KR101015600B1 - 프로브 스테이션용 스테이지 유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼검사 장치 - Google Patents

프로브 스테이션용 스테이지 유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼검사 장치 Download PDF

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Abstract

프로브 스테이션용 스테이지 유닛은 유로가 형성되고, 웨이퍼를 지지하는 척, 척의 내부로 냉각제가 유출입하여 척을 제1 온도로 냉각시키기 위하여 유로와 연결된 공급 라인과 배출 라인, 척을 가열시키기 위하여 척의 내부에 배치된 가열부 및 척에 인접하며, 가열부가 제1 온도보다 높은 제2 온도로 척의 온도를 변환시킬 때 공급 라인에 존재하는 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록을 포함한다. 따라서, 척 내부에 온도가 균일하게 제2 온도로 유지될 수 있다.

Description

프로브 스테이션용 스테이지 유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼 검사 장치{STAGE UNIT FOR A PROBE STATION AND APPARATUS FOR TESTING A WAFER INCLUDING THE SAME}
본 발명은 웨이퍼를 지지하는 스테이지 유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼 검사 장치에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 웨이퍼의 검사 온도 조건이 변경할 때 온도가 변경될 수 있는 스테이지 유닛 및 가변적인 온도 조건에서 웨이퍼를 검사하는 웨이퍼 검사 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치의 제조 공정에 있어서, 웨이퍼 상에 회로 소자를 형성하여 결과적으로 웨이퍼 상에 복수의 칩을 형성한다. 상기 복수의 칩에 대한 전기적 검사를 수행한 후, 상기 복수의 칩을 절단하여 개별한 후 리드 프레임 등에 각각의 칩을 조립한다.
상기 전기적 검사를 수행하기 위하여 프로브 장치 및 테스터를 조합하여 웨이퍼 상에 형성된 복수의 칩들을 검사한다. 테스터는 프로브에 접속되는 단자로부터 전원 및 각종의 시험 신호를 공급하고 칩의 전극으로부터 출력되는 신호를 테스터를 이용하여 해석하여 상기 칩들의 양품 여부를 판정한다.
상기 프로브 장치는 복수의 칩들의 사용 조건을 고려하여 서로 다른 검사 온도, 예를 들면, 40℃ 내지 150℃ 또는 영하 60℃ 내지 200℃의 온도 범위 내에서 웨이퍼 상에 형성된 복수의 칩들을 검사할 수 있다. 상기 서로 다른 검사 온도를 형성하기 위하여 히터 또는 냉각기를 이용하여 스테이지의 온도를 조절할 수 있다.
예를 들면, 저온 검사 후 고온 검사가 수행될 수 있다. 상기 저온 검사를 위하여 척을 냉각시키기 위하여 상기 냉각기가 냉각제를 스테이지로 제공한다. 이후, 고온 검사를 위하여 상기 히터가 스테이지에 열을 제공한다. 이때, 저온 검사에 사용된 액체 냉각제가 스테이지 내부에서 기화되어 스테이지 외부로 배출될 수 있다. 또한 냉각제 공급 라인에 잔류할 수 있는 액체 냉각제가 스테이지 내부로 유입되어 고온 상태에서의 스테이지의 온도가 불균일하게 될 수 있다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 저온 및 고온 상태로 웨이퍼를 검사할 때 웨이퍼를 지지하는 척의 온도를 균일하게 할 수 있는 웨이퍼 지지 스테이지를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 고온 및 저온 검사 조건에서 웨이퍼에 형성된 칩들을 검사할 때 웨이퍼를 지지하는 척의 온도를 균일하게 할 수 있는 웨이퍼 검사 장치를 제공하는 것이다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 프로브 스테이션용 스테이지 유닛은 유로가 형성되고, 웨이퍼를 지지하는 척, 상기 척의 내부로 냉각제가 유출입하여 상기 척을 제1 온도로 냉각시키기 위하여 상기 유로와 연결된 공급 라인과 배출 라인, 상기 척을 가열시키기 위하여 상기 척의 내부에 배치된 가열부 및 상기 척에 인접하며, 상기 가열부가 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 상기 척의 온도를 변환시킬 때 상기 공급 라인에 존재하는 상기 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록을 포함한다. 여기서, 상기 히팅 블록은, 상기 척에 인접하여 배치되며, 상기 공급 라인을 감싸며 상기 공급 라인을 가열하는 가열 코일 및 상기 가열 코일에서 발생한 열이 외부로 누출되는 것을 억제하기 위하여상기 가열 코일 및 상기 공급 라인을 둘러싸도록 배치된 차단부를 포함할 수 있다. 또한, 프로브 스테이션용 스테이지 유닛은 상기 제2 온도로 상기 척을 가열시킬 때, 상기 히팅 블록을 제3 온도 로 유지시킨 후 상기 제3 온도를 갖는 히팅 블록에 의한 열적 영향을 감소시키기 위하여 상기 제3 온도보다 낮은 제4 온도로 유지시키도록 상기 가열 코일의 온도를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위한 웨이퍼 검사 장치는 웨이퍼를 검사하는 검사 공간을 제공하는 챔버, 유로가 형성되고 웨이퍼를 지지하는 척, 상기 척의 내부로 냉각제가 유출입하여 상기 척을 제1 온도로 냉각시키기 위하여 상기 유로와 연결된 공급 라인과 배출 라인과 상기 척을 가열시키기 위하여 상기 척의 내부에 배치된 가열부, 상기 척에 인접하며 상기 가열부가 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 상기 척의 온도를 변환시킬 때 상기 공급 라인에 존재하는 상기 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록을 구비하는 스테이지 유닛 및 상기 스테이지 상에 장착된 상기 웨이퍼를 검사하기 위한 프로브 카드가 장착되는 카드 장착부를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 히팅 블록은, 상기 척에 인접하여 배치되며, 상기 공급 라인을 감싸며 상기 공급 라인을 가열하는 가열 코일 및 상기 가열 코일 및 상기 공급 라인을 둘러싸는 블록부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 히팅 블록은, 상기 제2 온도로 상기 척을 가열시킬 때, 상기 히팅 블록을 제3 온도로 유지시킨 후 상기 제3 온도를 갖는 히팅 블록에 의한 열적 영향을 감소시키기 위하여 상기 제3 온도보다 낮은 제4 온도로 유지시키도록 상기 가열 코일의 온도를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
이러한 프로브 스테이션용 스테이지 유닛에 따르면, 저온에서 고온으로 측정 조건이 변경될 경우 공급 라인에 잔류하는 냉각제를 기화시킴으로써 공급 라인의 압력을 증가시켜 공급 라인을 통하여 척 내부로 액체 상태의 냉각제의 유입을 억제할 수 있다. 따라서 척 내부의 온도 변화의 폭을 감소시켜 척 온도를 균일하게 유지할 수 있다.
첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼 검사 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 이해하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다.
또한, 제1 및 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여 기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다. 도 2는 도1의 히팅 블록에 대한 시간에 따른 온도 변화를 도시한 그래프이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛(100)은 웨이퍼(W)를 지지하는 척(110), 척(110)의 내부로 냉각제가 공급 및 배출되는 공급 라인(121) 및 배출 라인(123) 및 상기 공급 라인(121)에 잔류하는 냉각제를 가열시켜 기화시키는 히팅 블록(130)을 포함한다.
척(110)은 검사 대상인 웨이퍼(W)를 지지한다. 척(110)의 웨이퍼(W)를 안정적으로 지지할 웨이퍼(W)와 대응되는 형상을 가진다. 예를 들면, 웨이퍼(W)가 디스크 형상을 가질 경우, 척(110) 또한 디스크 형상을 가질 수 있다. 한편, 웨이퍼(W) 상에는 복수의 반도체 칩들(미도시)이 형성되어 있다.
척(110)은 X, Y, Z 방향으로 이동할 수 있다. 따라서 척(110)에 안착된 웨이퍼(W)에 형성된 상기 복수의 칩들과 프로브 카드(미도시)의 팁들(미도시)이 상호 전기적으로 연결될 수 있도록 한다. 또한, 척(110)은 회전할 수 있도록 구성될 수 있다. 따라서, 척(110)에는 상기 X, Y, Z 방향들로 이동할 수 있도록 하는 직선 운동을 위한 제1 구동원(미도시) 및 회전 구동할 수 있도록 하는 제2 구동원(미도시)이 연결될 수 있다. 상기 제1 구동원의 예로는 공압 실린더, 유압 실린더 및 리니어 모터 등을 들 수 있다. 상기 제2 구동원의 예로는 스크류 및 베어링을 이용하여 스테이지를 회전시키는 구동원을 들 수 있다.
한편, 척(110)의 내부에는 척(110)을 냉각시킬 수 있는 냉각제가 흐르는 유로(115)가 형성될 수 있다. 상기 유로(115)는 예를 들면 지그 재그(zigzag) 형태로 형성될 수 있다. 냉각제의 종류 및 스테이지의 온도 범위 등을 고려하여 유로(115)의 길이 및 형태는 적절히 변경될 수 있을 것이다.
공급 라인(121)은 척(110)에 형성된 유로(115)와 연결된다. 공급 라인(121)은 척(110)을 냉각시키기 위하여 냉각제를 척(110)에 형성된 유로(115)를 통하여 척(110)의 내부로 공급한다. 상기 공급 라인(121)을 통하여 냉각 및 응축된 액체 냉각제를 척(110) 내부에 공급함으로써 척(110)의 온도를 감소시켜 상대적으로 낮은 저온 상태의 제1 온도에서 웨이퍼(W)를 검사할 수 있다. 공급 라인(121)은 후술하는 냉각제 공급부(120)와 연결될 수 있다.
배출 라인(123)은 척(110)에 형성된 유로(115)와 연결된다. 배출 라인(123)은 척(110)을 냉각시키기 위하여 공급된 냉각제를 척(110)에 형성된 유로(115)를 통하여 척(110)의 내부로부터 배출한다. 배출 라인(123)을 통하여 액체 냉각제를 척(110) 내부로부터 배출함으로써 척(110)의 내부에 공급된 액체 냉각제를 순환시킨다. 따라서, 공급 라인(121)과 배출 라인(123)은 한 쌍으로 액체 냉각제를 척(110)의 내부에서 순환시킬 수 있다.
히팅 블록(130)은 척(110)에 인접하여 배치된다. 또한, 히팅 블록(130)은 공급 라인(121)을 감싸도록 배치될 수 있다.
웨이퍼(W)는 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도에서 검사될 수 있다. 예를 들면, 저온 테스트 후 고온 테스트를 수행할 경우 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도에서 웨이퍼(W)가 테스트될 수 있다. 이 경우, 상기 제2 온도로 척(110)을 가열하기 위하여 후술하는 가열부(150)가 구동할 수 있다. 이때 척(110)의 유로(115)에 잔류하는 냉각제는 기화되어 척(110)의 외부로 배출될 수 있다. 하지만, 척(110)에 인접하여 배치된 공급 라인(121) 내부에 액체 냉각제가 잔류할 수 있다. 따라서, 히팅 블록(130)은 공급 라인(121) 내부에 잔류하는 액체 냉각제를 가열하여 액체 냉각제를 기화시킨다. 따라서, 공급 라인(121)의 내부에 압력이 증가함에 따라 기화된 냉각제가 척(110)의 내부로 유입될 수 있다. 액체 냉각제가 척(110)의 내부에 공급되는 경우와 비교할 경우 기화된 냉각제가 척(110)의 내부로 유입될 경우 기화된 냉각제가 척(110)에 미치는 온도 영향이 감소될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 히팅 블록(130)은 가열 코일(131) 및 차단부(133)를 포함할 수 있다. 가열 코일(131)은 척(110)에 인접하여 배치되며 공급 라인(121)을 감싸도록 배치될 수 있다. 가열 코일(131)은 공급 라인(121)에 열을 공급하여 공급 라인(121)에 잔류하는 액체 냉각제를 가열하여 기화시킨다. 가열 코일(131)은, 예를 들면 텅스텐으로 이루어질 수 있다.
차단부(133)는 가열 코일(131)을 둘러싸도록 배치된다. 차단부(133)는 가열 코일(131)에서 발생한 열이 외부 다른 유닛에 전달되는 것을 억제한다. 또한, 차단부(133)는 상기 가열 코일(131)에서 발생한 열이 공급 라인(121)에 집중적으로 전달할 수 있도록 한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 히팅 블록(130)의 온도가 지나치게 높은 경우 히팅 블록(130)의 온도가 인접하는 다른 유닛에 악영향을 미칠 수 있다. 따라서 히팅 블록(130)은 제3 온도(T1)를 제1 시간(t1)동안 유지한 후 제2 시간(t2)부터 제3 온도(T1)보다 낮은 제4 온도(T2)로 유지시킬 수 있다. 추후 공급 라인(121)에 액체 냉각제가 유입될 경우 히팅 블록(130)이 상기 제4 온도로 유지됨에 따라 공급 라인(121)에 추가적으로 유입될 수 있는 액체 냉각제가 기화될 수 있다. 따라서 기화된 냉각제가 척(110) 내부로 유입되더라도 척(110)의 온도 변화에 대한 영향은 상대적으로 낮다. 따라서 척(110)은 상기 제2 온도로 일정하게 유지될 수 있다.
예를 들면, 상기 냉각제가 약 76℃의 끊는점(boiling point)을 가질 경우, 제3 온도는 약 500 내지 700℃의 온도 범위를 가질 수 있으며, 제4 온도는 약 100 내지 200℃의 온도 범위를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛(100)은 제어부(140)를 더 포함할 수 있다. 제어부(140)는 히팅 블록(130)의 온도를 증가시키거나 감소시키도록 히팅 블록(130)의 온도를 제어한다. 예를 들면 제어부(140)는 히팅 블록(130)을 제1 시간(t1)동안 제3 온도(T1)로 유지하고 제2 시간(t2)부터 상기 제4 온도(T2)로 유지시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛(100)은 척(110) 내부에 배치된 가열부(150)를 더 포함할 수 있다.
가열부(150)는 척(110) 내부에 배치된다. 가열부(150)는 척(110)을 제1 온도로부터 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 가열시키기 위하여 척(110)을 가열한다. 가열부(150)는 척(110) 내부에 지그재그 형태로 배열될 수 있다. 가열부(150)는 텅스텐과 같은 열방출 부재를 포함할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 검사 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 검사 장치(200)는 챔버(205), 스테이지 유닛(100) 및 카드 장착부(250)를 포함한다.
챔버(205)는 그 내부에 웨이퍼(W)를 검사하는 검사 공간(220)을 제공한다. 챔버(205)의 내부는 로더부(240) 및 검사부(220)를 포함한다. 검사부 (220) 및 로더부(240)는 상호 나란하게 배치되며 검사부(220) 및 로더부(240) 사이에는 웨이퍼(W)를 이동시킬 수 있도록 격벽(254)이 배치된다.
로더부(240)는 웨이퍼(W)의 정렬시키고 척(110) 상에 웨이퍼(W)를 로딩하거나 척(110)으로부터 웨이퍼(W)를 언로딩한다. 챔버(205)의 상부에는 후술하는 프로브 카드(300)가 장착될 수 있도록 개구(222)가 형성된다. 로더부(240)는 웨이퍼(W)들을 수납하는 카세트를 지지하는 재치대(242), 웨이퍼(W)를 정렬하는 얼라이너(미도시) 및 정렬된 웨이퍼(W)를 스테이지 유닛(100)으로 이송하는 이송 로봇(미도시)을 포함할 수 있다.
검사부(220)의 내부에는 스테이지 유닛(100)이 배치되다. 스테이지 유 닛(100)은 웨이퍼(W)를 지지한다. 또한 스테이지 유닛(100)이 구동함에 따라 웨이퍼(W)에 형성된 복수의 반도체 칩들과 후술하는 프로브 카드(300)가 전기적으로 연결된다.
스테이지 유닛(100)은 검사부(220)에 배치된다. 스테이지 유닛(100)은 X, Y 및 Z 방향으로 구동할 수 있으며, 나아가 회전할 수 있도록 하는 구동부(170)를 포함한다. 스테이지 유닛(100)은 웨이퍼(W)를 지지하는 척(110)의 온도를 조절할 수 있다. 즉, 저온 조건에서 웨이퍼(W)를 검사할 수 있도록 척(110)의 온도가 감소될 수 있다. 반면에 고온 조건에서 웨이퍼(W)를 검사할 수 있도록 척(110)의 온도가 증가할 수 있다.
스테이지 유닛(100)은 웨이퍼(W)를 지지하는 척(110), 척(110)의 내부로 냉각제가 유출입하여 척(110)의 온도를 냉각시키기 위하여 냉각제가 흐르는 공급 라인(121) 및 배출 라인(123) 및 공급 라인(121)에 잔류하는 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록(130)을 포함한다. 공급 라인(121)에 잔류하는 냉각제를 기화시킴에 따라 척(110)에 인접하는 공급 라인(121)의 내부의 압력이 증가하고 증가된 내부 압력에 따라 냉각제 공급부(120)로부터 공급 라인(121)으로 액체 냉각제가 유입되는 것이 억제될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 스테이지 유닛(100)은 도1 및 도2를 참고로 전술한 스테이지 유닛(100)과 실질적으로 동일하므로 이에 대한 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
카드 장착부(250)는 스테이지 유닛(100)의 상부에 배치된다. 카드 장착 부(250)는 프로브 카드(300)를 홀딩한다. 프로브 카드(300)는 일반적으로 원형의 판 형상의 인쇄회로기판을 포함할 수 있다. 프로브 카드(300)는 그 바닥면에 형성된 프로브 팁이 척(110)을 향하도록 돌출되도록 배치될 수 있다. 프로브 카드(300)는 웨이퍼(W)에 형성된 복수의 반도체 칩들과 테스터를 전기적으로 연결시킨다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
이와 같은 프로브 스테이션용 스테이지 유닛에 따르면, 저온에서 고온으로 측정 조건이 변경될 경우 공급 라인에 잔류하는 냉각제를 기화시킴으로써 공급 라인의 압력을 증가시켜 공급 라인을 통하여 스테이지 내부로 액체 상태의 냉각제의 유입을 억제할 수 있다. 따라서 스테이지 내부에 온도 변화의 폭을 감소시켜 스테이지 온도를 균일하게 유지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로브 스테이션용 스테이지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 도1의 히팅 블록에 대한 시간에 따른 온도 변화를 도시한 그래프이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 검사 장치를 설명하기 위한 단면도이다.

Claims (6)

  1. 유로가 형성되고, 웨이퍼를 지지하는 척;
    상기 척의 내부로 냉각제가 유출입하여 상기 척을 제1 온도로 냉각시키기 위하여 상기 유로와 연결된 공급 라인과 배출 라인;
    상기 척을 가열시키기 위하여 상기 척의 내부에 배치된 가열부; 및
    상기 척에 인접하고 상기 공급 라인을 감싸며, 상기 가열부가 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 상기 척의 온도를 변환시킬 때 상기 공급 라인에 존재하는 상기 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록을 포함하는 프로브 스테이션용 스테이지 유닛.
  2. 제1항에 있어서, 상기 히팅 블록은,
    상기 척에 인접하여 배치되며, 상기 공급 라인을 감싸며 상기 공급 라인을 가열하는 가열 코일; 및
    상기 가열 코일 및 상기 공급 라인을 둘러싸며, 상기 가열 코일에서 발생한 열이 외부로 누출되는 것을 억제하는 차단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 스테이션용 스테이지 유닛.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2 온도로 상기 척을 가열시킬 때, 상기 히팅 블록을 제3 온도로 유지시킨 후 상기 제3 온도를 갖는 히팅 블록에 의한 열적 영향을 감소시키기 위하여 상기 제3 온도보다 낮은 제4 온도로 유지시키도록 상기 가열 코일의 온도를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 스테이션용 스테이지 유닛.
  4. 웨이퍼를 검사하는 검사 공간을 제공하는 챔버;
    유로가 형성되고 웨이퍼를 지지하는 척, 상기 척의 내부로 냉각제가 유출입하여 상기 척을 제1 온도로 냉각시키기 위하여 상기 유로와 연결된 공급 라인과 배출 라인과 상기 척을 가열시키기 위하여 상기 척의 내부에 배치된 가열부, 상기 척에 인접하고 상기 공급 라인을 감싸며, 상기 가열부가 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 상기 척의 온도를 변환시킬 때 상기 공급 라인에 존재하는 상기 냉각제를 가열하여 기화시키는 히팅 블록을 구비하는 스테이지 유닛; 및
    상기 스테이지 상에 장착된 상기 웨이퍼를 검사하기 위한 프로브 카드가 장착되는 카드 장착부를 포함하는 웨이퍼 검사 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 히팅 블록은,
    상기 척에 인접하여 배치되며, 상기 공급 라인을 감싸며 상기 공급 라인을 가열하는 가열 코일; 및
    상기 가열 코일 및 상기 공급 라인을 둘러싸는 블록부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 히팅 블록은,
    상기 제2 온도로 상기 척을 가열시킬 때, 상기 히팅 블록을 제3 온도로 유지시킨 후 상기 제3 온도를 갖는 히팅 블록에 의한 열적 영향을 감소시키기 위하여 상기 제3 온도보다 낮은 제4 온도로 유지시키도록 상기 가열 코일의 온도를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사 장치.
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