roller, it is immediately washed by the cleaning liquid filled in the cleaning tank 292. In particular, the cleaning member 290 for cleaning the conveying roller 212 of the driven shaft 210 is located below each driven shaft to clean the conveying rollers 212 of the corresponding driven shaft 210. Cleaning liquid consumption can be reduced compared to the method of cleaning the conveying rollers by using a nozzle (not shown) installed in the.

본 발명에서 기판은 평판 디스플레이(flat panel display, 이하 'FPD') 소자를 제조하기 위한 것으로, FPD는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), FED(FieldEmission Display), ELD(Electro Luminescence Display) 일 수 있다.In the present invention, the substrate is for manufacturing a flat panel display (FPD) device, and the FPD is a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), a vacuum fluorescent display (VFD), or a field emission display (FED). ), And an ELD (Electro Luminescence Display).

이상에서, 본 발명에 따른 롤러 크리닝 부재를 갖는 컨베이어 장치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.In the above, the configuration and operation of the conveyor apparatus having a roller cleaning member according to the present invention has been shown in accordance with the detailed description and drawings, but this is merely described by way of example, and various within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. Changes and changes are possible.

200 : 컨베이어 장치
210 : 종동 샤프트
212 : 반송롤러
290 : 롤러 크리닝 부재
292 : 세정조200: conveyor device
210: driven shaft
212: conveying roller
290: roller cleaning member
292 cleaning tank

Claims (8)

기판 반송 컨베이어 장치에 있어서:
일방향으로 나란하게 배치되고, 기판과 직접 접촉하는 복수개의 롤러들을 갖는 종동 샤프트들;
상기 종동 샤프트들에 설치되며, 서로 간에 회전력을 전달하는 동력전달 부재;
상기 동력 전달부재들 중 적어도 어느 하나에 회전력을 제공하는 구동부재; 및
상기 종동 샤프트 아래에 위치되고, 상기 롤러들에 묻은 이물질을 씻어내기 위한 롤러 크리닝 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 컨베이어 장치. In the substrate conveying conveyor apparatus:
Driven shafts disposed side by side in one direction and having a plurality of rollers in direct contact with the substrate;
A power transmission member installed on the driven shafts and transmitting rotational force to each other;
A driving member providing a rotational force to at least one of the power transmission members; And
And a roller cleaning member positioned under the driven shaft, the roller cleaning member for cleaning off foreign matter from the rollers. 제 1 항에 있어서,
상기 롤러 크리닝 부재는
상기 롤러들의 일부가 세정액에 잠기도록 세정액이 담겨진 세정조를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 컨베이어 장치. The method of claim 1,
The roller cleaning member
And a cleaning tank in which the cleaning liquid is contained so that a part of the rollers are immersed in the cleaning liquid. 제 1 항에 있어서,
상기 롤러 크리닝 부재는
상기 롤러들의 일부가 세정액에 잠기도록 세정액이 담겨진 세정조;
상기 세정조의 양단에 설치되고 상기 종동 샤프트가 지지되는 지지 프레임에 설치되는 고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 컨베이어 장치. The method of claim 1,
The roller cleaning member
A cleaning tank in which a cleaning liquid is contained so that some of the rollers are immersed in the cleaning liquid;
And a fixing part provided at both ends of the cleaning tank and installed in a support frame on which the driven shaft is supported. 제 3 항에 있어서,
상기 세정조는 양단에 상기 종동 샤프트가 지나갈 수 있는 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 반송 컨베이어 장치. The method of claim 3, wherein
The cleaning tank is a substrate conveying conveyor device, characterized in that the grooves through which the driven shaft passes. 제 3 항에 있어서,
상기 세정조는 세정액이 공급되는 공급포트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 컨베이어 장치. The method of claim 3, wherein
The cleaning tank further comprises a supply port to which the cleaning liquid is supplied substrate transport conveyor apparatus. 기판 처리 장치에 있어서:
격벽에 의해 기판 처리실과, 동력 제공실로 구분되고, 상기 기판 처리실의 양측에 지지프레임이 설치된 챔버;
상기 기판 처리실의 지지프레임에 양단이 회전 가능하게 지지되고, 기판과 직접 접촉하는 롤러들을 갖는 복수의 종동 샤프트들;
상기 동력 제공실에 설치되고, 모터의 회전력을 제공받아 회전되는 복수의 구동 샤프트들;
상기 구동 샤프트에 설치되며 자석들을 가지는 구동 마그네틱 판;
상기 종동 샤프트에 설치되며 자석들을 가지는, 그리고 상기 격벽을 사이에 두고 상기 구동 마그네틱 판과 마주보게 설치되는 종동 마그네틱 판;
상기 기판 처리실의 지지프레임에 지지되고, 상기 종동 샤프트 아래에 위치되며, 상기 롤러들의 일부가 세정액에 잠기도록 세정액이 담겨진 세정조를 갖는 롤러 크리닝 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. In the substrate processing apparatus:
A chamber divided into a substrate processing chamber and a power providing chamber by a partition wall and having support frames installed at both sides of the substrate processing chamber;
A plurality of driven shafts rotatably supported at a support frame of the substrate processing chamber and having rollers in direct contact with the substrate;
A plurality of drive shafts installed in the power providing chamber and rotated by a rotational force of a motor;
A drive magnetic plate mounted to the drive shaft and having magnets;
A driven magnetic plate installed on the driven shaft and having magnets, and installed to face the driving magnetic plate with the partition therebetween;
And a roller cleaning member which is supported by a support frame of the substrate processing chamber, is positioned below the driven shaft, and has a cleaning tank in which a cleaning liquid is contained so that a part of the rollers are immersed in the cleaning liquid. 제 6 항에 있어서,
상기 롤러 크리닝 부재는
상기 세정조의 양단에 설치되고 상기 지지 프레임에 고정되는 고정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. The method according to claim 6,
The roller cleaning member
And a fixing part installed at both ends of the cleaning tank and fixed to the support frame. 제 6 항에 있어서,
상기 세정조는 양단에 상기 종동 샤프트가 지나갈 수 있는 홈이 형성되고, 저면에 세정액이 공급되는 공급포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method according to claim 6,
The cleaning tank is a substrate processing apparatus, characterized in that the groove is formed at both ends through which the driven shaft can pass, the supply port for supplying the cleaning liquid to the bottom.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101303808B1 (en) * 2011-12-07 2013-09-04 주식회사 케이씨텍 Auto Shutter
CN105944987A (en) * 2016-06-29 2016-09-21 昆山国显光电有限公司 Roller cleaning device
WO2024014889A1 (en) * 2022-07-14 2024-01-18 황희주 Smart conveyor system

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