KR100981474B1

KR100981474B1 - 원료 공급 장치 및 증착 장치

Info

Publication number: KR100981474B1
Application number: KR1020087007720A
Authority: KR
Inventors: 마사지 이노우에; 도시히사 노자와
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2005-12-22
Filing date: 2006-12-20
Publication date: 2010-09-10
Also published as: KR20080045253A; CN101278073B; TW200738895A; CN101278073A; WO2007072867A1; JP2007169728A

Abstract

증착 장치의 처리 용기에 원료를 증발 또는 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치에 있어서, 내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와, 상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와, 상기 캐리어 가스와 함께 증발 또는 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하기 위해서 배출하는 가스 배출구를 갖고, 상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는 원료 공급 장치가 제공된다.

Description

원료 공급 장치 및 증착 장치{FEEDSTOCK SUPPLY UNIT AND VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT}

본 발명은 증착 장치 및 해당 증착 장치에 사용하는 원료 공급 장치에 관한 것이다.

예를 들어, 피처리 기판의 표면에 박막 등을 형성하는 방법의 일례로서 증착법이 있다. 증착법이란 예를 들어, 증발 혹은 승화된 증착 원료를 피처리 기판 위에 증착시켜 박막을 형성하는 방법이다.

예를 들어, 증착법에 의해 형성되는 박막으로는, 유기 전자 발광(electroluminescence; 이하 "EL"로 표기함) 소자에 사용할 수 있는 박막이 있다. 유기 EL 소자를 채용한 표시 장치는 소형화가 용이하고, 소비 전력이 적으며, 면 발광이 가능하여, 액정 모니터에 비해 인가 전압을 대폭 절감할 수 있기 때문에, 플랫 디스플레이 등의 각종 표시 장치에서의 이용이 주목되고 있다.

예를 들어, 유기 EL 소자는 양극과 음극 사이에 발광층이 형성된 구조를 갖고 있다. 해당 발광층은 전자와 정공의 재결합에 의해 발광하는 층이며, 발광층에는 예컨대, 다환 방향족 탄화수소, 헤테로 방향족 화합물, 유기 금속 착체 화합물 등의 재료를 사용하는 것이 가능하고, 상기의 재료는 증착법에 의해 형성하는 것이 가능하다. 또한, 필요에 따라서 양극과 발광층 사이 또는 음극과 발광층 사이에, 예를 들면, 정공 수송층, 또는 전자 수송층 등 발광 효율을 양호하게 하기 위한 박막을 형성하는 것도 가능하며, 이들 층도 증착법에 의해 형성하는 것이 가능하다.

이 경우, 상기한 박막의 형성에 사용하는 증착 장치는, 예를 들어 내부를 감압 상태로 유지 가능한 처리 용기와, 해당 처리 용기 내에 설치된 증착 원료를 기화 또는 증발 혹은 승화시키는 증착원을 구비한 구조를 갖고 있으며, 증착원으로부터 기화 또는 증발 혹은 승화된 증착 원료가 피처리 기판에 증착되도록 구성되어 있다. 그러나, 증착 장치에 의해 박막을 형성할 경우, 증착원으로부터 증발 혹은 승화하는 증착 원료의 양을 제어하기 어렵다는 문제가 발생하였다.

이는 증착원으로부터 증발 혹은 승화하는 단위 시간당의 증착 원료의 양이, 예컨대 시간경과나, 증착원에 유지되는 증착 원료의 양 또는 증착원의 온도의 근소한 변화에 따라 변화되어버리기 때문에 발생한다고 생각된다. 이 때문에, 증착막의 성막 속도를 안정시키는 것이 곤란하게 되고, 성막 속도가 변화되어서 막 두께에 격차가 생기는 경우가 있었다.

또한, 상기의 특허 문헌 1(일본 특표 제 2003-502494 호 공보)에는, 증착원의 용기 내에 배플판(다공판)을 설치하는 것으로 증착 원료의 증발 혹은 승화량을 안정시키는 발명이 기재되어 있다. 그러나, 상기의 구조에서는, 증발 혹은 승화된 원료를 공급하기 위한 캐리어 가스를 사용하고 있지 않으며, 캐리어 가스의 흐름이 고려되지 않고 있다. 그 때문에, 상기의 배플판을 채용했을 경우에는 증착 장치에 공급되는 원료의 양이 적고, 성막 속도가 현저하게 저하하기 때문에 현실적인 구조 는 아니다.

특허 문헌 1: 일본 특표 제 2003-502494 호 공보

본 발명에서는 상기의 문제를 해결한 신규하고 유용한 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

본 발명의 구체적인 과제는 증착 장치에 사용하는 원료 공급 장치에 있어서, 증착 장치의 성막 속도의 안정성이 양호하게 되는 원료 공급 장치 및 해당 원료 공급 장치를 갖는 증착 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 제 1 관점에서는, 상기의 과제를, 증착 장치의 처리 용기에 원료를 증발 혹은 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치에 있어서, 내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와, 상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와, 상기 캐리어 가스와 함께 증발 혹은 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하는 가스 배출구를 갖고, 상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는 원료 공급 장치에 의해 해결한다.

또한, 본 발명의 제 2 관점에서는, 상기의 과제를, 피처리 기판을 내부에 유지하는 처리 용기와, 상기 처리 용기에 원료를 증발 혹은 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치를 갖고, 상기 피처리 기판에 증발 혹은 승화된 상기 원료를 증착시키는 증착 장치에 있어서, 상기 원료 공급 장치는, 내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와, 상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와, 상기 캐리어 가스와 함께 증발 혹은 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하는 가스 배출구를 갖고, 상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는 증착 장치에 의해 해결한다.

발명의 효과

본 발명에 의하면, 증착 장치에 사용하는 원료 공급 장치에 있어서, 증착 장치의 성막 속도의 안정성이 양호하게 되는 원료 공급 장치 및 해당 원료 공급 장치를 갖는 증착 장치를 제공하는 것이 가능해진다.

도 1은 실시예 1에 의한 원료 공급 장치의 단면도,

도 2는 실시예 2에 의한 원료 공급 장치의 단면도,

도 3은 실시예 3에 의한 원료 공급 장치의 단면도,

도 4는 실시예 4에 의한 증착 장치를 도시한 도면.

부호의 설명

100: 원료 공급 장치 101: 내통 용기

102: 커버부 103: 원료 용기

102A: 가스 흐름 제어부 102a: 지지부

102b, 102c, 102d: 돌기부 103A: 내부 공간

104: 가스 도입구 105: 가스 도입로

106: 가스 배출구 107: 가스 도입로

108: 가스 배출로 109: 필터

110: 가스 도입 라인 110A: 밸브

110B: 접속부 111: 가스 배출 라인

111A: 밸브 111B: 접속부

112: 시일재 113: 히터

200: 증착 장치 201, 202: 처리 용기

203: 유지대 204: 피처리 기판

205: 이동 레일 206: 배기 커버

206A: 구멍부 207: 얼라인먼트 장치

208: 배기 수단 208A: 배기 라인

209: 원료 혼합부

209A, 209B, 209C, 209D: 원료 혼합실

210: 원료 공급 노즐 211: 게이트 밸브

212A, 212B, 212C, 212D: 가스 라인

213A, 213B, 213C, 214A, 214B, 214C, 215A, 215B, 216A, 216B: 밸브

217A, 217B, 217C: MFC 218: 캐리어 가스 공급원

300: 반송 로봇

다음으로, 본 발명의 실시형태에 관해서 도면에 근거하여 이하에 설명한다.

실시예 1

우선, 실시예 1에 의한 원료 공급 장치에 대해서 설명한다. 해당 원료 공급 장치는 원료를 증발 혹은 승화시켜서 증착 장치(구성예는 후술)의 처리 용기에 공급하는 장치이다. 증착 장치는 피처리 기판을 유지하는 처리 용기를 가지며, 본 실시예에 의한 원료 공급 장치는 해당 처리 용기에 증발 혹은 승화된 원료를 공급한다.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 의한 원료 공급 장치를 모식적으로 도시한 단면도이다.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 의한 원료 공급 장치(100)는 원통 용기(101)와 커버부(102)가 조합되는 것에 의해, 원료 용기(103)가 형성되고, 해당 원료 용기(103)의 내부에 내부 공간(103A)이 구획 형성되는 구조로 되어 있다. 상기 내부 공간(103A)에는, 상온·상압에서 고체(예를 들면, 분말 형상)인 원료(100A)가 유지된다. 상기 원료 용기(103)의 외측에는 히터(113)가 설치되고, 상기 원료(100A)는 해당 히터(113)에 의해 가열되는 것으로 증발 혹은 승화된다.

상기 원통 용기(101)는 일단이 개구된 대략 원통 형상을 가지며, 해당 원통형상이 개구된 측에는, 상기 커버부(102)를 부착하기 위한 플랜지가 형성되어 있다. 상기 커버부(102)는 상기 원통 용기(101)의 개구부를 막도록 해당 원통 용기(101)에 장착되고, 해당 커버부(102)와 해당 원통 용기(101) 사이에는 밀봉재(112)가 삽입되어, 상기 내부 공간(103A)의 기밀성이 유지된다.

또한, 상기 커버부(102)에는, 상기 내부 공간(103A)으로 연신하는 가스 흐름 제어부(102A)가 설치되어 있으며, 해당 가스 흐름 제어부(102A)의 상세에 대해서는 후술한다.

상기 커버부(102)에는, 캐리어 가스를 상기 내부 공간(103A)에 도입하기 위한 가스 도입 라인(110)이 접속되어 있다. 상기 가스 도입 라인(110)으로부터 도입된 캐리어 가스는 상기 커버부(102)에 형성된 가스 도입로(107) 및 상기 원통 용기(101)에 형성된 가스 도입로(105)를 거쳐서, 상기 원통 용기(101)의, 상기 커버부(102)가 부착된 측의 반대측[상기 원료 용기(103)의 제 1 측]에 형성된 가스 도입구(104)로부터 상기 내부 공간(103A)으로 도입된다.

상기 가스 도입구(104)로부터 상기 내부 공간(103A)으로 도입된 캐리어 가스는, 증발 혹은 승화된 상기 원료(100A)(이하, 기체 원료)와 함께, 상기 커버부(102)(상기 제 1 측의 반대측인 제 2 측)에 형성된 가스 배출구(106)로부터 배출된다.

상기 내부 공간(103A)으로부터 배출된 캐리어 가스와 기체 원료는, 상기 커버부(102)에 형성된 가스 배출로(108)를 거쳐서, 상기 커버부(102)에 접속된 가스 배출 라인(111)으로 배출된다. 상기 가스 배출 라인(111)은 후술하는 증착 장치의 처리 용기에 접속되고, 해당 배출 라인(111)을 거쳐서 해당 처리 용기에 캐리어 가스와 함께 기체 원료가 공급되는 구조로 되어 있다.

본 실시예에 의한 원료 공급 장치로는, 상기 내부 공간(103A)에, 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 상기 가스 흐름 제어부(102A)가 형성되어 있는 것이 특징이다. 상기 원료(100A)는 상기 가스 흐름 제어부(102A)와 대향하도록 상기 원료 용기(103) 내에 유지되어 있다. 이 경우, 캐리어 가스는 상기 가스 흐름 제어부(102A)와 상기 원료(100A)의 사이를 흐르게 된다.

상기 가스 흐름 제어부(102A)는 상기 내부 공간(103A)에 공급되는 캐리어 가스의 흐름을 제어하며, 예를 들면 캐리어 가스의 흐름의 레이놀즈 수를 1000 이상으로 함으로써, 캐리어 가스의 흐름을 난류로 할 수 있다.

이 때문에, 상기 원료(100A)의 증발 혹은 승화가 촉진되어, 상기 내부 공간(103A)의 상기 배출구(106) 근방에서는 상기 원료(100A)의 증발 혹은 승화가 포화된 상태, 이른바 포화 증기압으로 할 수 있다.

예를 들면, 포화 증기압 이하로 기체 원료를 공급할 경우, 여러 가지 요인의 근소한 변화에 따라 증발 혹은 승화되는 양이 크게 변동하고, 이 때문에 피처리 기판에 성막되는 성막 속도가 크게 변화되어 버리는 문제가 발생하는 경우가 있다. 예를 들면, 증착이 진행하고 시간이 경과했을 경우, 여러 가지 조건 변화나, 유지되는 원료의 양의 변화 등에 따른 현상을 완전히 억제하는 것은 매우 곤란하며, 이들이 성막 속도에 미치는 영향은 무시할 수 없을 정도가 되는 경우가 있다.

한편, 본 실시예에 의한 원료 공급 장치로는, 포화 증기압에서 기체 원료가 배출되기 때문에, 안정되게 기체 원료를 증착 장치의 처리 용기에 공급하는 것이 가능하게 된다.

상기 가스 흐름 제어부(102A)는 상기 가스 도입구(104)로부터 상기 가스 배출구(106)(상기 제 1 측으로부터 제 2 측)의 방향으로 연신하도록 형성되어 있다. 즉, 상기 가스 흐름 제어부(102A)는 캐리어 가스의 흐름을 따라 연신하도록 형성되어 있다. 이 때문에, 캐리어 가스의 흐름을 효율적으로 제어할 수 있다.

또한, 상기 가스 유량 제어부(102A)는 상기 제 1 측으로부터 제 2 측으로 연신하는 평판 상의 지지부(102a)와, 상기 제 1 측으로부터 제 2 측에 걸쳐서 해당 지지부(102a)에 복수 형성된 돌기부(102b)로 구성되어 있다. 상기 도입구(104)로부터 도입되는 캐리어 가스는 상기 돌기부(102b)에 의해 흐름이 제어되어, 레이놀즈 수가 증대되어서 난류로 된다. 이 때문에, 상기 가스 흐름 제어부(102A)는 캐리어 가스의 흐름을 제어하기 위해서 충분한 길이로 형성되어 있는 것이 바람직하다.

또한, 상기 가스 배출로(108)에는 분말 형상의 상기 원료(100A)가 처리 용기측으로 비산하는 것을 방지하기 위해서 필터(109)가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

또한, 상기 가스 도입 라인(110)과, 상기 가스 배출 라인(111)에는 각각 밸브(110A, 111A)가 설치되어 있다. 또한, 상기 가스 도입 라인(110)과, 상기 가스 배출 라인(111)에는 각각, 예를 들면 배관 이음새 등으로 이루어지는 접속부(110B, 111B)가 접속되어 있다. 이 때문에, 상기 밸브(110A, 111A)를 닫은 상태에서, 상기 접속부(110B, 111B)의 배관 이음새를 떼어 내는 것으로, 상기 원료 공급 장치(100)를 증착 장치(처리 용기)로부터 떼어 내는 것이 용이한 구조로 되어 있다.

즉, 상기 원료 공급 장치(100)에 원료를 보충할 경우나, 상기 원료 공급 장치(100)의 유지 보수를 실행할 경우, 증착 장치로부터 해당 원료 공급 장치(100)를 용이하게 장착 및 탈착하는 것이 가능하게 구성되어 있다.

실시예 2

또한, 가스 흐름 제어부의 구조는 실시예 1에 도시한 구조에 한정되는 것은 아니며, 다양하게 변형·변경하는 것이 가능하다.

예를 들면, 도 2는 본 발명의 실시예 2에 의한 원료 공급 장치(100A)를 모식적으로 도시하는 단면도이다. 다만, 도면 중 먼저 설명한 부분에는 동일한 참조 부호를 붙여 설명을 생략한다. 또한, 특히 설명하지 않는 부분은 실시예 1의 구조와 동일한 것으로 한다.

도 2를 참조하면, 본 실시예의 경우, 돌기부(102c)가 실시예 1의 경우의 돌기부(102b)에 비해 길고(크고), 선단부가 상기 원료(100A)에까지 도달하고 있다. 본 실시예의 경우, 캐리어 가스가 상기 원료(100A)의 내부를 지나기 때문에 보다 포화 증기압에 도달하기 쉬운 특징이 있다.

실시예 3

또한, 도 3은 본 발명의 실시예 3에 의한 원료 공급 장치(100B)를 모식적으로 도시하는 단면도이다. 다만, 도면 중 먼저 설명한 부분에는 동일한 참조 부호를 붙여 설명을 생략한다. 또한, 특히 설명하지 않는 부분은 실시예 1의 구조와 동일한 것으로 한다.

도 3을 참조하면, 본 실시예의 경우, 돌기부(102d)의 단면 형상이 실시예 1의 경우와 다르며, 실시예 1의 경우는 단면 형상이 사각형이었던 것에 대해서, 본 실시예의 경우는 삼각형으로 되어 있고, 선단부가 뾰족하다. 이렇게, 돌기부의 형상은 캐리어 가스의 흐름의 제어의 조건(예를 들면, 유량)이나, 원료의 상이함(예를 들면, 증기압의 상이함)에 따라 다양하게 변형·변경해도 좋다.

실시예 4

다음으로, 먼저 설명한 원료 공급 장치(100)를 사용한 증착 장치의 구성의 일례를, 도 4를 근거로 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시예 4에 의한 증착 장치의 구성의 일례를 모식적으로 도시한 도면이다.

도 4를 참조하면, 본 실시예에 의한 증착 장치(200)는 내부에 내부 공간(201A)이 구획 형성되는 처리 용기(201)와, 해당 처리 용기(201)에 접속되는 처리 용기(202)를 갖고 있다. 상기 내부 공간(201A)에는, 피처리 기판(204)을 유지하는 유지대(203)가 설치되어 있다. 상기 유지대(203)는 ESC(정전 흡착척)를 갖고, 상기 피처리 기판은 그 표면이 원료가 공급되는 방향을 향하도록 하여 유지된다. 또한, 상기 유지대(203)는 이동 레일(205)에 대하여 이동 가능하게 접속되고, 상기 피처리 기판(204)에 대하여 평행한 방향으로 이동하는 것이 가능하게 구성되어 있다.

또한, 상기 처리 용기(201)에 상기 피처리 기판(204)이 반입될 경우에는, 해당 처리 용기(201)에 설치된 게이트 밸브(211)가 개방되고, 예를 들면, 진공 반송실(도시하지 않음)에 설치된 반송 로봇(300)에 의해 반입된다. 반입된 피처리 기판은 얼라인먼트 장치(207)에 의해 얼라인먼트가 행하여진 후, 상기 유지대(203)에 유지된다.

상기 내부 공간(201A)은 상기 처리 용기(201)에 접속된 예를 들면, 터보 분자 펌프로 이루어지는 배기 수단(208)에 의해 배기되어 감압 상태로 된다. 상기 배기 수단(208)에는 배기 라인(208A)이 접속되고, 해당 배기 라인(208A)은 예를 들어, 건식 펌프 등의 배기 수단(도시를 생략)에 접속되어 있다.

또한, 상기 처리 용기(201)의 저면의 개구부에는, 상기 유지대(203)와 대향하도록 상기 내부 공간(201A)에 기체 원료를 공급하는 원료 공급부(209)가 설치되어 있다. 상기 피처리 기판(204)에 성막(증착)을 실행할 경우에는, 상기 원료 공급부(209)로부터 공급되는 기체 원료가 피처리 기판에 도달함으로써 행하여진다.

또한, 상기 처리 용기(202)는, 상기 처리 용기(201)의 저면의 외측에 노출된 상기 배기 수단(208), 상기 원료 공급부(209) 및 상기 얼라인먼트 장치를 덮도록 하여 해당 처리 용기(201)의 저면측에 접속되어 있다.

상기 원료 공급부(209)는 복수의 기체 원료가 혼합되는 혼합실을 복수 개 갖고 있다. 예를 들면, 상기 원료 공급부(209)는 원료 혼합실(209A, 209B, 209C, 209D)이, 상기 피처리 기판(204)의 이동 방향을 따라서 평행하게 배열된 구조를 갖고 있다. 상기 원료 혼합실(209A, 209B, 209C, 209D)에는 각각 원료 공급 노즐(210)이 설치되어 있고, 각각의 원료 혼합실에서 혼합된 기체 원료는 해당 원료 공급 노즐(210)로부터 상기 내부 공간(201A)에 공급되어 상기 피처리 기판(204)에 증착되어서 성막이 행하여진다.

상기 원료 혼합실(209A, 209B, 209C, 209D)에는 각각 가스 라인(212A, 212B, 212C, 212D)이 접속되어 있으며, 또한 해당 가스 라인(212A, 212B, 212C, 212D)에는 도 1에서 먼저 설명한 원료 공급 장치(100)가 접속되어 있다.

예를 들어, 상기 가스 라인(212A)을 예로 들어서 설명하면, 해당 가스 라인(212A)은 상기 혼합실(209A)에 접속되어 상기 처리 용기(202)의 외측에까지 연신하도록 형성되어서, 해당 처리 용기(202)의 외측에서 복수의 상기 원료 공급 장 치(100)와 접속되어 있다.

이 경우, 상기 가스 라인(212A)은 밸브(213A, 213B, 213C)를 거쳐서, 3개의 상기 원료 공급 장치(100)의 상기 가스 배출 라인(111)에 각각 접속되어 있다. 즉, 상기 원료 혼합실(209A)에는, 상기 가스 라인(212A)을 거쳐서, 3개의 원료 공급 장치가 접속되고, 3종류의 기체 원료가 공급되어서 혼합되게 된다. 해당 원료 혼합실(209A)에서 혼합된 기체 원료는 상기 가스 공급 노즐(210)로부터 상기 내부 공간(201A)에 공급된다.

또한, 해당 3개의 원료 공급 장치(100)의 각각의 상기 가스 도입 라인(110)은 각각 밸브(214A, 214B, 214C)와, 또한 MFC(질량 유량 제어기; 217A, 217B, 217C)를 거쳐서, 캐리어 가스 공급원(218)에 접속되고, 예를 들면 Ar 등의 캐리어 가스가 공급되는 구조로 되어 있다. 또한, 본 도면에 있어서는, 도 1에 도시한 상기 원료 공급 장치(100)의 상세(예를 들면, 내부 구조 등)에 대해서는 도시를 생략한다.

마찬가지로, 상기 가스 라인(212D)은 상기 혼합실(209D)에 접속되어, 상기 처리 용기(202)의 외측에까지 연신하도록 형성되며, 해당 처리 용기(202)의 외측에서 복수의 상기 원료 공급 장치(100)와 접속되어 있다.

이 경우, 상기 가스 라인(212D)은 밸브(215A, 215B)를 거쳐서, 2개의 상기 원료 공급 장치(100)의 상기 가스 배출 라인(111)에 각각 접속되어 있다. 즉, 상기 원료 혼합실(209D)에는 상기 가스 라인(212D)을 거쳐서, 2개의 원료 공급 장치가 접속되고, 2 종류의 기체 원료가 공급되어서 혼합되게 된다. 해당 원료 혼합 실(209D)에서 혼합된 기체 원료는 상기 가스 공급 노즐(210)로부터 상기 내부 공간(201A)으로 공급된다.

또한, 해당 2개의 원료 공급 장치(100)의 각각의 상기 가스 도입 라인(110)은 각각 밸브(216A, 216B)를 거쳐서, 상기 캐리어 가스 공급원(218)에 접속되지만, 본 도면에서는 이 접속 라인의 도시는 생략하고 있다.

또한, 상기 가스 라인(212B, 212C)에도, 먼저 설명한 가스 라인(212A, 212D) 과 같이, 복수의 원료 공급 장치(100)가 접속되며(도시를 생략), 각각 상기 원료 혼합실(209B, 209C)에 있어서도 복수의 기체 원료가 혼합되고, 상기 내부 공간(201A)에 공급된다.

또한, 상기 처리 용기(201)의 저면에는, 상기 가스 공급 노즐(210)이 노출되는 구멍부(206A)를 갖는 배기 커버(206)가 설치되어도 좋다. 상기 배기 커버는 상기 배기 수단(208)과 함께 상기 원료 공급부(209)를 덮도록 설치되어, 복수의 원료 혼합실로부터 공급되는 기체 원료가 피처리 기판에 도달하기 전에 혼합되는 것을 억제한다.

상기에 도시하는 바와 같이, 본 실시예에 의한 증착 장치(200)에서는 실시예 1에 기재된 원료 공급 장치(100)를 채용하는 것으로, 안정되게 기체 원료를 증착해서 성막을 실행하는 것이 가능해서 성막 속도가 안정적인 특징을 갖고 있다.

또한, 상기의 성막 장치로는 복수의 원료를 갖는 막을 형성하는 것이 가능하다. 또한, 성막 시에, 상기 유지대(203)를 이동시키는 것에 따라, 복수의 원료를 포함하는 막을, 더욱 적층하여 복잡한 구조의 성막을 실행하는 것이 가능하다. 이 때문에, 예를 들면 유기 EL 소자 등의 발광 소자를 형성할 경우에 바람직하다.

예를 들면, 상기의 성막 장치(200)를 이용하여, 정공 수송층과 발광층, 또한 전자 수송층이 적층된 유기 EL 소자를 형성할 수 있다. 이 경우, 예를 들면, 발광층의 호스트재에는 알미노키노리놀 착체(Alq3), 도핑재에는 루부렌을 사용할 수 있다.

또한, 상기의 증착 장치로는, 유기 EL 소자에 한정하지 않고, 그 외에도 여러 가지 용도의 증착막을 형성하는 것이 가능하다.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기의 특정한 실시예에 한정되는 것은 아니고, 특허 청구의 범위에 기재한 요지 내에 있어서 여러 변형·변경이 가능하다.

본 발명에 의하면, 증착 장치에 사용되는 원료 공급 장치에 있어서, 증착 장치의 성막 속도의 안정성이 양호하게 되는 원료 공급 장치 및 해당 원료 공급 장치를 갖는 증착 장치를 제공하는 것이 가능해진다.

Claims

증착 장치의 처리 용기에 원료를 증발 또는 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치에 있어서,

내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와,

상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와,

상기 가스 도입구로 상기 캐리어 가스를 인도하는 가스 도입로로서, 상기 가스 도입로를 흐르는 상기 캐리어 가스가 히터에 의한 가열에 의해 가열될 수 있도록 배치되는, 상기 가스 도입로와,

상기 캐리어 가스와 함께 상기 원료 용기의 내부에서 증발 또는 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하는 가스 배출구를 구비하며,

상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 흐름 제어부는 상기 원료 용기의 내부에 형성된 돌기부를 포함하는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 돌기부가 복수 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 원료가 상기 돌기부와 대향하도록 상기 원료 용기 내에 유지되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 도입구는 상기 원료 용기의 제 1 측에, 상기 가스 배출구는 상기 원료 용기의 상기 제 1 측의 반대측인 제 2 측에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
제 5 항에 있어서,

상기 가스 흐름 제어부는 상기 제 1 측과 상기 제 2 측 사이에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.
피처리 기판을 내부에 유지하는 처리 용기와, 상기 처리 용기에 원료를 증발 또는 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치를 구비하며, 상기 피처리 기판에 증발 또는 승화된 상기 원료를 증착시키는 증착 장치에 있어서,

상기 원료 공급 장치는,

내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와,

상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와,

상기 가스 도입구로 상기 캐리어 가스를 인도하는 가스 도입로로서, 상기 가스 도입로를 흐르는 상기 캐리어 가스가 히터에 의한 가열에 의해 가열될 수 있도록 배치되는, 상기 가스 도입로와,

상기 캐리어 가스와 함께 상기 원료 용기의 내부에서 증발 또는 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하는 가스 배출구를 구비하며,

상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 가스 흐름 제어부는 상기 원료 용기의 내부에 형성된 돌기부를 포함하는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 돌기부가 복수 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 원료가 상기 돌기부와 대향하도록 상기 원료 용기 내에 유지되도록 구 성되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 가스 도입구는 상기 원료 용기의 제 1 측에, 상기 가스 배출구는 상기 원료 용기의 상기 제 1 측의 반대측인 제 2 측에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 11 항에 있어서,

상기 가스 흐름 제어부는 상기 제 1 측과 상기 제 2 측 사이에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 원료 공급 장치가 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 13 항에 있어서,

복수의 상기 원료 공급 장치로부터 공급되는 증발 또는 승화된 원료를 혼합 하는 혼합실을 갖는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 14 항에 있어서,

상기 혼합실을 복수 구비하는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 원료 공급 장치는 상기 처리 용기의 외측에 설치되어, 상기 원료 공급 장치가 상기 처리 용기로부터 장착 및 탈착 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는

증착 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 도입구가 상기 원료 용기의 제 1 측에 배치되며,

상기 가스 도입로가 상기 원료 용기의 상기 제 1 측과 반대측의 제 2 측으로부터 상기 가스 도입구로 상기 캐리어 가스를 인도하도록 배치되는 것을 특징으로 하는

원료 공급 장치.