KR100990878B1 - Barc photo resist drain device and drain method of a semiconductor photo equipment - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법에 관한 것으로서, 코터 컵(10)의 하부로 설치되어 감광제가 배출되는 메인 드레인라인(20)과, 메인 드레인라인(20) 상에 설치되는 삼방향밸브(30)와, 삼방향밸브(30)의 하단에 각각 설치되는 제 1, 2 드레인라인(40)(50)과, 제 1 드레인라인(40)을 통하여 배출되는 감광제를 받아내는 제 1 드레인바틀(44)과, 제 2 드레인라인(50)을 통하여 배출되는 감광제를 받아내는 제 2 드레인바틀(54)과, 삼방향밸브(30)를 제어하여 감광제의 배출 방향을 결정하는 콘트롤러부(60)를 포함한다. 따라서 복수의 드레인 바틀을 사용하고, 그 복수의 드레인 바틀을 오버플로우 에러 없이 효과적으로 사용함으로서, 드레인의 에러로 공정이 지연되는 현상이 방지되어 생산성 향상의 효과가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist drain device and a drain method of a semiconductor photo equipment. First to receive the photosensitizer discharged through the directional valve 30, the first and second drain lines 40, 50, 50, respectively installed on the lower end of the three-way valve 30, A controller part for determining the discharge direction of the photosensitive agent by controlling the drain bottle 44, the second drain bottle 54 which receives the photosensitive agent discharged through the second drain line 50, and the three-way valve 30 ( 60). Therefore, by using a plurality of drain bottles and effectively using the plurality of drain bottles without an overflow error, a phenomenon in which a process is delayed due to a drain error can be prevented, thereby improving productivity.

Description

반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법{BARC PHOTO RESIST DRAIN DEVICE AND DRAIN METHOD OF A SEMICONDUCTOR PHOTO EQUIPMENT}Photoresist drain device and drain method of semiconductor photo equipment {BARC PHOTO RESIST DRAIN DEVICE AND DRAIN METHOD OF A SEMICONDUCTOR PHOTO EQUIPMENT}

도 1은 종래의 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치를 나타낸 구성도이고,1 is a block diagram showing a photoresist drain device of a conventional semiconductor photo equipment,

도 2는 본 발명에 따른 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치의 구성도이고,2 is a configuration diagram of a photosensitive agent drain device of the semiconductor photo equipment according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 방법을 나타낸 플로우챠트이다.3 is a flowchart illustrating a method of draining a photoresist of semiconductor photo equipment according to the present invention.

＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명＞Description of the Related Art

10 : 코터 컵 20 : 메인 드레인라인10: coater cup 20: main drain line

30 : 삼방향밸브(3-way valve) 32 : 에어 콘트롤30: 3-way valve 32: air control

40, 50 : 제 1, 2 드레인라인 42, 52 : 제 1, 2 조인트40, 50: first and second drain lines 42, 52: first and second joints

44, 54 : 제 1, 2 드레인바틀(drain bottle) 44, 54: first and second drain bottles

46, 56 : 제 1, 2 액체감지센서 60 : 콘트롤러부46, 56: first and second liquid detection sensor 60: controller

70 : 솔벤트라인70: Solvent Line

본 발명은 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 감광제의 드레인 풀(full) 에러로 인하여 장비 가동이 중단되는 것을 방지한 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photoresist drain device and a drain method of the semiconductor photo equipment, and more particularly, to a photoresist drain device and a drain method of the semiconductor photo equipment, which prevents the operation of the equipment due to the drain full error of the photoresist. It is about.

일반적으로 반도체 포토 공정 중 바크(barc) 코팅시 드레인 되어지는 barc photo resist 및 PGMEA(backrinse & strip용 thinner)가 있는데 barc photo resist 는 점도가 높은 성분상 자동 드레인 시스템을 사용할 수 없다. 따라서 코팅시 드레인 되어지는 barc photo resist 및 PGMEA를 드레인 바틀(drain bottle)로 받아내고 있다.In general, there are barc photo resist and PGMEA (thinner for backrinse & strip) which are drained during barc coating during semiconductor photo process. Barc photo resist cannot use automatic drain system due to its high viscosity. Therefore, barc photoresist and PGMEA, which are drained during coating, are taken as a drain bottle.

도 1은 종래의 감광제 드레인 장치를 나타낸 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a conventional photoresist drain device.

감광제 수납용기(1) 내의 감광제는 필터 하우징(2)을 거쳐 코터 컵(3)의 웨이퍼 척(4)에 안착된 웨이퍼(W) 상면에 도포된다.The photosensitive agent in the photosensitive agent storage container 1 is applied to the upper surface of the wafer W seated on the wafer chuck 4 of the coater cup 3 via the filter housing 2.

이때, 웨이퍼(W) 상면에 분사되는 감광제 중 도포되고 남은 감광제는 코터 컵(3) 하부로 모인 다음 공정 진행 후, 드레인 라인(5)을 통하여 드레인 바틀(6)로 빠져나가게 된다.At this time, the remaining photoresist of the photoresist sprayed on the upper surface of the wafer W is collected under the coater cup 3 and then proceeds to the drain bottle 6 through the drain line 5 after the process proceeds.

한편, 드레인 바틀(6)에 감광제가 다 차면, 액체감지센서(7)를 통하여 알람이 발생되며, 이 알람을 확인하여 공정을 일시 중지시킨다. 그리고 조인트(8)부로 드레인 라인(5)을 일부 들어 올려서 새로운 드레인 바틀(6)로 교체한다.On the other hand, when the photosensitive agent fills the drain bottle 6, an alarm is generated through the liquid sensor 7, and the alarm is confirmed to suspend the process. The drain line 5 is partially lifted by the joint 8 to be replaced with a new drain bottle 6.

이처럼 하루에 평균 6건 정도의 드레인 바틀(6)의 풀(full) 에러 발생시 새 로운 드레인 바틀(6)의 교체 시간까지 공정이 중지되는 문제점이 있었다.As such, when a full error of the drain bottle 6 occurs on an average of about 6 cases per day, the process was stopped until the replacement time of the new drain bottle 6.

또한, 사람이 일일이 에러 발생을 확인하고, 작업하는 것이기 때문에 에러요소 제거 시간이 더욱 지연되고 있다. In addition, the error element removal time is further delayed because a person checks an error occurrence and works.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 복수의 드레인 바틀을 사용하고, 그 복수의 드레인 바틀을 오버플로우 에러 없이 효과적으로 사용하기 위한 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, and provides a photoresist drain device and a drain method of semiconductor photo equipment for using a plurality of drain bottles and effectively using the plurality of drain bottles without overflow errors. Its purpose is to.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 코터 컵 내에서 웨이퍼에 도포되고 남은 감광제를 배출하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치에 있어서, 코터컵의 하부로 설치되어 감광제가 배출되는 메인 드레인라인과, 메인 드레인라인 상에 설치되는 삼방향밸브와, 삼방향밸브의 하단에 각각 설치되는 제 1, 2 드레인라인과, 제 1 드레인라인을 통하여 배출되는 감광제를 받아내는 제 1 드레인바틀과, 제 2 드레인라인을 통하여 배출되는 감광제를 받아내는 제 2 드레인바틀과, 삼방향밸브를 제어하여 감광제의 배출 방향을 결정하는 콘트롤러부를 포함하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, in the photosensitive agent drain device of the semiconductor photo equipment for discharging the remaining photosensitive agent applied to the wafer in the coater cup, the main drain line is installed in the lower portion of the coater cup and the photosensitive agent is discharged; A three-way valve provided on the main drain line, first and second drain lines respectively provided at a lower end of the three-way valve, a first drain bottle receiving the photosensitive agent discharged through the first drain line, and a second drain It provides a photoresist drain device for semiconductor photo equipment including a second drain bottle for receiving the photosensitive agent discharged through the line, and a controller unit for controlling the three-way valve to determine the discharge direction of the photosensitive agent.

또한, 본 발명은 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 방법에 있어서, (a) 감광제를 드레인바틀에 드레인시키기 위하여 초기화하는 단계와, (b) 드레인바틀의 풀(full) 신호를 체크하는 단계와, (c) 풀 신호의 존재 여부를 확인하는 단계와, (d)풀 신호의 종별을 판별하는 단계와, (e) 감광제의 드레인 경로를 변경하는 단계 와, (f)경보가 발생하는 단계를 포함하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for draining a photoresist of semiconductor photo equipment, comprising the steps of: (a) initializing the photoresist to drain into the drain bottle, (b) checking a full signal of the drain bottle, and (c) A semiconductor signal comprising the steps of: checking for the presence of a full signal; (d) determining the type of the full signal; (e) changing the drain path of the photosensitive agent; and (f) generating an alarm. Provided is a method of draining a photoresist of photo equipment.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치의 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 방법을 나타낸 플로우챠트이다.2 is a configuration diagram of a photosensitive agent drain apparatus of the semiconductor photo equipment according to the present invention, and FIG. 3 is a flowchart illustrating a photosensitive agent drain method of the semiconductor photo equipment according to the present invention.

본 발명에 따른 드레인 장치는 도 2에 도시된 바와 같이, 감광제 수납용기(1) 내의 감광제는 필터 하우징(2)을 거쳐 코터 컵(10)의 웨이퍼 척(4)에 안착된 웨이퍼(W) 상면에 도포된다.In the drain apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 2, the photosensitive agent in the photosensitive agent accommodating container 1 passes through the filter housing 2 and is disposed on the wafer chuck 4 of the coater cup 10. Is applied to.

여기서 코터 컵(10)의 하부로 이어져서 감광제가 배출되는 메인 드레인라인(20)이 설치되고, 이 메인 드레인라인(20) 상에 삼방향밸브(30)가 설치된다.Here, the main drain line 20 is connected to the lower portion of the coater cup 10 to discharge the photosensitive agent, and a three-way valve 30 is installed on the main drain line 20.

삼방향밸브(30)는 에어로 작동되는 에어 컨트롤(32)이 구비되어 유로를 변경할 수 있는 것이다.The three-way valve 30 is provided with an air operated air control 32 to change the flow path.

그리고 삼방향밸브(30)의 하단에 각각 제 1, 2 드레인라인(40)(50)이 설치된다. First and second drain lines 40 and 50 are respectively installed at the lower ends of the three-way valves 30.

제 1 드레인라인(40)에는 교체 가능한 제 1 드레인바틀(44)이 설치되며, 제 2 드레인라인(50)에는 교체 가능한 제 2 드레인바틀(54)이 설치된다. A replaceable first drain bottle 44 is installed in the first drain line 40, and a replaceable second drain bottle 54 is installed in the second drain line 50.                     

그리고 제 1 드레인라인(40) 상에는, 제 1 드레인바틀(44)의 감광제 풀(full) 시 제 1 드레인라인(40)을 일부 들어 올려서 제 1 드레인바틀(44)의 교체가 가능하도록 하는 제 1 조인트(42)가 설치된다.In addition, on the first drain line 40, the first drain line 40 may be partially lifted by lifting part of the first drain bottle 44 so that the first drain bottle 44 may be replaced. The joint 42 is installed.

또한, 제 2 드레인라인(50) 상에는, 제 2 드레인바틀(54)의 감광제 풀(full) 시 제 2 드레인라인(50)을 일부 들어 올려서 제 2 드레인바틀(54)의 교체가 가능하도록 하는 제 2 조인트(52)가 설치된다.In addition, on the second drain line 50, a part of the second drain line 50 which is partially lifted when the photoresist of the second drain bottle 54 is full to replace the second drain bottle 54. 2 joints 52 are installed.

그리고 각 제 1, 2 드레인바틀(44)(54)의 근접부에, 제 1 드레인바틀(44)과 제 2 드레인바틀(54) 내부에 채워지는 감광제의 수위를 감지하는 제 1 액체감지센서(46)와 제 2 액체감지센서(56)가 설치된다. In addition, the first liquid detecting sensor for sensing the level of the photosensitive agent filled in the first drain bottle 44 and the second drain bottle 54 in the vicinity of each of the first and second drain bottles 44 and 54 ( 46 and the second liquid detection sensor 56 are installed.

그리고 배출되는 감광제의 응고를 방지하기 위하여 메인 드레인라인(20)의 내부에 솔벤트 라인(70)이 더 설치된다.A solvent line 70 is further installed inside the main drain line 20 to prevent solidification of the photosensitive agent discharged.

한편, 삼방향밸브(30)를 제어하여 감광제의 배출 방향을 결정하는 콘트롤러부(60)가 설치된다.On the other hand, the controller 60 for controlling the three-way valve 30 to determine the discharge direction of the photosensitive agent is provided.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 로드락 챔버의 엘리베이터 회전방법은 다음과 같다.Elevator rotation method of the load lock chamber according to the present invention configured as described above is as follows.

도 3을 참조하면, (a)상기 감광제를 드레인바틀(44)(54)에 드레인시키기 위하여 초기화하는 단계(100)와, (b)드레인바틀(44)(54)의 풀 신호를 체크하는 단계(200)와, (c)풀 신호의 존재 여부를 확인하는 단계(300)와, (d)풀 신호의 종별을 판별하는 단계(400)와, (e)감광제의 드레인 경로를 변경하는 단계(500)와, (f)경보가 발생하는 단계(600)를 포함한다. Referring to FIG. 3, (a) initializing the photoresist to drain the drain bottles 44 and 54, and (b) checking the full signal of the drain bottles 44 and 54. (200), (c) checking whether the full signal is present (300), (d) determining the type of the full signal (400), and (e) changing the drain path of the photosensitive agent ( 500) and (f) step 600 of generating an alarm.                     

또한, (d)단계에서, (g)모든 드레인바틀(44)(54)에서 풀 신호가 발생하면 장비를 정지시키는 단계(700)와, (h)경보가 발생하는 단계(800)를 더 포함한다.In addition, in step (d), (g) stopping the equipment when a full signal is generated in all the drain bottles 44 and 54 (700), and (h) further comprising the step (800) of generating an alarm. do.

이와 같은 구동을 좀더 자세히 설명하면, 코터 컵(10)에서 안착된 웨이퍼(W) 상면에 도포되고 남은 감광제는 코터 컵(10)의 하부에 모이고, 이어서 메인 드레인라인(20)을 따라 배출된다.In more detail, the driving is applied to the upper surface of the wafer W seated in the coater cup 10 and the remaining photoresist is collected in the lower portion of the coater cup 10 and then discharged along the main drain line 20.

이때, 삼방향밸브(30)의 에어 콘트롤(32)로 하여 제 1 드레인라인(40)을 따라 제 1 드레인바틀(44)로 유입된다.At this time, the air control 32 of the three-way valve 30 flows into the first drain bottle 44 along the first drain line 40.

제 1 드레인바틀(44)에 감광제가 채워지고 있는 동안에는 제 1 액체감지센서(46)의 신호가 발생되지 않으며, 감광제의 풀(full) 시에는 제 1 액체감지센서(46)에서 신호를 콘트롤러부(60)에 보낸다. 콘트롤러부(60)에서는 삼방향밸브(30)의 에어 콘트롤(32)을 작동시켜 제 2 드레인라인(50)을 개방시키게 된다.While the photosensitive agent is filled in the first drain bottle 44, the signal of the first liquid detection sensor 46 is not generated. When the photosensitive agent is full, the first liquid detection sensor 46 sends a signal to the controller unit. Send to 60. In the controller unit 60, the air control 32 of the three-way valve 30 is operated to open the second drain line 50.

따라서 제 2 드레인라인(50)을 따라서 감광제가 제 2 드레인바틀(54)로 유입된다.Therefore, the photosensitive agent flows into the second drain bottle 54 along the second drain line 50.

이때, 제 1 드레인바틀(44)이 풀 상태임을 콘트롤러부(60)에 경보를 표시하며, 이를 작업자가 감지하여 제 1 드레인바틀(44)을 비우게 된다.At this time, an alarm is displayed on the controller unit 60 that the first drain bottle 44 is in a full state, and the operator detects this to empty the first drain bottle 44.

이와 같은 방법으로, 제 2 드레인바틀(54)이 가득 채워지면, 제 2 액체감지센서(56)에서 신호를 콘트롤러부(60)에 보낸다. 콘트롤러부(60)에서는 삼방향밸브(30)의 에어 콘트롤(32)을 작동시켜 제 1 드레인라인(40)을 개방시키게 된다.In this manner, when the second drain bottle 54 is full, the second liquid detection sensor 56 sends a signal to the controller unit 60. In the controller unit 60, the air control 32 of the three-way valve 30 is operated to open the first drain line 40.

또한, 제 2 드레인바틀(54)이 풀 상태임을 콘트롤러부(60)에 경보를 표시하 며, 이를 작업자가 감지하여 제 2 드레인바틀(54)을 비우게 된다.In addition, an alarm is displayed to the controller unit 60 that the second drain bottle 54 is in a full state, and the operator detects this to empty the second drain bottle 54.

그러나 제 1 드레인바틀(44)이나 제 2 드레인바틀(54)이 채워졌음에도 불구하고, 어느 하나가 비워지지 않게 되면, 감광제의 오버 플로우(over flow)를 방지하기 위하여 장비를 정지시키고 경보를 발생시키게 된다. However, even if the first drain bottle 44 or the second drain bottle 54 is not filled, if either does not become empty, the equipment is stopped and an alarm is generated to prevent the overflow of the photoresist. Let's go.

한편, 여기서 삼방향밸브(30) 내에서 제 1, 2 드레인라인(40)(50)의 사용시 어느 하나 라인에 남아 있는 감광제가 응고될 수 있음으로 하여, 솔벤트라인(70)을 통하여 기설정된 시간에 따라 솔벤트를 주입하여 응고를 방지하게 된다.On the other hand, the photoresist remaining in any one of the lines in the three-way valve 30, the use of the first and second drain lines 40, 50 can be solidified, so that the predetermined time through the solvent line 70 Depending on the solvent is injected to prevent solidification.

이처럼 두 개의 드레인바틀로 하여 교대로 배출되는 감광제를 받아냄으로서, 장비를 중단시켜야 하는 문제점이 해결됐다.Thus, the problem of having to stop the equipment was solved by receiving the photoresist discharged alternately by using two drain bottles.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상술한 실시 예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하 청구범위에 기재된 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변경실시가 가능할 것이다.Although the present invention has been illustrated and described with respect to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and a person skilled in the art to which the present invention pertains has the present invention set forth in the claims below. Various modifications may be made without departing from the spirit of the invention.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명인 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치 및 드레인 방법은, 복수의 드레인 바틀을 사용하고, 그 복수의 드레인 바틀을 오버플로우 에러 없이 효과적으로 사용함으로서, 드레인의 에러로 공정이 지연되는 현상이 방지되어 생산성 향상의 효과가 있다.As described above, the photosensitive agent drain device and the drain method of the semiconductor photo equipment of the present invention use a plurality of drain bottles and effectively use the plurality of drain bottles without overflow errors, thereby delaying the process due to drain errors. This is prevented and there is an effect of improving productivity.

Claims (8)

코터 컵 내에서 웨이퍼에 도포되고 남은 감광제를 배출하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치에 있어서,In the photosensitive agent drain apparatus of the semiconductor photo equipment which discharges the photosensitive agent applied to the wafer in the coater cup, 상기 코터컵의 하부로 설치되어 상기 감광제가 배출되는 메인 드레인라인과,A main drain line installed under the coater cup to discharge the photosensitive agent; 상기 메인 드레인라인 상에 설치되는 삼방향밸브와,A three-way valve installed on the main drain line; 상기 삼방향밸브의 하단에 각각 설치되는 제 1, 2 드레인라인과,First and second drain lines respectively installed at lower ends of the three-way valves; 상기 제 1 드레인라인을 통하여 배출되는 상기 감광제를 받아내는 제 1 드레인바틀과,A first drain bottle for receiving the photosensitive agent discharged through the first drain line; 상기 제 2 드레인라인을 통하여 배출되는 상기 감광제를 받아내는 제 2 드레인바틀과,A second drain bottle for receiving the photosensitive agent discharged through the second drain line; 상기 삼방향밸브를 제어하여 상기 감광제의 배출 방향을 결정하는 콘트롤러부, 를 포함하되,A controller unit for determining the discharge direction of the photosensitive agent by controlling the three-way valve, 상기 감광제의 응고를 방지하기 위하여 상기 메인 드레인라인의 내부에 솔벤트 라인이 설치되는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치.A photoresist drain device of semiconductor photo equipment, wherein a solvent line is installed inside the main drain line to prevent solidification of the photoresist. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 드레인라인 상에 설치되어, 제 1 드레인바틀의 감광제 풀(full) 시 상기 제 1 드레인라인을 일부 들어 올려서 상기 제 1 드레인바틀의 교체가 가능하도록 하는 제 1 조인트가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치.A first joint installed on the first drain line, the first joint to partially lift the first drain line when the photoresist is full of the first drain bottle to replace the first drain bottle; The photosensitive agent drain apparatus of the semiconductor photo equipment which is used. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 드레인라인 상에 설치되어, 제 2 드레인바틀의 감광제 풀(full) 시 상기 제 2 드레인라인을 일부 들어 올려서 상기 제 2 드레인바틀의 교체가 가능하도록 하는 제 2 조인트가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치.And a second joint installed on the second drain line to partially lift the second drain line when the photoresist is full of the second drain bottle to replace the second drain bottle. The photosensitive agent drain apparatus of the semiconductor photo equipment which is used. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 드레인바틀의 근접부에 설치되어 상기 제 1 드레인바틀 내부에 채워지는 감광제의 수위를 감지하는 제 1 액체감지센서가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치.And a first liquid sensor installed at a proximal portion of the first drain bottle to sense a level of a photosensitive agent filled in the first drain bottle. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 드레인바틀의 근접부에 설치되어 상기 제 2 드레인바틀 내부에 채워지는 감광제의 수위를 감지하는 제 2 액체감지센서가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 반도체 포토 장비의 감광제 드레인 장치.And a second liquid sensor installed at a proximal portion of the second drain bottle and detecting a level of the photosensitive agent filled in the second drain bottle. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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