KR100993005B1 - Method for fabricating large area x-ray detector - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 92
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 54
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 50
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 241001503485 Mammuthus Species 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000011976 chest X-ray Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
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Abstract
본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 제 1 지지테이블 상에 제 1 패널을 위치시키는 제 1 단계; 제 2 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 제 1 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 제 1 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 제 2 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널에 접착하는 제 3 단계;를 포함하여 이루어지며, 신틸레이터 패널과 센서 패널 사이의 거리를 균일하게 유지하고, 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다. The present invention relates to a method for manufacturing a large area X-ray detection apparatus. The invention comprises a first step of positioning a first panel on a first support table; Positioning a second support table on the first panel, the second support table having a second panel, the second support table having a plurality of blocks, the vacuum holding being adjusted for each block; And sequentially releasing the block of the second support table from one side to the other side to sequentially contact the surface of the first panel from one side of the second panel, and by using the roller. And a third step of sequentially bonding one side of the second panel to attach the second panel to the first panel, and to maintain a uniform distance between the scintillator panel and the sensor panel. It provides the effect of improving the quality of the images obtained by reducing the content.
광 테이프, TFT 패널, 신틸레이터, 롤러, 진공 챔버, 대면적 X선 검출장치 Optical tape, TFT panel, scintillator, roller, vacuum chamber, large area X-ray detector
Description
본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 센서 패널과 신틸레이터 패널을 균일하게 접착시키는 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a large area X-ray detector, and more particularly, to a method for manufacturing a large area X-ray detector for uniformly bonding a sensor panel and a scintillator panel.
X선 검출장치는 피사체의 각 부분을 통과하는 서로 다른 X선을 투과량에 따라 서로 다른 전기 신호로 출력함으로써 상기 피사체의 내부 구조를 이미지로 재구성하는 장치이다.The X-ray detection apparatus is a device for reconstructing the internal structure of the subject into an image by outputting different X-rays passing through each part of the subject as different electric signals according to the amount of transmission.
이러한 X선 검출장치는 산업용, 의료용 등 다양한 분야에서 사용되고 있으며 특히, 의료분야에서는 다양한 신체부위의 고화질 이미지를 획득하기 위하여 활발한 연구개발이 이루어지고 있다.The X-ray detection apparatus is used in various fields, such as industrial, medical, and, in particular, in the medical field, active research and development has been made to obtain high-quality images of various body parts.
X선 검출장치의 구조를 간단히 살펴보면, 일반적으로 알루미늄층과 CsI층으로 이루어져 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널과 상기 신틸레이터 패널에서 변환된 가시광선을 받아들여 가시광선의 세기에 따른 전기신호를 출력하는 TFT 패널로 이루어진다.Looking at the structure of the X-ray detection device briefly, a scintillator panel which generally consists of an aluminum layer and a CsI layer and converts the X-rays into visible light and an electric signal according to the intensity of visible light by receiving the visible light converted from the scintillator panel It consists of a TFT panel for outputting.
일반적인 X선 검출장치에는 X선이 신틸레이터 패널을 통과하여 TFT 패널까지 도달하는 동안 광학적인 확산이나 산란 등 다양한 원인으로 인하여 이미지의 질이 떨어진다는 문제점이 있다.A general X-ray detection apparatus has a problem that image quality is degraded due to various causes such as optical diffusion or scattering while X-rays pass through the scintillator panel to the TFT panel.
이러한 일반적인 X선 검출장치는 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널이 각각 제작되어 서로 접착함으로써 제조하게 되는데, 접착시에 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 사이의 거리를 균일하게 하여 접착하거나 기포를 함유하지않도록 하는 것은 매우 어려운 일이다.The general X-ray detection apparatus is manufactured by manufacturing the scintillator panel and the TFT panel and bonding them to each other. At the time of adhesion, the scintillator panel and the TFT panel are uniformly spaced so as not to adhere or contain bubbles. It is very difficult to do.
또한, 대면적의 신틸레이터 패널이나 TFT 패널을 접합할 수 있는 제조장치의 구성이 어려우며, 신틸레이터 패널의 크기가 크기 때문에 발생하는 수많은 공정상의 어려움이 있었다. In addition, it is difficult to construct a manufacturing apparatus capable of joining a large area scintillator panel or a TFT panel, and there are a number of process difficulties caused by the large size of the scintillator panel.
이러한 어려움은 치아나 악궁 등의 이미지를 획득하는 구강센서와 같은 소면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제가 되지 않지만, 흉부나 두부 및 경부 등과 같은 광범위한 부분의 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제로 작용하게 된다. This difficulty is not a big problem in the manufacture of small area X-ray detectors such as oral sensors that acquire images of teeth, arches, etc., but large area X-rays acquire images of a wide range of parts such as the chest, head and neck. The manufacturing of the detection device is a big problem.
이로 인해, 신틸레이터 패널과 TFT 패널을 균일하게 접합시키는 기술이나 기포의 함유를 줄일 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있다.For this reason, the development of the technique which joins a scintillator panel and TFT panel uniformly, or the technique which can reduce the content of foam | bubble is urgently required.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단전과 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 롤러나 블록을 구비한 지지 테이블 또는 진공챔버를 이용하여 센서 패널과 신틸레이터 패널 사이를 균일하게 압착 및 흡착시킬 수 있는 대면적 X선 검출장치의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is to solve the above-described general power failure and problems, it is possible to uniformly compress and adsorb between the sensor panel and the scintillator panel using a support table or a vacuum chamber having a roller or a block. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a large area X-ray detection apparatus.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지테이블 상에 제 1 패널을 위치시키는 제 1 단계; 제 2 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 제 1 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 제 1 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 제 2 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널에 접착하는 제 3 단계;를 포함하여 이루어진다.The manufacturing method of the large area X-ray detection apparatus according to the embodiment of the present invention for achieving the above object is a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus for detecting an X-ray to obtain an image, the first support table Positioning a first panel in the first stage; Positioning a second support table on the first panel, the second support table having a second panel, the second support table having a plurality of blocks, the vacuum holding being adjusted for each block; And sequentially releasing the block of the second support table from one side to the other side to sequentially contact the surface of the first panel from one side of the second panel, and by using the roller. And a third step of sequentially bonding one side of the second panel to adhere the second panel to the first panel.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널은 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 광 테이프일 수 있다.In a preferred embodiment, the first panel may be a sensor panel, and the second panel may be an optical tape.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널은 광 테이프가 부착된 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 신틸레이터 패널일 수 있다.In a preferred embodiment, the first panel may be a sensor panel to which an optical tape is attached, and the second panel may be a scintillator panel.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 제 2 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 제 1 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 제 2 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.In a preferred embodiment, the width and length of the first panel are 8 to 20 inches, respectively, and the width and length of the second panel are 8 to 20 inches, respectively. In addition, the manufacturing method may be applied to manufacturing a super-large X-ray detection apparatus having a horizontal length and a vertical length of the first panel of 20 inches or more, and a horizontal length and a vertical length of the second panel of each of 20 inches or more. .
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 1 패널과 상기 제 2 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.In a preferred embodiment, the length of the width × length of the first panel and the second panel is any one of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches and 17 × 17 inches.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계; 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 3 단계; 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 접착층의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계; 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 타 면을 노출시키는 제 5 단계; 및 상기 접착층의 타 면에 신틸레이터 패널을 접착하는 제 6 단계;를 포함하여 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a manufacturing method of a large-area X-ray detecting apparatus according to another embodiment of the present invention. Positioning a sensor panel on the substrate; Both sides of the adhesive layer includes an optical tape protected by the first protective film and the second protective film, and comprises a plurality of blocks, the second support table for positioning the vacuum support is controlled on each sensor block for each block on the sensor panel Two steps; A third step of exposing one surface of the adhesive layer by removing the first protective film of the optical tape; The vacuum of the block of the second support table is sequentially released from one side to the other side to sequentially contact the surface of the sensor panel from one side of the adhesive layer, and one of the optical tapes using a roller. A fourth step of adhering the adhesive layer to the sensor panel by sequentially pressing the sides; A fifth step of removing the second protective film of the optical tape to expose the other surface of the adhesive layer; And a sixth step of adhering the scintillator panel to the other surface of the adhesive layer.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 6 단계는: 상기 접착층이 형성된 상기 센서 패널 상에 상기 신틸레이터 패널을 위치시키는 제 6-1 단계; 및 상기 신틸레이터 패널을 롤러로 압착하여 상기 센서 패널에 부착하는 제 6-2 단계;를 포함할 수 있다.In a preferred embodiment, the sixth step may include: a sixth step of positioning the scintillator panel on the sensor panel on which the adhesive layer is formed; And compressing the scintillator panel with a roller and attaching the scintillator panel to the sensor panel.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 6 단계는 진공 챔버 내부에서 이루어질 수 있으며, 상기 진공 챔버 내부에 구비되되, 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비된 제 2 지지테이블에 상기 신틸레이터 패널을 장착하는 제 6-1 단계; 상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 6-2 단계; 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 6-3 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 6-4 단계;를 포함할 수 있다. 상기 제 6-4 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 6-4-1 단계를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 6-4-1 단계 이후에 질소 퍼징에 의해 진공을 해제하여 상기 TFT 패널과 신틸레이터 패널을 압착하는 제6-4-2 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 제 6-3 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10mm인 것이 바람직하다.In a preferred embodiment, the sixth step may be performed in the vacuum chamber, the sixth step is provided in the vacuum chamber, the sixth step of mounting the scintillator panel on the second support table provided on the first support table -Stage 1; Step 6-2 of making the inside of the vacuum chamber into a vacuum state; A step 6-3 of descending the second support table until a distance between the sensor panel and the scintillator panel reaches a constant distance; And removing the support of the second support table and dropping the scintillator panel to contact the scintillator panel with the adhesive layer. The method may further include a step 6-4-1 of applying a physical pressure to the upper portion of the scintillator panel by lowering the second support table after the step 6-4. The method may further include a 6-4-2 step of releasing the vacuum by nitrogen purging after the 6-4-1 step to compress the TFT panel and the scintillator panel. It is preferable that the constant distance of the 6-3 step is 5mm to 10mm.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지 테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계; 상기 센서 패널에 접착층이 구비된 광 테이프를 접착하는 제 2 단계; 신틸레이터 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 광 테이프가 부착된 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 3 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 신틸레이터 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 신틸레이터 패널을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계;를 포함하여 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a manufacturing method of a large-area X-ray detecting apparatus according to another embodiment of the present invention. Positioning a sensor panel on the substrate; Adhering an optical tape having an adhesive layer to the sensor panel; A third step of placing a second support table on the sensor panel to which the optical tape is attached, the second supporting table having a scintillator panel and having a plurality of blocks, the vacuum holding of which is controlled for each block; And sequentially releasing the block of the second support table from one side to the other side so as to contact the surface of the sensor panel sequentially from one side of the scintillator panel, and using the roller. And sequentially bonding one side of the radar panel to adhere the scintillator panel to the sensor panel.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 광 테이프를 롤러로 압착하여 이용하여 센서 패널에 부착하는 제 2-3 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함할 수 있다.In a preferred embodiment, the second step: Step 2-1 to position the optical tape on both sides of the adhesive layer of the first protective film and the second protective film on the sensor panel; Removing the first protective film of the optical tape to expose one surface of the adhesive layer; A third step of attaching the optical tape to the sensor panel by compressing the optical tape with a roller; And 2-4 step of removing the second protective film of the optical tape; may include.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 진공 챔버 내부의 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비되되, 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 2-3 단계; 상기 센서 패널과 상기 광 테이프 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지 지테이블을 하강하는 제 2-4 단계; 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 광 테이프를 낙하시켜 상기 광 테이프를 상기 센서 패널에 접착시키는 제 2-5 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-6 단계;를 포함할 수 있다.In a preferred embodiment, the second step: is provided on the first support table in the vacuum chamber, both sides of the adhesive layer is provided with an optical tape protected by the first protective film and the second protective film, a plurality of A second step of placing a second support table on the sensor panel, the second support table having a block, the vacuum holding of which is adjusted for each block; Removing the first protective film of the optical tape to expose one surface of the adhesive layer; Making a vacuum inside the vacuum chamber; Steps 2-4 of descending the second support table until the distance between the sensor panel and the optical tape reaches a constant distance; A step 2-5 of releasing support of the second support table and attaching the optical tape to the sensor panel by dropping the optical tape; And 2-6 to remove the second protective film of the optical tape.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 2-3 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함할 수 있다.In a preferred embodiment, the second step: an optical tape on which both surfaces of the adhesive layer is protected by the first protective film and the second protective film, the plurality of blocks are provided and the vacuum holding is controlled for each block. Step 2-1 of placing a support table on the sensor panel; Removing the first protective film of the optical tape to expose one surface of the adhesive layer; The vacuum of the block of the second support table is sequentially released from one side to the other side to sequentially contact the surface of the sensor panel from one side of the optical tape, and the roller may be used to Compressing one side sequentially to attach the adhesive layer to the sensor panel; And 2-4 step of removing the second protective film of the optical tape; may include.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 광 테이프는 투과율이 90% 이상이며, 굴절율이 1.45 내지 1.47인 것이 바람직하다.In a preferred embodiment, the optical tape has a transmittance of 90% or more and a refractive index of 1.45 to 1.47 is preferred.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.In a preferred embodiment, the width and length of the sensor panel are 8 to 20 inches, respectively, and the length and width of the scintillator panel are 8 to 20 inches, respectively. In addition, the manufacturing method may be applied to manufacturing a super-large X-ray detection apparatus having a horizontal and vertical length of the sensor panel is 20 inches or more, respectively, and the horizontal and vertical length of the scintillator panel are also 20 inches or more.
바람직한 실시 예에 있어서, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.In a preferred embodiment, the length of the width × length of the sensor panel and the scintillator panel is any one of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches and 17 × 17 inches.
본 발명은 대면적의 신틸레이터 패널과 대면적의 센서 패널을 롤러나 블록을 구비한 지지 테이블 또는 진공챔버를 이용하여 압착함으로써 신틸레이터 패널과 센서 패널 사이의 거리를 균일하게 유지하고, 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다. The present invention compresses a large area scintillator panel and a large area sensor panel by using a support table or a vacuum chamber equipped with a roller or a block to uniformly maintain the distance between the scintillator panel and the sensor panel and contain air bubbles. It can reduce the number of images and improve the quality of the acquired image.
또한, 본 발명은 광 테이프를 이용하여 접합함으로써 센서 패널에 도달하는 빛의 양을 증가시켜 정확하고 효율적인 데이터를 얻을 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention has the effect of obtaining accurate and efficient data by increasing the amount of light reaching the sensor panel by bonding using an optical tape.
일반적으로 대면적 X선 검출장치는 X선을 가시광으로 변환할 수 있는 파장 변환기로서 신틸레이터와 상기 광을 전기 신호로 변환하는 센서소자를 포함하며 매트릭스 형태로 배열되어 있는 픽셀 및 상기 픽셀로부터 신호를 연속적으로 전송하기 위해 각각의 픽셀과 접속되어 있는 광센서를 포함하고 있는 센서 패널을 포함하고 있다.In general, a large-area X-ray detection device is a wavelength converter capable of converting X-rays into visible light, which includes a scintillator and a sensor element that converts the light into an electrical signal, and includes a pixel arranged in a matrix and a signal from the pixel. It contains a sensor panel containing an optical sensor connected to each pixel for continuous transmission.
즉, 상기 대면적 X선 검출장치는 X선을 가시 광선으로 변환하는 신틸레이터 패널 후면에 상기 가시 광선 신호를 받아 전기신호로 변환하는 센서 패널을 부착하여 제작된다. That is, the large-area X-ray detection apparatus is manufactured by attaching a sensor panel that receives the visible light signal and converts it into an electrical signal on the back of the scintillator panel that converts X-rays into visible light.
본 발명은 상기와 같은 대면적 X선 검출장치를 제작하기 위해 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널을 광 테이프를 이용하여 접착하는 방법에 관한 것으로 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 상기 가시 광선 신호를 전기신호로 변환하는 수단으로 다양한 수단을 이용할 수 있지만 TFT를 이용하는 것이 일반적이므로, 본 발명에서는 센서 패널로서 TFT 패널을 이용하여 설명하기로 한다.The present invention relates to a method for bonding the sensor panel and the scintillator panel using an optical tape to manufacture the large-area X-ray detection device as described above, with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention It explains in detail. Various means can be used as a means for converting the visible light signal into an electric signal, but since TFT is generally used, the present invention will be described using a TFT panel as a sensor panel.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따라 제조된 대면적 X선 검출장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a large-area X-ray detection device manufactured according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 실시 예에 따른 X선 검출장치(100)은 대면적 신틸레이터 패널(110)과 대면적 TFT 패널(140) 및 상기 대면적 신틸레이터 패널(110)과 상기 대면적 TFT 패널(140)을 접합하고 있는 접합층(230)으로 이루어져 있다. Referring to FIG. 1, an
상기 대면적 신틸레이터 패널(110)은 알루미늄 플레이트(120) 및 신틸레이터(130)로 이루어져 있다. The large
상기 신틸레이터 패널(110)의 표면에는 알루미늄 플레이트(120) 반사막을 설치함으로써 신틸레이터 패널(110)의 광 출력을 증가시켜 선명한 이미지를 획득할 수 있도록 하여 준다. The aluminum plate 120 reflecting film is installed on the surface of the
그리고 상기 신틸레이터(130)는 입사되는 X선을 가시광선으로 변환시키는 패널로서, 고휘도 형광물질인 요오드화 세슘(Csl) 등을 퇴적시켜 성막하는 주상 결정구조로 이루어져 있다. 이때, 본 발명에서는 상기 신틸레이터(130)를 이루고 있는 요오드화 세슘으로서 X선 센서의 해상도를 최적화할 수 있는 적절한 두께인 0.5mm의 두께를 갖도록 제작하였다.The scintillator 130 is a panel that converts incident X-rays into visible light, and has a columnar crystal structure in which cesium iodide (Csl) or the like, which is a high-brightness fluorescent material, is deposited and deposited. In this case, in the present invention, the cesium iodide forming the scintillator 130 was manufactured to have a thickness of 0.5 mm, which is an appropriate thickness to optimize the resolution of the X-ray sensor.
상기 TFT 패널(140)은 TFT 및 가시광선을 센싱할 수 있는 포토 다이오드 등으로 이루어져 있다.The
이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다. 또한, 상기 신틸레이터 패널(130) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다. In this case, the
즉, 본 발명은 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상인 센서패널과, 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 신틸레이터 패널을 이용하여 접합함으로써 초대형 X선 검출장치를 제조할 수 있 수 있다. 한편, 바람직한 실시예로서 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이가 8×8 인치, 10×12 인치 또는 17×17 인치인 대면적 X선 검출장치를 제조할 수 있다.That is, the present invention can manufacture a super-large X-ray detection apparatus by bonding using a sensor panel having a length of 20 inches or more and a scintillator panel having a length of 20 inches or more, respectively. On the other hand, as a preferred embodiment, a large-area X-ray detection apparatus having a length × width of the sensor panel and the scintillator panel having a length of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches, or 17 × 17 inches can be manufactured.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치(100)의 제조 방법에 대한 순서도이다.2A to 2C are flowcharts illustrating a method of manufacturing the large-area
도 2a 내지 도 2c 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 제 1 패널(30)을 위치시킨다. Referring to FIGS. 2A to 2C, first, the
이어서, 제 2 지지 테이블(20)로 제 2 패널(40)을 흡착하여 상기 제 1 패널 (30)상에 위치시킨다. 이때, 상기 제 2 지지 테이블(20)은 복수 개의 블록을 구비 하고 있으며, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수도 있고, 각각의 블록별로 진공을 해제할 수도 있다. 또한, 상기 제 2 지지 테이블(20)의 블록의 끝단은 진공을 발생하는 진공펌프(미도시)와 상호 연결되어 있다.Subsequently, the
또한, 상기 블록의 개수와 위치는 상기 제 2 패널을 균일하게 고정할 수 있는 흡착력이 작용하도록 적절하게 배치되는 것이 바람직하다. In addition, the number and location of the blocks are preferably disposed so that the adsorption force can be fixed to uniformly fix the second panel.
계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록 중 일 측의 블록을 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널(40)이 상기 제 1 지지 테이블(10)의 표면에 접촉하도록 한다. Subsequently, the one side of the blocks of the second support table 20 is sequentially released in the other direction so that the
이와 동시에 상기 제 1 패널(30)과 접촉된 상기 제 2 패널(40)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 상기 제 2 패널(40)과 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널 상에 부착한다.At the same time, the
즉, 상기 제2 지지테이블(20)의 블록을 순차적으로 풀어줌과 함께 롤러(250)를 이용하여 압착함으로써 상기 제1패널(30)과 상기 제2패널(40)을 접착한다.That is, the
상기 제 1 패널은 TFT 패널 또는 광 테이프가 부착된 TFT 패널일 수 있고, 상기 제 2 패널은 광 테이프 또는 신틸레이터 패널 일 수도 있다.The first panel may be a TFT panel or a TFT panel to which an optical tape is attached, and the second panel may be an optical tape or a scintillator panel.
즉, 본 발명의 제 1 실시예는 TFT 패널 상에 광 테이프를 접착시키거나, 광 테이프가 부착된 TFT 패널 상게 신틸레이터 패널을 접착시킬 때에 사용할 수 있다.That is, the first embodiment of the present invention can be used when adhering an optical tape onto a TFT panel or adhering a scintillator panel onto a TFT panel to which the optical tape is attached.
이때, 사용되는 상기 광 테이프는 가시광선 통과율이 높으며, 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 접착층의 양면이 보호된 양면테이프를 사용할 수 있다.In this case, the optical tape to be used has a high visible light passing rate, it may be a double-sided tape is protected both sides of the adhesive layer with the first protective film and the second protective film.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 롤러를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.3A to 3F are flowcharts illustrating a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table and a roller having blocks according to a second embodiment of the present invention.
도 3a 내지 도 3f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다. Referring to FIGS. 3A to 3F, the
여기서, 상기 TFT 패널(140) 후면에는 상기 TFT 패널(140)을 지지하고 외부의 저항으로부터 보호하는 서브글래스를 더 포함할 수도 있다.Here, the
이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다. In this case, the
이어서, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 광 테이프(200)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다. Subsequently, the
이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 접착층(230)의 일 면을 노출시킨다. 상기 광 테이프(200)는 가시광선 통과율이 높으며, 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(220)으로 상기 접착층(230)의 양면이 보호된 양면테이프를 사용할 수 있다.Subsequently, the first
계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤 러(250)는 상기 광 테이프(200)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.Subsequently, vacuum is sequentially released from one side to the other side of each block of the second support table 20 so that the adhesive layer 230 of the
계속하여, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착층(230)의 타 면을 노출시킨다.Subsequently, the second
계속하여, 상기 TFT 패널(140) 상에 접착된 상기 접착층(230) 상에 신틸레이터 패널(1100)을 위치시킨다. Subsequently, the scintillator panel 1100 is positioned on the adhesive layer 230 adhered to the
계속하여, 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 신틸레이터 패널(110)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.Subsequently, the
이때, 상기 신틸레이터 패널(110) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다. In this case, the
즉, 본 발명은 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상인 센서패널과, 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 신틸레이터 패널을 이용하여 접합함으로써 초대형 X선 검출장치를 제조할 수 있 수 있다. 한편, 바람직한 실시예로서 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이가 8×8 인치, 10×12 인치 또는 17×17 인치인 대면적 X선 검출장치를 제조할 수 있다.That is, the present invention can manufacture a super-large X-ray detection apparatus by bonding using a sensor panel having a length of 20 inches or more and a scintillator panel having a length of 20 inches or more, respectively. On the other hand, as a preferred embodiment, a large-area X-ray detection apparatus having a length × width of the sensor panel and the scintillator panel having a length of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches, or 17 × 17 inches can be manufactured.
한편, 본 발명의 제 2 실시에에 따른 대면적 X선 검출장치를 제조하는 방법은 진공챔버 내에서 이루어질 수 있다.On the other hand, the method for manufacturing a large area X-ray detection apparatus according to a second embodiment of the present invention can be made in a vacuum chamber.
따라서, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 따라 제조된 대면적 X선 검출장치는 TFT 패널과 신틸레이터 패널 사이의 접착층의 두께를 균일하게 유지할 수 있을 뿐만 아니라 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있다.Therefore, the large-area X-ray detector manufactured according to the manufacturing method of the large-area X-ray detection apparatus according to the second embodiment of the present invention can not only maintain the thickness of the adhesive layer between the TFT panel and the scintillator panel uniformly. By reducing the content of bubbles it is possible to improve the quality of the acquired image.
본 발명의 실시예에 따른 X선 검출장치의 제조방법에 의해 제조된 대면적 X선 검출장치는 치과용 장비 예를 들면, 파노라마 장치, CT 장치 및 세팔로 장치 등 다양한 장비에 응용될 수 있을 뿐만 아니라, 흉부 X선 촬영장치나 맘모 장치 등과 의료용 장비에도 다양하게 적용될 수 있다. The large-area X-ray detection device manufactured by the manufacturing method of the X-ray detection device according to the embodiment of the present invention may be applied to various equipments such as dental equipment, for example, a panoramic device, a CT device, and a cephalo device. In addition, it can be applied to a variety of medical equipment such as chest X-ray apparatus or mammoth device.
특히, 17×17 인치의 대면적 X선 검출장치를 이용할 경우, 17×17 인치의 신틸레이터 패널과 17×17 인치의 센서 패널을 각각 4장씩 붙여 사용하면 초대형 X선 검출장치를 제조할 수도 있다. In particular, when using a 17 x 17 inch large area X-ray detector, a super large X-ray detector can be manufactured by attaching four 17 x 17 inch scintillator panels and 17 x 17 inch sensor panels. .
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 진공챔버를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다. 4A to 4G are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a vacuum chamber and a second support table having blocks according to a third embodiment of the present invention.
본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 지지 테이블 및 롤러를 이용한 방법이라면 본 발명의 제 3 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 지지 테이블 및 진공 챔버(300) 내부에서 진공압착에 의한 방법으로 이루어진다. If the manufacturing method of the large area X-ray detection apparatus according to the second embodiment of the present invention is a method using a support table and a roller, the manufacturing method of the large area X-ray detection apparatus according to the third embodiment of the present invention is a support table and a vacuum. In the
먼저, TFT 패널(140)에 접착층(200)을 형성한다. 상기 과정(도 4a 내지 도 4d)은 본 발명의 제 2 실시예와 동일하므로 설명을 생략하기로 한다.First, the
도 4e 내지 도 4g를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제 2 실시에에 따른 제조방법에서 신틸레이터 패널(110)과 TFT 패널(140)을 접착하는 공정은 진공 챔버(300) 내에서 이루어진다. 4E to 4G, in the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention, the process of adhering the
상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)이 제거된 후, 상기 진공 챔버(300)에 구비된 제 2 지지 테이블(20)을 이용하여 상기 신틸레이터 패널(110)을 흡착한 후 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.After the second
이때, 상기 제 1 지지테이블(10) 및 제 2 지지테이블(20)은 상기 진공챔버(300) 내부의 진공보다 더 강한 진공을 발생시킴으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 각각 흡착시킨다.In this case, the first support table 10 and the second support table 20 generate a stronger vacuum than the vacuum inside the
또한, 상기 신틸레이터 패널(110)은 상기 제 2 지지테이블(20)에 의해 상기 TFT 패널(140)과 일정 간격을 이룰 때까지 하강하며, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)의 간격은 약 5m 내지 10mm가 가장 바람직하다.In addition, the
상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)의 간격이 약 5mm 내지 10mm의 간격을 이루게 되면, 상기 제 2 지지테이블(20)에 구비된 복수 개의 기공을 통해 상기 신틸레이터 패널(110)과 제 2 지지테이블(20) 사이에 기체를 불어넣음으로써 상기 제 2 지지테이블(20)에 흡착된 신틸레이터 패널(110)의 지지를 해제하여 상기 접착층(120)으로 낙하시킴으로써 접착한다.When the interval between the
마지막으로, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)이 접착된 이후, 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널(110)의 상부에 물리적 압력을 가함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 압착시켜 대면적 X선 검출장치를 완성한다.Finally, after the
이때, 상기 진공 챔버(300) 내부에 순간적으로 질소를 퍼징하여 대기압을 형성함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 압착할 수 있다.In this case, the
상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.Except for the above, the manufacturing method according to the third embodiment of the present invention is the same as the manufacturing method of the large area X-ray detecting apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 롤러 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제조하는 방법에 대한 순서도이다.5A to 5F are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having a roller and a block according to a fourth embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 5f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다. Referring to FIGS. 5A to 5F, the
이어서, 접착층(230)의 양면이 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(220)으로 보호된 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.Subsequently, the
이어서, 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 함께 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.Subsequently, the adhesive layer 230 of the
계속하여, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착 층(230)의 타 면을 노출시킨다.Subsequently, the second
계속하여, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 신틸레이터 패널(110)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다. Subsequently, the
계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널(110)이 상기 TFT 패널(140)에 접착된 상기 접착층(230)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 신틸레이터 패널(110)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. Subsequently, the vacuum is sequentially released from one side to the other side of each block of the second support table 20 so that the
이때, 상기 롤러(250)는 상기 신틸레이터 패널(110)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착함으로써 대면적 X선 검출장치를 완성한다.In this case, the
상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.Except for the above, the manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention is the same as the manufacturing method of the large-area X-ray detecting apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 6a 내지 도 6g은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 진공챔버 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.6A to 6G are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having a vacuum chamber and a block according to a fifth embodiment of the present invention.
본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 롤러 및 블록을 이용한 방법이라면 본 발명의 제 5 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 진공 챔버 및 블록을 이용한 방법으로 이루어진다.If the manufacturing method of the large area X-ray detection apparatus according to the fourth embodiment of the present invention is a method using a roller and a block, the manufacturing method of the large area X-ray detection apparatus according to the fifth embodiment of the present invention is a vacuum chamber and a block. It is made by the method used.
도 6a 내지 도 6g를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제 5 실시에에 따른 제조방법은 진공 챔버(300) 내에서 이루어진다. 6A to 6G, the manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention is performed in the
먼저, 상기 진공 챔버(300) 내에 구비된 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다. First, the
이어서, 상기 진공 챔버(300) 내에 구비된 제 2 지지 테이블(20)을 이용하여 광 테이프(200)를 을 흡착한 후 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.Subsequently, the
상기 광 테이프(200)는 접착층(230)의 양면을 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(22)으로 보호하고 있으며, 상기 제 2 지지 테이블(20)은 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있다.The
이때, 상기 제 1 지지테이블(10) 및 제 2 지지테이블(20)은 상기 진공챔버(300) 내부의 진공보다 더 강한 진공을 발생시킴으로써 상기 TFT 패널(140)과 광 테이프(200)를 각각 흡착시킨다.In this case, the first support table 10 and the second support table 20 generate a stronger vacuum than the vacuum inside the
이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 상기 접착층(230)의 일 면을 노출한다.Subsequently, the first
계속하여, 상기 진공 챔버(300) 내부를 진공상태로 유지한다.Subsequently, the inside of the
계속하여, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200) 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시킨다. 이때, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)의 간격은 약 5m 내지 10mm가 가장 바람직하다.Subsequently, the second support table 20 is lowered until the interval between the
상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)의 간격이 약 5mm 내지 10mm의 간격을 이루게 되면, 상기 제 2 지지테이블(20)에 구비된 복수 개의 기공을 통해 상기 광 테이프(200)과 제 2 지지테이블(20) 사이에 기체를 불어넣음으로써 상기 제 2 지지테이블(20)에 흡착된 상기 광 테이프(200)의 지지를 해제하여 상기 TFT 패널(140)로 낙하시킴으로써 접착한다. When the interval between the
이때, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)가 접착된 이후, 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시켜 상기 광 테이프(200)의 상부에 물리적 압력을 가함으로써 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200) 사이의 접착층(230)의 두께를 균일하게 할 수 있다.In this case, after the
이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착층(230)의 타 면을 노출한다.Subsequently, the second
계속하여, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 신틸레이터 패널(110)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다. Subsequently, the
계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널(110)이 상기 TFT 패널(140)에 접착된 상기 접착층(230)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 신틸레이터 패널(110)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. Subsequently, the vacuum is sequentially released from one side to the other side of each block of the second support table 20 so that the
이때, 상기 롤러(250)는 상기 신틸레이터 패널(110)와 상기 제 2 지지테이 블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착함으로써 대면적 X선 검출장치를 완성한다.In this case, the
상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.Except for the above, the manufacturing method according to the fifth embodiment of the present invention is the same as the manufacturing method of the large-area X-ray detecting apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.7A to 7F are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having blocks according to a sixth embodiment of the present invention.
본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 롤러 및 블록을 이용한 방법이라면 본 발명의 제 6 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 블록을 이용한 방법으로 이루어진다. If the manufacturing method of the large-area X-ray detection apparatus according to the fourth embodiment of the present invention is a method using a roller and a block, the manufacturing method of the large-area X-ray detection apparatus according to the sixth embodiment of the present invention is a method using a block. Is done.
도 7a 내지 도 7f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다. Referring to FIGS. 7A to 7F, the
이어서, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 광 테이프(200)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다. Subsequently, the
이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 접착층(230)의 일 면을 노출시킨다. Subsequently, the first
계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패 널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 상기 광 테이프(200)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.Subsequently, vacuum is sequentially released from one side to the other side of each block of the second support table 20 so that the adhesive layer 230 of the
계속하여, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착층(230)의 타 면을 노출시킨다.Subsequently, the second
이하 상기 TFT 패널(140)에 신틸레이터 패널(110)을 형성하는 과정(도 7e 및 도 7f)은 본 발명의 제 4 실시예와 동일하므로 설명을 생략하기로 한다. 상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.Hereinafter, the process of forming the
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들과 같은 방법으로 제작된 대면적 X선 검출장치는 광 테이프를 이용함으로써 투과율이 높아서 대면적 X선 검출장치에 도달하는 빛의 양을 증가시켜 정확한 데이터를 얻는 효과가 있다.As described above, the large-area X-ray detection device manufactured by the same method as the embodiments of the present invention has a high transmittance by using an optical tape, thereby increasing the amount of light reaching the large-area X-ray detection device to obtain accurate data. You get the effect.
또한, 롤러, 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 진공챔버를 이용하여 상기 TFT 패널과 신틸레이터 패널 사이를 압착 및 흡착시킴으로써 기포 발생을 억제하고 두께를 일정하게 유지하도록 하여 상기 기포 발생으로 인한 빛의 굴절이 발생 되지 않는다.In addition, by pressing and adsorbing between the TFT panel and the scintillator panel using a roller, a second support table with blocks and a vacuum chamber, the bubble generation is suppressed and the thickness is kept constant so that the light generated by the bubble generation can be maintained. No refraction occurs.
상기와 같이 제작된 대면적 X선 검출장치의 가로×세로의 크기는 8× 8(inch), 10×12(inch) 또는 17×17(inch)의 대면적 대면적 X선 검출장치로, 상기 X선 센서 패널은 파노라마 장치, 세팔로 장치, CT 장치 및 맘모장치 등의 다양하고 두부, 경부 및 흉부 등 광범위한 면적을 촬영하는 치과용 X선 촬영장치에 적용될 수 있다.The size of the horizontal X length of the large-area X-ray detection device manufactured as described above is a large-area large area X-ray detection device of 8 × 8 (inch), 10 × 12 (inch) or 17 × 17 (inch). The X-ray sensor panel may be applied to a dental X-ray apparatus which photographs a wide range of areas such as the head, neck, and chest, such as a panoramic device, a cephalo device, a CT device, and a mammoth device.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a large-area X-ray detection apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.2A to 2C are flowcharts illustrating a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 롤러를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.3A to 3F are flowcharts illustrating a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table and a roller having blocks according to a second embodiment of the present invention.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 진공챔버를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.4A to 4G are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a vacuum chamber and a second support table having blocks according to a third embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 롤러 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제조하는 방법에 대한 순서도이다.5A to 5F are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having a roller and a block according to a fourth embodiment of the present invention.
도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 진공 챔버 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.6A to 6G are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having a vacuum chamber and a block according to a fifth embodiment of the present invention.
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.7A to 7F are flowcharts of a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus using a second support table having blocks according to a sixth embodiment of the present invention.
< 도면의 주호 부호에 대한 설명 ><Description of Major Symbols in Drawings>
10 : 제 1 지지 테이블 20 : 제 2 지지 테이블10: first support table 20: second support table
100 : 대면적 X선 검출장치 110: 신틸레이터 패널100: large area X-ray detector 110: scintillator panel
140 : TFT 패널 200 : 광테이프140: TFT panel 200: light tape
210 : 제 1 보호필름 220 : 제 2 보호필름210: first protective film 220: second protective film
230 : 접착층 250 : 롤러230: adhesive layer 250: roller
300 : 진공 챔버300: vacuum chamber
Claims (19)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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KR100993005B1 true KR100993005B1 (en) | 2010-11-09 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
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