KR100953929B1

KR100953929B1 - 리소그래피 장치 및 센서 교정 방법

Info

Publication number: KR100953929B1
Application number: KR1020080042343A
Authority: KR
Inventors: 데 파쉬 엔젤베르투스 안토니우스 프란시스쿠스 반; 에미엘 조제프 멜라니 이우센; 스테판 거투르드 마리 헨드릭스; 에릭 로에로프 루프스트라; 쟈콥 윌렘 빈크; 루드 안토니우스 카타리나 마리아 비렌스; 로데윅 알렉산더 스크벤나스; 주펜 탐 반
Original assignee: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date: 2007-05-08
Filing date: 2008-05-07
Publication date: 2010-04-22
Also published as: JP2009027141A; JP4778981B2; US7999912B2; CN101303535B; CN101303535A; TWI396054B; TW200905412A; KR20080099183A; US20080278702A1

Abstract

보조 센서 시스템을 교정하는 방법이 제공된다. 보조 센서 시스템은 기준에 대한 그레이팅(grating)의 위치를 측정하고, 그레이팅은 인코더 측정 시스템의 일부분을 형성한다. 인코더 측정 시스템은 리소그래피 장치의 기판 테이블의 위치를 측정하도록 구성되며, 기판 테이블에 탑재된 센서를 포함한다. 보조 센서 시스템의 교정 방법은, 보조 센서 시스템의 하나 이상의 측정 방향으로의 움직임을 만들어 내기 위해 그레이팅을 가진(exitation)시키는 단계, 그레이팅이 움직이는 동안 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하는 단계, 및 그레이팅이 움직이는 동안에 획득된 보조 센서 시스템 출력 신호를 기초로 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 보조 센서 시스템을 교정하는 단계를 포함한다.

인코더 센서, 인코더 측정 시스템, 그레이팅, 가진력, 액추에이터

Description

리소그래피 장치 및 센서 교정 방법{LITHOGRAPHIC APPARATUS AND SENSOR CALIBRATION METHOD}

본 발명은 보조 센서 시스템의 교정 방법, 리소그래피 장치, 및 대상물의 위치를 측정하는 위치 측정 시스템에 관한 것이다.

리소그래피 장치는 기판 상에, 통상적으로는 기판의 타겟 영역 상에 원하는 패턴을 부여하는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예컨대 집적 회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 경우, 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 집적 회로의 각 층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 (예컨대, 한 개 또는 수 개의 다이(die)의 부분을 포함하는) 타겟 영역 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판상에 구비된 방사선-감응재(레지스트)층 위로 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟 영역들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 타겟 영역 상으로 전체 패턴을 한번에 노광함으로써 각각의 타겟 영역이 조사(照射)되는 소위 스테퍼(stepper), 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"-방향)으로 패턴을 스캐닝 하는 한편, 이 방향과 평행한 방향(같은 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 동시에 스캐닝함으로써 각각의 타겟 영역이 조사되는 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판 상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로써 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.

리소그래피 장치에서는 기판 스테이지의 위치를 측정하기 위해 인코더 측정 시스템(encoder measurement system)을 사용하는 것이 제안되어 있다. 그에 따라, 기판 스테이지는 측정 빔을 그레이팅(grating)에 지향시키는 인코더 센서가 제공될 것이다. 그레이팅은 리소그래피 장치의 메트롤로지 프레임(metrology frame) 등의 리소그래피 장치의 구조물에 연결될 것이다. 그러나, 기준 구조가 진동 또는 기타 기계적 장애를 받게 되어, 기준 구조에 연결된 그레이팅에 진동을 발생시킬 수도 있다. 당연히, 이러한 진동은, 요구된 위치에 대한 그레이팅의 변위가 대응하는 인코더의 판독에서 에러를 발생할 수도 있기 때문에, 인코더 측정 시스템의 부정확성을 야기할 수 있을 것이다.

이러한 문제점을 해소하기 위해, 기준(reference)에 대한 그레이팅의 위치를 측정하기 위해 보조 센서 시스템이 제공될 것이다. 보조 센서 시스템에 의해 제공된 바와 같은 그레이팅의 위치 편차에 대하여 인코더 시스템의 판독치를 보정함으로써, 인코더 측정 시스템의 측정 정확성이 증가되어, 전술한 진동 또는 기타 장애의 영향을 감소시킬 수 있을 것이다.

보조 센서 시스템의 교정을 용이하게 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 실시예에 따라, 보조 센서 시스템을 교정하는 방법이 제공된다. 보조 센서 시스템은, 리소그래피 장치의 기판 테이블의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템(encoder measurement system)의 일부를 형성하는 그레이팅(grating)의 위치를, 기준(reference)에 관련하여 측정하도록 이용될 수 있으며, 상기 인코더 측정 시스템은 상기 기판 테이블에 탑재된 센서를 포함한다. 상기 보조 센서 시스템의 교정 방법은 다음의 단계를 포함한다:

ㆍ 상기 보조 센서 시스템의 하나 이상의 측정 방향으로의 움직임을 만들어 내기 위해 상기 그레이팅을 가진(exitation)시키는 단계;

ㆍ 상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하는 단계; 및

ㆍ 상기 보조 센서 시스템을 교정하기 위해, 상기 그레이팅이 움직이는 동안 에 획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호에 기초하여 상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하는 단계.

본 발명의 다른 실시예로, 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 리소그래피 장치는 다음을 포함한다:

ㆍ 방사 빔을 컨디셔닝(conditioning)하도록 구성된 조명(illumination) 시스템;

ㆍ 방사 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사 빔을 형성할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;

ㆍ 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블; 및

ㆍ 상기 기판의 타겟 영역 위로 상기 패터닝된 방사 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템.

상기 리소그래피 장치는 상기 기판 테이블의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템을 더 포함한다. 인코더 측정 시스템은, 상기 기판 테이블에 탑재된 센서와, 그레이팅을 포함하는 센서 타겟을 포함한다. 기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하도록 구성된 보조 센서 시스템이 제공되며, 상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitation device)가 제공된다. 상기 리소그래피 장치는 다음과 같이 구성된다:

ㆍ 상기 그레이팅이 적어도 상기 보조 센서 시스템의 측정 방향으로 움직이도록 하기 위해 상기 가진 장치를 통해 상기 그레이팅을 가진시키고,

ㆍ 상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센 서 시스템 출력 신호를 획득하고,

ㆍ 획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호로부터 상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 상기 보조 센서 시스템을 교정한다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 리소그래피 장치는 다음을 포함한다:

ㆍ 방사 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템;

ㆍ 기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블; 및

상기 리소그래피 장치는, 상기 기판 테이블의 위치 또는 상기 지지체의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템을 더 포함한다. 인코더 측정 시스템은, 상기 기판 테이블과 상기 지지체 중의 하나에 탑재된 센서와, 그레이팅을 포함하는 센서 타겟을 포함한다. 기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하기 위한 보조 센서 시스템이 제공되며, 상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitation device)가 제공된다. 상기 리소그래피 장치는 다음과 같이 구성된다:

ㆍ 상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하고,

본 발명의 또 다른 실시예에 따라, 대상물의 위치를 측정하는 위치 측정 시스템이 제공되며, 상기 위치 측정 시스템은, 대상물에 탑재된 센서와, 그레이팅을 포함하는 센서 타겟을 포함한다. 또한, 상기 위치 측정 시스템은, 기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하도록 구성된 보조 센서 시스템과, 상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitement device)를 포함한다. 상기 위치 측정 시스템은 다음과 같이 구성된다:

본 발명의 또 다른 실시예에 따라, 기준에 대한 그레이팅의 위치를 측정하기 위한 증분형 센서 시스템(incremental sensor system)을 교정하는 방법이 제공된다. 그레이팅은 대상물의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템의 일부이다. 인코더 측정 시스템은 상기 대상물에 탑재된 센서를 포함한다. 상기 방법은 다음 을 포함한다:

ㆍ 상기 센서 시스템의 하나 이상의 측정 방향으로의 움직임을 만들어 내기 위해 상기 그레이팅을 가진(exitation)시키는 단계;

ㆍ 상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 센서 시스템으로부터 센서 시스템 출력 신호를 획득하는 단계; 및

ㆍ 상기 그레이팅이 움직이는 동안에 획득된 상기 센서 시스템 출력 신호에 기초하여 상기 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 상기 센서 시스템을 교정하는 단계.

이하에서는, 대응하는 도면 부호가 대응하는 부분을 나타내고 있는 첨부 도면을 참조하여, 예시를 목적으로 하는 본 발명의 실시예를 설명할 것이다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다. 이 리소그래피 장치는, 방사 빔(B, 예컨대 UV 방사선 또는 다른 적합한 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템(조명기, IL); 패터닝 디바이스(MA, 예컨대 마스크)를 지지하도록 구성되고, 소정의 파라미터에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제1 위치 설정기(PM)에 연결된 마스크 지지 구조체(MT, 예컨대 마스크 테이블)을 포함한다. 이 리소그래피 장치는, 기판(W, 예컨대 레지스트가 코팅된 웨이퍼)을 유지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제2 위치 설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(WT, 예컨대 웨이퍼 테이블) 또는 "기판 지지체"도 포함한다. 또한, 이 리소그래피 장치는, 기 판(W)의 타겟 영역(C)(예컨대, 하나 이상의 다이를 포함하는 영역) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(PS, 예컨대 굴절 투영 렌즈 시스템)을 포함한다.

이 조명 시스템(IL)은 방사 빔을 지향, 성형, 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기, 또는 다른 형태의 광학 구성 요소들 또는 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 형태의 광학 구성 요소들을 포함할 수 있다.

이 마스크 지지 구조체(MT)는 패터닝 디바이스(MA)를 지지, 즉 그 무게를 지탱한다. 마스크 지지 구조체는 패터닝 디바이스(MA)의 배향, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예컨대 패터닝 디바이스(MA)가 진공 또는 낮은 (가스, 공기 도는 소정의 가스 혼합물) 분위기에서 유지되는지 여부와 같은 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스(MA)를 유지한다. 마스크 지지 구조체(MT)는 패터닝 디바이스(MA)를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 마스크 지지 구조체(MT)는, 예컨대 필요에 따라 고정되거나 이동가능한 프레임(frame) 또는 테이블일 수 있다. 마스크 지지 구조체(MT)는, 패터닝 디바이스(MA)가 예컨대 투영 시스템(PS)에 대해 요구되는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판(W)의 타겟 영역(C)에 패턴을 생성하기 위하여 방사 빔의 단면에 패턴을 부여하는 데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사 빔(B)에 부여된 패턴은, 예컨대 위상 반전 피처(phase shifting feature) 또는 이른바 어시스트 피처(assist feature)를 포함하는 경우, 기판(W)의 타겟 영역(C) 내의 요구되는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사 빔(B)에 부여된 패턴은 집적회로와 같이 타겟 영역(C)에 생성될 디바이스 내의 특정 기능층에 대응할 것이다.

패터닝 디바이스(MA)는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램 가능한 거울 어레이, 및 프로그램 가능한 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상 반전형 및 감쇠 위상 반전형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라, 다양한 하이브리드 마스크 타입들을 포함한다. 프로그램 가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성이며, 그 각각의 거울들은 입사하는 방사 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사 빔에 패턴을 부여한다.

본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 액침 액체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 반사 굴절, 자기, 전자기, 및 정전기 광학 시스템, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 여하한 타입의 투영 시스템을 포함하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀더 일반적인 용어와 동의어로 간주할 수 있다.

여기서는, 설명한 바와 같이, 이 장치는 (예컨대 투과 마스크를 채택하는) 투과형이다. 다르게는, 이 장치는 (예컨대 전술한 바와 같은 타입의 프로그램 가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형일 수 있다.

리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블 또는 "기판 지지체" (및/또는 2개 이상의 마스크 테이블 또는 "마스크 지지체")를 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 하나 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 다른 하나 이상의 테이블에서는 준비 작업 단계가 수행될 수 있다.

리소그래피 장치는 또한, 적어도 기판(W)의 일부가 물과 같이 상대적으로 높은 굴절율을 가지는 액체에 의해 덮여서 투영 시스템(PS)과 기판(W) 사이의 공간을 채우도록 하는 형태일 수 있다. 액침 액체는 리소그래피 장치의 다른 공간, 예컨대 마스크(MA)와 투영 시스템(PS) 사이에도 적용될 수 있다. 액침 방식은 투영 시스템(PS)의 개구수(numerical aperture)를 증가시키기 위해서 사용될 수 있다. 본 명세서에서 "액침(immersion)"이라는 용어는 여기서 기판(W)과 같은 구조체가 액체 내에 반드시 잠겨야하는 것을 의미하는 것이라기보다는, 노광하는 동안에 투영 시스템(PS)과 기판(W) 사이에 액체가 존재하는 것을 의미하는 것이다.

도 1을 참조하면, 조명기(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사 빔을 수광한다. 예컨대, 방사선 소스(SO)가 엑시머 레이저인 경우, 방사선 소스(SO) 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 이 방사선 소스(SO)는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 보지 않으며, 방사 빔(B)은, 예컨대 적절한 지향 거울 및/또는 빔 확장기(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으 로, 방사선 소스(SO)로부터 조명기(IL)로 전달된다. 다른 경우, 예컨대 방사선 소스(SO)가 수은 램프인 경우, 이 방사선 소스(SO)는 리소그래피 장치에 통합된 부품일 수 있다. 방사선 소스(SO) 및 조명기(IL)는 필요에 따라, 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고 칭해질 수 있다.

조명기(IL)는 방사 빔(B)의 각 강도 분포(angular intensity distribution)를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로 조명기(IL)의 퓨필(pupil) 평면 내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 조명기(IL)는 집속기(IN, integrator) 및 집광기(CO)와 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수 있다. 조명기(IL)는 방사 빔(B)의 단면에 요구되는 균일성 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사 빔(B)을 컨디셔닝 하는데 사용될 수 있다.

방사 빔(B)은 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예컨대, 마스크)(MA)) 상에 입사되며, 패터닝 디바이스(MA)에 의해 패터닝된다. 마스크(MA)를 가로질러, 방사 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하여 기판(W)의 타겟 영역(C) 상에 방사 빔(B)이 포커싱(focusing) 된다. 제2 위치 설정기(PW) 및 위치 센서(IF, 예컨대 간섭계 디바이스, 선형 인코더, 또는 용량형 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은 예컨대 방사 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟 영역(C)을 위치시키도록 정확하게 이동할 수 있다. 마찬가지로, 제1 위치 설정기(PM) 및 다른 위치 센서(도 1에는 명확히 도시되지 않음)는, 예컨대 마스크 라이브러리(library)로부터의 기계적 인출 후 또는 스캔하는 동안, 방사 빔(B)의 경로 에 대해 마스크(MA)를 정확히 위치시키기 위해 사용될 수 있다. 일반적으로, 마스크 테이블(MT)의 이동은, 롱-스트로크 모듈(long-stroke module; 개략적 위치 설정) 및 숏-스트로크 모듈(short-stroke module; 미세위치 설정)의 도움을 받아 실현될 것이며, 이는 제1 위치설정기(PM)의 일부를 형성한다. 마찬가지로, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 이동은 롱-스트로크 모듈 및 숏-스트로크 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제2 위치설정기(PW)의 일부를 형성한다. (스캐너와는 다르게) 스테퍼의 경우, 마스크 테이블(MT)은 숏-스트로크 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크들(M1, M2) 및 기판 정렬 마크들(P1, P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 도시된 기판 정렬 마크들이 지정된 타겟 영역을 차지하고 있지만, 이들 마크들은 타겟 영역 사이의 공간 내에 위치될 수도 있다 (이들은 스크라이브-레인(scribe-lane) 정렬 마크로 알려져 있다). 마찬가지로, 마스크(MA) 상에 하나 이상의 다이가 제공되는 상황에서는, 마스크 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.

도시된 장치는 다음 모드들 중 하나 이상에서 사용될 수 있다:

1. 스텝 모드에서, 마스크 테이블(MT) (또는 "마스크 지지체") 및 기판 테이블(WT) (또는 "기판 지지체")은 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사 빔(B)에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟 영역(C) 상에 투영된다 (즉, 단일 정적 노광). 이후, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 상이한 타겟 영역(C)이 노광될 수 있도록, X 방향 및/또는 Y 방향으로 이동된다. 스텝 모드에서 노광 필드의 최대 크기는, 단일 정적 노광시에 이미징되는 타겟 영역(C)의 크기를 제한한다.

2. 스캔 모드에서, 마스크 테이블(MT) (또는 "마스크 지지체") 및 기판 테이블(WT) (또는 "기판 지지체")은 방사 빔에 부여된 패턴(B)이 타겟 영역(C) 상에 투영되는 동안에 동시에 스캐닝된다(즉, 단일 동적 노광). 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체"에 대한 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광시 타겟 영역의 (스캐닝 되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.

3. 다른 하나의 모드에서, 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체"는 프로그램 가능한 패터닝 디바이스를 가지고 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사 빔에 부여된 패턴이 타겟 영역(C) 상에 투영되는 동안, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"가 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스가 채택되며, 프로그램 가능한 패터닝 디바이스는, 기판 테이블(WT)이 이동할 때마다 그 이동 후에 또는 스캔 중에 연속하는 방사선 펄스 사이에서, 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램 가능한 거울 어레이와 같은 프로그램 가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크 없는 리소그래피에 용이하게 적용될 수 있다.

또한, 상술한 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 전혀 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.

도 2는 본 명세서에서 기판 스테이지로도 지칭되는 웨이퍼 스테이지(WT)를 개략적으로 도시하고 있다. 기판 스테이지(WT)는 투영 시스템(PS)을 통해 조사될 기판(W)을 유지한다. 기판 스테이지(WT)의 위치를 측정하기 위해, 1차원 또는 2차원의 패턴을 포함하는 그레이팅(GT)과 인코더 센서(ES)를 포함하는 인코더가 제공되며, 인코더 센서(ES)는, 그레이팅(GT)을 향하는 빔을 생성하기 위한 광원과, 인코더 센서(ES)로 되돌아오는 빔을 검출하기 위한 센서의 조합을 포함할 것이다. 기판 스테이지(WT)의 변위(displacement)는 그레이팅(GT)에 대한 인코더 센서(ES)의 변위를 발생할 것이며, 그레이팅(GT)은 그레이팅 상의 1차원 또는 2차원의 패턴에 의해 인코더 센서(ES)에 의해 제공된 신호에 대응하는 변화를 제공할 것이며, 이로써 인코더 센서(ES)에 복귀되는 광학 에너지는 그레이팅(GT)의 요소(라인, 스트립, 도트 등과 같은)를 통과함으로써 변경될 것이다. 본 실시예에서, 그레이팅(GT)은 리소그래피 장치의 기준 구조를 제공할 수도 있는 메트롤로지 프레임(MF)에 연결된다. 투영 시스템(PS)은 메트롤로지 프레임(MF)에 의해 견고한 방식으로 또는 액티브 또는 패시브형의 견고하거나 탄력이 있는 마운트(도시하지 않음)를 통해 고정될 것이다.

문제는, 메트롤로지 프레임(MF)이 진동, 장애, 또는 기타 영향을 받게 되어, 이러한 영향이 그레이팅(GT)을 기준, 이 예에서는 투영 시스템(PS) 또는 더욱 엄밀하게는 투영 시스템(PS)의 광축(AX)에 대하여 움직이도록 할 수도 있다는 것이다. 그레이팅(GT)의 이러한 움직임은 그레이팅(GT)을 일부분으로 포함하고 있는 인코더에 의한 측정의 부정확성을 발생할 것이다. 그레이팅(GT)의 변위의 다른 원인이 있을 수도 있으며, 열팽창 등에 의해 나타나게 될 수도 있다.

이러한 영향을 특정 정도까지 보상할 수 있도록 하기 위해, 이 예에서는 기준으로서의 투영 시스템(PS) 또는 더욱 엄밀하게는 투영 시스템(PS)의 광축(AX)에 대한 그레이팅(GT)의 위치를 측정하는 보조 센서 시스템(ASS)이 제공될 것이다. 보조 센서 시스템(ASS)은 보조 시스템부(ASP2)에 대한 보조 시스템부(ASP1)의 위치를 측정하는 인코더를 포함할 것이다. 보조 시스템부(ASP2)는 예컨대 투영 시스템(PS)의 다운스트림 투영 렌즈의 렌즈 마운트에 연결될 것이다. 보조 센서 시스템(ASS)의 해상도에 대한 요구 정도는 높을 것이며, 기판 스테이지(WT)의 위치설정 정확도 요구 정도에 필적하거나 또는 그 보다 낮을 것이다. 왜냐하면, 보조 센서 시스템(ASS)의 어떠한 측정 에러가 투영 시스템(PS) 또는 투영 시스템(PS)의 광축(AX)에 대한 기판 스테이지(WT)의 측정 에러를 유발할 수 있기 때문이다. 따라서, 보조 센서 시스템(ASS)의 주기적인 교정이 요구되거나 또는 보조 센서 시스템(ASS)의 주기적인 교정이 바람직할 것이다. 보조 센서 시스템(ASS)은 예컨대 광학적 증분형 인코더(optical incremental encoder)와 같은 증분형 인코더를 포함할 것이지만, 용량성 센서, 유도성 센서(예컨대, 와류 전류, LVDT(linear variable differential transformer), 간섭계) 등의 다른 유형의 센서도 사용될 수 있을 것이다. 증분형 인코더의 경우, 예컨대 광 세기 및 반사 변동, 하나의 신호 주기 내에서의 비선형성 등의 다양한 영향에 의해 인코더의 부정확성을 야기할 것이다. 이러한 영향을 감안할 수 있도록 하기 위해서는, 주기적인 교정이 요구될 것이다.

본 발명은 보조 센서 시스템(ASS)을 요구된 레벨의 정확도까지 교정하는 것과 관련된 문제들을 해소하기 위해 사용될 수 있다. 보조 센서 시스템(ASS)의 제 거 및 리소그래피 장치의 외측에서의 교정은, 제거 및 교체 자체가 교정을 고려할 수 없는 에러를 생성할 수도 있기 때문에, 실현 가능하지 않을 수도 있다. 그 대신, 본 발명의 특징에 따라, 적어도 보조 센서 시스템(ASS)의 측정 방향(이 예에서는, 도 2에 MD로 개략적으로 나타내어져 있는 측정 방향)으로의 움직임을 만들어 내기 위해 그레이팅을 가진(excitation)시키고, 이러한 움직임 동안 보조 센서 시스템(ASS)으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하며, 이와 같이 획득된 출력 신호에 기초하여 보조 센서 시스템(ASS)의 파라미터를 조정함으로써, 교정이 수행될 수 있다. 교정을 수행하기 위해, 예컨대 보조 센서 시스템(ASS)의 레이저 파워, 레이저 파장, 이득 및/또는 오프셋과 같은 보조 센서 시스템(ASS)의 다양한 파라미터가 조정될 것이다. 또한, 보조 센서 시스템 출력 신호의 패턴이 이러한 움직임과 비교되어, 보조 센서 시스템(ASS)의 요구된 응답과 비교될 때의 보조 센서 시스템(ASS)의 응답에서의 여하한 편차를 구하기 위해, 보조 센서 시스템(ASS)의 비선형성이 교정될 것이다.

메트롤로지 프레임(MF)에의 그레이팅(GT) 탑재의 높은 견고성 및 그 결과 그레이팅(GT)의 이러한 움직임에 요구될 커다란 힘으로 인해, 가진(excitation)은 비교적 작은 힘으로 그레이팅의 비교적 큰 진폭을 제공하기 위해 그레이팅의 공진 주파수와 동기하여 제공될 것이다. 그 예가 도 3a에 도시되어 있으며, 이 도면에서는 펄스 형태의 가진력(EF : excitation force)이 그레이팅의 공진과 동기하여 제공되며, 이에 의해 그레이팅은 도 3a에 도시된 바와 같이 변위(D)를 발생한다.

이와 달리, 가진은 그레이팅의 공진을 발생하기 위해 계단 함수(도 3b에 도 시된 바와 같은) 또는 임펄스 함수(도 3c에 도시된 바와 같은)에 의해 제공될 수 있다.

본 명세서에 개시된 본 발명의 특징은 또한 소위 듀얼-스테이지 리소그래피 장치의 측정 스테이지에 적용될 수도 있다. 또한, 측정 사이클 동안, 기판(W) 및/또는 기판 테이블(WT)의 표면 상의 정렬 마크가 측정된다. 보조 센서 시스템(ASS)은 하나 이상의 수평 방향에서의 측정치를 제공할 수도 있지만, 하나 이상의 수평 방향에서의 측정치를 제공하는 것이 반드시 필요한 것은 아니다.

도 4는 그레이팅(GT) 및 투영 시스템(PS)의 평면도를 개략적으로 도시하고 있다. 이 예에서는 2개의 보조 센서 시스템, 즉 제1 보조 센서 시스템(ASS1) 및 제2 보조 센서 시스템(ASS2)이 제공되고 있지만, 다른 실시예서는 더 많은 보조 센서가 제공될 수도 있다. 제1 보조 센서 시스템(ASS1)은 제1 측정 방향(MD1)에서의 투영 시스템(PS)에 대한 그레이팅(GT)의 위치를 측정하는 한편, 제2 보조 센서 시스템(ASS2)은 제2 측정 방향(MD2)에서의 투영 시스템(PS)에 대한 그레이팅(GT)의 위치를 측정한다. 이 예에서의 제1 및 제2 측정 방향(MD1, MD2)은 서로 직각을 이루며, 이 2개의 측정 방향은 그레이팅(GT)의 표면과 나란하여, 웨이퍼 스테이지(WT)의 움직임의 방향에 있게 된다.

도 4는 또한 가진력(EF)에 의해 그레이팅(GT)의 가진을 제공하는 가진 장치(ED)를 도시하고 있으며, 가진력의 방향은 가진력에 의한 그레이팅의 움직임이 제1 및 제2 측정 방향(MD1, MD2)에 대해 실질적으로 45°의 각도 하에 이루어지도록 되어 있다. 이에 의해, 그레이팅(GT)의 단일의 움직임으로도, 제1 및 제2 측정 방향(MD1, MD2)으로의 그레이팅(GT)의 움직임을 제공하기에 충분하여, 동일한 움직임으로부터 제1 및 제2 보조 센서 시스템(ASS1, ASS2)을 교정할 수 있을 것이다.

예컨대, 공압식 액추에이터, 유압식 액추에이터, 예컨대 펄스 형태의 가스 흐름을 제공하는 가스 흐름 액추에이터, 흡입 공압식 액추에이터(suction pneumatic actuator), 압전 액추에이터, 그레이팅을 잡아당기고 있는 줄에 횡단력(traverse force)을 제공하여 필요시에 줄에 의한 인력을 증가시키는 트래버스 파워 익사이티드 스트링 액추에이터(traverse power excited string actuator), 전자기 액추에이터, 및 어쿠스틱 액추에이터(acoustic actuator) 등의 다양한 액추에이터가 적용될 것이다.

상기한 예에서, 액추에이터는 그레이팅(GT)에 대해 작용하는 것으로 설명되어 있다. 그러나, 다수의 다른 구성도 가능하며, 그 예로 액추에이터가 리소그래피 장치의 렌즈 마운트에 존재할 수도 있다. 일부 리소그래피 장치 설계에서, 투영 시스템(PS)의 하나 이상의 렌즈는 해당 렌즈를 위치설정하기 위한 액추에이터를 포함하는 액티브 렌즈 마운트(active lense mount)가 제공되어 있을 것이다. 이러한 액추에이터를 작동하여 예컨대 그레이팅의 공진 주파수에 대응하는 주파수를 제공하도록 함으로써, 투영 시스템(PS) 및 그에 따라 메트롤로지 프레임 및/또는 그레이팅에서 진동 패턴이 생성될 수 있으며, 그 결과 그레이팅의 공진을 발생할 수 있다. 또 다른 예로서, 액추에이터, 즉 가진 장치는 메트롤로지 프레임에 대해 작용할 수 있으며, 이에 의해 메트롤로지 프레임이 그레이팅(GT)의 공진 모드와 대체로 일치하는 주파수(공진 주파수 또는 비공진 주파수)로 진동하도록 하여, 그레이 팅의 공진을 발생할 수도 있다.

전술한 설명에서는, 본 발명에 따른 원리가 기판 스테이지(WT) 및 기판 스테이지 위치설정을 참조하여 설명되었지만, 본 명세서에 개시되어 있는 원리는 지지체로도 지칭되는 마스크 스테이지(MT)의 위치설정을 위해서도 동등하게 적용될 수 있을 것이다.

또한, 전술한 설명에서는, 그레이팅(GT)의 공진을 참조하여 설명하였다. 이러한 공진으로는 각각의 측정 방향(MD, MD1, MD2)에서의 그레이팅(GT)의 움직임이 제공되는 어떠한 공진 모드도 가능하다. 움직임의 방향은 투영 시스템(PS)의 광축(AX)에 실질적으로 직각을 이루는 방향을 포함할 수도 있다.

이상 설명한 본 발명은 리소그래피 장치에만 국한하여 적용되지 않고, 인코더 측정 시스템의 일부를 형성하는 그레이팅의 위치를 측정하는 보조 센서 시스템에 교정 방법을 적용할 수 있는 어느 분야에도 적용 가능하다.

본 명세서에서는, 집적회로(IC)의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대해 언급하였지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드의 제조와 같은 기타 응용예들을 가질 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 다른 적용예와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟 영역"과 같은 좀더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예컨대 트랙(전형적으로 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 장치), 또는 계측 장비, 또는 검사 장치에서 처리될 수 있다. 적용 가능한 범위에서, 상기 기판 처리 장치와 여타 기판 처리 장치에 본 명세서의 개시 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예컨대 다층 집적회로를 생성하기 위하여 기판이 복수 회 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러 번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수 있다.

본 명세서에서는, 광학 리소그래피에 대하여 특정 실시예에 대해 언급하였지만, 본 발명은 예컨대 임프린트(imprint) 리소그래피와 같은 다른 용용예에서도 사용될 수 있으며, 본 명세서는 광학 리소그래피에 한정되는 것은 아니다. 임프린트 리소그래피에서는, 패터닝 디바이스의 표면 형상(topology)이 기판 상에 형성되는 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 표면 형상은 기판에 도포된 레지스트층으로 인쇄될 수 있으며, 기판 상에서 레지스트는 전자기 방사, 열, 압력, 및 이들의 조합에 의해서 양생(curing) 된다. 레지스트의 양생이 완료된 후에, 패터닝 디바이스는 레지스트 내에 패턴을 남기며 이로부터 분리된다.

본 명세서에 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는 (예컨대, 365, 248, 193, 157, 또는 126 nm의 파장을 갖는) 자외(UV) 방사선, 및 (예컨대 5-20 nm의 파장 범위를 갖는) 극자외(EUV) 방사선을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선 외에도 이온 빔이나 전자 빔과 같은 입자 빔을 포괄한다.

본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 전자기적 및 정전기적 광학 요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 요소들 중 어느 하나 또는 그 조합을 나타낼 수 있다.

이상에서 특정 실시예들이 서술되었지만, 본 발명은 서술된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예컨대, 본 발명은 상기 개시된 바와 같은 방법을 설명하는 기계 판독 가능한 명령어들의 하나 이상의 시퀀스들을 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되는 데이터 저장 매체(예컨대, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수도 있다.

상술한 내용은 예시를 위한 것이며, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 하기 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하는 도면.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 장치의 일부분에 대한 개략도.

도 3a 내지 도 3c는 그레이팅의 움직임 및 그레이팅의 가진 패턴(excitation pattern)의 타이밍도.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 보조 측정 시스템 및 가진 장치의 개략 평면도.

Claims

리소그래피 장치의 기판 테이블의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템(encoder measurement system)의 일부를 형성하는 그레이팅(grating)의 위치를, 기준(reference)에 관련하여 측정하도록 구성되는 보조 센서 시스템을 교정하는 방법으로서, 상기 인코더 측정 시스템이 상기 기판 테이블에 탑재된 센서를 포함하는, 보조 센서 시스템의 교정 방법에 있어서,

상기 보조 센서 시스템의 하나 이상의 측정 방향으로의 움직임을 만들어 내기 위해 상기 그레이팅을 가진(exitation)시키는 단계;

상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하는 단계; 및

상기 보조 센서 시스템을 교정하기 위해, 상기 그레이팅이 움직이는 동안에 획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호에 기초하여 상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하는 단계

를 포함하는 보조 센서 시스템의 교정 방법.
제1항에 있어서,

상기 그레이팅에 대한 가진은 상기 그레이팅의 공진 주파수에 동기하여 수행되는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

상기 그레이팅을 가진시키는 단계는, 계단 함수 또는 임펄스 함수에 의해 상기 그레이팅을 가진시키는 단계를 포함하는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 움직임은, 상기 리소그래피 장치의 상기 기판 테이블의 움직임의 평면을 따른 방향으로 이루어지는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 기준은, 리소그래피 장치 투영 렌즈 및 리소그래피 장치 정렬 측정 장치 중의 하나인, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하는 단계는, 상기 보조 센서 시스템의 레이저 파워, 레이저 파장, 이득 및 오프셋 중의 하나 이상을 조정하는 단계를 포함하는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 측정 방향은, 서로 직각을 이루는 제1 측정 방향과 제2 측정 방향을 포함하며,

상기 움직임은, 상기 제1 측정 방향 및 상기 제2 측정 방향에 대해 45°의 각도로 이루어지는,

보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 그레이팅은, 공압식 액추에이터, 유압식 액추에이터, 가스 흐름 액추에이터, 흡입 공압식 액추에이터(suction pneumatic actuator), 압전 액추에이터, 트래버스 파워 익사이티드 스트링 액추에이터(traverse power excited string actuator), 전자기 액추에이터, 및 어쿠스틱 액추에이터(acoustic actuator) 중의 하나 이상에 의해 가진되는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 그레이팅을 가진시키는 단계는, 상기 리소그래피 장치의 렌즈 마운트 액추에이터를 가진시키는 단계를 포함하는, 보조 센서 시스템의 교정 방법.
청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

제1항에 있어서,

상기 그레이팅을 가진시키는 단계는, 메트롤로지 프레임(metrology frame)을 투영 렌즈 또는 상기 그레이팅의 공진 주파수로 작동시키는 단계를 포함하는,

보조 센서 시스템의 교정 방법.
리소그래피 장치에 있어서,

방사 빔을 컨디셔닝(conditioning)하도록 구성된 조명(illumination) 시스템;

방사 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사 빔을 형성할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;

기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블;

상기 기판의 타겟 영역 위로 상기 패터닝된 방사 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템;

상기 기판 테이블의 위치를 측정하도록 구성되고, 상기 기판 테이블에 탑재된 센서와, 그레이팅을 포함하는 센서 타겟을 포함하는 인코더 측정 시스템;

기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하도록 구성된 보조 센서 시스템; 및

상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitation device)

를 포함하며,

상기 리소그래피 장치는,

상기 그레이팅이 적어도 상기 보조 센서 시스템의 측정 방향으로 움직이도록 하기 위해 상기 가진 장치를 통해 상기 그레이팅을 가진시키고,

상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하고,

획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호로부터 상기 보조 센서 시스템의 파 라미터를 조정하여, 상기 보조 센서 시스템을 교정하도록 구성되는,

리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 가진 장치는, 상기 그레이팅의 공진 주파수에 동기하여 가진을 수행하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 가진 장치는, 계단 함수 또는 임펄스 함수에 따라 상기 그레이팅에 대한 가진을 수행하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 움직임은, 상기 리소그래피 장치의 상기 기판 테이블의 움직임의 평면을 따른 방향으로 이루어지는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 기준은, 리소그래피 장치 투영 렌즈 또는 리소그래피 장치 정렬 측정 장치인, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 리소그래피 장치는, 상기 보조 센서 시스템의 레이저 파워, 레이저 파장, 이득 및 오프셋 중의 하나 이상을 교정함으로써 상기 보조 센서 시스템의 교정을 수행하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 측정 방향은, 서로 직각을 이루는 제1 측정 방향과 제2 측정 방향을 포함하며,

상기 가진 장치는, 상기 그레이팅을 상기 제1 측정 방향 및 상기 제2 측정 방향에 대해 45°의 각도로 움직이게 하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 가진 장치는, 공압식 액추에이터, 유압식 액추에이터, 가스 흐름 액추에이터, 흡입 공압식 액추에이터(suction pneumatic actuator), 압전 액추에이터, 트래버스 파워 익사이티드 스트링 액추에이터(traverse power excited string actuator), 전자기 액추에이터, 및 어쿠스틱 액추에이터(acoustic actuator) 중의 하나 이상을 포함하는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 가진 장치는, 상기 리소그래피 장치의 렌즈 마운트 액추에이터를 가진 시킴으로써 상기 그레이팅을 가진시키도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제11항에 있어서,

상기 가진 장치는, 메트롤로지 프레임(metrology frame)을 투영 렌즈 또는 상기 그레이팅의 공진 주파수로 작동시킴으로써 상기 그레이팅을 가진시키도록 구성되는, 리소그래피 장치.
리소그래피 장치에 있어서,

방사 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템;

방사 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사 빔을 형성할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;

기판을 지지하도록 구성된 기판 테이블;

상기 기판의 타겟 영역 위로 상기 패터닝된 방사 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템;

상기 기판 테이블의 위치 또는 상기 지지체의 위치를 측정하도록 구성되고, 상기 기판 테이블과 상기 지지체 중의 하나에 탑재된 센서와, 그레이팅을 포함하는 센서 타겟을 포함하는 인코더 측정 시스템;

기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하기 위한 보조 센서 시스템; 및

상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitation device)

를 포함하며,

상기 리소그래피 장치는,

상기 그레이팅이 적어도 상기 보조 센서 시스템의 측정 방향으로 움직이도록 하기 위해 상기 가진 장치를 통해 상기 그레이팅을 가진시키고,

상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하고,

획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호로부터 상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 상기 보조 센서 시스템을 교정하도록 구성되는,

리소그래피 장치.
대상물의 위치를 측정하는 위치 측정 시스템에 있어서,

대상물에 탑재된 센서;

그레이팅을 포함하는 센서 타겟;

기준에 대한 상기 그레이팅의 위치를 측정하도록 구성된 보조 센서 시스템; 및

상기 그레이팅을 가진시키도록 구성된 가진 장치(excitement device)

를 포함하며,

상기 위치 측정 시스템은,

상기 그레이팅이 적어도 상기 보조 센서 시스템의 측정 방향으로 움직이도록 하기 위해 상기 가진 장치를 통해 상기 그레이팅을 가진시키고,

상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 보조 센서 시스템으로부터 보조 센서 시스템 출력 신호를 획득하고,

획득된 상기 보조 센서 시스템 출력 신호로부터 상기 보조 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 상기 보조 센서 시스템을 교정하도록 구성되는,

위치 측정 시스템.
대상물의 위치를 측정하기 위한 인코더 측정 시스템의 일부를 형성하는 그레이팅의 위치를, 기준에 관련하여 측정하도록 구성되는 증분형 센서 시스템(incremental sensor system)을 교정하는 방법으로서, 상기 인코더 측정 시스템이 상기 대상물에 탑재된 센서를 포함하는, 증분형 센서 시스템의 교정 방법에 있어서,

상기 센서 시스템의 하나 이상의 측정 방향으로의 움직임을 만들어 내기 위해 상기 그레이팅을 가진(exitation)시키는 단계;

상기 그레이팅이 움직이는 동안 상기 센서 시스템으로부터 센서 시스템 출력 신호를 획득하는 단계; 및

상기 그레이팅이 움직이는 동안에 획득된 상기 센서 시스템 출력 신호에 기초하여 상기 센서 시스템의 파라미터를 조정하여, 상기 센서 시스템을 교정하는 단계

를 포함하는 증분형 센서 시스템의 교정 방법.