KR200204391Y1 - Apparatus for processing overfilled chemical in a chemical supply system - Google Patents
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Abstract
본 고안은 화학용액 공급시스템에서 오버필된 화학용액처리장치에 관한 것으로, 소정의 진공 압력을 발생하는 진공발생기와, 진공발생기의 압력에 의해 공급되는 화학용액을 탱크로 공급하기 위해 개폐하는 솔레노이드 밸브부와, 솔레노이드 밸브부의 개폐 동작에 의해 탱크로 공급되는 화학용액이 오버필되면 오버필된 화학용액을 외부로 배출시키는 화학용액 배출장치로 구성하여, 탱크로 공급되는 화학용액이 넘치면 이를 감지하고 화학용액이 감지되면 흘러 넘친 화학용액을 외부로 안전하게 배출시킬 수 있도록 함에 있다.The present invention relates to a chemical solution processing apparatus overfilled in a chemical solution supply system, and a solenoid valve for opening and closing a vacuum generator for generating a predetermined vacuum pressure and a chemical solution supplied by a pressure of the vacuum generator to a tank. When the chemical solution supplied to the tank is overfilled by the opening and closing operation of the solenoid valve part, the chemical solution discharge device discharges the overfilled chemical solution to the outside. When a solution is detected, the spilled chemical solution can be safely discharged to the outside.
Description
본 고안은 화학용액 공급시스템에서 오버필된 화학용액처리장치에 관한 것으로, 특히 화학용액을 공급하는 공조시스템에서 화학용액 저장 드럼(drum)에서 각 반도체 제조장비로 화학용액을 공급하기 위해 사용되는 탱크(tank)로 화학용액 공급시 과도하게 공급되어 넘친 화학용액을 안전하게 처리하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical solution processing apparatus that is overfilled in a chemical solution supply system, and in particular, a tank used to supply chemical solution from a chemical solution storage drum to each semiconductor manufacturing equipment in an air conditioning system for supplying a chemical solution. The present invention relates to a device for safely treating an overflowed chemical solution that is excessively supplied when supplying a chemical solution to a tank.
반도체 웨이퍼에 반도체 소자를 제조하기 위해서는 많은 화학용액이 필요하게 된다. 화학용액은 제조공정에서는 반도체 웨이퍼를 식각하거나 세정하는 등에 사용되며, 조립 등 기타 제조 공정에서는 세정등을 위해 사용하게 된다. 반도체 제조 공정에서 각 단위 공정별로 사용되는 장비로 화학용액을 공급하기 위해 화학용액 공급시스템이 사용된다.Many chemical solutions are required to manufacture semiconductor devices on semiconductor wafers. Chemical solutions are used for etching or cleaning semiconductor wafers in the manufacturing process, and for cleaning in other manufacturing processes such as assembly. Chemical solution supply system is used to supply chemical solution to equipment used for each unit process in semiconductor manufacturing process.
종래의 화학용액 공급시스템을 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다. 도 1은 종래의 화학용액 공급시스템의 배관도이다. 도시된 바와 같이, 드럼(도시 않음)에 저장된 화학용액은 탱크(도시 않음)와 연결 접속된 배관(1)을 통해 공급된다. 배관(1)을 통해 공급되는 화학용액은 유압측정기(3)를 통해 공급되는 화학용액의 압력이 측정되며, 유압측정기(3)를 통과한 화학용액은 여과기(4)에서 화학용액에 포함된 오염입자를 여과한 후 제1솔레노이드 밸브(solenoid valve)(5)를 통해 제1탱크(2a)로 공급된다.Referring to the conventional chemical solution supply system using the accompanying drawings as follows. 1 is a piping diagram of a conventional chemical solution supply system. As shown, the chemical solution stored in the drum (not shown) is supplied through the pipe 1 connected to the tank (not shown). The chemical solution supplied through the pipe (1) is measured the pressure of the chemical solution supplied through the hydraulic meter (3), the chemical solution passed through the hydraulic meter (3) is contaminated in the chemical solution in the filter (4) The particles are filtered and then supplied to the first tank 2a through a first solenoid valve 5.
제1솔레노이드 밸브(5)를 통과한 화학용액은 제1탱크(2a)로 공급된 후 각종 반도체 제조장비(도시 않음)로 공급된다. 제1탱크(2a)와 같이 제2탱크(2b)로 공급되는 화학용액은 제3솔레노이드 밸브(8) 및 제2솔레노이드 밸브(6)를 통과한 후 제2탱크(2b)로 공급된다. 여기서 제1 내지 제3 솔레노이드 밸브(5)(6)(8)는 모두 3방향으로 화학용액이 공급되도록 3방향 밸브가 사용되며, 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 화학용액을 공급하기 위한 압력을 진공발생기(7)에서 발생된다.The chemical solution passing through the first solenoid valve 5 is supplied to the first tank 2a and then to various semiconductor manufacturing equipment (not shown). The chemical solution supplied to the second tank 2b like the first tank 2a passes through the third solenoid valve 8 and the second solenoid valve 6 and then is supplied to the second tank 2b. Here, the first to third solenoid valves 5, 6, and 8 are all three-way valves are used to supply the chemical solution in three directions, and the chemical solution is supplied to the first tank 2a and the second tank 2b. Pressure for supplying the pressure is generated in the vacuum generator (7).
진공발생기(7)에서 배관(1) 내의 공기를 외부로 배기시키면 배관(1) 내에 일정한 압력이 발생되고, 이 압력으로 화학용액이 배관(1)을 통해 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급된다. 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 화학용액을 공급하는 동안 드럼에 저장된 화학용액이 고갈되면, 드럼 내에 포함된 공기가 화학용액에 포함되어 버블(bubble)을 발생시키게 된다. 발생된 버블은 배관(1)을 통해 각각의 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급되며, 버블이 배관(1)을 통해 화학용액과 함께 공급되는 경우 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급된 화학용액이 넘치는 오버필 현상이 발생될 수 있다.When the vacuum generator 7 exhausts the air in the pipe 1 to the outside, a constant pressure is generated in the pipe 1, and the chemical solution flows through the pipe 1 to the first tank 2a and the second tank at this pressure. It is supplied to (2b). When the chemical solution stored in the drum is depleted while supplying the chemical solution to the first tank 2a and the second tank 2b, air contained in the drum is included in the chemical solution to generate bubbles. The generated bubbles are supplied to each of the first tank 2a and the second tank 2b through the pipe 1, and when the bubble is supplied with the chemical solution through the pipe 1, the first tank 2a. And an overfill phenomenon overflowing with the chemical solution supplied to the second tank 2b.
제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)에서 오버필 현상이 발생되며, 오버필에 의해 넘친 화학용액은 보조배관(1a)으로 넘쳐흐르게 된다. 보조배관(1a)으로 넘치도록 화학용액이 오버필되면 화학용액을 다루는 사용자의 안전에 심각한 문제를 발생하는 등의 안전 사고를 유발할 수 있는 문제점이 있다.An overfill phenomenon occurs in the first tank 2a and the second tank 2b, and the chemical solution overflowed by the overfill overflows the auxiliary pipe 1a. If the chemical solution is overfilled to overflow the auxiliary pipe (1a) there is a problem that can cause a safety accident, such as causing a serious problem for the safety of the user handling the chemical solution.
본 고안의 목적은 화학용액을 공급하는 공조시스템에서 드럼(drum)에 저장된 화학용액을 각 탱크(tank)로 공급시 각 탱크로 과도하게 공급되는 것을 안전하게 처리하기 위한 오버필(overfill)된 화학용액처리장치를 제공함에 있다.An object of the present invention is to provide an overfilled chemical solution for safely handling an excessive supply to each tank when a chemical solution stored in a drum is supplied to each tank in an air conditioning system for supplying a chemical solution. In providing a processing apparatus.
본 고안의 다른 목적은 화학용액 공급시스템에서 드럼에 저장된 화학용액을 각 탱크로 공급시 유발될 수 있는 오버필된 화학용액을 안전하게 처리하여 화학용액의 공급을 다루는 사용자의 안전사고를 예방할 수 있도록 함에 있다.Another object of the present invention is to prevent the safety accident of users dealing with the supply of chemical solution by safely handling the overfilled chemical solution that may be caused when the chemical solution stored in the drum is supplied to each tank in the chemical solution supply system. have.
도 1은 종래의 화학용액 공급시스템의 배관도,1 is a piping diagram of a conventional chemical solution supply system,
도 2는 본 고안에 의한 오버필된 화학용액처리장치가 적용된 화학용액 공급시스템의 배관도이다.2 is a piping diagram of a chemical solution supply system to which an overfilled chemical solution treatment apparatus according to the present invention is applied.
〈도면의 주요부분에 대한 부호 설명〉<Explanation of symbols on main parts of the drawing>
1: 배관 1a: 보조배관1: Piping 1a: Auxiliary Piping
2a: 제1탱크 2b: 제2탱크2a: first tank 2b: second tank
3: 유압측정기 4: 여과기3: oil pressure gauge 4: filter
5: 제1솔레노이드 밸브 6: 제2솔레노이드 밸브5: first solenoid valve 6: second solenoid valve
7: 진공발생기 8: 제3솔레노이드 밸브7: vacuum generator 8: third solenoid valve
10: 화학용액 배출장치 11: 감지센서10: chemical solution discharge device 11: detection sensor
12: 제어기 13: 밸브12: controller 13: valve
본 고안의 화학용액 공급시스템에서 오버필된 화학용액처리장치는 소정의 진공 압력을 발생하는 진공발생기; 진공발생기의 압력에 의해 공급되는 화학용액을 탱크로 공급하기 위해 개폐하는 솔레노이드 밸브부; 및 솔레노이드 밸브부의 개폐 동작에 의해 탱크로 공급되는 화학용액이 오버필되면 오버필된 화학용액을 외부로 배출시키는 화학용액 배출장치로 구성됨을 특징으로 한다.Chemical solution processing apparatus overfilled in the chemical solution supply system of the present invention is a vacuum generator for generating a predetermined vacuum pressure; Solenoid valve unit for opening and closing to supply the chemical solution supplied by the pressure of the vacuum generator to the tank; And a chemical solution discharge device for discharging the overfilled chemical solution to the outside when the chemical solution supplied to the tank is overfilled by the opening and closing operation of the solenoid valve unit.
화학용액 배출장치는 오버필된 화학용액을 일시 저장하는 보조배관에 설치되며, 화학용액 배출장치는 상기 보조배관의 상단에 설치되어 탱크에서 오버필된 화학용액을 감지하는 화학용액 감지센서(sensor)와 감지센서로부터 화학용액이 감지된 신호가 수신되면 밸브제어신호를 발생하는 제어기와 보조배관의 저단에 설치되어 제어기로부터 밸브제어신호가 수신되면 수신된 밸브제어신호에 의해 개방되어 화학용액을 외부로 배출시키는 밸브로 구성되고, 밸브는 공기밸브가 사용됨을 특징으로 한다.Chemical solution discharge device is installed in the auxiliary pipe for temporarily storing the overfilled chemical solution, chemical solution discharge device is installed on the top of the auxiliary pipe to detect the chemical solution overfilled in the tank (sensor) And when the chemical solution is detected from the sensor, it is installed at the bottom of the controller and the auxiliary pipe that generates the valve control signal. When the valve control signal is received from the controller, it is opened by the received valve control signal to release the chemical solution to the outside. It is composed of a discharge valve, the valve is characterized in that the air valve is used.
이하, 본 고안을 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 고안에 의한 오버필된 화학용액처리장치가 적용된 화학용액 공급시스템의 배관도이다. 도시된 바와 같이, 소정의 진공 압력을 발생하는 진공발생기(7)와, 진공발생기(7)의 압력에 의해 공급되는 화학용액을 탱크(2a)(2b)로 공급하기 위해 개폐하는 솔레노이드 밸브부(5)(6)(8)와, 솔레노이드 밸브부(5)(6)(8)의 개폐 동작에 의해 탱크로 공급되는 화학용액이 오버필되면 오버필된 화학용액을 외부로 배출시키는 화학용액 배출장치(10)로 구성된다.2 is a piping diagram of a chemical solution supply system to which an overfilled chemical solution treatment apparatus according to the present invention is applied. As shown, the solenoid valve portion for opening and closing the vacuum generator 7 for generating a predetermined vacuum pressure and the chemical solution supplied by the pressure of the vacuum generator 7 to the tanks 2a, 2b ( 5) (6) (8) and the chemical solution discharged to the outside when the chemical solution supplied to the tank by the opening and closing operation of the solenoid valve unit 5, 6, 8 is overfilled Device 10.
본 고안의 구성 및 작용을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the configuration and operation of the subject innovation in more detail as follows.
본 고안의 오버필된 화학용액안전처리장치는 오버필된 화학용액을 배출시키기 위한 화학용액 배출장치(10)로 구성되며, 화학용액 배출장치(10)는 보조배관(1a)에 설치된다. 보조배관(1a)에 일시 저장된 오버필된 화학용액을 배출시키기 위해 화학용액 배출장치(10)는 화학용액을 감지하는 감지센서(11), 제어기(12) 및 보조배관(1a)에 일시 저장된 화학용액을 외부로 안전하게 배출시키는 밸브(13)로 구성된다.The overfilled chemical solution safety treatment device of the present invention is composed of a chemical solution discharge device 10 for discharging the overfilled chemical solution, the chemical solution discharge device 10 is installed in the auxiliary pipe (1a). In order to discharge the overfilled chemical solution temporarily stored in the auxiliary pipe 1a, the chemical solution discharge device 10 temporarily stores the chemicals stored in the sensor 11, the controller 12, and the auxiliary pipe 1a that detect the chemical solution. It consists of a valve 13 for safely discharging the solution to the outside.
감지센서(11), 보조배관(1a) 및 밸브(13)로 구성된 화학용액 배출장치(10)는 도 2에 도시된 화학용액 공급시스템에서 드럼(도시 않음)에 저장된 화학용액을 각 탱크(2a)(2b)로 공급시 화학용액이 과도하게 공급되어 넘치는 오버필 현상이 발생되면 넘친 화학용액을 안전하게 외부로 배출시키게 된다. 먼저 각 탱크(2a)(2b)로 화학용액을 공급하는 과정을 살펴보면 다음과 같다.Chemical solution discharge device 10 consisting of a sensor 11, the auxiliary pipe (1a) and the valve 13 is a tank (a) for the chemical solution stored in the drum (not shown) in the chemical solution supply system shown in FIG. If the overfill phenomenon occurs because the chemical solution is excessively supplied when supplying to (2b), the overflowed chemical solution is safely discharged to the outside. First, the process of supplying the chemical solution to each tank (2a) (2b) is as follows.
드럼에 저장된 화학용액은 각 탱크(2a)(2b)와 연결 접속된 배관(1)을 통해 공급된다. 제1탱크(2a)로 공급되는 화학용액은 배관(1)을 통해 공급되는 과정에서 유압측정기(3)를 통해 공급되는 화학용액의 압력이 측정되며, 유압측정기(3)를 통과한 화학용액은 여과기(4)에서 화학용액에 포함된 오염입자를 여과한 후 제1솔레노이드 밸브(5)의 개폐 동작에 의해 제1탱크(2a)로 공급된다.The chemical solution stored in the drum is supplied through the pipe 1 connected and connected to each tank 2a, 2b. The chemical solution supplied to the first tank 2a is measured by the pressure of the chemical solution supplied through the hydraulic gauge 3 in the course of being supplied through the pipe 1, and the chemical solution passed through the hydraulic meter 3 is After filtering the contaminated particles contained in the chemical solution in the filter 4 is supplied to the first tank (2a) by the opening and closing operation of the first solenoid valve (5).
제1솔레노이드 밸브(5)를 통과한 화학용액은 제1탱크(2a)로 공급된 후 각종 반도체 제조장비(도시 않음)로 공급되며, 제1탱크(2a)와 같이 제2탱크(2b)로 공급되는 화학용액은 제3솔레노이드 밸브(8) 및 제2솔레노이드 밸브(6)를 통과한 후 제2탱크(2b)로 공급된다. 여기서 제1 내지 제3 솔레노이드 밸브(5)(6)(8)는 모두 3방향으로 화학용액이 공급되도록 3방향 밸브가 사용되며, 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 화학용액을 공급하기 위한 압력을 진공발생기(7)에서 발생된다.The chemical solution passing through the first solenoid valve 5 is supplied to the first tank 2a and then to various semiconductor manufacturing equipment (not shown), and to the second tank 2b like the first tank 2a. The chemical solution to be supplied passes through the third solenoid valve 8 and the second solenoid valve 6 and then is supplied to the second tank 2b. Here, the first to third solenoid valves 5, 6, and 8 are all three-way valves are used to supply the chemical solution in three directions, and the chemical solution is supplied to the first tank 2a and the second tank 2b. Pressure for supplying the pressure is generated in the vacuum generator (7).
진공발생기(7)에서 배관(1) 내의 공기를 외부로 배기시키면 배관(1) 내에 일정한 압력이 발생되고, 이 압력으로 화학용액이 배관(1)을 통해 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급된다. 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 화학용액을 공급하는 동안 드럼에 저장된 화학용액이 고갈되면, 드럼 내에 포함된 공기가 화학용액에 포함되어 버블(bubble)을 발생시키게 된다. 발생된 버블은 배관(1)을 통해 각각의 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급되며, 버블이 배관(1)을 통해 화학용액과 함께 공급되는 경우 제1탱크(2a) 및 제2탱크(2b)로 공급된 화학용액이 넘치는 오버필 현상이 발생된다.When the vacuum generator 7 exhausts the air in the pipe 1 to the outside, a constant pressure is generated in the pipe 1, and the chemical solution flows through the pipe 1 to the first tank 2a and the second tank at this pressure. It is supplied to (2b). When the chemical solution stored in the drum is depleted while supplying the chemical solution to the first tank 2a and the second tank 2b, air contained in the drum is included in the chemical solution to generate bubbles. The generated bubbles are supplied to each of the first tank 2a and the second tank 2b through the pipe 1, and when the bubble is supplied with the chemical solution through the pipe 1, the first tank 2a. And an overfill phenomenon overflowing with the chemical solution supplied to the second tank 2b.
제1 내지 제3솔레노이드 밸브(5)(6)(8)로 구성된 솔레노이드 밸브부를 통해 제1탱크(2a)나 제2탱크(2b)로 공급된 화학용액이 넘치게 되면 본 고안에 의한 화학용액 배출장치(10)에 의해 감지되고, 화학용액 배출장치(10)가 각 탱크 즉, 제1탱크(2a)나 제2탱크(2b)에서 넘쳐 흐른 용액을 안전하게 외부로 배출시키게 된다. 화학용액 배출장치(10)가 제1탱크(2a)나 제2탱크(2b)에서 넘쳐 흐른 화학용액을 배출시키기 위해 먼저 보조배관(1a)의 상단에 설치되는 감지센서(11)가 이를 감지한다.When the chemical solution supplied to the first tank 2a or the second tank 2b overflows through the solenoid valve portion composed of the first to third solenoid valves 5, 6 and 8, the chemical solution discharged according to the present invention Detected by the device 10, the chemical solution discharge device 10 is to safely discharge the overflowed solution from each tank, that is, the first tank (2a) or the second tank (2b) to the outside. In order for the chemical solution discharge device 10 to discharge the chemical solution overflowed from the first tank 2a or the second tank 2b, the detection sensor 11 installed on the upper portion of the auxiliary pipe 1a first detects this. .
보조배관(1a)의 상단에 설치된 감지센서(11)가 화학용액을 감지하게 되면 밸브(13)는 자동으로 개방되고 밸브(13)의 개방으로 보조배관(1a)에 저장된 화학용액이 외부로 배출시키게 된다. 감지센서(11)에서 화학용액이 감지되면 감지된 화학용액을 외부로 배출시키기 위해 감지센서(11)는 감지된 신호를 제어기(12)에서 수신받는다. 감지신호를 수신받은 제어기(12)는 수신된 감지신호에 따라 밸브(13)를 개방시키기 위한 밸브제어신호를 발생한다. 제어기(12)에서 발생된 밸브제어신호를 수신받은 밸브(13)는 보조배관(1a)으로 넘쳐 흐른 화학용액을 외부로 안전하게 배출시키게 된다. 여기서 밸브(13)는 제어기(12)로 개폐 동작을 제어하기 위해 공기밸브가 사용된다.When the sensing sensor 11 installed on the upper side of the auxiliary pipe 1a detects the chemical solution, the valve 13 is automatically opened and the chemical solution stored in the auxiliary pipe 1a is discharged to the outside by the opening of the valve 13. Let's go. When the chemical solution is detected by the detection sensor 11, the detection sensor 11 receives the detected signal from the controller 12 to discharge the detected chemical solution to the outside. The controller 12 receiving the detection signal generates a valve control signal for opening the valve 13 according to the received detection signal. The valve 13 receiving the valve control signal generated from the controller 12 safely discharges the chemical solution overflowed to the auxiliary pipe 1a to the outside. Here, the valve 13 is an air valve is used to control the opening and closing operation to the controller 12.
이상과 같이 화학용액을 드럼에서 탱크로 공급시 탱크로 공급되는 화학용액이 넘치는 오버필 현상이 발생되면 이를 감지센서에서 감지하고, 감지센서가 화학용액을 감지하면 제어기가 밸브를 자동으로 개방시켜 흘러 넘친 화학용액을 외부로 배출시킬 수 있어 안전하게 탱크로 화학용액을 공급할 수 있게 된다.When the chemical solution is supplied from the drum to the tank as described above, if the overfill phenomenon overflows with the chemical solution supplied to the tank, it is detected by the detection sensor.When the detection sensor detects the chemical solution, the controller automatically opens the valve and flows. The overflowed chemical solution can be discharged to the outside to safely supply the chemical solution to the tank.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안은 화학용액을 드럼에서 탱크로 공급시 탱크로 공급되는 화학용액이 넘치면 이를 감지센서에 감지하고 감지센서가 화학용액을 감지하면 제어기가 밸브를 자동으로 개방시킴으로써 보조배관으로 흘러 넘친 화학용액을 외부로 안전하게 배출시킬 수 있어 사용자의 안전사고를 예방할 수 있는 효과를 제공한다.As described above, the present invention, when supplying the chemical solution from the drum to the tank, when the chemical solution supplied to the tank overflows, it is detected by the detection sensor and when the detection sensor detects the chemical solution, the controller automatically opens the valve to the auxiliary pipe. The spilled chemical solution can be safely discharged to the outside to prevent the safety accident of the user.
Claims (4)
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| REGI | Registration of establishment | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080630 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |