KR100971005B1 - 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치 - Google Patents

고분자 광학 소자의 광회로 형성장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 임프린트를 통한 고분자 광학 소자 제작에 있어서의 광회로 형성 장치에 관한 것으로, 내부에 공간부가 형성되고, 상기 공간부 상측에 자외선투과창이 결합되며, 상기 공간부와 연통되게 가압용 공압배관이 형성되어 상기 공간부에 공압이 작용하도록 형성된 가압챔버와; 상기 가압챔버 하측에 밀폐결합형성되며, 상기 공간부에 대응되게 샘플홀더가 형성되고, 상기 샘플홀더 상측에 시트수용부가 형성된 진공챔버와; 연성재질로 형성되어 상기 진공챔버의 시트수용부에 수용되어, 상기 가압챔버의 공압에 의한 작용으로 샘플을 가압시키는 가압시트와; 상기 진공챔버에 형성되어, 상기 샘플홀더와 연통되어 샘플을 고정시키는 샘플고정용 진공라인과, 상기 시트수용부에 연통되어 상기 가압시트를 고정시키는 시트고정용 진공라인으로 이루어진 진공라인;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치를 기술적 요지로 한다. 이에 따라 가압챔버 및 진공챔버를 구비하고, 그 내부에 샘플을 투입하여 가압시트를 작용시키는 것에 의하여 잔류층 제어가 용이하고 기포의 발생을 최소화하여 광회로의 치수 정밀도가 우수하며, 성능이 뛰어난 광학 소자를 제작할 수 있으며, 또한, 가압챔버 및 진공챔버, 그리고 가압시트의 작용에 의해 광학 소자를 간단하게 제작할 수 있어 공정이 단순하며 비용이 절감되고, 복잡하거나 다양한 형상의 광회로 및 대면적의 광회로에도 적용할 수 있어 광학 소자의 대량 생산이 가능한 이점이 있다.
고분자 광학 소자 광회로 가압시트 챔버 진공

Description

고분자 광학 소자의 광회로 형성장치{Optical layer formation system of polymer optical device}
본 발명은 임프린트를 통한 고분자 광학 소자 제작에 있어서의 광회로 형성 장치에 관한 것으로, 광회로 패턴에 정밀한 광회로를 형성하기 위해 가압챔버 및 진공챔버를 구비하고, 그 내부에 샘플을 투입하여 가압시트를 작용시키는 것에 의하여 정밀한 광회로를 형성시킬 수 있는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치에 관한 것이다.
일반적으로 고분자 광학 소자는 임프린트 리소그래피나 광학적 리소그래피에 의해 패턴을 전사시키고 전사된 패턴에 고분자로 이루어진 광회로 물질을 투입하고, 그 상층에 상부층을 적층하여 제작된다.
상기 고분자 광학 소자의 제작은 실리콘 기반의 광학 소자 제작에 비하여 공정이 단순하며, 공정시간이 짧고, 공정비용이 저렴하여 대향 생산이 가능하다는 점에서 다른 제작 공정에 비해 상당한 장점을 가지고 있다.
이러한 고분자 광학 소자는 임프린트 공정에 의해 형성된 패턴에 정밀한 광회로 형성이 요구되는데, 특히 정밀한 치수정밀도 및 적층, 그리고 광학 소자의 우 수한 특성을 위해서는 광회로의 미소 잔류층 제어가 중요하다.
종래의 고분자 광학 소자 제작에 있어서 광회로 형성은 광회로의 물질적 특징에 따라 열경화 방식 및 자외선 경화 방식으로 나누어진다.
도 1은 종래의 기본적인 임프린트 공정 후 치구를 통한 광학 소자의 광회로 형성 공정 개략도를 나타낸 것이다.
도시된 바와 같이 임프린트 공정에 의해 전사된 광회로 패턴이 형성된 하부층(11) 상층에 광회로용 레진(12)을 도포한 후 치구(20)에 의해 적층 및 가압시키고 경화하는 단계로 구성된다. 열경화 방식을 이용할 경우에는 열경화성 광회로용 레진(12)을 사용하며 자외선 경화 방식을 이용할 경우에는 자외선 경화성 광회로용 레진(12)을 사용하여 광회로를 형성시킨다.
최근에는 이러한 기본적인 공정을 활용하여 다양한 광학 소자의 광회로 형성공정에 대한 연구가 활발히 진행중이다.
도 2는 모세관 현상에 의한 광회로 형성 공정에 대한 개략도이며, 도 3은 가압 치구(20)를 이용한 광회로 형성 공정에 대한 개략도이다.
도 2에 도시된 바와 같이 모세관 현상을 이용하여 광회로를 형성하는 방법은 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)과 이에 적층할 상부층(13)을 접촉시킨 후 광회로용 레진(12)을 끝단부에 두면 표면장력과 모세관 현상에 의해 패턴 안쪽 부위로 광회로용 레진(12)이 빨려들어가도록 하는 것이다.
이에 의해 간단한 방식으로 광회로를 형성시킬 수 있으나, 비교적 복잡한 패턴에서는 이러한 방법의 구현이 어려우며, 하부층 및 상부층에 의해 형성된 패턴이 균일한 흡입력을 발휘하지 않아 경우에 따라서는 미충진 현상이 발생하거나 기포로 인하여 광회로의 전체적인 균일성을 보장할 수 없는 문제점이 발생한다.
그리고, 도 3은 치구(20)를 통하여 가압하여 유동을 형성시켜 충진 후 경화하는 방법을 나타내고 있다. 이러한 방법은 전 면적에 동시에 가압을 하므로 충분한 유동을 형성시킬 수 없어 광회로의 잔류층 제어가 힘들며 작은 크기의 광회로 패턴에 있어서는 치수 결함을 유발할 수 있는 문제점이 있다.
즉, 상기 두 가지 방법 모두 도포된 광회로용 레진의 유동을 용이하게 제어할 수 없는 문제로 인한 잔류층 발생과, 가압시 발생될 수 있는 기포로 인하여 광회로의 결함을 유발하며, 순간적인 큰 가압으로 인하여 형성된 패턴의 치수결함이 불가피한 문제점이 있다.
따라서 본 발명은 기존의 문제점을 보완하고 임프린트 공정에 의해 형성된 광회로 패턴에 정밀한 광회로를 형성하기 위해 가압챔버 및 진공챔버를 구비하고, 그 내부에 샘플을 투입하여 가압시트를 작용시키는 것에 의하여 정밀한 광회로를 형성시킬 수 있는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치를 그 해결과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 내부에 공간부가 형성되고, 상기 공간부 상측에 자외선투과창이 결합되며, 상기 공간부와 연통되게 가압용 공압배관이 형성되어 상기 공간부에 공압이 작용하도록 형성된 가압챔버와; 상기 가압챔버 하측에 밀폐결합형성되며, 상기 공간부에 대응되게 샘플홀더가 형성되고, 상기 샘플홀더 상측에 시트수용부가 형성된 진공챔버와; 연성재질로 형성되어 상기 진공챔버의 시트수용부에 수용되어, 상기 가압챔버의 공압에 의한 작용으로 샘플을 가압시키는 가압시트와; 상기 진공챔버에 형성되어, 상기 샘플홀더와 연통되어 샘플을 고정시키는 샘플고정용 진공라인과, 상기 시트수용부에 연통되어 상기 가압시트를 고정시키는 시트고정용 진공라인으로 이루어진 진공라인;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치를 기술적 요지로 한다.
또한, 상기 가압챔버 및 진공챔버는, 내부의 형상이 구형으로 형성되며, 내부에는 자외선반사코팅층이 형성된 것이 바람직하다.
또한, 상기 진공챔버의 샘플홀더 하측에는, 샘플의 열경화가 이루어지도록 핫플레이트부가 더 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 진공챔버의 샘플홀더와 연통되는 질소주입라인이 형성되는 것이 바람직하다.
여기에서, 상기 샘플은, 임프린트 리소그래피 공정을 통해 광회로 패턴이 형성된 하부층과, 상기 광회로 패턴 상층에 도포되는 광회로용 레진과, 상기 광회로용 레진 상층에 적층된 상부층으로 이루어져, 상기 진공챔버의 샘플홀더에 안착되어 고정되는 것이 바람직하다.
상기 과제 해결 수단에 의해 본 발명은, 가압챔버 및 진공챔버를 구비하고, 그 내부에 샘플을 투입하여 가압시트를 작용시키는 것에 의하여 잔류층 제어가 용이하고 기포의 발생을 최소화하여 광회로의 치수 정밀도가 우수하며, 성능이 뛰어난 광학 소자를 제작할 수 있는 효과가 있다.
또한, 가압챔버 및 진공챔버, 그리고 가압시트의 작용에 의해 광학 소자를 간단하게 제작할 수 있어 공정이 단순하며 비용이 절감되고, 복잡하거나 다양한 형상의 광회로 및 대면적의 광회로에도 적용할 수 있어 광학 소자의 대량 생산이 가능한 효과가 있다.
도 4는 본 발명에 따른 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치에 대한 단면도이고, 도 6은 본 발명에 따라 제조된 광학 소자의 단면도이다.
도시된 바와 같이 본 발명에 따른 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치는 크게 가압챔버(100), 진공챔버(200), 가압시트(300) 및 진공라인(400)으로 구성된다.
먼저, 상기 가압챔버(100)에 대해 설명하고자 한다.
상기 가압챔버(100)는 내부에 공간부(110)가 형성되고, 상기 공간부(110) 상측에 자외선투과층(120)이 결합되며, 상기 공간부(110)와 연통되게 가압용 공압배관(130)이 형성되어 상기 공간부(110) 내부에 공압이 작용하도록 하여, 후술할 진공챔버(200) 상측에 결합되어 가압시트(300)를 가압시키게 된다.
상기 가압챔버(100)의 전체적인 형상으로 원통형상으로 형성되며, 상기 공간부(110)는 공압이 충분히 작용할 수 있을 정도의 너비 및 높이로 형성된다. 또한, 상기 가압챔버(100)는 전체가 일체로 형성되거나, 상기 자외선투과층(120)을 결합시키기 위해 상측으로 플랜지가 결합될 수도 있다.
상기 공간부(110) 상측에는 광회로용 레진(12)이 광경화성인 경우에 자외선을 조사하기 위해 유리기판 등의 자외선투과층(120)이 형성된다. 상기 자외선투과층(120)은 상기 가압챔버(100) 내부에 직접 결합되어 고정형성될 수도 있으며, 플랜지에 의해 자외선투과층(120)을 고정결합시킬 수도 있다. 여기에서 상기 자외선투과층(120)은 상기 가압챔버(100)와 밀폐결합되도록 고무오링과 함께 결합될 수 있다.
그리고, 상기 가압용 공압배관(130)은 상기 공간부(110)와 연통되어 상기 공간부(110) 내부에 공기를 주입하여 공압이 발생하도록 하여 후술할 가압시트(300) 를 가압시키도록 한다. 상기 가압용 공압배관(130)을 통해 주입되는 공기의 압력은 샘플(10)의 종류 및 크기 형태에 따라 적절하게 작용하도록 한다.
또한, 상기 가압챔버(100)는 후술할 진공챔버(200)에 결합되어 상기 공간부(110)를 외부와 밀폐시키는데, 이를 위해 가압챔버(100) 및 진공챔버(200)에는 고정용 클램프가 형성되어 고정되거나, 고무오링과 함께 나사결합되어 고정될 수도 있다.
다음으로, 상기 진공챔버(200)에 대해 설명하고자 한다.
상기 진공챔버(200)는 상기 가압챔버(100) 하측에 밀폐결합 형성되며, 상기 공간부(110)에 대응되게 샘플홀더(210)가 형성되고, 상기 샘플홀더(210) 상측에 시트수용부(220)가 형성되어, 상기 샘플홀더(210)에는 샘플(10)이 안착되고, 상기 시트수용부(220)에는 후술할 가압시트(300)가 수용결합되게 된다. 여기에서 상기 샘플(10) 및 가압시트(300)는 후술할 샘플고정용 진공라인(410)과 시트고정용 진공라인(420)에 의해 각각 진공고정되게 된다.
상기 샘플홀더(210)에는 샘플(10)이 고정되게 되는데, 상기 샘플(10)은 일반적으로 임프린트 리소그래피 공정을 통해 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)과, 상기 광회로 패턴 상층에 도포되는 굉회로용 레진과, 상기 광회로용 레진(12) 상층에 적층된 상부층(13)으로 이루어진 광학 소자이다.
또한 상기 진공챔버(200)는 전체가 일체로 형성된 가운데 샘플홀더(210) 및 시트수용부(220)가 형성되고 하측으로는 진공라인(400)이 형성되거나, 각 진공라인(400)에 동시에 진공상태가 되도록 내부에 진공플레이트를 더 형성시킬 수 도 있다. 즉, 하나의 외부 진공라인(400)으로부터 각 샘플고정용 진공라인(410) 및 시트고정용 진공라인(420)이 연결되도록 진공플레이트에 의한 유로를 형성시키도록 할 수 있다.
다음으로, 상기 가압시트(300)에 대해 설명하고자 한다.
상기 가압시트(300)는 연성재질로 형성되어 상기 진공챔버(200)의 시트수용부(220)에 수용결합되어, 상기 가압챔버(100)의 공압에 의한 작용으로 샘플(10)을 가압시키게 된다.
상기 가압시트(300)는 상기 공간부(110) 내부에 형성된 공압에 의해 가압될 수 있을 정도의 실리콘, 폴리머 등의 연성 재질로 형성되어야 하며, 소정의 공압이 샘플(10)에 작용할 수 있도록 얇은 재질로 형성된다.
상기 가압시트(300)는 샘플(10) 상측에 위치되게 되며, 시트고정용 진공라인(420)에 의해 하측으로 당겨져 적층될 광학 소자의 상부층(13)에 미소 가압을 형성하여 유동 발생 및 표면 도포를 형성시킨다. 또한, 도포시 발생되는 기포를 제거하게 된다.
또한, 상기 가압시트(300)는 공압 작용시 중심부위가 가장 먼저 처짐으로서 유동을 중심에서 양방향으로 형성시켜 광회로용 레진(12)의 잔류층 두께를 제어할 수 있으며, 샘플(10) 표면에 직접적인 압력으로 인하여 변형을 최소화할 수 있도록 한다.
다음으로, 상기 진공라인(400)은 상기 샘플홀더(210)와 연통되어 샘플(10)을 고정시키는 샘플고정용 진공라인(410)과, 상기 시트수용부(220)에 연통되어 상기 가압시트(300)를 고정시키는 시트고정용 진공라인(420)으로 이루어지며, 상기 진공라인(400)은 외부의 진공라인(400)과 연결되어 각각 갈라져 샘플(10)과 가압시트(300)를 고정시킬 수 있도록 한다.
한편, 상기와 같이 구성된 가압챔버(100) 및 진공챔버(200)는 상기 가압챔버(100)에 형성된 자외선투과층(120)으로부터 자외선이 투과될 경우, 샘플(10)에의 자외선 조사 효율을 높이도록 하기 위해 내부의 형상이 구형, 바람직하게는 반구형으로 형성되는 것이 바람직하다. 이에 의해 가압챔버(100) 및 진공챔버(200) 내부에서 자외선의 반사 및 투과가 반복적으로 이루어지도록 한다. 또한, 반사효율을 더욱 높이기 위해, 상기 가압챔버(100) 및 진공챔버(200) 내부에는 반사효율이 우수한 금속으로 이루어진 자외선반사코팅층을 형성시킬 수도 있다.
또한, 광회로를 형성하기 위한 광회로용 레진(12)이 광경화성 물질이 아닌 열경화성 물질인 경우에는 상기 진공챔버(200)의 샘플홀더(210) 하측에 샘플(10)의 열경화가 이루어지도록 핫플레이트부를 더 형성시킬 수도 있다.
또한, 광경화나 열경화가 완료되어 광회로의 형성이 완료되면, 상기 진공챔버(200)의 샘플홀더(210)와 연통되는 질소주입라인(500)으로 질소를 주입하여 반응이 안정적으로 완료되도록 하고, 샘플(10) 및 가압시트(300)를 진공고정 상태에서 이를 해제하여 분리시키도록 한다.
도 6은 본 발명에 따른 장치에 의해 제조된 광학 소자를 나타낸 것으로 잔류층이 완전히 제거된 치수정밀도가 우수한 광학 소자의 제조가 가능한 것을 알 수 있었다.
이하에서는 본 발명의 작동예를 살펴보고자 한다.
먼저, 임프린트 공정에 의해 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)과, 상기 하부층 상층에 광회로용 레진(12)을 도포하고 그 상층에 상부층(13)을 적층하여 샘플(10)을 제조한다. 그 다음 상기 샘플(10)을 상기 진공챔버(200) 내부의 샘플홀더(210)에 안착시키고, 시트수용부(220)에 가압시트(300)를 수용시켜, 상기 샘플(10) 상면에 가압시트(300)가 접촉되도록 한다.
그리고, 상기 진공챔버(200) 상측에 가압챔버(100)를 결합시키고, 샘플고정용 진공라인(410)과 시트고정용 진공라인(420)을 작동시켜 상기 샘플(10)과 가압시트(300)를 고정시킨다. 그 다음, 상기 가압용 공압배관(130)을 통해 공기를 주입하여 상기 공간부(110) 내부에 공압이 작용하도록 하여 상기 가압시트(300)를 가압시킨다.
상기 가압시트(300)는 공압에 의해 중심부위가 하측으로 가장 먼저 처짐으로써 유동을 중심에서 양방향으로 형성시켜 광회로 물질의 잔류층 두께를 제어할 수 있으며, 샘플(10) 표면에 직접적인 압력을 가할 수 있어 기포의 발생 및 변형을 최소화할 수 있어 정밀한 광회로가 형성된 광학 소자를 제공할 수 있게 된다.
도 1 - 종래의 기본적인 임프린트 공정 후 치구를 통한 광학 소자의 광회로 형성 공정 개략도.
도 2 - 종래의 모세관 현상에 의한 광회로 형성 공정에 대한 개략도.
도 3 - 종래의 가압 치구를 이용한 광회로 형성 공정에 대한 개략도.
도 4 - 본 발명에 따른 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치에 대한 단면도.
삭제
도 6 - 본 발명에 따라 제조된 광학 소자의 단면도.
<도면에 사용된 주요부호에 대한 설명>
10 : 샘플 11 : 광회로 패턴이 형성된 하부층
12 : 광회로용 레진 13 : 상부층
20 : 치구 100 : 가압챔버
110 : 공간부 120 : 자외선투과층
130 : 가압용 공압배관 200 : 진공챔버
210 : 샘플홀더 220 : 시트수용부
300 : 가압시트 400 : 진공라인
410 : 샘플고정용 진공라인 420 : 시트고정용 진공라인
500 : 질소주입라인

Claims (5)

  1. 내부에 공간부(110)가 형성되고, 상기 공간부(110) 상측에 자외선투과창이 결합되며, 상기 공간부(110)와 연통되게 가압용 공압배관(130)이 형성되어 상기 공간부(110)에 공압이 작용하도록 형성된 가압챔버(100)와;
    상기 가압챔버(100) 하측에 밀폐결합형성되며, 상기 공간부(110)에 대응되게 샘플홀더(210)가 형성되고, 상기 샘플홀더(210) 상측에 시트수용부(220)가 형성된 진공챔버(200)와;
    연성재질로 형성되어 상기 진공챔버(200)의 시트수용부(220)에 수용되어, 상기 가압챔버(100)의 공압에 의한 작용으로 샘플(10)을 가압시키는 가압시트(300)와;
    상기 진공챔버(200)에 형성되어, 상기 샘플홀더(210)와 연통되어 샘플(10)을 고정시키는 샘플고정용 진공라인(410)과, 상기 시트수용부(220)에 연통되어 상기 가압시트(300)를 고정시키는 시트고정용 진공라인(420)으로 이루어진 진공라인(400);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 가압챔버(100) 및 진공챔버(200) 내부에는 자외선반사코팅층이 형성된 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 진공챔버(200)의 샘플홀더(210) 하측에는,
    샘플(10)의 열경화가 이루어지도록 핫플레이트부가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 진공챔버(200)의 샘플홀더(210)와 연통되는 질소주입라인(500)이 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 샘플(10)은,
    임프린트 리소그래피 공정을 통해 광회로 패턴이 형성된 하부층(11)과, 상기 광회로 패턴 상층에 도포되는 광회로용 레진(12)과, 상기 광회로용 레진(12) 상층에 적층된 상부층(13)으로 이루어져, 상기 진공챔버(200)의 샘플홀더(210)에 안착되어 고정되는 것을 특징으로 하는 고분자 광학 소자의 광회로 형성장치.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030097735A (ko) * 2003-11-19 2003-12-31 엔엔디 주식회사 임프린팅 장치 및 임프린팅 기판지지장치
JP2005062368A (ja) 2003-08-08 2005-03-10 Ricoh Co Ltd 導光路の製造装置及びその製造方法
KR100610230B1 (ko) 2003-12-31 2006-08-08 주식회사 루밴틱스 Ｕｖ 몰딩방법을 이용한 고분자 광도파로의 제조방법
KR100755007B1 (ko) 2006-03-22 2007-09-04 (주) 비앤피 사이언스 나노 임프린트 리소그래피 방법 및 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005062368A (ja) 2003-08-08 2005-03-10 Ricoh Co Ltd 導光路の製造装置及びその製造方法
KR20030097735A (ko) * 2003-11-19 2003-12-31 엔엔디 주식회사 임프린팅 장치 및 임프린팅 기판지지장치
KR100610230B1 (ko) 2003-12-31 2006-08-08 주식회사 루밴틱스 Ｕｖ 몰딩방법을 이용한 고분자 광도파로의 제조방법
KR100755007B1 (ko) 2006-03-22 2007-09-04 (주) 비앤피 사이언스 나노 임프린트 리소그래피 방법 및 장치

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