KR100993914B1

KR100993914B1 - 진공처리장치

Info

Publication number: KR100993914B1
Application number: KR1020080018874A
Authority: KR
Inventors: 미노루 야토미; 아키타카 마키노; 신고 기무라
Original assignee: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
Priority date: 2008-02-22
Filing date: 2008-02-29
Publication date: 2010-11-11
Also published as: JP2009200328A; US20090214399A1; JP5260981B2; KR20090090965A

Abstract

본 발명은, 메인티넌스나 점검의 작업을 저감하여 처리의 효율을 향상시킨 진공처리장치를 제공하는 것이다.

진공용기 내의 처리실 내에 배치한 시료를 이 처리실 내에 형성한 플라즈마를 사용하여 처리하는 진공처리장치로서, 앞 부분에 배치되어 대기압하에서 상기 시료를 반송하는 대기 반송실과, 이 대기 반송실의 뒤쪽에 배치되어 진공이 된 내부를 상기 시료가 반송되는 진공 반송실과, 이 진공 반송실과 상기 대기 반송실과의 사이에서 이들을 연결하는 잠금실과, 상기 진공 반송실의 주위에 이것과 연결되어 배치되어 상기 진공용기를 포함하는 복수의 진공처리 유닛과, 상기 진공 반송실 또는 잠금실의 아래 쪽 공간에 배치되어 이 공간의 주위에 배치된 상기 진공처리 유닛의 각각에 공급되는 상기 시료의 처리용인 복수 종류의 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량 조절기를 구비하였다.

Description

진공처리장치{VACUUM PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 안쪽이 감압되는 진공용기 내에 배치된 처리실 내부에 배치된 반도체 웨이퍼 등의 기판 형상의 시료를 처리하는 진공처리장치에 관한 것으로, 특히 그 주위에 복수의 진공용기가 연결되어 내부가 감압되고, 시료가 처리실과의 사이에서 반송되는 진공 반송용기를 구비한 진공처리장치에 관한 것이다.

상기한 바와 같은 진공처리장치, 특히 감압된 처리실 내에서 처리대상인 반도체 웨이퍼 등의 기판 형상의 시료를 처리실 내에 형성한 플라즈마를 사용하여 처리하는 반도체장치 진공처리장치에서는, 처리의 미세화, 정밀화와 함께 처리대상인 시료의 처리의 효율의 향상이 요구되어 왔었다. 이 때문에, 최근에는 하나의 장치에 진공용기를 복수 연결하여 복수의 처리실을 구비한, 이른바 멀티 챔버장치가 개발되어 왔었다. 이와 같은 복수의 처리실 또는 챔버를 구비하여 처리를 행하는 장치에서는, 각 처리실 또는 챔버가, 내부의 압력이 감압 가능하게 조절되어 이 내부에서 시료를 반송하기 위한 로봇 아암 등의 반송장치가 내부에 구비된 반송실(반송챔버)을 내부에 구비한 진공 반송용기에 접속되어 연결되어 있다.

이와 같은 구성의 장치를 이용함으로써, 하나의 진공처리장치에서 단위시간 당으로 처리되는 시료의 처리매수가 증대하고, 이와 같은 진공처리장치가 복수 설치되는 청정룸 등의 사용자의 건물의 설치 면적당의 생산성이 향상한다. 통상, 이와 같은 진공처리장치는, 청정룸 내부에서 카세트 등 시료를 수납한 용기가 로봇 등에 의하여 반송되는 소정의 직선형상의 통로의 폭방향의 끝에서 이 통로를 따라 나열되어 배치되어 있다. 하나의 통로를 따라 나열된 장치수가 증대할 수록 하나의 시설당의 단위 시간마다의 처리의 매수가 증대하여 효율이 증대한다.

이 때문에, 이와 같은 시설의 건물 내에 설치되는 진공처리장치에서는, 설치된 상태에서의 장치가 점유하는 크기를 작게 하는 것, 특히 장치가 설치된 상태에서의 장치의 상기 반송용 통로방향에 대한 폭이나 장치가 점유하는 건물의 바닥 면적을 작게 하는 것이 요구되고 있다. 또한, 이와 같은 장치는, 정기적으로 메인티넌스를 받을 필요가 있기 때문에, 메인티넌스의 스페이스도 확보할 필요가 있다. 이와 같은 메인티넌스용 스페이스로서, 통상은 장치 본체의 주위에 사용자나 메인티넌스 담당자가 보수용품이나 도구 등을 가지고 통행 가능하도록, 장치가 설치된 바닥면 위에 소정의 폭으로 바닥 및 그 위쪽의 공간은 물건이 배치되지 않고 여유가 취해져 있다. 이와 같은 진공처리장치의 종래의 기술의 일례는, 일본국 특개2005-101598호 공보(특허문헌 1)나 특표2001-509646호 공보(특허문헌 2)에 개시되어 있다.

특허문헌 1에서는, 반송용 용기의 주위에 배치된 진공용기를 포함하는 처리용 유닛이 평면형이 다각 형상인 반송용 용기의 각 변에 착탈 가능하게 연결되어 배치된 진공처리장치로서, 각 처리용 유닛은 상부를 구성하는 진공용기 및 플라즈 마형성을 위한 전계, 자계의 발생용 수단과 하부를 구성하여 진공용기 내에서의 시료의 처리를 행하기 위하여 필요한 전원이나 제어장치 등의 유틸리티를 수납하는 베드부를 구비하고 있다. 또, 특허문헌 2는 특허문헌 1과 마찬가지로 진공 반송용기의 주위에 배치되어 이것과 착탈 가능하게 연결된 복수의 처리모듈을 구비하여 각 처리모듈을 구성하는 진공용기인 처리챔버에 공급되는 가스나 물, 전력 등은 진공 반송용기의 옆 아래쪽에 배치된 분배기를 거쳐 배관, 케이블이 진공 반송용기의 바로 아래쪽 공간을 지나 처리모듈에 연결되어 공급되는 것이 개시되어 있다.

[특허문헌 1]

일본국 특개2005-101598호 공보

[특허문헌 2]

일본국 특표2001-509646호 공보

그러나, 상기 종래기술에서는, 다음과 같은 점에 대하여 고려가 부족하여 문제가 있었다.

즉, 상기 종래기술에서는, 각 처리용 유닛 또는 모듈에서 처리에 사용되는 복수 종류의 가스는, 분배기로부터 직접 처리용의 각 모듈과 연결되어 공급되거나(특허문헌 2), 또는 대기 반송용 용기의 배면측의 아래 쪽 층부터의 각 가스의 연결부를 거쳐 진공 반송용기 아래 쪽의 공간을 지나 각 처리 유닛끼리의 사이에 배치된 가스의 유량 속도 조절기(매스 플로우 컨트롤러, MFC)에 의하여 공급이 조절되어 각 처리유닛에 공급되는(특허문헌 1) 구성이다. 그러나 이와 같은 구성에서는 각 처리 유닛이나 모듈의 착탈을 전제로 하여 배관이나 케이블이 착탈되는 구성이어도, 공급되는 가스의 종류가 증대하는 경우에는, 이와 같은 보수, 메인티넌스나 점검시의 떼어냄 작업이나 설치 후의 조정의 작업이 매우 커지고, 장치의 비가동 시간이 길어져, 처리의 효율을 손상한다는 문제에 대해서는 충분히 고려되어 있지 않았다.

예를 들면, 최근의 반도체 웨이퍼의 에칭처리에서는, 처리의 효율을 향상시키기 위하여, 반도체 웨이퍼 상면의 상하에 적층된 복수층의 막이나 단일 재료의 막을 웨이퍼를 처리실 밖으로 반출하지 않고 처리에 사용되는 가스의 종류나 유량을 변화시켜 다른 조건으로 연속적으로 처리하는 것이 요구되고 있다. 이와 같은 처리를 실현하기 위하여 진공처리장치는 지금까지보다 많은 종류나 다른 유량의 가 스를 공급할 수 있는 것이 필요하게 되어, 각 처리모듈이나 유닛에 공급하기 위한 가스의 배관이나 라인의 수가 증대하고 있다. 이 때문에, 상기 가스의 분배기나 매스 플로우 컨트롤러(MFC)는 연결되는 배관, 라인에 맞추어 대형화되어 있고, 처리모듈이나 유닛의 장치 본체나 진공 반송용기와의 설치, 떼어냄, 이들의 접속이나 분리를 위한 작업의 양이 방대해져, 장치의 비가동 시간을 장기화하여 처리의 효율을 손상하고 있었다.

또, 이들 분배기나 MFC의 수납이나 배치 시의 점유면적이나 용적이 증대하여, 종래기술의 배치에서는 수납할 수 없었거나, 밀려 나오거나 하여 진공처리장치를 설치하였을 때의 점유면적이나 폭이 커져 버린다는 문제가 있다. 예를 들면 특허문헌 1에서는 각 처리유닛의 베드 내부 등, 처리유닛에 MFC를 탑재하거나, 에칭용 처리 유닛과 회화(灰化)(애싱)용 처리유닛의 사이에 MFC를 수납한 제어용 유닛을 배치하거나 하고 있으나, 베드 내에 MFC를 배치한 것에서는 베드마다 처리용 유닛을 착탈하는 경우에는 상기한 문제가 생긴다.

또, 제어용 유닛을 구비한 경우에도 카세트를 반송하는 통로를 따라 인접하여 배치된 진공처리장치끼리의 사이의 한정된 스페이스로 처리 유닛의 떼어냄이나 새로운 설치를 행하는 경우에 제어용 유닛을 떼어 내지 않으면 안되어, 마찬가지로 상기한 각 배관의 착탈의 작업이 커질 염려가 있다. 또한 베드 내에 MFC를 수납하는 것에서는 MFC의 용적의 증대를 위하여 베드의 용적이나 그 점유면적이 증대하거나 하여, 메인티넌스 공간이나 작업용 공간을 저감시킨다는 문제가 발생하고 있었다.

한편, 이와 같은 복수의 MFC 유닛이나 분배기를 처리용 모듈이나 유닛으로부터 격리된 부분에 배치하여, 각 처리유닛, 모듈에는 이것들로부터의 복수 종류의 가스를 혼합한 혼합가스를 공급하는 적은 수의 배관이나 라인으로 연결하는 것도 생각할 수 있으나, MFC와 처리실과의 거리가 커지면, 연속적인 처리시의 처리가스 등의 조건의 변경의 응답이 길게 걸려, 스루풋을 저감시켜 처리의 효율을 손상한다는 문제가 발생된다.

본 발명의 목적은, 메인티넌스나 점검의 작업을 저감하여 처리의 효율을 향상시킨 진공처리장치를 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 다른 목적은, 설치면적을 저감하여 처리의 효율을 향상시킨 진공처리장치를 제공하는 것에 있다. 본 발명의 또 다른 목적은, 스루풋을 향상하여 처리의 효율을 향상시킨 진공처리장치를 제공하는 것에 있다.

상기 목적은, 진공용기 내의 처리실 내에 배치한 시료를 이 처리실 내에 형성한 플라즈마를 이용하여 처리하는 진공처리장치로서, 앞 부분에 배치되어 대기압하에서 상기 시료를 반송하는 대기 반송실과, 이 대기 반송실의 뒤쪽에 배치되어 진공이 된 내부를 상기 시료가 반송되는 진공 반송실과, 이 진공 반송실과 상기 대기 반송실과의 사이에서 이들을 연결하는 잠금실(lock)과, 상기 진공 반송실의 주위에 이것과 연결되어 배치되어, 상기 진공용기를 포함하는 복수의 진공처리 유닛과, 상기 진공 반송실 또는 잠금실의 아래 쪽의 공간에 배치되어 이 공간의 주위에 배치된 상기 진공처리 유닛의 각각에 공급되는 상기 시료의 처리용의 복수 종류 의 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량 조절기를 구비한 진공처리장치에 의하여 달성된다.

또한, 상기 진공 반송실이 다각형의 평면형을 가진 용기 내에 배치되어 상기 용기의 다각형의 변을 구성하는 측벽에 상기 진공처리 유닛이 착탈 가능하게 연결된 것에 의하여 달성된다.

또한, 상기 대기 반송실의 뒤쪽의 상기 진공처리 유닛과 상기 대기 반송실과의 사이에 배치되어 상기 진공처리장치가 설치되는 바닥면의 아래 쪽에서 공급되는 복수의 가스용 배관과 연결되어 상기 복수의 유량 조절기의 각각에 상기 복수의 가스를 분배하는 분배기를 구비한 것에 의하여 달성된다.

또한, 복수의 상기 진공처리 유닛 내의 처리실의 중심이 상기 진공 반송실의 상하방향의 중심축의 주위에 이 진공 반송실의 둘레방향에 배치되고, 복수의 상기 유량 조절기가 대응하는 상기 진공처리 유닛의 둘레방향의 배치 위치의 순으로 상기 진공 반송실의 아래 쪽에서 상하방향의 축의 주위에 둘레방향으로 배치된 것에 의하여 달성된다.

또한, 상기 복수의 유량 조절기의 상면이 높이가 같은 평면으로 구성되고, 상기 진공 반송실과 상기 복수의 유량 조절기와의 사이에 작업자가 작업할 수 있는 공간이 배치된 것에 의하여 달성된다.
또한, 본원 발명의 목적은, 진공용기 내의 처리실 내에 배치한 시료를, 상기 처리실 내에 형성한 플라즈마를 사용하여 처리하는 진공처리장치로서, 앞 부분에 배치되어 대기압하에서 상기 시료를 반송하는 대기 반송실과, 상기 대기 반송실의 뒤쪽에 배치되고 내부가 진공이 되어 상기 시료가 반송되는 진공 반송실이 배치되며 평면 형상이 다각형인 진공 반송 용기와, 상기 진공 반송실과, 상기 대기 반송실의 사이에서 이들을 연결하는 잠금실과, 상기 진공 반송실의 수평방향의 주위에 상기 진공 반송실과 착탈 가능하게 연결되어 배치되며 상기 진공용기를 포함하여 구성된 복수 대의 진공처리 유닛과, 이들 진공처리 유닛의 각각에 상기 시료를 처리하기 위하여 공급되는 복수 종류의 가스의 유량을 조절하는 복수 대의 유량 조절 유닛을 구비한 진공처리장치에 있어서, 상기 대기 반송실의 뒤쪽이고 상기 대기 반송실과 상기 진공처리 유닛과의 사이로서 이 진공처리장치가 설치되는 바닥면 위에 배치되어 이 바닥면의 아래쪽으로부터 공급되는 복수 종류의 가스의 배관과 연결되고 이들 가스의 각각을 상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각에 분배하는 분배기와, 상기 분배기와 상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각과의 사이에서 분기하되 이들과 연결되어 상기 복수 종류의 가스 각각을 상기 복수대의 유량 조절 유닛에 공급하는 분기 배관과, 상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각과 상기 복수 대의 진공처리 유닛을 연결하여 배치되어 상기 복수 종류의 가스가 합류하여 이들 진공처리 유닛의 각각에 공급되는 합류 배관을 가지고, 상기 유량 조절 유닛의 각각은, 내부에 수평방향으로 병렬로 배치되어 연결된 상기 분기 배관의 각각의 라인과 이들 각각의 라인 상에 배치되어 각각을 흐르는 상기 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량 조절기를 구비한 박스체가 상기 진공 반송 용기와 상기 바닥면과의 사이의 공간의 하부에 수평방향으로 병렬로 배치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치에 의해 달성될 수도 있다.
여기서, 상기 진공 반송 용기의 상기 다각형의 변을 구성하는 측벽에 상기 진공 처리 유닛이 연결되는 것이 바람직하다.
더욱 바람직하게는, 상기 복수의 진공 처리 유닛 내의 처리실의 상하방향의 중심축이 상기 진공 반송실의 상하방향의 중심축의 주위에 상기 진공 반송실의 둘레방향으로 배치되고, 상기 복수의 유량 조절 유닛이 대응하는 상기 진공 처리 유닛의 둘레방향의 배치 위치의 순으로 상기 진공 반송 용기의 아래쪽에서 상하방향의 축의 주위에 둘레방향으로 배치된다.
더욱 바람직하게는, 상기 복수의 유량 조절 유닛의 상면이 동일한 높이의 평면으로 구성되고, 상기 진공 반송 용기와 상기 복수의 유량 조절 유닛의 사이에 작업자가 작업할 수 있는 공간이 배치된다.

본 발명의 실시형태에 대하여, 도면을 인용하여 이하에 설명한다.

(실시예 1)

도 1은, 본 발명의 실시예에 관한 진공처리장치의 전체 구성의 개략을 나타내는 평면도로서, 위쪽에서 본 도면이다. 도 2는, 도 1에 나타내는 실시예에 관한 진공처리장치를 옆쪽에서 본 측면도이다. 본 실시예에서, 도 1의 도면상 아래쪽인 진공처리장치(100)의 앞쪽측에 배치된 대기측 블럭(101)은, 대기압하에서 웨이퍼를 반송, 수납, 위치결정 등의 처리를 하는 부분이며, 뒤쪽측의 진공측 블럭(102)은, 대기압으로부터 감압된 압력하에서 웨이퍼를 반송, 처리 등을 행하여 웨이퍼를 탑재한 상태에서 압력을 상하시킴과 동시에 웨이퍼의 처리를 행하는 처리용 블럭이다.

뒤에서 설명하는 바와 같이, 본 실시예에서는 진공처리장치(100)의 전면측의 대기측 블럭(101)에 배치된 박스체(108)는, 처리유닛(104)과 동일한 진공처리장치(100)의 앞쪽측에서 보아 수평방향에 대하여 좌측으로 치우친 배치로 되어 있다. 진공측 블럭(102)에서는, 그 평면형이 다각 형상 또는 이것이라고 간주할 수 있을 정도의 곡면 또는 평면의 조합으로 구성된 대략 다각 형상의 진공 반송용기(110)를 구비한 반송유닛(105)의 주위에 복수의 처리유닛(103a, 103b, 103c, 104)이 배치되고, 이들 처리유닛(103a, 103b, 103c, 104)은 진공 반송용기(110)의 다각형의 각 변에 연결되어 각 처리유닛 내에 배치되어 플라즈마가 형성되는 공간인 처리실 내와 반송유닛(105)의 용기의 내부가 연통하는 구성이 실현되어 있다. 한편으로, 반송유닛(105)은 도면상 아래쪽의 단부에서 대기측 블럭(101)의 배면부와 연결되어 처리용 웨이퍼가 반송되는 대기측과 처리가 행하여지는 진공측이 연결되어 웨이퍼를 양자 사이에서 수수 가능하게 되어 있다.

대기측 블럭(101)은, 내부에 대기압하에서 웨이퍼를 반송하기 위한 공간인 대기 반송실을 구비한 박스체(108)와 그 도면상 아래쪽인 진공처리장치(100)의 앞쪽측의 웨이퍼를 내부에 수납한 카세트를 반송하기 위한 통로에 면하는 앞면측에 카세트를 탑재하기 위한 복수(본 실시예에서는 3대)의 카세트대(109)를 구비하고 있다. 박스체(108)는, 그 내부의 대기 반송실은 카세트대(109)의 나열(통로를 따른 방향)을 따라 웨이퍼 반송용 로봇이 이동 가능하게 된 공간이고, 이 공간은 3대의 카세트대(109)의 폭과 동일하거나, 이것 이상의 좌우방향의 폭을 구비하고 있다. 또, 도면상 좌단부에는, 도시 생략한 웨이퍼의 중심위치를 조절하기 위한 위치맞춤장치가 배치되어 있다.

각 처리유닛(103a, 103b, 103c, 104)은, 뒤에서 설명하는 바와 같이 위쪽의 진공용기를 중심으로 하는 부분과 아래쪽에 배치되어 진공용기 내의 처리실에서의 처리에 요하는 전원이나 제어장치 등을 수납하는 베드부를 구비하고, 각각의 베드부를 구성하는 베드(106a, 106b, 106c, 107)도 진공 반송용기(110)의 주위에 배치되어 있다.

상기한 바와 같이, 내부에 배치된 감압되는 반송실(112)을 가지고 반송유닛(105)을 구성하는 진공용기인 진공 반송용기(110)와 대기측 블럭(101)의 배면과의 사이에는, 이들을 접속하여 이들 사이에서 웨이퍼를 수수하는 잠금실(113, 113')이 배치되어 있다. 이들 잠금실(113 또는 113')은, 그 안쪽이 감압된 진공 반송용기(110) 내의 반송실(112) 내부에 배치된 로봇 아암(도시 생략)에 탑재되어 반송되어 온 웨이퍼가 설치된 후, 안쪽이 대기압까지 승압되어 대기측 블럭(101)을 구성하는 박스체(108) 내의 공간에 배치된 다른 로봇 아암(도시 생략)에 탑재되어 대기측 블럭(101)측으로 인출된다. 이 인출된 웨이퍼는, 상기 카세트대(109) 내의 원래의 위치로 되돌아가거나, 이것들중, 어느 하나의 카세트로 되돌아간다. 또는 이들 카세트대(109) 중 어느 하나로부터 상기 로봇 아암에 의하여 인출된 웨이퍼가 외기압에 설정된 잠금실(113 또는 113') 내에 설치된 후, 내부가 감압되어 마찬가지로 감압된 반송실(112) 내의 로봇 아암에 탑재되어 반송실(112) 내를 지나, 상기 처리유닛(103a∼103c) 또는 처리유닛(104) 중의 어느 하나에 반송된다.

상기 작동을 행하기 위하여, 잠금실(113 또는 113')에는, 대기측 블럭(101)과 반송유닛의 반송실과의 사이를 접속하여, 이 안쪽에 반송되는 웨이퍼가 탑재된 상태에서, 내부의 압력을 상승 또는 감소시키고, 이것을 유지하는 가스배기장치와 가스공급장치가 접속되어 있다. 이 때문에, 이 잠금실(113 또는 113')은, 그 전후에 개방 또는 폐쇄되어 내부를 밀봉하는 게이트 밸브(도시 생략)가 배치되어 있다. 또한 이들 안쪽에는 웨이퍼가 탑재되는 테이블을 배치하고 있어 웨이퍼가 내부의 압력의 상승, 하강시에 이동하지 않도록 고정하는 수단을 구비하고 있다. 즉, 이들 잠금실(113, 113')은, 안쪽에 웨이퍼를 탑재한 상태에서, 형성되는 내외의 압력차에 견디어 시일하는 수단을 구비한 구성으로 되어 있다.

반송유닛(105)은, 안쪽이 감압되어 각 처리유닛(103a∼103c, 104)과 잠금실(113)과의 사이에서 웨이퍼를 반송하는 로봇 아암(도시 생략)이 내부에 배치된 반송실(112)과, 상기한 잠금실(113, 113')로 구성되어 있다. 또한 본 실시예에서는, 웨이퍼를 반송하는 로봇 아암(도시 생략)을 반송실(112) 내부하여 배치하여 반 송실(112)의 주위에 배치한 4대의 처리유닛과 대기측 블럭(101)과의 사이에서 시료를 수수한다.

또, 상기한 바와 같이 본 실시예에서는, 처리유닛(103a∼103c 및 104)은, 에칭처리유닛 3개와 애싱 처리 유닛 하나로 이루어지고, 이들 유닛은, 반송유닛(105)의 반송실(112)의 각 측면에 각각의 진공용기가 착탈 가능하게 연결하여 구비되어 있다. 반송실(112)을 구성하는 진공용기는, 그 평면형이 5각 또는 6각형의 형상을 구비하고, 도면상 아래쪽의 진공처리장치(100)의 앞면측에서 보아 좌우단의 변을 구성하는 측면은, 도면상 상하방향에서 반송실(112) 내의 중심을 지나는 진공처리장치(100)의 전후방향의 축에 등거리의 평행한 대칭의 바닥에 수직한 면으로 되어 있다. 또, 도면상 위쪽의 뒤쪽측 변인 2개의 측면은 전후방향의 축에 소정의 각도를 가지고 대칭으로 배치된 수직한 면으로 되어 있다.

반송실(112)은, 에칭용 처리유닛(103a∼103c)의 3개는, 반송실(112)의 안 길이측의 2개의 변에 상당하는 대칭인 측면과 상면에서 보아 우단의 변에 상당하는 측면에 착탈 가능하게 접속되고, 애싱용 처리 유닛(104)의 하나는 좌단의 측면에 접속되고, 또한 반송실(112)의 남는 변에 잠금실(113, 113')이 접속되어 있다. 즉, 본 실시예에서는, 평면형이 다각형의 반송실(112)의 주위에 그 변에 대하여 3개의 에칭 처리실과 하나의 애싱 처리실이 반송실(112)의 주위에 방사상으로 배치되어 있다.

또, 본 실시예는 이들 반송유닛(105)에 접속된 처리유닛(103 및 104)은, 이 반송유닛(105)에 대하여 착탈 가능하게 구성되어 있음과 동시에, 반송유닛(105)에 서 잠금실(113, 113')과 반송실(112)은, 착탈 가능하게 구성되어 접속되어 있다. 또한 처리유닛(103a∼103c)의 각각은, 진공처리장치(100) 본체에 장착된 상태에서, 상기 반송실(112)의 중심에 대하여 동일한 형상 또는 이것에 장착되는 기기가 동일한 배치의 유닛으로 되어 있다. 각 처리유닛(103a∼103c)은, 진공용기와 이 내부의 처리실 내에 배치된 웨이퍼가 탑재되는 시료대를 가지고, 그 중심이 반송실(112) 내에 배치되어 도시 생략한 아래쪽의 구동장치에 의하여 구동되어 회전하여 신축하여 웨이퍼를 반송하는 로봇의 회전의 중심(도면상 파선 교점)을 지나는 상하(바닥면에 수직한)방향을 지나는 축에 대하여 등거리가 되도록 배치되어 있다. 애싱용 처리유닛(104)도 진공용기, 처리실, 시료대를 마찬가지로 구비하여 배치되어 있다.

본 실시예에서, 이들 처리유닛(103a∼103c 및 104)과, 반송유닛(105)을 포함하여 구성되는 진공측 블럭(102)은, 크게 상하의 부분으로 나뉘어진다. 이들은, 각각 그 안쪽이 감압되어 피처리 대상의 시료인 반도체제의 웨이퍼가 처리되는 챔버부과 이 챔버부의 아래쪽에 배치되어 이것을 지지하고 있고, 이들 챔버부에 필요한 기기가 안쪽에 배치되는 베드(106)를 포함하여 진공처리장치(100)가 설치되는 실내의 바닥 위에 배치되는 베드부로 나뉘어진다.

각 처리유닛(103a∼103c, 104)의 베드부의 베드(106)는, 박스형의 대략 직육면체 형상을 가지고, 그 위쪽의 챔버부에 필요한 유틸리티, 제어기를 내부에 수납한다. 베드(106)를 내부에 포함하는 베드 프레임은, 베드(106)가 수납된 프레임체이고, 그 위쪽에 배치된 챔버부를 지지하는 강도를 가진 빔을 가지는 박스체로서, 그 바깥쪽에 베드(106)를 덮는 플레이트가 배치되어 있다. 유틸리티는, 예를 들면 각 센서 등에 전력을 공급하기 위한 전원, 각 처리유닛에 입출력되는 신호를 수수하여 이것을 조절하기 위한 신호 인터페이스, 이것들의 동작을 조절하는 제어장치 등을 들 수 있다.

또한, 대기측 블럭(101)의 뒤쪽에서, 진공측 블럭(102)의 반송실(112)과의 사이에는 잠금실(113)이 배치되어 있으나, 베드(106) 또는 각 베드와의 사이에 간극이 형성되어 있다. 이 대기측 블럭(101)의 배면측은, 진공측 블럭(102)에 공급되는 가스, 냉매, 전원 등의 공급로로 되어 있다.

즉, 이와 같은 진공처리장치(100)가 설치되는 장소는, 전형적으로는 청정룸과 같은 공기가 정화되는 실내이나, 복수의 장치를 설치하는 경우에는, 진공처리장치(100)에 공급되는 각종 가스, 냉매, 전원은, 다른 부분에, 예를 들면 장치 본체를 설치하는 바닥 밑의 아래쪽 플로어 등의 다른 계층에 한데 모아 배치하여 각 장치 본체에 관로를 부설하여 공급되는 경우가 일반적이다. 본 실시예는, 다른 부분으로부터의 가스나 냉매의 관로, 또는 전원으로부터의 전선이라는 상기 유틸리티의 공급라인의 바닥 위의 진공처리장치(100) 본체측과의 접속 인터페이스(201)가 대기측 블럭의 배면과 처리유닛(103c)과의 사이의 공간으로서, 그 바닥 위에 배치되어 있다.

이 접속 인터페이스(201)는, 다른 부분으로부터의 유틸리티의 공급라인이 한쪽에 접속되고, 다른쪽에는 각 처리유닛(103a∼103c, 104) 및 반송실(112)에 대하여 분배되어 연장되는 이들 유틸리티의 라인이 접속되어 있는 분배기로서 기능하고 있다. 이 분배기인 접속 인터페이스(201)에는, 각 유틸리티의 공급량이나 속도를 표시하는 표시장치와 함께 공급을 조절하는 조절기가 구비되어 있고, 이 때문에 대기측 블럭(101)의 배면측의 작업이 용이한 여유가 있는 공간에서 사용자가 이들 유틸리티의 공급의 보수, 점검, 조절을 한데 모아 용이하게 행할 수 있다.

본 실시예의 진공처리장치(100)는, 박스체(108)의 도면상 아래쪽 앞면측의 측면의 좌단 아래 쪽의, 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥면 위에 투영된 위치를 기준위치로 하여 사용자의 건물의 바닥면 위에 설치된다. 또한, 이 기준위치 위를 지나는 전후방향의 바닥면에 수직한 면의 바닥면과 교차하는 선인 라인 A는, 처리유닛(104)의 앞쪽에서 본 좌단과 일치하고 있다. 이 처리유닛(104)의 좌단은, 진공처리장치(100) 자체의 좌단으로서, 이 좌단의 위치가 진공처리장치(100) 본체의 설치의 기준위치 위를 지나는 전후방향의 라인 A 위에 위치하고 있고, 라인 A가 진공처리장치(100)가 설치된 바닥면 위의 영역의 좌단을 나타내는 선으로 되어 있다.

이와 같이, 본 실시예는, 박스체(108)의 좌단면과 진공처리장치(100) 본체의 좌단인 처리유닛(104)의 좌단이 일치하고 있으나, 기준위치와 처리유닛(104)의 좌단[진공처리장치(100)의 좌단]의 좌우방향(수평방향)의 거리를 알고 있으면, 박스체(108)의 좌단(기준위치)을 처리유닛(104)의 좌단[진공처리장치(100)의 좌단]보다 우측에 배치하여도 된다. 이와 같은 배치는, 진공처리장치(100)가 설치된 상태에서의 바닥면을 점유하는 면적을 저감한다.

또, 본 실시예에서는 박스체(108)의 카세트의 반송통로에 면하여 이 반송방향으로 평행하게 배치된 앞면측의 측면에는, 카세트대(109)가 3개 배치되어 있다. 이 카세트대(109)의 각각의 위에는, 통상 반도체장치 등의 제품을 제조하기 위하여 처리되는 제품용 웨이퍼의 복수매를 가지는 적어도 하나의 로트가 수납된 카세트가 탑재된다.

박스체(108)의 우단인 수직한 측면을 지나는 진공처리장치(100)의 전후축에 평행하고 수직한 면이 바닥 위에 투영되는 선인 라인 B는, 반송실(112)의 우단 측면에 연결된 처리유닛(103c)이 위쪽을 덮는 바닥면을 지나, 그 뒤쪽의 처리유닛(103b)이 점유하는 바닥면을 통과한다. 즉, 라인 B의 위치는, 이들 처리유닛(103b, 103c)이 설치된 바닥면 위의 영역과 겹쳐져 있다. 또한 연결된 상태에서 처리유닛(103c)의 우단[본 실시예에서는 처리유닛(103c)의 진공용기의 좌단과 아래쪽 베드(106c)의 좌단이 일치하고 있다]을 지나, 상기 전후축에 평행한 수직한 면은, 박스체(108)의 우측에 위치하고 있다. 이 면이 바닥면과 교차하는 선인 라인은, 진공처리장치(100)의 바닥면 위에서의 설치되는 영역의 우단을 나타내고 있다.

본 실시예의 진공처리장치(100)는, 박스체(108) 앞쪽의 카세트가 반송되는 통로의 반송경로에 평행하게, 다른 처리장치와 인접하여 설치된다. 인접하는 처리장치도 마찬가지로 앞쪽측의 반송경로에 평행하게 배치되고, 통상은 박스체(108)의 박스체의 앞면의 위치가 상기 반송경로에 평행한 선상에 일치하도록 설치된다.

이 때에 인접하는 장치에도 좌단인 라인 A'가 존재하고, 도 1의 진공처리장치(100)의 좌단과의 사이는, 사용자가 인접하는 2개의 장치 중 어느 하나의 메인티넌스나 점검을 위하여 통행 가능한 공간이 바닥 위에 설치되어 있다. 마찬가지로 처리 유닛(103a, 103b)의 도면상 위쪽의 진공처리장치(100)의 안 길이방향 선단의 더욱 뒤쪽 공간도, 마찬가지로 메인티넌스 점검을 위하여 사용되는 공간으로 되어 있다. 즉, 도 1의 일점 파선과 2점 파선과의 사이의 영역에서 표시되는 바닥면과 그 위쪽의 공간은, 사용자가 진공처리장치(100)의 사용시에 이용할 수 있는 여유공간으로서, 진공처리장치(100)의 설치시에 그 바닥면 위에 인접하는 장치끼리의 사이에 배치된다. 이 공간은, 예를 들면 사용자가 차륜이 있는 웨건 등의 운반기에 메인티넌스용품을 탑재하여 통행하거나, 작업자가 각 처리유닛(103a, 103b, 103c, 104)에 대하여 실제로 작업을 행하는 경우의 작업용 공간으로 되어 있다.

본 실시예에서는, 각 처리유닛(103a∼103c, 104)은, 적어도 하나의 유닛은, 다른 유닛이 반송실(112)에 연결되어 동작 중에, 반송실(112)과 착탈 가능하게 연결되어 있다. 이와 같은 처리유닛(103b, 103c)은, 진공처리장치(100) 본체와 함께 바닥면에 설치된 후에 본체로부터 떼어내져 교환되거나, 본체가 이것들 중, 어느 하나의 처리유닛을 연결하지 않은 상태에서 바닥면에 설치된 후에, 본체에 새롭게 연결, 장착되는 경우가 있다. 이와 같은 경우에, MFC의 유닛이나 대기측 블럭(101)을 이동시키거나 진공처리장치(100)의 본체를 이동시키거나 하면 유닛의 설치작업에 큰 시간이 필요하게 되어, 장치의 처리의 효율이 저하한다.

이 때문에, 진공처리실(100) 주위의 상기 공간은, 처리유닛(103a∼103c)의 착탈이나 메인티넌스, 점검을 용이하게 행할 수 있도록 설치될 필요가 있다. 한편으로, 사용자가 제조하는 반도체장치의 제조의 효율을 향상하는 데에서는, 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥면에서 실질적으로 점유하는 영역의 낭비를 억제하여 그 면적을 작게 하는 것이 요구된다.

본 실시예에서는, 박스체(108)의 위치는, 상기한 과제를 고려하여 배치되어 있고, 진공처리장치(100)가 설치된 바닥면에서의 이 장치가 실질적으로 점유하는 영역의 낭비를 억제할 수 있도록 구성되어 있다. 상기한 바와 같이 장치는 통상 카세트 반송용 통로를 따라 가로로 나란히 설치되나, 이 장치 사이의 간격이 작을 수록 하나의 청정룸 등의 건물 내의 설치 가능한 장치수가 증대하고, 사용자의 제조효율이 향상하여 제조비용이 저감된다. 이와 같은 장치가 설치되었을 때에 요하는 영역은, 반송경로를 따른 가로방향의 폭과 경로에 수직한 안 길이방향으로 생각되고, 도 1에 나타내는 본 실시예에 의하여 설치에 요하는 실질적으로 쓸데 없는 공간이 저감된다. 또, 사용자에 따라 필요하게 되는 처리가 다르고, 그 유닛의 수도 다르나, 유닛이 3개뿐인 경우, 또는 2개뿐인 경우에도, 장치의 가로 폭은 우단에 위치하는 처리유닛(103c, 103b)을 구성하는 해당하는 부분과 장치의 좌단과의 사이의 거리가 되어, 처리용 유닛의 수의 감소에 따라 장치의 가로 폭이 저감된다.

또, 도 2에 나타내는 바와 같이, 반송실(112)을 구성하는 진공 반송용기(110)의 상부에는, 박스체(108)의 배면의 근방에 배치된 힌지를 중심으로 회동하여 진공용기를 개폐 가능한 덮개(202)가 구비되어 있다. 이 회동은, 잠금실(113, 113')과 박스체(108) 배면과의 연결부의 근방이고 잠금실(113, 113') 위쪽에서 이것들의 사이에 위치하는 힌지를 축으로 도시 생략한 기중장치에 의하여 행하여진다. 덮개(202)의 안쪽(도면상 아래쪽) 면에는 진공 반송용기(110)의 본체와 맞닿아 반송실(112) 내를 기밀하게 봉지하는 시일이 다각형의 덮개(202) 형상에 맞추어 배치되어 있다. 또한, 본 도면에서는 이들 설명을 위하여 처리유닛(103c)은 생략 하여 나타내고 있다.

또, 처리유닛(103a∼103c)은, 베드(106a∼106c) 위쪽의 평면상에 배치된 복수의 기둥 형상의 지지부재(205)가 연결되어, 이 위에 탑재되는 챔버부(106a'∼106c')를 지지하고 있고, 챔버부(106a'∼106c')와 베드(106a∼106c)와의 사이의 공간에는, 내부의 처리실을 배기하여 감압하기 위한 터보 분자 펌프 등의 진공펌프를 포함하는 배기장치(204a∼204c)가 챔버부(106a'∼106c')의 진공용기의 바닥면에 접속되어 배치되어 있다.

베드(106a∼106c)의 각각의 상면은 평면 형상이 된 판부재로 구성되고, 베드(106a∼106c) 상면을 구성하는 판부재 위에 작업자가 올라가 처리유닛(103a∼103c)이나 진공 반송용기(110)에 작업을 실시할 수 있다. 이 때문에, 베드(106a∼106c)는 작업자의 중량을 지지할 수 있는 구조체로 되어 있다. 또한, 도 3의 파선에도 나타내는 바와 같이, 이들 처리유닛의 베드끼리의 사이는, 상기 작업자가 들어 와 작업을 행할 수 있는 공간이고, 이 때문에 베드(106a∼106c)는 그 상면의 높이가 동일해져 이것들의 사이에 상면의 높이가 같아진 판부재를 가지는 착탈 가능한 테이블이 배치되어 베드(106a∼106c)끼리의 사이를 연결하고 있다. 처리 유닛(104)에 대해서도 동일한 구성으로 되어 있다.

즉, 본 실시예에서는 진공반송용기(110)의 주위는, 그 주위에 배치된 처리유닛(103a∼103c, 104)의 아래쪽의 상면의 높이가 같아진 판 형상의 부재로 둘러 싸여 있다. 이 높이의 동일 평면을 작업자가 작업할 수 있는 테이블로서 사용할 수 있다.

박스체(108)의 내부는, 그 하부는 앞면측에 배치된 카세트대(109)에 탑재되는 카세트 내부와 연통한 공간으로서 내부에 배치된 대기압하에서의 웨이퍼 반송용 대기 반송로봇(207)이 카세트대(109)의 나열을 따라 구동되는 대기 반송실로 되어 있다. 한편, 상부는, 이 대기 반송로봇(207)이나 진공 반송용기(110) 내의 진공 반송용 로봇이나 진공 반송용기(110)의 반송실(112)을 포함하는 반송유닛(105)의 동작을 조절하는 제어장치가 수납되는 공간으로 되어 있다. 또, 진공 반송용기(110)의 아래쪽에는, 이것을 바닥면상에서 지지하기 위한 박스형상으로 빔을 조합시킨 구조체인 프레임(201)이 배치되어 있고, 프레임(201)은 바닥면과 진공 반송용기(110)의 하면에 연결되어 양자를 결합하고 있다. 뒤에서 설명하는 바와 같이 이 프레임(201)의 안쪽인 진공 반송용기(110)와 바닥면과의 사이에 존재하는 공간은 진공처리장치(100)의 동작에 사용되는 기기의 설치 스페이스로 되어 있음과 동시에 메인티넌스나 점검에 이용되는 공간(206)을 포함하고 있다.

도 3은, 도 1에 나타내는 본 실시예에 관한 반송실 아래 쪽에 탑재되는 MFC 유닛 및 처리유닛의 배치를 나타내는 평면도이다. 반송유닛(105)을 구성하는 반송실(112) 또는 잠금실(113, 113') 아래 쪽의 공간에 각 처리유닛(103a, 103b, 103c) 내에 배치된 에칭처리실(301, 302, 303)에 공급되는 처리가스의 공급의 조절을 행하는 유량의 제어장치인 매스플로우컨트롤러(MFC) 유닛(304, 30, 306)의 3개가 배치되어 있다. 각 에칭처리실(301, 302, 303)과 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 버퍼실 주위에 시계방향으로 배치되어 있다. 또, MFC 유닛(304와 306)이 도면상 아래쪽에 병렬에 배치되고, MFC 유닛(305)이 도면상 위쪽에서 직교 배치되어 있다.

본 실시예의 MFC 유닛(304, 305, 306)은 직육면체의 박스 형상을 구비하고, 내부에 16개의 가스를 공급하기 위한 배관 또는 라인이 병렬로 배치되어 있다. 가스가 통류하는 각 라인은 유로의 차단, 개방하는 밸브나 단위 시간당의 유량을 원하는 값으로 증감하여 조절하는 유량 조절기, 이들 동작을 진공처리장치(100) 본체에 배치된 제어장치로부터의 지령에 따라 조절하는 제어기 등을 구비하고 있다. 이 때문에 각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 박스 형상의 측면에 16개의 가스공급관이 접속되고, 다른 측면에서 내부의 각 라인이 합류한 하나의 처리실용 가스공급 배관(309, 310, 311)이 연결되어 처리유닛(103a, 103b, 103c)까지 연장하여 이것과 접속되어 있다.

각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 각각이 대응하여 가스를 공급하는 에칭처리실(301, 302, 303)의 진공 반송용기(110)의 주위에서의 배치되는 위치에 따라, 반송실(112) 아래 쪽에서 바닥방향으로 병렬로 배치되어 있다. 즉, 처리유닛(103a, 103b, 103c) 및 이것에 내포되는 에칭처리실(301, 302, 303)은, 도면상 진공 반송용기(110)의 중심(진공 반송용 로봇의 회전중심)인 파선의 교점의 주위에서, 내부에 배치된 시료대의 중심위치가 등거리가 되도록, 도면상 중심의 시계방향으로 방사상으로 배치되어 있다. 한편, 각 MFC 유닛(304, 305, 306)도, 반송유닛(105)의 아래 쪽에서 상기 축에 대하여 방사상으로 배치되어 있고, 그 시계회전방향에 대한 위치 또는 순서는, 처리유닛(103a∼103c) 또는 에칭처리실(301, 302, 303)의 줄과 일치시켜 배치되어 있다.

또한, 각 MFC 유닛(304, 305, 306)으로부터의 처리실용 가스공급배관(309, 310, 311)의 길이가 대략 같아지도록 배치되어 있다. 각 에칭처리실(301, 302, 303)에 대한 처리용 가스의 공급경로의 길이의 차이가 작아짐으로써, 각 에칭처리실(301, 302, 303)에서의 처리의 특성의 차이가 저감되어, 소위 기차(機差)가 억제된다. 또 MFC 유닛(304, 305, 306)이, 각 에칭처리실(301, 302, 303)에 근접하여 배치됨으로써 MFC 유닛(304, 305, 306)에 의한 가스의 유량의 조절이 단시간으로 각 에칭처리실(301, 302, 303) 내에서의 유량에 반영되고, 처리의 응답성이 향상하여 스루풋이 향상한다.

또, 각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 진공 반송용기(110) 또는 이 아래쪽 프레임(201)의 주위에 배치된 직육면체 형상 또는 실질적으로 이것이라고 간주할 수 있을 정도로 곡면, 평면으로 구성된 박스 형상의 베드(106a∼106c, 107)의 상기 진공 반송용기(110)의 중심을 지나는 상하의 축에 대향한 면이, MFC 유닛(301, 302, 303)에 의하여 덮여지지 않게 배치되어 있다. 이것은 베드(106a∼106c, 107)의 상기 중심측에 대향하는 측면에 내부의 유틸리티와 진공 반송용기(110) 아래쪽의 공간에 배치된 유틸리티와 연결되는 배관, 케이블과의 접속 인터페이스가 배치되어 있고, 처리유닛(103a∼103c, 104)의 어느 하나를 착탈할 때에 이 접속 인터페이스의 작업을 요하기 때문에, MFC 유닛의 배치에 의하여 접속 인터페이스에의 작업의 공간이 작아져 작업의 효율이 손상되지 않게 할 필요가 있기 때문이다. 또한, 본 실시예에서는, 접속 인터페이스와 접속되는 배관이나 케이블 등의 라인은, MFC 유닛(304, 305, 306)이 배치된 영역의 바깥 둘레측을 지나도록 배치되고, 이들의 배치, 착탈이라는 작업을 용이하게 행할 수 있게 구성되어 있다.

각 MFC 유닛(304, 305, 306)에 상기 16계통의 가스를 분배하여 공급하기 위한 가스 분배기(307)가, 박스체(108)와 처리유닛(103c)과의 사이에서 진공 반송용기(100)의 도면상 우측의 바닥면 위에 배치되어 있다. 가스 분배기(307)는, 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥면의 아래 쪽 층으로부터 소정의 배관 등의 경로로 공급되는 16개의 가스를 받는 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥면상에서의 부분이고, 복수의 가스가 각 MFC 유닛(304, 305, 306)으로 분기되어 공급되는 부분이다.

가스분배기(307)에서는, 층 아래로부터의 16개 가스의 배관이 각 MFC 유닛(304, 305, 306)을 향하는 가스의 배관과 접속됨과 동시에, 이들 중의 가스의 통류를 차단, 개방하는 밸브가 각각의 경로 위에 배치되어 있다. 가스분배기(307)로부터의 16개의 가스의 관로는, 각 MFC 유닛(304, 305, 306)의 측벽의 사이가 마주 보는 측면끼리의 사이의 공간에 배치되고, 각각의 MFC 유닛에 분기하여 연결된다.

가스분배기(307)는, 처리유닛(103c)의 앞면 측면과 박스체(108)의 배면과의 사이에서 바닥면 위에 설치되어 있고, 바닥면의 상면은, 베드(106c)와 동일한 높이로 배치되는 도시 생략한 평판상의 판부재를 가지는 착탈 가능한 테이블로 덮여진다. 이 판부재에 의하여 처리유닛(103c)의 앞면 측면과 박스체(108)의 배면과의 사이의 바닥면 위쪽 공간에 덮여져, 그 위의 작업자를 지지하여 작업자가 오르 내릴 수 있는 작업용 공간으로서 이용된다. 특히, 진공 반송용기(110) 아래쪽에는, 공간은 MFC 유닛(304, 305, 306)이 배치될 뿐만 아니라, 처리유닛(103a∼103c, 104)에 대하여, 특히 베드(106a∼106c, 107)에 메인티넌스나 점검의 작업을 행하는 공간이고, 이 공간에 대하여 이동함에 있어서, 바닥면 위의 상기 판부재는 상면을 작업자가 용이하게 이동할 수 있는 통로를 형성할 수 있다.

도 4는, 도 3에 나타내는 MFC 유닛의 배치를 상세하게 나타내는 도면이다. 도 4(a)는 상면도, 도 4(b)는 측면도를 나타낸다. 이 도 4에서 직육면체의 박스 형상을 가지는 각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 프레임(201) 위쪽에서 인접하여 이것에 탑재되어 유지되어 있다. 이들 박스의 측면끼리의 사이의 공간에는, MFC 유닛(304, 305)에 대하여 가스분배기(307)로부터 연장되는 16개의 가스공급용 배관(401)이 병렬로 배치되어 있다.

각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 그 박스체를 형성하는 박스체 내에 각 가스의 라인마다 유량 조절기를 가지고, 각 라인이 수평방향으로 병렬로 배치되어 있다. 16개의 라인은 각 유량 조절기로부터 하류측의 박스체 내의 공간에서 하나의 라인으로서 합류하여 각 라인의 출구는, 각각의 박스체의 측면에 연결된 유출관에 접속되어 합류한다. 각 라인으로부터 유출되는 가스는, 적어도 하나의 공급라인에 합류하여 박스체 측면의 접속부로부터 이것에 연결된 처리실용 가스공급 배관(309, 310, 311)을 거쳐 각 에칭처리실(301, 302, 303)에 공급된다.

또, 각 MFC 유닛(304, 305, 306)끼리의 사이의 공간의 상부에는, 이것을 덮어 평판 형상의 판부재(402)가 배치되고, 그 상면의 높이의 위치는 각 MFC 유닛(304, 305, 306)의 상면과 일치시켜 배치되어 있다. 또, MFC 유닛(305)의 도면상 상하방향[도 1에서는 도로서는 진공처리장치(100)의 좌우방향]의 공간에도 마찬가지로 판부재(402)가 배치되어 있다. 각 MFC 유닛(304, 305, 306)은, 본 실시예 에서는 실질적으로 동일한 구조로 동일형상이고, 이들 끼리의 사이를 상면과 동일한 높이에 판부재로 연결시킴으로써, 각 MFC 유닛(304, 305, 306) 상면을 포함하는 평면 형상의 영역이 반송실(112)의 아래쪽에 형성된다.

또, 본 실시예에서는 각 MFC 유닛(304, 305, 306) 및 판부재(402)의 높이는, 처리유닛(103a∼103c, 104)의 아래 쪽 베드(106a∼106c, 107)의 평판 형상의 상면 및 이것들 사이의 대상면의 판부재의 높이와 같게 되어 있다. 즉, 진공처리장치(100)의 박스체(108) 뒤쪽의 진공측 블럭(102)의 하부는 동일 높이의 평면의 영역이 배치되어 있어, 작업자가 안전, 용이하게 작업을 행할 수 있도록 구성되어 있다. 또, 진공 반송용기(110)의 하면 아래 쪽과 MFC 유닛(304, 305, 306) 위쪽의 공간인 206은, 작업자가 진입하여 작업을 행할 수 있을 만큼의 높이를 가진 것으로, 이 평면을 구성하는 부재는 작업자를 지지할 수 있는 강도를 구비하고 있다. 동일 높이의 평면 형상으로 구성된 하면과 아울러, 작업을 용이하게 행할 수 있어 메인티넌스, 점검의 작업시간 및 진공처리장치(100)의 비가동 시간이 저감된다.

또한, 본 실시예의 각 MFC 유닛(304, 305, 306)의 박스체는, 그 상면이 위쪽으로 떼어 내기 가능하게 구성되어 있다. 이 때문에 진공 반송용기(110) 아래 쪽의 공간으로 진입한 작업자는, 임의의 MFC 유닛의 박스체 상면을 떼어 냄으로써, 내부의 수평방향으로 병렬로 배치된 각 가스의 라인에 작업이나 점검을 실시할 수 있어, 작업의 시간의 저감이나 효율을 향상시킬 수 있다.

도 5는, 도 4에 나타내는 가스분배기의 구성을 상세하게 나타내는 3면도이다. 가스분배기(307)는, 16개의 각 가스마다의 공급용 배관이 병렬로 일렬로 나열 된 박스 형상의 피팅 박스이다. 이 박스 내에서 바닥면으로부터 위쪽으로 연장되는 계단 아래로부터의 가스공급관(701)과 박스 위쪽으로 연장되어 각 MFC 유닛(304, 305, 306)에 연결된 가스공급관(702)이 접속되어 있다. 가스분배기(307) 상면에는 박스 안쪽에서 연장되는 가스공급관(702)이 일렬로 늘어서 각각이 각 MFC 유닛(304, 305, 306)을 향하여 분기된다.

또한, 가스분배기(307)의 박스에는 바닥면 아래쪽으로 연장되는 가스 배기관(703)이 연통되어 그 내부의 가스가 배기되도록 구성되어 있고, 박스 내부로 누출된 가스가 청정룸 등의 진공처리장치(100)가 설치되는 건물 내부로 누출되는 것이 억제되고 있다.

상기한 실시예에 의하면, 보수, 메인티넌스나 점검시의 떼어 냄 작업이나 설치 후의 조정작업을 저감하여 장치의 비가동 시간이 단축된다. 이것에 의하여 처리의 효율이 향상된다. 또한 점유면적이 커져 메인티넌스 공간이나 작업 용이 공간을 저감시킨다는 문제의 발생을 억제하여, 처리의 효율을 향상할 수 있다.

나아가서는 연속적으로 시료를 처리할 때의 처리가스 등의 조건의 변경의 응답을 향상하고, 스루풋이 향상하여 처리의 효율을 크게 할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 관한 진공처리장치의 전체구성을 나타내는 상면도,

도 2는 도 1에 나타내는 실시예에 관한 진공처리장치의 구성의 개략을 나타내는 측면도,

도 3은 도 1에 나타내는 본 실시예에 관한 반송실 아래 쪽에 탑재되는 MFC 유닛 및 처리유닛의 배치를 나타내는 평면도,

도 4는 도 3에 나타내는 MFC 유닛의 배치를 상세하게 나타내는 도,

도 5는 도 4에 나타내는 가스분배기의 구성을 상세하게 나타내는 3면도이다.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

100 : 진공처리장치 101 : 대기측 블럭

102 : 진공측 블럭 103a, 103b, 103c, 104 : 처리유닛

105 : 반송 유닛 106 : 베드

107 : 챔버부 108 : 박스체

109 : 카세트대 110 : 진공 반송용기

113, 113' : 잠금실 201 : 접속 인터페이스

202 : 덮개 301, 302, 303 : 에칭처리실

304, 305, 306 : MFC 유닛 307 : 가스분배기

Claims

진공용기 내의 처리실 내에 배치한 시료를, 상기 처리실 내에 형성한 플라즈마를 사용하여 처리하는 진공처리장치로서, 앞 부분에 배치되어 대기압하에서 상기 시료를 반송하는 대기 반송실과, 상기 대기 반송실의 뒤쪽에 배치되고 내부가 진공이 되어 상기 시료가 반송되는 진공 반송실이 배치되며 평면 형상이 다각형인 진공 반송 용기와, 상기 진공 반송실과, 상기 대기 반송실의 사이에서 이들을 연결하는 잠금실과, 상기 진공 반송실의 수평방향의 주위에 상기 진공 반송실과 착탈 가능하게 연결되어 배치되며 상기 진공용기를 포함하여 구성된 복수 대의 진공처리 유닛과, 이들 진공처리 유닛의 각각에 상기 시료를 처리하기 위하여 공급되는 복수 종류의 가스의 유량을 조절하는 복수 대의 유량 조절 유닛을 구비한 진공처리장치에 있어서,

상기 대기 반송실의 뒤쪽이고 상기 대기 반송실과 상기 진공처리 유닛과의 사이로서 이 진공처리장치가 설치되는 바닥면 위에 배치되어 이 바닥면의 아래쪽으로부터 공급되는 복수 종류의 가스의 배관과 연결되고 이들 가스의 각각을 상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각에 분배하는 분배기와,

상기 분배기와 상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각과의 사이에서 분기하되 이들과 연결되어 상기 복수 종류의 가스 각각을 상기 복수대의 유량 조절 유닛에 공급하는 분기 배관과,

상기 복수 대의 유량 조절 유닛의 각각과 상기 복수 대의 진공처리 유닛을 연결하여 배치되어 상기 복수 종류의 가스가 합류하여 이들 진공처리 유닛의 각각에 공급되는 합류 배관을 가지고,

상기 유량 조절 유닛의 각각은, 내부에 수평방향으로 병렬로 배치되어 연결된 상기 분기 배관의 각각의 라인과 이들 각각의 라인 상에 배치되어 각각을 흐르는 상기 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량 조절기를 구비한 박스체가 상기 진공 반송 용기와 상기 바닥면과의 사이의 공간의 하부에 수평방향으로 병렬로 배치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 1항에 있어서,

상기 진공 반송 용기의 상기 다각형의 변을 구성하는 측벽에 상기 진공 처리 유닛이 연결된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,

상기 복수의 진공 처리 유닛 내의 처리실의 상하방향의 중심축이 상기 진공 반송실의 상하방향의 중심축의 주위에 상기 진공 반송실의 둘레방향으로 배치되고, 상기 복수의 유량 조절 유닛이 대응하는 상기 진공 처리 유닛의 둘레방향의 배치 위치의 순으로 상기 진공 반송 용기의 아래쪽에서 상하방향의 축의 주위에 둘레방향으로 배치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 1항 또는 제2항에 있어서,

상기 복수의 유량 조절 유닛의 상면이 동일한 높이의 평면으로 구성되고, 상기 진공 반송 용기와 상기 복수의 유량 조절 유닛의 사이에 작업자가 작업할 수 있는 공간이 배치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 3항에 있어서,

상기 복수의 유량 조절 유닛의 상면이 동일한 높이의 평면으로 구성되고, 상기 진공 반송 용기와 상기 복수의 유량 조절 유닛의 사이에 작업자가 작업할 수 있는 공간이 배치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.