KR100987763B1 - Circuit board process equipment - Google Patents
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Abstract
본 발명의 기판 공정 장치는, 구동장치와, 상기 구동장치에 연결된 구동축과, 복수의 이송 롤러가 장착된 복수의 회전축과, 상기 회전축의 일단에 결합되는 회전자석과, 상기 구동축과 연결되고 상기 회전자석과 미세한 간격을 유지하며 회전되는 구동자석을 포함하여 이루어지고, 상기 회전자석 및 상기 구동자석은 원통형으로 형성되고, N극과 S극이 원주를 따라 교대로 형성되되 상기 이송회전축 및 상기 구동축에 대하여 기울어져 형성되어 구동시 N과 S극이 계속하여 상호 맞물리면서 회전하며, 상기 회전자석 및 상기 구동자석은 그 표면이 내화학성 합성수지로 코팅된 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus of the present invention includes a drive device, a drive shaft connected to the drive device, a plurality of rotary shafts on which a plurality of transfer rollers are mounted, a rotating magnet coupled to one end of the rotary shaft, and connected to the drive shaft. It comprises a drive magnet that is rotated while maintaining a fine spacing with a magnet, the rotating magnet and the drive magnet is formed in a cylindrical shape, the N pole and the S pole is formed alternately along the circumference, the feed shaft and the drive shaft It is formed to be inclined with respect to the N and S poles are rotated while being continuously engaged with each other, the rotating magnet and the driving magnet is characterized in that the surface is coated with a chemical-resistant synthetic resin.
이러한 본 발명에 의해, 이송회전축에 구동력을 전달함에 있어서 제품의 품질을 저하시킬 수 있는 마찰로 인한 이물질의 발생이나 진동을 방지할 수 있으며, 기판 공정에서 사용되는 각종 화학물질로부터 회전자석 및 구동자석을 보호할 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to prevent the generation or vibration of foreign matters due to friction that can reduce the quality of the product in transmitting the driving force to the feed rotation shaft, and the rotating magnet and the driving magnet from various chemicals used in the substrate process Can protect the
구동, 회전, 폴리프로필렌(Polypropylene), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리염화비닐(Polyvinylchloride), 폴리비닐리덴플루오라이드(Polyvinylidenefluoride) Drive, Rotation, Polypropylene, Polyethylene, Polyvinylchloride, Polyvinylidenefluoride
Description
본 발명은 기판 공정 장치에 관한 것으로서, 자기구동을 이용하여 진동, 마모 및 소음 없이 기판을 이동시킬 수 있고, 현상, 수세, 박리, 에칭, 산세 공정 등에 사용되는 각종 화학물질로부터 자기구동부를 안전하게 보호할 수 있는 기판 공정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus, which can move a substrate without vibration, abrasion, and noise by using magnetic driving, and safely protects the magnetic driving unit from various chemicals used in developing, washing, peeling, etching, and pickling processes. It is related with the substrate processing apparatus which can be performed.
PCB, LCD 기판 등의 제작공정에서는 박리, 현상, 에칭, 세정, 산세, 건조 등 다양한 공정이 수행되며, 이러한 공정들에서는 기판을 이송시키는 이송장치가 사용된다. 종래 기판 이송 장치는 복수의 이송회전축이 평행하게 설치되고 이송회전축에는 이송 롤러가 장착되어 이송회전축이 회전함으로써 이송 롤러 상의 기판이 이동하는 형식이다.Various processes such as peeling, developing, etching, cleaning, pickling and drying are performed in the manufacturing process of the PCB and the LCD substrate, and in these processes, a transfer apparatus for transferring the substrate is used. In the conventional substrate transfer apparatus, a plurality of feed rotation shafts are installed in parallel, and a feed roller is mounted on the feed rotation shaft, so that the substrate on the feed roller moves by rotating the feed shaft.
그런데, 이송 회전축이 구동장치로부터 회전력을 전달받는 방식은 구동축과 회전축을 벨트를 연결하여 전달받는 방식과, 도 1에서와 같이 회전기어(주로, 헬리컬 기어 또는 베벨기어)를 이용하여 전달받는 방식이 사용되었다.However, the method of receiving the rotational force from the driving device is a method of receiving the rotational force by connecting the drive shaft and the rotating shaft by connecting the belt, and the method of receiving using the rotary gear (mainly, helical gear or bevel gear) as shown in FIG. Was used.
그러나, 이러한 방식들은 진동이 발생하여 이송 제품에 전달되어 균일한 작업에 지장을 주며, 기어와 기어 또는 기어와 벨트 사이의 마찰로 인해 이물질이 발생하여 제품에 전사됨으로써 제품 불량의 주요 원인이 되며, 작업 중에 발생한 분진이 기어의 이빨 사이에 끼게 되어 고장을 일으키거나 진동이 심해지기도 하는 문제가 있다.However, these methods cause vibrations to be transmitted to the conveyed product, which impedes uniform operation.Also, foreign substances are generated and transferred to the product due to friction between the gears and the gears or the belt and the belt, which is a major cause of product defects. There is a problem that the dust generated during the work is sandwiched between the teeth of the gear, causing failure or severe vibration.
한편, 전술한 문제에 대응하여 자기 구동을 이용한 방식들이 일부 공개되어 있으나, 구동장치의 회전력을 효율적으로 전달하는 구체적인 방법에 대해서는 제시하고 있지 못하며, 특히 기판 공정에서는 다양한 화학물질들이 사용되는데 자기 구동에 사용되는 자석의 경우 이러한 화학물질에 쉽게 부식되는 문제가 있어 실제 기판공정에 적용하는 데는 한계가 있다.In the meantime, some methods using magnetic driving have been disclosed in response to the above-mentioned problems, but there are no specific methods for efficiently transmitting the rotational force of the driving apparatus. In particular, various chemicals are used in the substrate process. In the case of the magnets used, there is a problem that these chemicals are easily corroded, so there is a limit to the application to the actual substrate process.
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위하여, 기판 공정 장치의 이송회전축에 구동력을 전달함에 있어서, 진동이나 마찰이 없는 효율적인 자기구동 방식을 제공하고, 특히 기판 공정에서 사용되는 각종 화학물질로부터 자기 기어를 보호할 수 있는 기판 공정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention provides an efficient magnetic driving method without vibration or friction in transmitting driving force to the feed shaft of the substrate processing apparatus, and in particular, the magnetic gears from various chemicals used in the substrate processing. It is an object to provide a substrate processing apparatus that can be protected.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 공정 장치는, 구동장치와, 상기 구동장치에 연결된 구동축과, 복수의 이송 롤러가 장착된 복수의 회전축과, 상기 회전축의 일단에 결합되는 회전자석과, 상기 구동축과 연결되고 상기 회전자석과 일정 간격을 유지하며 회전되는 구동자석을 포함하여 이루어지고,Substrate processing apparatus of the present invention for achieving the above object, a drive device, a drive shaft connected to the drive device, a plurality of rotary shafts equipped with a plurality of transfer rollers, and a rotating magnet coupled to one end of the rotary shaft, It is made to include a drive magnet connected to the drive shaft and rotated while maintaining a predetermined interval with the rotating magnet,
상기 회전자석 및 상기 구동자석은 원통형으로 형성되고, N극과 S극이 원주를 따라 교대로 형성되되 상기 회전축 및 상기 구동축에 대하여 기울어져 형성되어 구동시 N과 S극이 계속하여 상호 맞물리면서 회전하며, 상기 회전자석 및 상기 구동자석은 그 표면이 내화학성 합성수지로 코팅된 것을 특징으로 한다.The rotating magnet and the driving magnet is formed in a cylindrical shape, the N pole and the S pole are alternately formed along the circumference and are formed to be inclined with respect to the rotation axis and the drive shaft so that the N and S poles continue to interlock with each other during driving. , The rotating magnet and the driving magnet is characterized in that the surface is coated with a chemical resistant synthetic resin.
이러한 본 발명에 의해, 이송회전축에 구동력을 전달함에 있어서 제품의 품질을 저하시킬 수 있는 마찰로 인한 이물질의 발생이나 진동을 방지할 수 있으며, 기판 공정에서 사용되는 각종 화학물질로부터 회전자석 및 구동자석을 보호할 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to prevent the generation or vibration of foreign matters due to friction that can reduce the quality of the product in transmitting the driving force to the feed rotation shaft, and the rotating magnet and the driving magnet from various chemicals used in the substrate process Can protect the
이때, 상기 내화학성 합성수지는 폴리프로필렌(Polypropylene), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리염화비닐(Polyvinylchloride), 폴리비닐리덴플루오라이드(Polyvinylidenefluoride) 중 적어도 하나인 것이 바람직하며, 상기 회전자석 및 상기 구동자석의 외표면에 코팅된 내화학성 합성수지의 코팅두께는 0.1mm ~ 1mm 인 것이 바람직하다.In this case, the chemical resistance synthetic resin is preferably at least one of polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene fluoride, the outer of the rotor magnet and the driving magnet The coating thickness of the chemical resistant synthetic resin coated on the surface is preferably 0.1mm ~ 1mm.
또한, 상기 기판 공정 장치는, 상기 회전축을 지지하는 롤브라켓을 포함하며, 상기 롤브라켓은, 상기 회전축을 둘러싸는 롤링 베어링(rolling bearing)이 형성되는 것을 특징으로 하며, 이때 롤링 베어링은 이송회전축의 입/출구 양측에 형성되는 것이 바람직하다. 이로써 회전축의 마찰저항이나 진동을 줄일 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus includes a roll bracket for supporting the rotating shaft, wherein the roll bracket, a rolling bearing surrounding the rotating shaft is formed, wherein the rolling bearing of the feed rotating shaft It is preferably formed on both sides of the inlet and outlet. As a result, frictional resistance and vibration of the rotating shaft can be reduced.
본 발명의 기판 공정 장치는, 이송회전축에 구동력을 전달함에 있어서 제품의 품질을 저하시킬 수 있는 마찰로 인한 이물질의 발생이나 진동을 방지할 수 있으며, 기판 공정에서 사용되는 각종 화학물질로부터 회전자석 및 구동자석을 보호할 수 있게 된다.The substrate processing apparatus of the present invention can prevent the generation or vibration of foreign matters due to friction that can reduce the quality of the product in transmitting the driving force to the feed rotation shaft, and the rotating magnet and The driving magnet can be protected.
이하에서는, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.
각 도면에 도시된 동일한 참조 부호는 동일한 기능을 수행하는 구성요소를 의미한다.Like reference numerals in the drawings denote components that perform the same function.
도 2는 본 발명의 기판 공정 장치의 일실시예를 나타내는 도면이다.2 is a view showing an embodiment of a substrate processing apparatus of the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 기판 공정 장치는 구동장치(미도시)에 연결된 구동축(120)과, 복수의 이송 롤러가 장착된 복수의 회전축(220)과, 회전축(220)의 일단에 결합되는 회전자석(240)과, 구동축(120)에 연결되고 회전자석(220)과 미세한 일정 간격을 유지하며 회전되는 구동자석(240)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 2, the substrate processing apparatus of the present invention includes a
본 발명의 기판 공정 장치는, 종래 밸트 전달 방식이나 기어 전달 방식과 달리, 상호 마찰이 없는 자기 구동 방식을 택하여 동력이 전달된다.In the substrate processing apparatus of the present invention, unlike a belt transmission method or a gear transmission method, power is transmitted by using a magnetic drive method without mutual friction.
도 3은 본 발명의 기판 공정 장치의 동력전달 방식의 일실시예를 나타내는 도면이다.3 is a view showing an embodiment of a power transmission method of the substrate processing apparatus of the present invention.
도 3에 도시된 바와 같이, 이송 롤러가 장착된 회전축(220)의 일단에는 N극과 S극이 교대로 형성된 회전자석(240)이 결합되며, 구동축(120)에 연결되고 N극과 S극이 교대로 형성된 구동자석(140)이 회전자석(240)과 미세한 일정 간격을 유지하며 회전하게 된다. 이때, 회전자석(240)과 구동자석(140)은 각각에 형성된 반대의 극성이 상호 맞물릴 수 있도록 위치하여야 하며, 회전자석(240)은 구동자석(140)과 반대의 극성 사이의 인력으로 회전하게 된다. As shown in FIG. 3, one end of the rotating
도 3에서는 회전자석(240)의 회전축(220)과 구동자석(140)의 구동축(120)이 상호 직각으로 교차하고 있다. 이렇게 회전축(220)과 구동축(120)이 직교함으로써 회전자석(240)과 구동자석(140)이 직교하는 경우, 회전자석(240)과 구동자석(140)의 교대로 형성된 N극과 S극이 상호 맞물리면서 계속하여 회전하도록 하는 것은 쉬운 문제가 아니다.In FIG. 3, the
이러한 문제를 해결하기 위하여, 도 3에 도시된 바와 같이, 회전자석(240)과 구동자석(140)을 원통형으로 형성하고 각각 S극과 N극이 헬리컬 기어와 같이 약간 기울어져 회전하면서 상호 맞물릴 수 있도록 되어 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 회전자석(240)과 구동자석(140)이 상호 직교하여 회전하는 경우, 회전자석(240)의 N극(또는 S극)과 구동자석(140)의 S극(또는 N극)이 상호 맞물리면서 회전하기 위해서는 각 자석의 N극과 S극은 원주를 따라 일정간격으로 형성되되, 헬리컬 기어 형태로 회전축 및 구동축에 대하여 기울어져 이루어져야 하며, 이로써 구동시 회전자석(240)의 N극(또는 S극)과 구동자석(140)의 S극(또는 N극)이 계속하여 상호 맞물리면서 회전력이 전달될 수 있다.In order to solve this problem, as shown in FIG. 3, the
도 3에서는 회전축과 구동축이 직각인 경우를 예시하고 있으나, 회전축과 구동축이 평행한 경우 회전자석과 구동자석이 상호 평행하게 접할 수도 있다. 그 외에도 회전축과 구동축은 다양한 각도로 형성될 수도 있으며, 그에 맞춰서 회전자석과 구동자석이 접하는 형태도 다양하게 나타날 수 있다.In FIG. 3, the rotating shaft and the driving shaft are perpendicular to each other. However, when the rotating shaft and the driving shaft are parallel to each other, the rotating magnet and the driving magnet may be in parallel with each other. In addition, the rotating shaft and the driving shaft may be formed at various angles, and accordingly, the shape in which the rotating magnet and the driving magnet are in contact with each other may appear in various ways.
이러한 본 발명의 기판 공정 장치는, 상호 접촉이나 마찰이 없이 자기력에 의한 반발력에 의해 구동력을 회전축에 전달함으로써, 구동시 마찰이나 진동이 발생하지 않는다. 따라서, 마찰에 의한 이물질이 발생하지 않아 제품의 품질 향상에 기여할 수 있다.In the substrate processing apparatus of the present invention, the driving force is transmitted to the rotating shaft by the repulsive force due to the magnetic force without mutual contact or friction, so that no friction or vibration occurs during driving. Therefore, the foreign matter is not generated by the friction can contribute to the improvement of the product quality.
그런데, 본 발명의 기판 공정 장치는 주로 PCB 또는 LCD 기판 등의 박리, 현상, 에칭, 세정, 산세, 건조 공정에 사용되는데, 상기 공정들에는 다양한 종류의 화학약품들이 사용되며, 이러한 화학약품들은 공정 중 비산되어 구동자석이나 회전자석을 부식시킬 수 있다.By the way, the substrate processing apparatus of the present invention is mainly used in the peeling, developing, etching, cleaning, pickling, drying process of the PCB or LCD substrate, etc. Various kinds of chemicals are used in the above processes, and these chemicals are processed It may be scattered and may corrode a driving magnet or a rotating magnet.
본 발명에서는 이러한 구동자석이나 회전자석의 부식을 방지하기 위해 상기 자석들의 표면을 화학약품들에 대한 내부식성을 가지면서도 자력선의 통과율이 높은 재질로 코팅하여 사용한다. In the present invention, in order to prevent corrosion of the driving magnet or the rotating magnet, the surfaces of the magnets are coated with a material having a high pass rate of magnetic lines while having corrosion resistance to chemicals.
코팅 재질의 요건을 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the requirements of the coating material in detail as follows.
1) 박리, 현상, 에칭, 세정, 산세 공정 등에 사용되는 화학약품(Na2CO3, CuCl2, FeCl2, NaOH, KOH 등)에 대한 높은 내화학성을 가져야 하며 수분 흡수율이 낮아야 하고 가수분해에 대한 저항력이 높아야 한다.1) It must have high chemical resistance against chemicals (Na 2 CO 3 , CuCl 2 , FeCl 2 , NaOH, KOH, etc.) used in peeling, developing, etching, cleaning, pickling processes, etc. It must have high resistance to it.
2) 피복 코팅 후에도 구동자석 및 회전자석의 자력은 유지되어야 하므로 자력선의 통과율이 높아야 한다.2) Since the magnetic force of the driving magnet and the rotating magnet should be maintained even after the coating coating, the passage rate of the magnetic force line should be high.
3) 외부의 다양한 기계적인 손상으로부터 자석을 보호하기 위하여 피복 강도 가 높고 표면 마모 저항력이 높아야 하며 스트레스 크랙킹에 대한 저항력이 높아야 하고 비틀림에 대한 유연성이 좋아야 한다.3) In order to protect the magnet from various mechanical damages from outside, it must have high coating strength, high surface wear resistance, high resistance to stress cracking, and good torsional flexibility.
4) 가공의 용이성과 수치정확성이 높아야 하므로 높은 융해력으로 가공이 쉬워야 하고 열팽창 계수가 낮으며 압출 후 수축률이 낮고 체적 안정성이 좋아야 하며 열팽창 계수가 낮으며 압출 후 수축율이 낮고 체적 안정성이 좋아야 한다.4) Because of ease of processing and high numerical accuracy, it should be easy to process with high melting power, low thermal expansion coefficient, low shrinkage after extrusion, good volume stability, low thermal expansion coefficient, low shrinkage after extrusion, and good volume stability.
상기 요건들을 만족하는 재질을 실험적으로 확인한 결과, 폴리프로필렌(PP, Polypropylene), 폴리에틸렌(PE, Polyethylene), 폴리염화비닐(PVC, Polyvinylchloride), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF, Polyvinylidenefluoride)가 다양한 공정에서 사용되는 전술한 산성 또는 알카리성 약품 또는 기타 유기용제들에 대한 내화학성(특히 내부식성) 및 자력선 통과율과 기타 기계적 특성이 좋은 것으로 확인되었다. As a result of experimentally confirming the material satisfying the above requirements, polypropylene (PP, Polypropylene), polyethylene (PE, Polyethylene), polyvinyl chloride (PVC, Polyvinylchloride), polyvinylidene fluoride (PVDF, Polyvinylidenefluoride) in various processes It has been found that the chemical resistance (particularly corrosion resistance), magnetic field line penetration and other mechanical properties of the aforementioned acidic or alkaline chemicals or other organic solvents used are good.
따라서, 본 발명에서 자석 코팅에 사용되는 내화학성 합성수지는 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리염화비닐(PVC), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF) 중 적어도 하나가 사용된다.Therefore, at least one of polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyvinyl chloride (PVC), and polyvinylidene fluoride (PVDF) may be used in the present invention.
보다 상세히 설명하면, 상기 합성수지 중 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리염화비닐(PVC)은 건조단을 제외한 모든 공정에 사용이 가능하며(열풍으로 건조하는 건조단에서는 열에 약한 PP, PE, PVC 코팅은 사용하기 어렵다), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF)는 건조단을 포함한 모든 공정에 사용이 가능하다.In more detail, polypropylene (PP), polyethylene (PE), and polyvinyl chloride (PVC) of the synthetic resin can be used in all processes except the drying stage (PP, PE, which is weak in heat in a drying stage dried by hot air). , PVC coating is difficult to use), and polyvinylidene fluoride (PVDF) can be used in all processes, including drying stages.
도 4는 구동자석(도 4의 (a)) 및 회전자석(도 4의 (b))의 단면도로서 코팅 구조를 나타내고 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 원통형의 자석 표면(외표면 및 내표면 모두)을 전술한 내화학성 합성수지 중 적어도 하나로 코팅하여 사용한다. 이때, 자석 외표면의 코팅 두께(t1)는 자력선이 잘 통과될 수 있도록 내부식성이나 표면저항력이 유지되는 한도내에서 가능한 얇은 두께를 유지하는 것이 바람직하며, 자석 내표면의 코팅 두께(t2)는 기계적 안정성을 위하여 외표면의 코팅 두께(t1)에 비해 상대적으로 두껍게 코팅되는 것이 바람직하다.4 is a cross-sectional view of the driving magnet (Fig. 4 (a)) and the rotating magnet (Fig. 4 (b)) showing a coating structure. As shown in FIG. 4, a cylindrical magnet surface (both outer surface and inner surface) is used by coating with at least one of the above-described chemical resistant synthetic resins. At this time, the coating thickness (t 1 ) of the outer surface of the magnet is preferably maintained as thin as possible within the limit that the corrosion resistance or surface resistance is maintained so that the magnetic force line can pass through, the coating thickness (t 2) of the inner surface of the magnet ) Is preferably coated relatively thick compared to the coating thickness (t 1 ) of the outer surface for mechanical stability.
표 1 내지 표 4는 외표면 코팅두께(t1)에 따른 자력통과율, 내부식성, 코팅안정성에 대한 실험결과를 나타내는 것이다.Tables 1 to 4 show the experimental results for the magnetic flux, corrosion resistance and coating stability according to the outer surface coating thickness (t 1 ).
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표 1 내지 표 4에서 코팅두께의 단위는 mm이며, 자력통과율은 코팅되지 않은 상태에서의 자력과 코팅된 상태에서의 자력의 비율을 측정한 결과이며(자력은 코팅면으로부터 2mm 이격된 지점에서 측정하였다.), 내부식성은 각 두께의 압출 코팅수지에 공정 중 실제 사용되는 화학약품 중 Na2CO3 및 NaOH를 각각 0.1mg 씩 떨어뜨려 코팅수지에 천공이 발생하는 경우를 측정한 것이고, 코팅안정성은 해당 두께로 압출시 수치안정성 및 표면저항성을 측정한 결과이다.In Tables 1 to 4, the unit of the coating thickness is mm, and the magnetic permeability is the result of measuring the ratio of the magnetic force in the uncoated state and the coated state (magnetic force is measured at a point 2 mm away from the coated surface). Corrosion resistance is Na 2 CO 3 among the chemicals actually used in the process for extrusion coating resin of each thickness. And NaOH was dropped by 0.1mg each to measure the occurrence of perforation in the coating resin, coating stability is the result of measuring the numerical stability and surface resistance during extrusion to the thickness.
표 1 내지 표 4에 나타난 결과를 살펴보면, 네 가지 코팅물질 모두 코팅두께가 1mm 이상일 때 자력통과율이 50% 이하로 급격히 감소하는 것을 알 수 있으며, 0.1mm 이하에서는 자력통과율은 높으나 내부식성 및 코팅안정성이 떨어지는 것으로 나타났다.Looking at the results shown in Tables 1 to 4, it can be seen that the magnetic flux is rapidly reduced to 50% or less when the coating thickness is more than 1 mm in all four coating materials. Appeared to fall.
이러한 실험 결과, 외표면의 코팅두께(t1)는 0.1mm ~ 1mm 범위가 가장 바람직하다. 외표면의 코팅두께(t1)가 1mm 이상인 경우에는 이를 통과하는 자력이 50%이하로 감소하여 구동자석이나 회전자석을 구동기어로써 사용하는 것이 불가능하다. As a result of this experiment, the coating thickness t 1 of the outer surface is most preferably in the range of 0.1 mm to 1 mm. If the coating thickness (t 1 ) of the outer surface is 1mm or more, the magnetic force passing through it is reduced to 50% or less, so that it is impossible to use the driving magnet or the rotating magnet as the driving gear.
또한, 내표면의 코팅두께(t2)는 수치 허용 범위 내에서 두꺼울수록 바람직하다.In addition, the coating thickness t 2 of the inner surface is preferably thicker within the numerical tolerance.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 공정 장치에 있어서 이송롤러축을 지지하는 롤브라켓(도 5의 550)을 나타내는 도면이다. 도 5의 (a)는 정면도, (b)는 측면도이며, (c)는 롤브라켓 중 롤베어링이 장착된 이송롤러축 지지부분의 단면을 나타내는 도면이다.5 is a view showing a roll bracket (550 of FIG. 5) for supporting the feed roller shaft in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. (A) is a front view, (b) is a side view, (c) is a figure which shows the cross section of the feed roller shaft support part in which the roll bearing was mounted among the roll brackets.
종래 기판 공정 장치의 롤브라켓은 단순히 브라켓에 구멍을 뚫어 이송롤러축을 지지하는 구조(도 1 참조)였으나, 이송롤러축의 회전시 롤브라켓과의 마찰이 심해 진동을 발생시키는 주요 원인이 되었다.The roll bracket of the conventional substrate processing apparatus was simply a structure for supporting the feed roller shaft by punching a hole in the bracket (see FIG. 1), but the friction with the roll bracket during rotation of the feed roller shaft was a major cause of vibration.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 롤브라켓(550)은 이송회전축을 둘러싼 롤링 베어링(rolling bearing)을 장착하여, 이송롤러축의 회전시 롤링 베어링이 함께 회전하면서 마찰을 줄여 진동을 감소시킬 수 있다. In order to solve this problem, the
이때, 롤링 베어링(556)은 도 5에 도시된 바와 같이, 이송회전축의 입/출구 양측에 종래 이송롤러축의 회전홀 직경보다 큰 외경을 갖는 공간을 형성하고, 이 공간에 장착되는 것이 보다 바람직하다. 왜냐하면, 롤브라켓에서 이송롤러축과의 마찰이 가장 심한 곳은 이송회전축의 입/출구 양측이며, 이곳에 이송회전축을 둘러싸는 롤링 베어링을 설치함으로써, 마찰을 효율적으로 감소시킬 수 있기 때문이다.At this time, as shown in Figure 5, the rolling
이상과 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the optimum embodiment has been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not used to limit the scope of the present invention as defined in the meaning or claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
도 1은 종래 기판 공정 장치를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a conventional substrate processing apparatus.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 공정 장치를 나타내는 도면이다.2 is a view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일시예에 따른 기판 공정 장치의 동력전달 방식을 나타내는 도면이다.3 is a view showing a power transmission method of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 공정 장치에서 자기기어의 단면을 나타내는 도면이다.4 is a cross-sectional view of a magnetic gear in the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 공정 장치에서 이송롤러축을 지지하는 롤브라켓을 나타내는 도면이다.5 is a view showing a roll bracket for supporting a feed roller shaft in a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
* 도면 중 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
120 : 구동축 140 : 구동자석120: drive shaft 140: drive magnet
220 : 회전축 240 : 회전자석220: rotating shaft 240: rotating magnet
550 : 롤브라켓550: Roll Bracket
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060100789A (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | 세메스 주식회사 | Conveyor apparatus for manufacture of flat panel display |
KR20080018009A (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-27 | 삼성전자주식회사 | Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus having the same |
KR20080102925A (en) * | 2007-05-22 | 2008-11-26 | 가부시키가이샤 쇼에이 고키 | Transfer aparatus |
KR20090124068A (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | 세메스 주식회사 | Apparatus for proceeding a substrate |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060100789A (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | 세메스 주식회사 | Conveyor apparatus for manufacture of flat panel display |
KR20080018009A (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-27 | 삼성전자주식회사 | Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus having the same |
KR20080102925A (en) * | 2007-05-22 | 2008-11-26 | 가부시키가이샤 쇼에이 고키 | Transfer aparatus |
KR20090124068A (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | 세메스 주식회사 | Apparatus for proceeding a substrate |
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