KR100959878B1 - 베이스의 부분 도금방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 베이스의 부분 도금방법에 관한 것으로, 도금될 베이스의 표면이 조면화처리되도록 상기 베이스를 사출성형할 금형 내면에 조면화된 금형을 준비하는 베이스 이중사출금형 준비단계; 상기 이중사출금형이 준비되면 이에 합성수지재를 사출시켜서 베이스를 사출성형하고 도금될 베이스 표면에 조면화 작업이 동시에 이루어지도록 하는 베이스 사출성형단계; 조면화된 베이스가 사출성형되면 상기 베이스의 비도금 표면에 도금 방지용 마스크가 사출되도록 상기 베이스 이중사출금형 내에 상기 마스크를 사출성형하는 마스크 사출성형단계; 상기 마스크가 피복된 상기 베이스를 사출금형으로부터 분리한 후 상기 베이스의 조면화 부위를 도금처리하는 베이스 도금단계; 도금처리된 상기 베이스를 세척액으로 세척하여서 베이스 표면에 도포된 마스크 부위를 세척하는 마스크 세척단계;로 이루어진다.

따라서, 베이스를 사출성형하는 공정과 사출성형된 베이스의 표면에 피복재를 피복시키는 이중사출공정을 연속적으로 수행할 수 있고, 베이스의 사출성형과 동시에 도금될 베이스의 표면에 조면화처리가 이루어지며, 에칭액을 사용하지 않고도 베이스 표면에 조면화처리를 할 수 있을 뿐 아니라, 전체 공정시간이 대폭 단축시킬 수 있다.

이중사출금형, 조면, 베이스, 마스크, 도금층

Description

베이스의 부분 도금방법{Part plating method of base}

본 발명은 베이스의 부분 도금방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 베이스를 사출성형하는 공정과 사출성형된 베이스의 표면에 피복재를 피복시키는 이중사출공정을 연속적으로 수행할 수 있고, 베이스의 사출성형과 동시에 도금될 베이스의 표면에 조면화처리가 이루어지며, 에칭액을 사용하지 않고도 베이스 표면에 조면화처리를 할 수 있을 뿐 아니라, 전체 공정시간이 대폭 단축되는 베이스의 부분 도금방법에 관한 것이다.

종래의 합성 수지 베이스인 성형품을 부분적으로 도금하는 방법으로는, 첫째, 성형품을 표면 조면화(에칭; etching)시키고, Pd 또는 Pt등을 촉매로 부여한 후, 도금하고자 하는 부분을 남기고 실크 인쇄법 또는 디스펜서 도포법 등에 의해 레지스트를 도포한 후 도금하고 레지스트를 제거하는 방법과, 둘째, 촉매 부여 후의 성형품을 금형에 삽입하고, 이 금형 내에 플라스틱 또는 고무 등(전기 절연재료)을 주입하여 성형품의 도금하고자 하는 부분 이외의 부분을 피복하고, 이어서 도금하고, 필요에 따라 피복재를 제거하는 방법 등이 알려져 있다("플라스틱 성형가공의 복합화 기술 (Combined Technology of Plastics Molding)", CMC Co. Ltd, pp260-275; 일본 특개평7(1995)-316825호; 일본 특개소63(1988)-4092호 및 일본 특허 제2,592,243호).

그런데 상기 첫째 방법에서는, 레지스트 도포 후에 열건조 등에 의한 레지스트의 경화 공정이 필요하다. 또한 도금 후 레지스트를 제거하는 경우에서 염화메틸렌 등의 유기용제를 사용해야만 하지만, 이 염화메틸렌 등의 유기용제는 클로로플루오로카본(CFC) 등과 같이 오존층을 파괴하는 원인 물질이고, 폐기량이 많아지면 피부암 또는 백내장의 증가, 또는 식물, 플랑크톤 등의 생태계의 파괴가 우려된다.

상기 둘째 방법에서는, 피복재의 밀착성이 낮기 때문에, 피복재의 경계면에 도금액이 들어가서 치수정밀도가 낮다. 또한, 필요에 따라 피복재를 제거하는 경우에는, 상기 첫째 방법의 레지스트와 동일한 문제가 발생할 우려가 있다.

또한, 상기 첫째 및 둘째 방법도 성형품의 전면(全面)에 도금용 촉매가 부여되어 있기 때문에 도금 후 즉, 회로성형 후의 전기적인 표면 저항값이 낮다

이러한 종래의 문제점을 해결하기 위해 베이스의 부분적 도금 방법(특허등록 제10-495340호)이 개발된 바 있다.

이는, 베이스 제조 금형에 합성수지재를 사출하여서 베이스를 사출성형하는 공정과, 사출성형된 베이스를 금형으로부터 분리시킨 후 베이스의 표면을 조면화(租面化)시키는 공정과, 조면화면을 폴리젖산, 및 폴리젖산을 주성분으로 하는 지방족 폴리에스테르와의 혼합체 및 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 피복재로 부분적으로 피복하는 공정과, 피복면 이외의 표면에 도금용 촉매를 도포하 는 공정과, 촉매가 도금된 부분을 제외한 피복재를 제거하는 공정과, 촉매부여면에 도금하는 공정으로 이루어진다.

그런데 이러한 종래 베이스의 부분적 도금 방법은, 베이스를 사출성형하는 공정과 사출성형된 베이스의 둘레에 피복재를 피복시키는 공정이 이중사출기에 의해 이루어지지 못한다. 그 이유는 베이스를 사출성형한 후 그 표면을 조면화시키는 공정을 수행해야 하는데, 베이스의 표면에 조면화공정을 수행하려면 금형으로부터 사출성형된 베이스를 분리시킨 후 베이스의 표면에 별도의 조면화공정을 거쳐야 한다. 따라서 하나의 금형 내에서 베이스를 사출성형하는 공정과 사출성형된 베이스의 표면에 피복재를 피복시키는 이중사출공정을 연속적으로 수행할 수 없다. 그러므로 종래 베이스의 부분적 도금 방법은, 이중사출작업이 불가능하므로 작업공정 및 작업시간이 그만큼 증가되고 이에 따라 제조단가가 상승되는 원인이 된다.

또한, 이러한 종래의 베이스의 부분적 도금 방법은, 도금부위의 칫수 정밀도를 저하시킨다. 도금 처리될 베이스의 특정 표면을 조면화시키는 이유는 합성수지재의 베이스에 도금층이 견고히 접착되도록 하기 위한 것이다. 그런데 종래의 베이스의 표면에는 도금될 부분만 에칭처리되는 것이 아니라 베이스의 일면 전체가 에칭처리된 후, 비도금 부위의 베이스 표면에 피복재를 씌우며, 피복재가 씌워지지 않은 에칭 부위를 도금처리하므로 도금층의 경계가 명확하지 않으며 이에 따라 칫수 정밀도가 떨어지는 문제점이 있다.

그리고, 종래 베이스의 부분적 도금 방법의 다른 문제점은, 에칭 공정시 사용되는 고가의 에칭액으로 인해 재료비가 증가되고, 사용후 폐기되는 에칭액으로 인해 환경오염이 증가되는 문제점이 있다.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 베이스를 사출성형하는 공정과 사출성형된 베이스의 표면에 피복재를 피복시키는 이중사출공정을 연속적으로 수행할 수 있도록 한 베이스의 부분 도금방법을 제공하는데 있다.

본 발명의 다른 목적은, 베이스의 사출성형과 동시에 도금될 베이스의 표면에 조면화처리가 이루어지도록 한 베이스의 부분 도금방법을 제공하는데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은, 에칭액을 사용하지 않고도 베이스 표면에 조면화처리를 할 수 있도록 한 베이스의 부분 도금방법을 제공하는데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 전체 공정시간이 대폭 단축되도록 한 베이스의 부분 도금방법을 제공하는데 있다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 베이스의 부분 도금방법은, 도금될 베이스의 표면이 조면화처리되도록 상기 베이스를 사출성형할 금형 내면에 조면화된 금형을 준비하는 베이스 이중사출금형 준비단계; 상기 이중사출금형이 준비되면 이에 합성수지재를 사출시켜서 베이스를 사출성형하고 도금될 베이스 표면에 조면화 작업이 동시에 이루어지도록 하는 베이스 사출성형단계; 조면화된 베이스가 사출성형되면 상기 베이스의 비도금 표면에 도금 방지용 마스크가 사출되도록 상기 베이스 이중사출금형 내에 상기 마스크를 사출성형하는 마스크 사출성형단계; 상기 마스크가 피복된 상기 베이스를 사출금형으로부터 분리한 후 상기 베이스의 조면화 부위를 도금처리하는 베이스 도금단계; 도금처리된 상기 베이스를 세척액으로 세척하여서 베이스 표면에 도포된 마스크 부위를 세척하는 마스크 세척단계;로 이루어진 것을 특징으로 한다.

본 발명 베이스의 부분 도금방법의 다른 특징은, 상기 마스크는, 폴리젖산 및 폴리젖산을 주성분으로 하는 지방족 폴리에스테르와의 혼합체 및 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된다.

이상에서와 같은 본 발명 베이스의 부분 도금방법은, 도금될 베이스의 표면이 조면화처리되도록 베이스를 사출성형할 금형 내면에 조면화된 이중사출금형을 준비하고, 이중사출금형에 베이스를 사출성형한 후 마스크를 사출성형하여서 조면화처리되고 이중사출된 베이스를 성형한다. 따라서, 조면화된 이중사출금형에 의해 베이스 및 마스크를 연속적으로 사출하는 이중사출이 가능해지고, 이에 따라 전체 작업공정, 작업시간 및 제조단가가 절감된다.

또한 본 발명의 베이스의 부분 도금방법은, 이중사출금형에 베이스를 사출성형하면 도금될 베이스의 표면이 조면화처리된다. 그러므로 베이스의 사출성형단계 만으로 도금될 베이스의 표면에 조면화처리가 이루어지므로 별도의 조면화처리공정이 필요 없다.

그리고, 본 발명의 베이스 부분 도금방법은, 에칭액을 사용하지 않고도 베이스 표면에 조면화처리가 이루어지므로 고가의 에칭액이 사용되지 않으므로 재료비가 절감되고, 사용후 폐기되는 에칭액이 발생되지 않아 환경오염을 방지한다.

이러한 본 발명은, 베이스를 사출성형하면 그 표면이 자동으로 조면화처리되므로, 하나의 베이스가 사출성형될 때마다 그 표면을 일일이 에칭액으로 처리하였던 종래에 비해 전체 공정시간이 대폭 절감되며, 이에 따라 작업성 및 생산성이 대폭 향상된다.

본 발명의 구체적인 특징 및 이점은 첨부된 도면을 참조한 이하의 설명으로 더욱 명확해질 것이다.

도 1은 본 발명의 베이스 부분 도금방법을 보인 개략적 사시도이고, 도 2는 도 1의 순서도이다.

이러한 본 발명의 베이스 부분 도금방법은, 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 조면(4) 처리되도록 베이스(3)를 사출성형할 이중사출금형(1) 내면에 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)을 준비하는 베이스 이중사출금형 준비단계(S10)를 갖는다.

여기서, 이중사출금형(1)의 내면을 조면화시키는 방법은, 입고된 금형을 세척하는 세척단계와, 세척된 금형에 에칭 부위를 제외한 부분에 마스킹 잉크를 도포하는 마스킹단계와, 마스킹 부위를 제외한 에칭될 부분에 필름을 부착시키는 필름부착단계와, 필름이 부착된 금형을 에칭처리하는 에칭단계와, 에칭단계 후 에칭 가공면을 샌드로 다듬질하는 샌딩단계와, 마무리 단계로 이루어진다.

이러한 이중사출금형(1)의 에칭 방법에는 흡식과 건식이 있는 바, 이중사출금형(1)의 재질을 고려하여서 적합한 에칭방법을 채용하는 것이 좋다.

건식법은, 플라즈마를 조사하거나 기체를 사용하는 등으로 실시 할 수 있다.

습식법은 NaOH, KOH 등의 알칼리 금속수산화물의 수용액; 알콜성 나트륨, 알콜성 칼슘 등의 알칼리 금속 알콜레이트의 수용액; 또는 디메틸포름아미드 등의 유기용제를 사용하여, 이들 에칭액을 이중사출금형(1)의 내면에 도포하거나, 이들 액중에 이중사출금형을 침지시키는 등으로 접촉시켜 실시할 수 있다.

에칭액과 이중사출금형(1)의 내면을 접촉시킨 후에, 염산이나 불산 등의 산성용액을 사용하여 처리하는 것이 바람직하다. 이 산처리는 알칼리성 에칭액을 단순히 중화시키기 위해서만 실시하는 것이 아니고 이중사출금형 중에 함유되는 충전제의 일부, 특히 이중사출금형(1)의 내면 근방에 존재하는 충전제의 일부를 제거하여 이중사출금형(1) 내면의 조면화 효과를 한층 높이기 위해 행하는 것이다.

상술한 방법으로 조면화된 이중사출금형(1)이 준비되면 이에 합성수지재를 사출시켜서 베이스(3)를 사출성형하고 도금층(6)이 형성될 베이스(3) 표면에 조면(4) 처리작업이 동시에 이루어지도록 하는 베이스 사출성형단계(S20)를 갖는다.

여기서, 베이스(3)는, 열가소성 수지, 열경화성 수지 등의 합성 수지 외에, 세라믹, 유리 등의 무기재료로 이루어질 수 있다. 바람직하게는 방향족 액정 폴리머, 폴리술폰, 폴리에테르 폴리술폰, 폴리아릴술폰, 폴리에테르 아미드, 폴리에스테르, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 폴리아미드, 변성 폴리페닐렌 옥사이드, 노르보르넨 수지, 페놀 수지, 에폭시수지 등이 사용될 수 있다. 특히 내열성 및 열팽윤계수가 넓은 온도 조건에서 금속에 가깝고, 나아가 금속막과 동등한 신축성을 가지고 서멀 사이클 테스트에서 금속막과 동등하게 우수한 특성을 가지는 폴리에스테르계 액정 폴리머가 사용된다.

이와 같이 본 발명의 베이스의 부분 도금방법은, 이중사출금형(1)에 베이스(3)를 사출성형하면 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 자동으로 조면(4) 처리된다. 그러므로 베이스(3)의 사출성형단계(S20) 만으로 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면에 조면(4) 처리가 이루어지므로 별도의 조면화처리공정이 필요 없다.

조면(4) 처리된 베이스(3)가 사출성형되면 상기 베이스(3)의 비도금 표면에 도금 방지용 마스크(5)가 사출되도록 이중사출금형(1) 내에 마스크(5)를 사출성형하는 마스크 사출성형단계(S30)를 갖는다.

마스크(5)에는, 수용성 또는 가수분해성 고분자재료가 사용되며, 베이스(3) 상에서 일정 형상으로 성형할 수 있는 재료를 사용할 수 있다. 이러한 마스크(5)의 성분으로는, 폴리비닐알콜, 변성 폴리비닐알콜, 폴리젖산 외에, 전분, 미생물 발효 지방족 폴리에스테르, 지방족 폴리에스테르 디카르본산과 디글리콜과의 축합물, 지방족 카프로락톤계 수지, 셀룰로즈 아세테이트계 수지 등이 있다.

바람직하게는 가수분해성 폴리젖산 또는 폴리젖산을 주성분으로 하는 지방족 폴리에스테르와의 혼합체 또는 공중합체(랜덤 공중합체 또는 블록 공중합체)가 사용된다.

폴리젖산은 가수분해성이며 또한 생분해성이고, 폴리비닐알콜 또는 변성 폴 리비닐알콜 등의 수용성 고분자 재료의 경우에 도금용 촉매 부여 공정에서 생기는 해당 재료로의 해당 촉매의 흡착이나 해당 재료의 팽윤 등의 문제점이 발생하지 않기 때문에, 보다 높은 정확도로 도금층(6)을 실시할 수 있고, 도금용 촉매 부여 공정을 길게 하여도 수용성 고분자 재료와 같은 문제점(촉매의 흡착이나 팽윤 등)이 생기지 않기 때문에, 도금용 촉매 부여를 정확하고 또한 확실하게 행할 수 있고, 도금용 촉매가 부착되었다고 해도 후술하는 피복재의 제거 공정에서 해당 촉매가 용이하게 제거되는 등의 이점을 가진다.

폴리젖산은 단독으로 사용해도 되고, 또는 폴리젖산을 주성분으로 하고 여기에 지방족 폴리에스테르의 단독 또는 2종 이상을 혼합한 것 또는 랜덤 공중합 또는 블록 공중합시킨 것이어도 좋고, 또한 필요에 따라 알칼리 분해 촉진제, 유기 및 무기 충전제, 가소제, 습윤제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 활제, 착색제 등의 범용 합성수지에 사용가능한 첨가제를 혼합하는 것도 바람직하다.

이상의 피복재로 베이스(3)를 부분적으로 피복하는 데는 사출, 압출, 압축, 주조, 전사(transfer) 성형, 및 기타 각종 성형방법에 의해 피복 형상을 성형하는 방법을 포함할 수 있지만, 본 발명에서는 이중사출금형(1)에 의해 베이스(3) 및 마스크(5)가 이중사출된다.

즉, 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 조면(4) 처리되도록 베이스(3)를 사출성형할 이중사출금형(1) 내면에 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)을 준비하고, 이중사출금형(1)에 베이스(3)를 사출성형한 후 마스크(5)를 이중사출성형하여서, 조면(4) 처리되고 이중사출된 베이스(3)를 성형한다. 따라서, 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)에 의해 베이스(3) 및 마스크(5)를 연속적으로 사출하는 이중사출이 가능해지고, 이에 따라 전체 작업공정, 작업시간 및 제조단가가 절감된다.

베이스(3)에 마스크(5)가 이중사출성형되면 마스크(5)가 피복된 베이스(3)를 이중사출금형(1)으로부터 분리한 후 베이스(3)의 조면(4) 처리된 부위를 도금처리하는 베이스 도금단계(S40)를 갖는다.

여기서, 베이스(3)의 조면(4) 처리된 부위에 도금층(6)을 입히기 전에 도금용 촉매를 도포할 수 있다. 이 도금용 촉매는, Pd 또는 Pt를 함유하는 것이 바람직하고, 이들은 예를 들면 염화물 등과 같은 무기염으로서 사용된다.

도금용 촉매의 부여는 상기 무기염을 베이스에 부착시킨 후, 가속 처리(accelerator treatment)에 의해 촉매금속을 석출시킴으로써 행해진다.

무기염을 베이스에 부착시키는 데는 무기염의 용액과 베이스를 접촉시키면 되고, 무기염의 용액 중에 베이스를 침지하거나 이 수용액을 베이스에 도포하는 등으로 행해지지만, 베이스(3)를 무기염의 용액 중에 침지하고, 해당 용액 중에서 해당 용기를 회전 또는 요동하여 실시할 수도 있다.

베이스(3)의 조면(4) 처리 부위에 행해지는 도금층(6)의 도금은, 공지의 메탈라이징(metallizing) 방법(무전해 도금방법이나 전기 도금 방법)을 채용할 수 있다. 도금 금속으로서는 구리, 주석, 납, 니켈, 금, 그 밖의 각종 금속을 포함한다. 도금 공정은 다수회로 나누어 실시하는 것이 가능하고, 1회에 한번 실시하는 것도 가능하다.

베이스(3)의 조면(4) 부위에 도금처리가 이루어지면 도금처리된 베이스(3)를 세척액으로 세척하여서 베이스(3) 표면에 도포된 마스크(5) 부위를 세척하는 마스크 세척단계(S50)를 갖는다.

피복재인 마스크(5)를 제거하기 위해서, 수용성 고분자 재료의 경우에는 물을 사용하여 행하고, 가수분해성 고분자 재료의 경우에는 알칼리 수용액이나 산액(각종 무기산의 액)을 사용한다.

피복재가 수용성 고분자 재료인 경우, 고분자 재료의 종류에 따라 다르지만 일반적으로는 25∼95℃ 정도의 온수 중에 2∼35 시간 침지하여 제거하는 것이 바람직하다.

피복재가 가수분해성 고분자재료, 특히 폴리젖산인 경우에는 농도 2∼15 중량% 정도로 온도 25∼70 ℃정도의 알칼리(NaOH, KOH 등) 수용액 중에 1∼120분 정도 침지시켜 제거하는 것이 바람직하다. 그리고 알칼리 수용액이 상기 조건 보다 높은 고온, 고농도에서는, 피복재뿐만 아니라 도금용 촉매도 베이스에서 탈락하는 경우가 있으므로, 상기 범위 내에서 제거공정을 행하는 것이 바람직하다.

이러한 본 발명의 베이스의 부분 도금방법은, 다음과 같은 장점이 있다.

첫째, 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 조면(4) 처리되도록 베이스(3)를 사출성형할 금형 내면에 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)을 준비하고, 이중사출금형(1)에 베이스(3)를 사출성형한 후 마스크(5)를 사출성형하여서, 조면(4) 처리되고 이중사출된 베이스(3)를 성형한다. 따라서, 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)에 의해 베이스(3) 및 마스크(5)를 연속적으로 사출하는 이중사출이 가능해지고, 이에 따라 전체 작업공정, 작업시간 및 제조단가가 절감된다.

둘째, 본 발명의 베이스의 부분 도금방법은, 이중사출금형(1)에 베이스(3)를 사출성형하면 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 조면(4) 처리된다. 그러므로 베이스(3)의 사출성형단계만으로 도금될 베이스(3)의 표면에 조면(4) 처리가 이루어지므로 별도의 조면화처리공정이 필요 없다.

셋째, 본 발명의 베이스 부분 도금방법은, 에칭액을 사용하지 않고도 베이스(3) 표면에 조면(4) 처리가 이루어지므로 고가의 에칭액이 사용되지 않으므로 재료비가 절감되고, 사용후 폐기되는 에칭액이 발생되지 않아 환경오염을 방지한다.

넷째, 베이스(3)를 사출성형하면 그 표면이 자동으로 조면(4) 처리되므로, 하나의 베이스(3)가 사출성형될 때마다 그 표면을 일일이 에칭액으로 처리하였던 종래에 비해 전체 공정시간이 대폭 절감되며, 이에 따라 작업성 및 생산성이 대폭 향상된다.

도 1은 본 발명의 베이스의 부분 도금방법을 순차적으로 보인 개략적 사시도

도 2는 도 1의 순서도

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

1 : 이중사출금형 2,4 : 조면

3 : 베이스 5 : 마스크

6 : 도금층

Claims (2)

1. 도금층(6)이 형성될 베이스(3)의 표면이 조면(4) 처리되도록 상기 베이스(3)를 사출성형할 금형 내면에 조면(2) 처리된 이중사출금형(1)을 준비하는 베이스 이중사출금형 준비단계(S10);

   상기 이중사출금형(1)이 준비되면 이에 합성수지재를 사출시켜서 베이스(3)를 사출성형하고 도금층(6)이 형성될 베이스(3) 표면에 조면(4) 작업이 동시에 이루어지도록 하는 베이스 사출성형단계(S20);

   조면(4) 처리된 베이스(3)가 사출성형되면 상기 베이스(3)의 비도금 표면에 도금 방지용 마스크(5)가 사출되도록 상기 이중사출금형(1) 내에 상기 마스크(5)를 사출성형하는 마스크 사출성형단계(S30);

   상기 마스크(5)가 피복된 상기 베이스(3)를 이중사출금형(1)으로부터 분리한 후 상기 베이스(3)의 조면(4) 부위를 도금처리하는 베이스 도금단계(S40);

   도금처리된 상기 베이스(3)를 세척액으로 세척하여서 베이스(3) 표면에 도포된 마스크(5) 부위를 세척하는 마스크 세척단계(S50);로 이루어진 것을 특징으로 하는 베이스의 부분 도금방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 마스크(5)는,

   폴리젖산을 성분으로 하는 지방족 폴리에스테르와의 혼합체로 이루어진 것을 특징으로 하는 베이스의 부분 도금방법.

Images