JP4588393B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
、線路が配置されて両者を接続している一方で、図示していないフレーム106上に配置された複数の支持梁により処理部103aがベッド上に支持されている。制御ユニット107は、上記のようにエッチング処理ユニット103とアッシング処理ユニット104との間に配置されており、これらの処理ユニットのベッド部103b,104bのフレーム106上に取り付けられて配置されている。この制御ユニット107は、これを挟んで配置された処理ユニットが必要なガス等のこれら処理ユニットへの供給を調節する装置である。例えば、内部に配置された流量調節器がエッチング処理ユニット103の処理部103a内に配置された処理室(チャンバ)へのガスや電力の供給を調節する調節器が内部に配置されている。
1201の内側に進入しており、さらにカバー1003の表面が内側チャンバ509の内周壁面とおよそ同一の面を形成している。これにより、ガスが導入されプラズマにより処理が行われる内側チャンバ内の処理に対する処理室内の形状が周方向に不均一であることによる影響が低減され処理がより均一に行われる。また、カバー1003と開口部1201との隙間は、公差等から必要であるが、この隙間の弁体701側には、シール部材1002とカバー1003の側面との境界が位置している。この境界部はカバー1003側壁とシール部材1003の外周凸部1101との境界になっており、隙間からの腐食性ガスの進入によるシール部材1002の弱い箇所への影響を抑制している。
102…処理ブロック
103,104…処理ユニット
105…搬送ユニット
106…フレーム
107…制御ユニット
108…筐体
109…ウエハカセット
110…ダミーカセット
111…位置合せ部
113…ロック室
201…接続インタフェース
202…表示部
203…供給路
401,402…アクセスドア
500…処理室部
501…プロセスガスライン
502…プロセスガス遮断バルブ
504…試料台
506…試料搬送装置
507…排気バルブ
508…排気ポンプ
509,510…内側チャンバ
511,512…外側チャンバ
513…プロセスゲートバルブ
514…大気ゲートバルブ
515…大気開放バルブ
Claims (7)
- その内側が減圧される真空容器と、
この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口と、
前記壁の外側に配置され前記開口を気密に閉塞および開放する弁体とを備え、
該弁体は、本体である基体と、該基体の前記開口側に取り付けられる弾性を有したシール部材と、該シール部材を前記基体上に取り付けて位置決めするカバーとからなり、
前記シール部材は、前記基体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置され前記基体が前記開口を閉塞した状態で前記壁及び前記基体と接触して前記開口の内側を封止し、そして、前記シール部材を構成する第1の凸部であって前記壁と接触する凸状の曲面を有した第1の凸部及びこの第1の凸部から延在し前記基体と係合してその内側に取り付けられる張り出し部とを備えており、
前記カバーは、前記基体における前記壁と接する側に取り付けられ前記張り出し部の少なくとも一部を前記基体に押し付けて位置決めするように構成したことを特徴とする真空処理装置。 - 請求項1に記載の真空処理装置であって、前記張り出し部の前記カバーに押し付けられる部分に配置されこのカバー及び前記基体と接触してシールする第2の凸部を備えた真空処理装置。
- 請求項1または請求項2に記載の真空処理装置であって、前記基体は前記第1の凸部が配置された表面に平面或いは平坦な曲面を有し、前記第1の凸部が前記基体の側に平面或いは平坦な曲面を有して前記基体の表面と接触する真空処理装置。
- 請求項1または請求項2に記載の真空処理装置であって、前記カバーは前記基体に凸状に配置されて前記壁に接した状態で前記開口部内に進入して配置されている真空処理装置。
- 請求項4に記載の真空処理装置であって、前記開口が前記試料が処理される処理室の壁に配置され、この開口が前記弁体により閉塞された状態で前記カバーの表面が前記処理室の内側の壁の表面と同一の面を構成する真空処理装置。
- その内側が減圧される真空容器と、
この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口と、
前記壁の外側に配置され前記開口を気密に閉塞および開放する弁体とを備え、
該弁体は、本体である基体と、該基体の前記開口側に取り付けられる弾性を有したシール部材と、該シール部材を前記基体上に取り付けて位置決めするカバーとからなり、
前記シール部材は、前記基体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置され前記基体が前記開口を閉塞した状態で前記壁及び前記基体と接触して前記開口の内側を封止し、
前記カバーは、前記基体における前記壁と接する側に取り外し可能に取り付けられ前記シール部材の少なくとも一部を前記基体に押し付けて位置決めするように構成したことを特徴とする真空処理装置。 - 請求項6に記載の真空処理装置であって、前記カバーは前記基体の平面または平坦な曲面上にこれと接して配置された前記シール部材を前記基体の側へ押し付けるよう取り付けられた真空処理装置。
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