KR100964655B1 - Method for fabricating large area x-ray detector - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 대면적 TFT 패널을 세운 상태에서 전면 상부에 실리콘을 분사하여 상기 실리콘이 하루로 흘러내리게 함으로써 접착층의 두께를 일정하게 유지한 후 신틸레이터 패널을 롤러압착 또는 진공압착하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a large-area X-ray detection device, and more particularly, by spraying silicon on the front surface in a state where the large-area TFT panel is up, the silicon flows in one day to maintain a constant thickness of the adhesive layer. The present invention relates to a method for manufacturing a large-area X-ray detection apparatus for roller compaction or vacuum compaction of a scintillator panel.

본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 가시광선을 받아들여 일정한 전기신호를 출력하는 센서 T패널의 전면이 공간상의 수평면과 일정한 각도를 이루도록 세워 구비하는 제 1 단계, 상기 센서 패널의 전면 상부에 접착제를 분사하는 제 2 단계, 상기 분사된 접착제가 상기 센서 패널의 전면 상부에서 전면 하부로 흘러내려 일정한 두께의 접착층을 형성하는 제 3 단계 및 상기 접착층의 전면에 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널을 접착하는 제 4 단계를 포함하여 이루어진다.In the manufacturing method of a large-area X-ray detection apparatus according to an embodiment of the present invention, the first step of providing a front surface of the sensor T-panel that receives visible light and outputs a constant electric signal is provided to form a constant angle with a horizontal plane in space, A second step of spraying an adhesive on an upper surface of the sensor panel, a third step of spraying the sprayed adhesive from an upper surface of the front surface of the sensor panel to form an adhesive layer having a predetermined thickness, and an X-ray on the front surface of the adhesive layer And a fourth step of adhering the scintillator panel to convert the light into visible light.

대면적 X선 검출장치, 진공챔버, 신틸레이터, 대면적 TFT 패널, 실리콘 Large area X-ray detector, vacuum chamber, scintillator, large area TFT panel, silicon

Description

대면적 X선 검출장치의 제조방법{Method for fabricating large area x-ray detector}Manufacturing method of large area X-ray detector {Method for fabricating large area x-ray detector}

본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 대면적 센서 패널을 세운 상태에서 전면 상부에 실리콘을 분사하여 상기 실리콘이 하루로 흘러내리게 함으로써 접착층의 두께를 일정하게 유지한 후 신틸레이터 패널을 롤러압착 또는 진공압착하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a large-area X-ray detection apparatus, and more particularly, by spraying silicon on the front surface in a state in which the large-area sensor panel is up, the silicon flows in one day to maintain a constant thickness of the adhesive layer. The present invention relates to a method for manufacturing a large-area X-ray detection apparatus for roller compaction or vacuum compaction of a scintillator panel.

의료용 및 공업용 X선 촬영에 있어서, 종래에는 X선 감광 필름이 사용되어 왔지만, 최근 영상촬영의 편리성이나 촬영 결과의 보존성의 면에서 뛰어난 X선 검출장치의 보급이 활성화되고 있다.In medical and industrial X-ray imaging, X-ray photosensitive films have been used in the past, but in recent years, the spread of X-ray detection devices excellent in the convenience of imaging and preservation of imaging results has been activated.

한편, 상기 X선 검출장치의 구조를 간단히 살펴보면 상기 X선 검출장치는 일반적으로 알루미늄층과 CsI층으로 이루어져 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널과 상기 신틸레이터 패널에서 변환된 가시광선을 받아들여 가시광선의 세기에 따른 전기신호를 출력하는 TFT 패널로 이루어진다.On the other hand, the structure of the X-ray detecting device briefly, the X-ray detecting device is generally composed of an aluminum layer and a CsI layer receives a scintillator panel converting X-rays to visible light and the visible light converted from the scintillator panel It consists of a TFT panel which outputs an electric signal according to the intensity of visible light.

이때, 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 각각 제작되어 서로 접착하게 되는데, 접착시에 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 사이를 균일하게 접착하는 것은 매우 어려운 일이었다.At this time, the scintillator panel and the TFT panel are manufactured and adhered to each other, but it is very difficult to uniformly bond the scintillator panel and the TFT panel at the time of adhesion.

일반적으로 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널 사이에 접착제를 도포하여 서로 접착하게 되는데, 접착하는 과정은 먼저, 상기 TFT 패널을 전면이 위쪽을 바라보도록 바닥에 두고 부분에서 전면으로 접착제를 도포하여 접착층을 형성한 후, 신틸레이터 패널을 접착하는 방식으로 이루어진다.In general, an adhesive is applied between the scintillator panel and the TFT panel to be bonded to each other. In the bonding process, first, the TFT panel is placed on the bottom so that the front side faces upward, and the adhesive layer is applied to the front surface at the portion to form an adhesive layer. After that, it is made by bonding the scintillator panel.

이러한 일반적인 X선 검출장치는 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널이 각각 제작되어 서로 접착함으로써 제조하게 되는데, 접착시에 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 사이의 거리를 균일하게 하여 접착하거나 기포를 함유하지않도록 하는 것은 매우 어려운 일이다.The general X-ray detection apparatus is manufactured by manufacturing the scintillator panel and the TFT panel and bonding them to each other. At the time of adhesion, the scintillator panel and the TFT panel are uniformly spaced so as not to adhere or contain bubbles. It is very difficult to do.

또한, 대면적의 신틸레이터 패널이나 TFT 패널을 접합할 수 있는 제조장치의 구성이 어려우며, 신틸레이터 패널의 크기가 크기 때문에 발생하는 수많은 공정상의 어려움이 있었다. In addition, it is difficult to construct a manufacturing apparatus capable of joining a large area scintillator panel or a TFT panel, and there are a number of process difficulties caused by the large size of the scintillator panel.

이러한 어려움은 치아나 악궁 등의 이미지를 획득하는 구강센서와 같은 소면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제가 되지 않지만, 흉부나 두부 및 경부 등과 같은 광범위한 부분의 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제로 작용하게 된다. This difficulty is not a big problem in the manufacture of small area X-ray detectors such as oral sensors that acquire images of teeth, arches, etc., but large area X-rays acquire images of a wide range of parts such as the chest, head and neck. The manufacturing of the detection device is a big problem.

이로 인해, 신틸레이터 패널과 TFT 패널을 균일하게 접합시키는 기술이나 기포의 함유를 줄일 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있다.For this reason, the development of the technique which joins a scintillator panel and TFT panel uniformly, or the technique which can reduce the content of foam | bubble is urgently required.

본 발명은 상기의 문제점들을 해결하기 위해 창안된 것으로, 본 발명의 목적은 센서 패널과 신틸레이터 패널을 균일하게 접착하여 대면적 X선 검출장치의 성능을 향상시킬 수 있는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법을 제공하는 데 있다.The present invention was devised to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a large area X-ray detection apparatus capable of uniformly bonding the sensor panel and the scintillator panel to improve the performance of the large area X-ray detection apparatus. It is to provide a manufacturing method.

또한, 본 발명의 다른 목적은 접착제를 도포하는 공정을 간소화하여 비용을 절감할 수 있는 X선 검출장치의 제조 방법을 제공하는 데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a manufacturing method of the X-ray detection apparatus that can reduce the cost by simplifying the process of applying the adhesive.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 가시광선을 받아들여 일정한 전기신호를 출력하는 센서 패널의 전면이 공간상의 수평면과 일정한 각도를 이루도록 세워 구비하는 제 1 단계, 상기 센서 패널의 전면 상부에 접착제를 분사하는 제 2 단계, 상기 분사된 접착제가 상기 센서 패널의 전면 상부에서 전면 하부로 흘러내려 일정한 두께의 접착층을 형성하는 제 3 단계 및 상기 접착층의 전면에 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널을 접착하는 제 4 단계를 포함하여 이루어진다.In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a large-area X-ray detection apparatus for detecting an X-ray to obtain an image, wherein a front surface of a sensor panel that receives visible light and outputs a constant electric signal is a horizontal plane in space. A first step of providing a constant angle with the second step of spraying the adhesive on the front surface of the sensor panel, the sprayed adhesive flows from the top of the front surface of the sensor panel to the bottom of the front surface to form an adhesive layer having a constant thickness And a fourth step of adhering a scintillator panel for converting X-rays into visible light on the entire surface of the adhesive layer.

바람직한 실시예에 있어서,상기 제 3 단계의 접착층의 두께는 10㎛ 내지 40㎛ 이다.In a preferred embodiment, the thickness of the adhesive layer of the third step is 10㎛ to 40㎛.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.In a preferred embodiment, the width and length of the sensor panel are 8 to 20 inches, respectively, and the length and width of the scintillator panel are 8 to 20 inches, respectively. In addition, the manufacturing method may be applied to manufacturing a super-large X-ray detection apparatus having a horizontal and vertical length of the sensor panel is 20 inches or more, respectively, and the horizontal and vertical length of the scintillator panel are also 20 inches or more.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.In a preferred embodiment, the length of the width × length of the sensor panel and the scintillator panel is any one of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches and 17 × 17 inches.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 접착제는 실리콘으로 구비된다.In a preferred embodiment, the adhesive is provided with silicone.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 4 단계는 상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 위치시키는 제 4-1 단계, 상기 접착층의 일 측 상부에 상기 신틸레이터 패널의 일 측 하부를 접촉시키는 제 4-2 단계, 상기 신틸레이터 패널의 일 측 상부에 롤러를 위치시키는 제 4-3 단계, 상기 롤러가 상기 신틸레이터 패널의 일 측에서 타 측까지 회전하며 이동하여 상기 신틸레이터 패널의 하면과 상기 접착층의 상면이 밀착되는 제 4-4 단계 및 상기 접착층이 경화되어 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널이 접착되는 제 4-5 단계를 포함하여 이루어진다.In a preferred embodiment, the fourth step is a step 4-1 of positioning the sensor panel with the adhesive layer upwards, and a fourth step of contacting a lower portion of the scintillator panel with an upper portion of the adhesive layer. Step 2, Step 4-3 to position the roller on the upper side of the scintillator panel, the roller is rotated and moved from one side of the scintillator panel to the other side of the lower surface of the scintillator panel and the adhesive layer And a fourth step of attaching the upper surface to a close contact, and a fourth step of attaching the sensor panel to the scintillator panel by curing the adhesive layer.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 4 단계는 진공챔버 내부에서 이루어진다.In a preferred embodiment, the fourth step is carried out inside the vacuum chamber.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 4 단계는 상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 진공챔버의 제 1 지지테이블 상에 구비하는 제 4-1 단계, 상기 진공챔버의 내부에서 제 2 지지테이블을 이용하여 상기 신틸레이터 패널을 상기 센서 패널과 이격된 상부에 위치시키는 제 4-2 단계, 상기 진공챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 4-3 단계, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 거리 가 일정한 거리를 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 4-4 단계, 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 4-5 단계 및 상기 진공챔버 내의 진공을 해제하여 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널을 압착하는 제 4-6 단계로 이루어질 수도 있다.In a preferred embodiment, the fourth step is a step 4-1 of providing the sensor panel on the first support table of the vacuum chamber with the adhesive layer upward, using a second support table in the vacuum chamber. Step 4-2 to position the scintillator panel in the upper spaced apart from the sensor panel, Step 4-3 to make the interior of the vacuum chamber into a vacuum state, the distance between the sensor panel and the scintillator panel Steps 4 and 4 of descending the second support table until reaching a certain distance, and release of the support of the second support table and dropping the scintillator panel to contact the scintillator panel with the adhesive layer. Step 5 and step 4-6 of releasing the vacuum in the vacuum chamber to compress the sensor panel and the scintillator panel.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 신틸레이터 패널이 상기 접착층에 접촉한 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시키거나 상기 제 1 지지테이블을 상승시켜, 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 4-5-1 단계를 더 포함한다.In a preferred embodiment, after the scintillator panel is in contact with the adhesive layer, the second support table is lowered or the first support table is raised to apply a physical pressure to the upper portion of the scintillator panel. It further includes step 5-1.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 진공 해제는 질소 퍼징에 의해 이루어진다.In a preferred embodiment, the vacuum release is by nitrogen purging.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 4-4 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10 mm이다.In a preferred embodiment, the constant distance of steps 4-4 is between 5 mm and 10 mm.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, TFT 패널에 분사되는 실리콘이 중력에 의해 흘러내려 도포되게 함으로써 접착층의 두께를 균일하게 할 수 있으므로 대면적 X선 검출장치의 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the thickness of the adhesive layer can be made uniform by allowing silicon injected into the TFT panel to flow down and applied by gravity, thereby improving the performance of the large-area X-ray detecting apparatus.

또한, 본 발명은 공정이 간소화되어 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect that the process can be simplified to reduce the cost.

따라서, 본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제작이 가능하므로 하나의 X선 검출장치로 구강이나 두부의 세팔로영상, CT영상, 파노라마영상 뿐만 아니라 흉부영 상이나 맘모영상까지 획득할 수 있는 효과가 있다.Therefore, the present invention can manufacture a large-area X-ray detection device, so that one X-ray detection device can obtain chest images or mammoth images as well as cephaloscopic images, CT images, and panoramic images of the oral cavity or head. have.

또한, 본 발명에 의하면 제 2 지지테이블을 하강시켜 한번 압력을 가하고, 질소퍼징에 의해 재차 압력을 가함으로써 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 접착성을 높일 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, the second support table is lowered to apply pressure once, and the pressure is again applied by nitrogen purging to increase the adhesion between the sensor panel and the scintillator panel.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 가시 광선 신호를 전기신호로 변환하는 수단으로 다양한 수단을 이용할 수 있지만 TFT를 이용하는 것이 일반적이므로, 본 발명에서는 센서 패널로서 TFT 패널을 이용하여 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Various means can be used as a means for converting a visible light signal into an electric signal, but since TFTs are generally used, the present invention will be described using a TFT panel as a sensor panel.

도 1은 본 발명의 실시예들에 의해 제작된 대면적 X선 검출장치를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a large area X-ray detection device manufactured by embodiments of the present invention.

도 1을 참조하면 본 발명의 실시예들에 의해 제작된 대면적 X선 검출장치(100)는 TFT 패널(110), 신틸레이터 패널(120) 및 접착층(130)을 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 1, a large area X-ray detecting apparatus 100 manufactured by embodiments of the present invention includes a TFT panel 110, a scintillator panel 120, and an adhesive layer 130.

상기 TFT 패널(110)은 광전변환 패널로써 가시광선을 받아들여 일정한 전기신호를 출력하는 다수 개의 TFT로 이루어진 패널이다.The TFT panel 110 is a panel including a plurality of TFTs that receive visible light and output a constant electric signal as a photoelectric conversion panel.

즉, 상기 TFT 패널(110)은 다수 개의 광전변환 소자를 포함하여 이루어진 패널이다.That is, the TFT panel 110 is a panel including a plurality of photoelectric conversion elements.

따라서 상기 TFT 패널(110)은 광전효과를 내는 소자들로 이루어진 패널이라 면 어떠한 패널이라도 가능하다. Accordingly, the TFT panel 110 may be any panel as long as the panel is formed of elements that produce a photoelectric effect.

예를 들면, TFT를 이용한 TFT 패널(110)뿐만 아니라 CCD, CMOS, 포토다이오드 등으로 구성되는 패널로 이루어질 수 있다.For example, the panel may be formed of not only a TFT panel 110 using a TFT but also a CCD, a CMOS, a photodiode, and the like.

이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다. 또한, 상기 신틸레이터 패널(130) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다. In this case, the TFT panel 140 has a large area TFT panel having a length of 8 to 20 inches and a width of 8 to 20 inches. In addition, the scintillator panel 130 also used a large area scintillator panel having a length of 8 to 20 inches in both length and width.

즉, 본 발명은 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상인 센서패널과, 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 신틸레이터 패널을 이용하여 접합함으로써 초대형 X선 검출장치를 제조할 수 있 수 있다. 한편, 바람직한 실시예로서 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이가 8×8 인치, 10×12 인치 또는 17×17 인치인 대면적 X선 검출장치를 제조할 수 있다.That is, the present invention can manufacture a super-large X-ray detection apparatus by bonding using a sensor panel having a length of 20 inches or more and a scintillator panel having a length of 20 inches or more, respectively. On the other hand, as a preferred embodiment, a large-area X-ray detection apparatus having a length × width of the sensor panel and the scintillator panel having a length of 8 × 8 inches, 10 × 12 inches, or 17 × 17 inches can be manufactured.

따라서, 본 발명의 실시예들에 의해 제작된 X선 이미지센서(100)는 대면적의 X선 검출장치이므로 구강이나 두부의 세팔로영상, CT영상, 파노라마영상뿐만 아니라 흉부영상이나 맘모영상까지 획득할 수 있는 장점이 있다.Therefore, the X-ray image sensor 100 manufactured by the embodiments of the present invention is a large-area X-ray detection device, so the cephalo image, CT image, panoramic image of the oral cavity or head is obtained as well as chest image or mammoth image. There is an advantage to this.

상기 신틸레이터 패널(120)은 X선(10)을 가시광선으로 변환하는 패널로써 방사선이 입사되어 부딪히면 가시광선을 발하는 형광물질로 이루어지는데, 상기 형광물질의 종류에 따라, 무기 신틸레이터와 유기 신틸레이터로 구분된다.The scintillator panel 120 is a panel that converts the X-rays 10 into visible light, and is made of a fluorescent material that emits visible light when the radiation is incident and collides. According to the type of the fluorescent material, an inorganic scintillator and an organic scintillator are used. It is classified as a rater.

일반적으로, 상기 무기 신틸레이터는 NaI, ZnS 등으로 이루어지고, 유기 신틸레이터는 CsI나 LiI로 이루어진다.In general, the inorganic scintillator is made of NaI, ZnS and the like, and the organic scintillator is made of CsI or LiI.

본 발명의 실시예들에서는 상기 신틸레이터 패널(120)은 CsI로 이루어지는 신틸레이터 패널(120)을 사용하였다.In the embodiments of the present invention, the scintillator panel 120 uses a scintillator panel 120 made of CsI.

또한, 상기 신틸레이터 패널은(120) 일반적으로 X선(10)을 투과하는 알루미늄플레이트(121)과 상기 알루미늄플레이트(121) 하부에 형성된 CsI층으로 이루어져 있다.In addition, the scintillator panel 120 generally includes an aluminum plate 121 that transmits X-rays 10 and a CsI layer formed under the aluminum plate 121.

상기 접착층(130)은 상기 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 패널(120)을 접착하는 역할을 한다.The adhesive layer 130 serves to bond the TFT panel 110 and the scintillator panel 120.

또한, 상기 접착층(130)은 액체나 겔 상태의 접착제(20)가 상기 TFT 패널(110)의 전면에 도포되는 것이 아니라 일부분에 분사되어 흘러내리게 함으로써 균일한 두께의 접착층(130)으로 형성된다.In addition, the adhesive layer 130 is formed of an adhesive layer 130 having a uniform thickness by allowing the adhesive 20 in a liquid or gel state to be sprayed on a portion of the TFT panel 110 instead of being applied to the entire surface of the TFT panel 110.

제세한 설명은 도 2 및 도 3을 참조하여 하기로 한다.Detailed description will be given with reference to FIGS. 2 and 3.

또한, 상기 접착제는 실리콘(20)을 사용한다.In addition, the adhesive uses silicon (20).

즉, 종래에는 상기 접착층(130)이 상기 TFT 패널(110)에 부분에서 전체로 접착제를 직접 도포하는 방식으로 이루어지므로 상기 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 패널(120)을 균일한 두께로 접착하는 것은 매우 문제점이 있었던 것이다.That is, in the related art, the adhesive layer 130 is formed in such a manner as to directly apply an adhesive to the TFT panel 110 in its entirety, thereby bonding the TFT panel 110 and the scintillator panel 120 to a uniform thickness. It was very problematic to do.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining a method for manufacturing a large area X-ray detection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 먼저, TFT 패널(110)을 전면이 공간상의 수평면과 일정한 각도를 이루도록 세워 구비한다. Referring to FIG. 2, the manufacturing method of the large-area X-ray detecting apparatus according to the first embodiment of the present invention is first provided with the TFT panel 110 standing up so that the entire surface thereof forms a constant angle with a horizontal plane in space.

본 발명의 제 1 실시예에서는 상기 실리콘(20)이 상기 TFT 패널(110)의 전면 상부에 하부로 잘 흘러내릴 수 있도록 수직으로 세워 구비하였다.In the first embodiment of the present invention, the silicon 20 is provided vertically so that the silicon 20 flows down to the top of the front of the TFT panel 110 well.

다음, 상기 실리콘 분사기(30)를 이용하여 상기 TFT 패널(110)의 전면 상부에 실리콘(20)을 분사한다. 또한, 상기 TFT 패널(110)의 전면 테두리에는 본딩부보호턱(140)를 구비하여 상기 테두리에는 상기 실리콘(20)이 도포되지 않도록 한다. Next, silicon 20 is sprayed on the front surface of the TFT panel 110 using the silicon injector 30. In addition, the front edge of the TFT panel 110 is provided with a bonding portion protection jaw 140 to prevent the silicon 20 is applied to the edge.

그 이유는 일반적인 TFT 패널(110)은 전면 테두리의 일정부분에 외부의 기판들(도시하지 않음)을 연결할 수 있는 본딩부(Outline bonding)가 있는데 상기 본딩부에 상기 실리콘(20)이 도포되게 되면 상기 외부의 기판들(도시하지 않음)의 연결이나 교체가 용이하지 않기 때문이다.The reason is that the general TFT panel 110 has a bonding portion (Outline bonding) for connecting external substrates (not shown) to a predetermined portion of the front edge, when the silicon 20 is applied to the bonding portion This is because connection or replacement of the external substrates (not shown) is not easy.

또한, 상기 본딩부보호턱(140)은 상기 TFT 패널(110)의 전면 테두리 전체를 커버하도록 도시되어 있지만, 상기 본딩부가 형성된 부분만을 커버하도록 구비될 수 있다.In addition, although the bonding portion protection jaw 140 is illustrated to cover the entire front edge of the TFT panel 110, the bonding portion protection jaw 140 may be provided to cover only the portion where the bonding portion is formed.

다음, 상기 TFT 패널(110)의 전면 상단에 분사된 실리콘(20)이 중력에 의해 상기 TFT 패널(110)의 전면 하단으로 흘러내려 상기 실리콘(20)이 상기 TFT 패널(110)의 전면에 일정한 두께의 접착층(130)을 형성한다.Next, the silicon 20 sprayed on the upper front of the TFT panel 110 flows down to the lower front of the TFT panel 110 by gravity so that the silicon 20 is uniform on the front of the TFT panel 110. An adhesive layer 130 having a thickness is formed.

즉, 상기 실리콘 분사기(30)가 이동하며 상기 TFT 패널(110) 전면에 실리콘을 도포하는 종래의 방법과 비교하여 공정이 간소하고, 상기 실리콘(20)이 중력에 의해 흘러내리므로 균일한 두께의 접착층(130)을 형성하는 데 용이하다.In other words, the process of the silicon injector 30 is moved and the process is simpler than the conventional method of coating silicon on the entire surface of the TFT panel 110. Since the silicon 20 flows down by gravity, It is easy to form the adhesive layer 130.

또한, 상기 접착층(130)의 두께는 10㎛ 내지 40㎛ 사이의 두께를 가지도록 상기 실리콘(20)을 분사한다.In addition, the thickness of the adhesive layer 130 is sprayed to the silicon 20 to have a thickness between 10 40㎛.

다음, 상기 접착층(130)을 위쪽으로 하여 상기 TFT 패널(110)을 진공챔버 내부에 눕혀 구비하고, 상기 접착층(130)의 일 측 상부에 상기 신틸레이터 패널(120)의 일 측 하부를 접촉시키고, 상기 신틸레이터 패널(120)의 일 측 상부에 롤러(40)를 위치시킨다.Next, the TFT panel 110 is laid on the inside of the vacuum chamber with the adhesive layer 130 upward, and one side lower portion of the scintillator panel 120 is in contact with an upper portion of the adhesive layer 130. The roller 40 is positioned on one side of the scintillator panel 120.

다음, 상기 롤러(40)가 상기 신틸레이터 패널(120)의 타 측 상부까지 접촉한 상태로 회전하여 이동하고 상기 신틸레이터 패널(120)의 하면이 상기 접착층(130)의 상면에 밀착된다.Next, the roller 40 is rotated and moved in contact with the other side of the scintillator panel 120 and the bottom surface of the scintillator panel 120 is in close contact with the upper surface of the adhesive layer 130.

다음, 상기 접착층(130)이 경화되고 상기 접착층(130)에 의해 상기 TFT패널(110)과 상기 신틸레이터 패널(130)이 접착된다.Next, the adhesive layer 130 is cured and the TFT panel 110 and the scintillator panel 130 are bonded by the adhesive layer 130.

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining a manufacturing method of a large area X-ray detection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 롤러 압착에 의한 방법이라면 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방은 진공챔버(200) 내부에서 진공압착에 의한 방법으로 이루어진다.If the manufacturing method of the large-area X-ray detection apparatus according to the first embodiment of the present invention is a roller pressing method, the room for manufacturing the large-area X-ray detection apparatus according to the second embodiment of the present invention is a vacuum chamber 200. By vacuum compression method.

이하에서는 상기 TFT 패널(110)에 접착층(130)을 형성하는 과정은 본 발명의 제 1 실시예와 동일하므로 설명을 생략하기로 한다.Hereinafter, the process of forming the adhesive layer 130 on the TFT panel 110 is the same as that of the first embodiment of the present invention and will not be described.

도 3을 참조하면 먼저 접착층(130)이 형성된 TFT 패널(110)을 상기 접착층(130)을 위쪽으로 하여 진공챔버(200)에 구비된 제 1 지지테이블(120) 상에 놓고, 신틸레이터 패널(120)은 제 2 지지테이블(220)을 이용하여 상기 TFT 패널(110)과 이격된 상부에 위치시킨다.Referring to FIG. 3, first, the TFT panel 110 having the adhesive layer 130 is placed on the first support table 120 provided in the vacuum chamber 200 with the adhesive layer 130 facing upward, and the scintillator panel ( 120 is positioned above the TFT panel 110 using the second support table 220.

상기 제 2 지지테이블(220)은 하부에 압력을 전달할 수 있는 홀이 형성되어 있고 내부에는 상기 홀과 연결된 공동이 구비되어 있어 제 1 진공펌프(도시하지 않음)에 의한 압력 조절에 의해 하부 면에 상기 신틸레이터 패널(120)을 흡인할 수 있는 진공 척이다. The second support table 220 has a hole formed therein for transmitting pressure therein and a cavity connected to the hole therein so that the second support table 220 is provided on the lower surface by pressure control by a first vacuum pump (not shown). It is a vacuum chuck capable of sucking the scintillator panel 120.

그러나 상기 제 2 지지테이블(220)은 정전기적 현상으로 상기 신틸레이터 패널(120)을 끌어당기는 정전기 척으로 구비될 수도 있다.However, the second support table 220 may be provided as an electrostatic chuck pulling the scintillator panel 120 due to an electrostatic phenomenon.

다음, 제 2 진공펌프(도시하지 않음)를 이용하여 상기 진공챔버(200) 내부를 진공상태로 만든다.Next, the inside of the vacuum chamber 200 is made into a vacuum state by using a second vacuum pump (not shown).

다음, 상기 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 페널(120)의 거리가 일정한 거리가 될 때까지 상기 제 2 지지테이블(200)을 하강시킨다.Next, the second support table 200 is lowered until the distance between the TFT panel 110 and the scintillator panel 120 becomes a constant distance.

본 발명의 제 2 실시예에서는 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 페널(120)의 거리가 5mm 내지 10mmm사이의 거리가 될 때까지 상기 제 2 지지테이블(200)을 하강시켰다. 그 이유는 상기 신틸레이터 패널(120)을 진공에서 자유낙하시켜 상기 접착층(130)에 균일하게 접촉하게 하기 위함이다.In the second embodiment of the present invention, the second support table 200 is lowered until the distance between the TFT panel 110 and the scintillator panel 120 is between 5 mm and 10 mm mm. The reason is to freely drop the scintillator panel 120 in a vacuum so that the scintillator panel 120 is in uniform contact with the adhesive layer 130.

한편, 상기 제 2 지지테이블(220)은 모터(221)와 외부에 나사가 형성되어 상기 모터(221)의 회전에 의해 상하로 이동하는 이동바(222)에 의해 하강한다.On the other hand, the second support table 220 is lowered by a moving bar 222, which is formed with a screw on the motor 221 and the outside and moves up and down by the rotation of the motor 221.

그러나 상기 모터(221)는 유압 액츄에이터, 공압 액츄에이터등 상기 제 2 지지 테이블(220)을 상하로 이동하게 할 수 있는 수단이라면 어떠한 수단도 가능하다.However, the motor 221 may be any means as long as it can move the second support table 220 up and down, such as a hydraulic actuator, a pneumatic actuator.

다음, 상기 제 2 지지테이블(220) 내부의 압력을 해제하고, 상기 신틸레이터 패널(120)이 자유 낙하하게 하여 상기 신틸레이터 패널(120)을 상기 접착층(130)에 접촉시킨다.Next, the pressure inside the second support table 220 is released and the scintillator panel 120 freely falls to contact the scintillator panel 120 with the adhesive layer 130.

다음, 상기 제 2 지지테이블(220)을 하강시켜 물리적으로 상기 신틸레이터 패널(120)에 압력을 가하여 상기 신틸레이터 패널(120)이 상기 접착층(130)에 균일하게 접촉되도록 한다.Next, the second support table 220 is lowered to physically apply pressure to the scintillator panel 120 so that the scintillator panel 120 is in uniform contact with the adhesive layer 130.

다음, 퍼징수단(도시하지 않음)에 의해 상기 진공챔버(200) 내부의 진공을 해제하여 상기 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 패널(120)이 진공압착 되게 한다.Next, the vacuum inside the vacuum chamber 200 is released by purging means (not shown) so that the TFT panel 110 and the scintillator panel 120 are vacuum compressed.

또한, 상기 퍼징수단(도시하지 않음)은 상기 진공챔버(200) 내부로 질소를 유입하여 상기 진공챔버(200)의 내부압력을 상승시키는 질소퍼징 수단이다.In addition, the purging means (not shown) is nitrogen purging means for increasing the internal pressure of the vacuum chamber 200 by introducing nitrogen into the vacuum chamber 200.

한편, 상기 제 2 지지테이블(220)을 하강시켜 물리적으로 상기 신틸레이터 패널(120)에 압력을 가하는 단계와 상기 질소퍼징의 단계는 서로 순서가 바뀔 수 있다.Meanwhile, the steps of physically applying pressure to the scintillator panel 120 by descending the second support table 220 and the steps of nitrogen purging may be reversed.

따라서, 상기 제 2 지지테이블(220)을 하강시켜 한번 압력이 가해지고, 질소퍼징에 의해 재차 압력을 가해지므로 상기 TFT 패널(110)과 상기 신틸레이터 패널(120)의 접착성을 높일 수 있는 효과가 있다.Therefore, since the pressure is applied once by lowering the second support table 220, and the pressure is applied again by nitrogen purging, the adhesion between the TFT panel 110 and the scintillator panel 120 can be improved. There is.

본 발명의 실시예에 따른 X선 검출장치의 제조방법에 의해 제조된 대면적 X선 검출장치는 치과용 장비 예를 들면, 파노라마 장치, CT 장치 및 세팔로 장치 등 다양한 장비에 응용될 수 있을 뿐만 아니라, 흉부 X선 촬영장치나 맘모 장치 등과 의료용 장비에도 다양하게 적용될 수 있다. The large-area X-ray detection device manufactured by the manufacturing method of the X-ray detection device according to the embodiment of the present invention may be applied to various equipments such as dental equipment, for example, a panoramic device, a CT device, and a cephalo device. In addition, it can be applied to a variety of medical equipment such as chest X-ray apparatus or mammoth device.

특히, 17×17 인치의 대면적 X선 검출장치를 이용할 경우, 17×17 인치의 신 틸레이터 패널과 17×17 인치의 센서 패널을 각각 4장씩 붙여 사용하면 초대형 X선 검출장치를 제조할 수도 있다. In particular, when using a 17 x 17 inch large area X-ray detector, a super large X-ray detector can be manufactured by attaching four 17 x 17 inch scintillator panels and 17 x 17 inch sensor panels. have.

이상에서, 본 발명의 구성 및 동작을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the configuration and operation of the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely described, for example, and various changes and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the present invention. .

도 1은 본 발명의 실시예들에 의해 제작된 대면적 X선 검출장치를 보여주는 도면,1 is a view showing a large area X-ray detection device manufactured by embodiments of the present invention,

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면,2 is a view for explaining a manufacturing method of a large-area X-ray detection apparatus according to a first embodiment of the present invention,

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining a manufacturing method of a large area X-ray detection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 도면들에서 실질적으로 동일한 구성과 기능을 가진 구성요소들에 대하여는 동일한 참조부호를 사용한다.In the drawings according to the present invention, the same reference numerals are used for components having substantially the same configuration and function.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10:X선 20:실리콘10: X-ray 20: Silicone

30:실리콘 분사기 40:롤러30: silicon injector 40: roller

100:대면적 X선 검출장치 110:TFT 패널100: large area X-ray detector 110: TFT panel

120:신틸레이터 패널 130:접착층120: scintillator panel 130: adhesive layer

140:본딩부 보호턱 200:진공챔버140: bonding jaw 200: vacuum chamber

210:제 1 지지테이블 220:제 2 지지테이블210: first support table 220: second support table

Claims (11)

X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of a large-area X-ray detection apparatus for detecting an X-ray to obtain an image, 가시광선을 받아들여 일정한 전기신호를 출력하는 센서 패널의 전면이 공간상의 수평면과 일정한 각도를 이루도록 세워 구비하는 제 1 단계;A first step of providing a front surface of a sensor panel that receives visible light and outputs a constant electric signal to form a predetermined angle with a horizontal plane in space; 상기 센서 패널의 전면 상부에 접착제를 분사하는 제 2 단계;Spraying an adhesive on the front surface of the sensor panel; 상기 분사된 접착제가 상기 센서 패널의 전면 상부에서 전면 하부로 흘러내려 일정한 두께의 접착층을 형성하는 제 3 단계; 및A third step of spraying the sprayed adhesive from the top of the front of the sensor panel to the bottom of the front to form an adhesive layer having a predetermined thickness; And 상기 접착층의 전면에 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널을 접착하는 제 4 단계;를 포함하고,And a fourth step of adhering a scintillator panel for converting X-rays into visible light on the entire surface of the adhesive layer. 상기 제 4 단계는:The fourth step is: 상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 위치시키는 제 4-1 단계;Step 4-1 of positioning the sensor panel with the adhesive layer upward; 상기 접착층의 일 측 상부에 상기 신틸레이터 패널의 일 측 하부를 접촉시키는 제 4-2 단계;Step 4-2 of contacting the bottom of one side of the scintillator panel on the top of one side of the adhesive layer; 상기 신틸레이터 패널의 일 측 상부에 롤러를 위치시키는 제 4-3 단계;Placing a roller on an upper portion of one side of the scintillator panel; 상기 롤러가 상기 신틸레이터 패널의 일 측 상부에 접촉되고, 상기 신틸레이터 패널의 타 측 상부까지 회전하며 이동하여 상기 신틸레이터 패널의 하면과 상기 접착층의 상면이 밀착되는 제 4-4 단계; 및A fourth step of the roller contacting the upper part of the scintillator panel and rotating and moving to the upper part of the scintillator panel to contact the lower surface of the scintillator panel with the upper surface of the adhesive layer; And 상기 접착층이 경화되어 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널이 접착되는 제 4-5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.And a fourth step of attaching the sensor panel to the scintillator panel by curing the adhesive layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 3 단계의 접착층의 두께는 10㎛ 내지 40㎛ 인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The thickness of the adhesive layer of the third step is a manufacturing method of a large area X-ray detection apparatus, characterized in that 10㎛ to 40㎛. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The horizontal and vertical lengths of the sensor panel are 8 to 20 inches, respectively, and the horizontal and vertical lengths of the scintillator panel are 8 to 20 inches, respectively. . 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The length of the width X length of the said sensor panel and the said scintillator panel is any one of 8x8 inch, 10x12 inch, and 17x17 inch. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 접착제는 실리콘인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The adhesive is a manufacturing method of a large area X-ray detection apparatus, characterized in that the silicon. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 4 단계는 진공챔버 내부에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The fourth step is a manufacturing method of a large area X-ray detection apparatus, characterized in that the inside of the vacuum chamber. X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of a large-area X-ray detection apparatus for detecting an X-ray to obtain an image, 가시광선을 받아들여 일정한 전기신호를 출력하는 센서 패널의 전면이 공간상의 수평면과 일정한 각도를 이루도록 세워 구비하는 제 1 단계;A first step of providing a front surface of a sensor panel that receives visible light and outputs a constant electric signal to form a predetermined angle with a horizontal plane in space; 상기 센서 패널의 전면 상부에 접착제를 분사하는 제 2 단계;Spraying an adhesive on the front surface of the sensor panel; 상기 분사된 접착제가 상기 센서 패널의 전면 상부에서 전면 하부로 흘러내려 일정한 두께의 접착층을 형성하는 제 3 단계; 및A third step of spraying the sprayed adhesive from the top of the front of the sensor panel to the bottom of the front to form an adhesive layer having a predetermined thickness; And 상기 접착층의 전면에 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널을 접착하는 제 4 단계;를 포함하고,And a fourth step of adhering a scintillator panel for converting X-rays into visible light on the entire surface of the adhesive layer. 상기 제 4 단계는:The fourth step is: 상기 접착층을 위쪽으로 하여 상기 센서 패널을 진공챔버의 제 1 지지테이블 상에 구비하는 제 4-1 단계;A fourth step of providing the sensor panel on the first support table of the vacuum chamber with the adhesive layer upward; 상기 진공챔버의 내부에서 제 2 지지테이블을 이용하여 상기 신틸레이터 패널을 상기 센서 패널과 이격된 상부에 위치시키는 제 4-2 단계;A step 4-2 in which the scintillator panel is positioned above the sensor panel by using a second support table in the vacuum chamber; 상기 진공챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 4-3 단계;Step 4-3 of making the inside of the vacuum chamber into a vacuum state; 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 거리가 일정한 거리를 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 4-4 단계;4-4 step of lowering the second support table until the distance between the sensor panel and the scintillator panel is a constant distance; 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 4-5 단계; 및A step 4-5 of releasing the support of the second support table and dropping the scintillator panel to contact the scintillator panel with the adhesive layer; And 상기 진공챔버 내의 진공을 해제하여 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널을 압착하는 제 4-6 단계를 포함하는 것을 특징을 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.And releasing the vacuum in the vacuum chamber to compress the sensor panel and the scintillator panel. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제 4-5 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 4-5-1 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.Manufacturing a large area X-ray detection apparatus further comprises the step 4-5-1 of lowering the second support table after the step 4-5 to apply a physical pressure to the upper portion of the scintillator panel Way. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 4-6 단계의 진공 해제는 질소 퍼징에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The vacuum release of the step 4-6 is a method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus, characterized in that by nitrogen purging. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제 4-4 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10 mm인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.The method of manufacturing a large area X-ray detection apparatus, characterized in that the constant distance of the 4-4 step is 5mm to 10mm.
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