KR100979757B1 - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (10)
- 기판 상에 형성된 포토레지스트 막의 현상 공정을 수행하는 현상 유닛; 및상기 현상 유닛의 일측에 구비되며 상기 포토레지스트 막의 현상 공정이 수행되는 동안 상기 포토레지스트 막의 두께를 감지하는 감지부, 상기 감지부에서 감지되는 상기 포토레지스트 막의 두께 변화에 따라 상기 현상 공정에 소요되는 시간을 연산하는 연산부 및 상기 연산부에서 연산된 현상 공정 시간과 기준 현상 공정 시간의 일치 여부에 따라 상기 현상 유닛의 동작을 제어하는 제어부를 갖는 모니터링 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간과 실제 현상 공정 시간이 일치하지 않는 경우, 상기 제어부는 상기 현상 유닛의 동작을 중단하며,상기 모니터링 유닛은 상기 기준 현상 공정 시간을 재설정하는 설정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간 내에 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료되지 않는 경우, 상기 제어부는 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료될 때까지 상기 현상 유닛의 동작을 유지시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간 이전에 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료되는 경우, 상기 제어부는 상기 현상 유닛의 동작을 즉시 중단하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 모니터링 유닛은,상기 포토레지스트 막의 두께, 기준 현상 공정 시간 및 상기 현상 공정 소요 시간을 표시하는 표시부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간과 실제 현상 공정 시간이 일치하지 않는 경우, 상기 제어부의 제어 신호에 따라 알람을 발생하는 알람부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판 상에 형성된 포토레지스트 막의 현상 공정을 수행하는 단계;상기 포토레지스트 막의 현상 공정이 수행되는 동안 상기 포토레지스트 막의 두께를 감지하는 단계;상기 포토레지스트 막의 두께 변화에 따라 상기 현상 공정에 소요되는 시간을 연산하는 단계; 및상기 연산된 현상 공정 시간과 기준 현상 공정 시간의 일치 여부에 따라 상기 현상 공정을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 현상 공정을 제어하는 단계는,상기 기준 현상 공정 시간과 실제 현상 공정 시간이 일치하지 않는 경우 상기 현상 공정을 중단하는 단계; 및상기 기준 현상 공정 시간을 재설정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간 내에 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료되지 않는 경우 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료될 때까지 상기 현상 공정을 유지시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 기준 현상 공정 시간 이전에 상기 포토레지스트 막의 현상이 완료되는 경우 상기 현상 공정을 즉시 중단하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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JP2003077800A (ja) | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の現像処理方法および現像処理装置 |
KR100688726B1 (ko) | 2004-12-27 | 2007-03-02 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 포토리소그라피 시스템 및 방법 |
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