KR100948147B1 - 회절 격자 및 이를 이용한 광픽업 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인라인 회절 격자 및 이를 이용한 광픽업 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 트래킹 에러 신호의 크기, 변화폭 및 변화 패턴을 자유롭게 설계할 수 있는 인라인 회절 격자 및 이를 이용하여 성능을 향상시킨 광픽업 장치에 관한 것이다.

Description

회절 격자 및 이를 이용한 광픽업 장치{Grating device and optical pickup apparatus using the same}
본 발명은 인라인 회절 격자 및 이를 이용한 광픽업 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 트래킹 에러 신호의 크기, 변화폭 및 변화 패턴을 자유롭게 설계할 수 있는 인라인 회절 격자 및 이를 이용하여 성능을 향상시킨 광픽업 장치에 관한 것이다.
DVD/CD용 광픽업 장치는 개별적인 DVD/CD용 광원을 각각 사용하는 방식에서 하나의 패키지 내에 2개의 광원이 함께 장착된 트윈-LD(Twin-LD)를 사용하는 방식으로 변화하고 있다. 또한, DVD 광픽업 장치의 경우, 트랙 피치가 상이한 DVD-R 디스크와 DVD-RAM 디스크에 동시에 대응하기 위하여, 메인 빔과 서브 빔을 동일한 트랙 위에 위치시키는 인라인 DPP(Inline DPP) 방법을 트래킹 서보 방식으로 주로 사용하고 있다. 최근에는 하나의 동일한 회절 격자를 사용하여 DVD-R/DVD-RAM 뿐만 아니라 CD까지 대응하는 방식이 등장하고 있다. 이를 위하여 특수한 패턴을 가지는 인라인(Inline) 회절 격자를 광픽업 장치에 채용하고 있다.
회절 격자는 광원에서 발생한 광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔으로 분할하 는 역할을 한다. 특히, 인라인 회절 격자는 입사빔의 영역별로 위상차가 발생하도록 회절 패턴이 구성되어 있어서, 광디스크에서 반사된 후 수광부로 향하는 서브 빔의 위상이 메인 빔의 위상과 180도 차이가 나도록 한다. 이렇게 서브 빔의 위상이 메인 빔의 위상과 180도 차이가 나기 때문에, 광디스크의 동일 트랙 내에 메인 빔과 서브 빔을 위치시킨 인라인 DPP 방법을 사용할 수 있게 된다.
도 1 내지 도 3은 이러한 인라인 회절 격자의 예를 개략적으로 도시하고 있다. 먼저, 도 1은 광이 입사하는 영역인 유효경을 2개의 영역(11a,11b)으로 분할한 2분할 인라인 회절 격자(11)를 도시하고 있다. 2분할 인라인 회절 격자(11)의 경우, 중앙부 수직선을 중심으로 좌우 영역(11a,11b)으로 구분되어 있으며, 상기 좌우 영역(11a,11b)에 형성된 회절 패턴들 사이의 위상차는 180도이다.
또한, 도 2는 유효경을 3개의 영역(12a,12b,12c)으로 분할한 3분할 인라인 회절 격자(12)를 도시하고 있다. 3분할 인라인 회절 격자(12)의 경우, 중앙부에 비교적 좁은 폭을 갖는 중앙 영역(12b)과 이를 중심으로 좌우 영역(12a,12c)이 각각 형성되어 있다. 여기서, 중앙 영역(12b) 대비 좌우 영역(12a,12c)의 위상차는 각각 +90도와 -90도이며, 좌우 영역(12a,12c) 사이의 위상차는 180도이다.
한편, 도 3은 4분할 인라인 회절 격자(13)를 도시하고 있다. 4분할 인라인 회절 격자(13)의 경우, 중앙부에 동일한 폭을 갖는 두 개의 좁은 중앙 영역(13b,13c)과 이를 중심으로 좌우 영역(13a,13d)이 각각 형성되어 있다. 여기서, 좌우 영역(13a,13d) 사이의 위상차는 180도이며, 두 개의 중앙 영역(13b,13c) 사이의 위상차는 임의로 설정할 수 있다.
그런데 이러한 인라인 회절 격자를 사용할 경우, 대물렌즈가 광디스크의 반경 방향으로 시프트할 때 트래킹 에러 신호 레벨이 크게 변화하는 문제가 있다. 이는, 대물렌즈의 시프트시에 동일 트랙 위에 있는 서브 빔들 사이에 위상차가 발생하여 서브-푸시풀(Sub-PP) 신호의 레벨이 낮아지기 때문에 발생하는 현상이다. 즉, 이러한 문제는 인라인 DPP 방식이기 때문에 발생하는 것이다.
이러한 문제에 대응하기 위하여 인라인 회절 격자의 구조를 조정할 필요가 있다. 그런데 2분할 인라인 회절 격자(1)의 경우, 설계의 자유도가 없기 때문에 구조 조정의 여지가 없다. 3분할 인라인 회절 격자(12)의 경우에는, 중앙 영역(12b)의 폭을 변화시킴으로써 트래킹 에러 신호 레벨의 변화 정도가 달라질 수 있다. 그러나 중앙 영역(12b)의 폭을 변화시킬 경우, 위치 공차 특성과 같은 다른 광학적 특성의 저하를 일으킬 수 있다. 따라서, 중앙 영역(12b)의 폭을 변화시킬 수 있는 범위는 제한적이다. 4분할 인라인 회절 격자(13)의 경우, 두 중앙 영역(13b,13c)의 폭과 함께 상기 두 중앙 영역(13b,13c) 간의 위상차를 변화시킬 수 있다. 그러나 이 경우에도 역시 중앙 영역(13b,13c)에 대한 폭의 자유도가 크지 않은 상태에서, 두 중앙 영역(13b,13c) 간의 위상차만으로는 여러 특성을 동시에 만족시키기가 어렵다.
따라서 본 발명의 목적은 트래킹 에러 신호의 크기, 변화폭 및 변화 패턴을 자유롭게 설계할 수 있는 다분할 인라인 회절 격자를 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은 상기 다분할 인라인 회절 격자를 이용한 광픽업 장치를 제공하는 것이다.
입사광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔을 형성하기 위한 본 발명의 한 유형에 따른 인라인 회절 격자는, 중앙 영역 및 상기 중앙 영역을 중심으로 점대칭인 관계에 있는 좌우 영역으로 각각 분할되어 있으며, 상기 중앙 영역의 폭은 각각의 좌우 영역의 폭보다 좁고, 상기 좌우 영역의 폭은 서로 동일하며, 상기 중앙 영역이 적어도 3개의 서브 영역으로 분할되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 좌우 영역의 회절 패턴들 사이의 위상차는 180도일 수 있다.
또한, 상기 중앙 영역의 서브 영역들은 서로 인접한 서브 영역들과 위상이 상이한 회절 패턴들을 가질 수 있다.
예컨대, 상기 중앙 영역의 서브 영역들의 회절 패턴들은 상기 좌우 영역의 회절 패턴들과 -180도 내지 +180도 사이의 위상차를 가질 수 있다.
상기 중앙 영역의 서브 영역들의 개수가 홀수 개인 경우, 최내측 서브 영역을 중심으로 좌우로 동일한 위치에 있는 서브 영역들은, 서로 점대칭 관계에 있으며 동일한 폭을 가질 수 있다.
예컨대, 상기 최내측 서브 영역에는 회절 패턴이 형성되지 않을 수도 있다.
또한, 상기 중앙 영역의 서브 영역들의 개수가 짝수 개인 경우, 중심선을 기준으로 좌우로 동일한 위치에 있는 서브 영역들은, 서로 점대칭 관계에 있으며 동 일한 폭을 가질 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 유형에 따른 광픽업 장치는, 광을 방출하는 광원; 상기 광원에서 방출된 광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔을 형성하는 회절 격자; 상기 메인 빔과 서브 빔을 광디스크 위로 포커싱하는 대물렌즈; 상기 광디스크에서 반사된 메인 빔과 서브 빔을 검출하는 광검출기; 및 상기 회절 격자와 대물렌즈 사이에 배치되며, 상기 광원으로부터 방출된 광을 광디스크로 진행시키고, 광디스크에서 반사된 광을 광검출기로 진행시키는 빔스플리터;를 포함하고, 여기서 상기 회절 격자는, 중앙 영역 및 상기 중앙 영역을 중심으로 점대칭인 관계에 있는 좌우 영역으로 각각 분할되어 있으며, 상기 중앙 영역의 폭은 각각의 좌우 영역의 폭보다 좁고, 상기 좌우 영역의 폭은 서로 동일하며, 상기 중앙 영역이 적어도 3개의 서브 영역으로 분할되어 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 양호한 실시예에 따른 인라인 회절 격자 및 이를 이용한 광픽업 장치의 구조 및 동작에 대해 상세하게 설명한다.
도 4는 본 발명의 양호한 실시예에 따른 광픽업 장치(20)의 개략적인 구성을 도시하고 있다. 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 광픽업 장치(20)는 소정의 파장의 광을 방출하는 광원(21), 입사광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔을 형성하는 회절 격자(22), 상기 광원(21)으로부터 광디스크(D)로 진행하는 광을 투과시키고 광디스크(D)에서 반사된 광을 반사하는 빔스플리터(23), 광원(21)에서 방출된 광을 평행빔으로 만드는 콜리메이팅 렌즈(24), 광을 광디스크(D)로 반사하는 미러(25), 메인 빔과 서브 빔을 집속하여 광디스크(D) 위에 메인 스폿과 서브 스폿을 형성하는 대물렌즈(26), 및 상기 빔스플리터(23)에서 반사된 광을 검출하는 광검출기(27)를 포함한다. 여기서, 콜리메이팅 렌즈(24)의 위치는 실시예에 따라서는, 광원(21)과 회절 격자(22) 사이, 또는 회절 격자(22)와 빔스플리터(23) 사이에 있을 수도 있다. 또한, 실시예에 따라서는 미러(25)를 사용하지 않을 수도 있다. 상기 빔스플리터(23)의 경우에도, 광원(21)으로부터 광디스크(D)로 진행하는 광을 반사하고 광디스크(D)에서 반사된 광을 투과시킬 수도 있다.
공지된 바와 같이, 상술한 광픽업 장치(20)의 구조에서, 광원(21)으로부터 방출된 광은 회절 격자(22)에 의해 회절되어 메인 빔과 다수의 서브 빔으로 분할된 후, 빔스플리터(23)를 통과한다. 그런 후, 각각의 메인 빔과 서브 빔은 콜리메이팅 렌즈(24)에 의해 평행빔으로 바뀐 다음, 미러(25)에 의해 반사된다. 반사된 메인 빔과 서브 빔은 각각 대물렌즈(26)에 의해 광디스크(D)의 기록 트랙 위에 포커싱된다. 특히 인라인 DPP 방법을 사용하는 경우, 상기 메인 빔과 서브 빔들은 동일한 기록 트랙 위에 위치하게 된다.
그런 후, 광디스크(D)의 기록 트랙에서 반사 및 회절된 광은 빔스플리터(23)에 의해 반사되어 광검출기(27)에 입사한다. 이때, 상기 빔스플리터(23)는, 예컨대, 입사광의 편광 방향에 따라 광을 투과 또는 반사하는 편광 빔스플리터일 수 있다. 이 경우, 예컨대 입사광의 편광 방향을 변환시키기 위하여 1/4 파장판(미도시)이 상기 빔스플리터(23)와 대물렌즈(26) 사이의 광경로에 더 배치될 수도 있다. 한편, 광검출기(27)에서 검출된 광의 출력은 전기적 신호로 변환된 후, 미도시된 제 어회로에 제공된다. 제어회로는 입력된 광 출력을 기초로 DPP 방법에 따라 데이터 신호, 트래킹 에러 신호 및 포커싱 에러 신호 등을 추출한다. 이를 위하여, 상기 광검출기(27)는 다분할 광검출기일 수 있다.
여기서, 하나의 동일한 회절 격자(22)를 사용하여 DVD-R/DVD-RAM 뿐만 아니라 CD까지 대응하기 위해서는, 상기 회절 격자(22)는 소정의 구성을 갖는 인라인 회절 격자이어야 한다. 회절 격자(22)로서 인라인 회절 격자를 사용하는 경우, 대물렌즈(26)가 광디스크(D)의 반경 방향으로 시프트 할 때 발생하는 트래킹 에러 신호의 변화, 변화폭 및 변화 패턴을 최적으로 설계할 수 있도록, 회절 격자(22)에 대한 설계의 자유도가 높을 필요가 있다. 이를 위하여, 본 발명의 양호한 실시예의 경우, 상기 회절 격자(22)로서 다분할 인라인 회절 격자를 사용한다.
도 5는 본 발명의 양호한 실시예에 따른 다분할 인라인 회절 격자(22)의 예시적인 구성을 개략적으로 도시하고 있다. 도 5를 참조하면, 상기 회절 격자(22)는 비교적 좁은 폭을 갖는 중앙 영역(22C) 및 상기 중앙 영역(22C)의 좌우측에 각각 형성된 좌우 영역(22L,22R)을 갖는다. 예컨대, 상기 중앙 영역(22C)의 폭(d)은 각각의 좌우 영역(22L,22R)의 폭보다 좁게 형성된다. 특히, 상기 중앙 영역(22C)의 폭(d)은 입사광의 빔경(즉, 유효경)의 약 1/4 정도가 될 수 있다. 또한, 상기 중앙 영역(22C)은 세 개의 서브 영역(22C1,22C2,22C3)으로 분할되어 있다. 도 5에는 예시적으로 중앙 영역(22C)이 세 개로 분할되어 있지만, 설계에 따라서는 네 개 또는 그 이상의 영역으로 분할될 수도 있다. 이하에서는 편의상, 상기 중앙 영역(22C)이 세 개의 서브 영역(22C1,22C2,22C3)으로 분할된 경우에 대해 예시적으로 설명한다.
본 발명의 양호한 실시예에 따르면, 인라인 회절 격자(22)의 상기 좌우 영역(22L,22R)은 중앙 영역(22C)을 중심으로 서로 점대칭인 관계에 있다. 예컨대, 상기 좌우 영역(22L,22R)에 형성된 회절 패턴들 사이의 위상차는 180도이며, 상기 두 좌우 영역(22L,22R)의 폭은 서로 동일하다. 특히, 상기 좌우 영역(22L,22R)에 형성된 회절 패턴들은 중앙 영역(22C)의 최내측 서브 영역(22C2)에 형성된 회절 패턴에 대해 각각 +90도와 -90도의 위상차를 가질 수 있다. 도 5에는 상기 중앙 영역(22C)의 최내측 서브 영역(22C2)에 회절 패턴이 형성된 것으로 도시되어 있으나, 설계에 따라서는 최내측 서브 영역(22C2)에 회절 패턴을 형성하기 않을 수도 있다.
또한, 본 발명의 양호한 실시예에 따르면, 상기 중앙 영역(22C)의 서브 영역들(22C1,22C2,22C3)의 경우, 최내측의 서브 영역(22C2)을 중심으로 좌우로 동일한 위치에 있는 서브 영역들(22C1,22C3)은 서로 점대칭 관계에 있다. 예컨대, 상기 두 개의 서브 영역들(22C1,22C3)의 폭(d1,d3)은 서로 동일하다. 또한, 상기 최내측의 서브 영역(22C2)의 회절 패턴에 대한 상기 두 개의 서브 영역들(22C1,22C3)의 회절 패턴들의 위상차는 절대값이 같고 부호가 서로 반대이다.
이러한 본 발명의 양호한 실시예에 따른 인라인 회절 격자(22)의 경우, 매우 높은 설계 자유도를 가질 수 있다. 예컨대, 중앙 영역(22C)의 폭(d), 최내측 서브 영역(22C2)의 폭(d2), 나머지 두 서브 영역들(22C1,22C3)의 폭(d1,d3), 최내측 서브 영역(22C2)에 회절 패턴 형성 여부, 최내측 서브 영역(22C2)에 대한 나머지 두 서브 영역들(22C1,22C3)의 위상차 등과 같은 다양한 조건을 적절히 선택함으로써, 각각의 광픽업 장치에 대해 최적의 성능을 얻을 수 있는 회절 격자(22)를 제공하는 것이 가능하다.
도 6은 대물렌즈(26)가 광디스크(D)의 반경 방향으로 시프트하는 경우에 발생하는 트래킹 에러 신호 레벨의 변화를 나타내는 그래프로서, 상술한 인라인 회절 격자(22)의 설계 조건들을 다양하게 변화시켜 가며 시뮬레이션한 결과를 보이고 있다. 도 6의 그래프에서 가로축은 대물렌즈(26)가 광디스크(D)의 트랙으로부터 반경 방향으로 벗어난 정도(mm)를 나타내고, 세로축은 트래킹 에러 신호 레벨(TE LEVEL)을 나타낸다. 도 6의 그래프를 통해 알 수 있듯이, 인라인 회절 격자(22)의 설계 조건들에 따라, 매우 다양한 트래킹 에러 신호 레벨의 변화를 얻을 수 있다. 따라서, 각각의 광픽업 장치에 대해 최적의 트래킹 에러 신호 레벨의 변화를 제공하는 인라인 회절 격자(22)의 설계 조건을 실험을 통해 구할 수 있으며, 이러한 인라인 회절 격자(22)를 적용함으로써 광픽업 장치의 성능을 향상시킬 수 있다.
도 7 및 도 8은 특히, 중앙 영역(22C)의 폭(d)이 유효경의 0.25배이고, 최내측 서브 영역(22C2)에 대한 나머지 두 서브 영역들(22C1,22C3)의 위상차가 각각 ±30도인 경우('○'로 표시), ±45도인 경우('△'로 표시), ±60도인 경우('□'로 표시)에 대해 시뮬레이션한 결과를 나타낸 그래프이다. 특히, 도 8은 도 7의 세로축 을 확대한 그래프이다. 도 8에서, 1번으로 표시한 것은 최내측 서브 영역(22C2)의 폭:나머지 두 서브 영역들(22C1,22C3)의 폭의 비율이 1:4이고, 2번으로 표시한 것은 1:2이고, 3번으로 표시한 것은 1:1이며, 4번으로 표시한 것은 1:0.5이다. 도 7 및 도 8의 그래프를 통해 알 수 있듯이, 위상차의 변화에 따라서도 다양한 범위에서 트래킹 에러 신호 레벨의 변화가 발생하며, 그 변화의 양상에도 많은 차이가 있다. 따라서, 본 발명에 따른 인라인 회절 격자(22)의 경우, 설계 조건을 적절히 선택함으로써 광픽업 장치에 요구되는 트래킹 에러 신호 레벨의 변화 패턴을 얻는 것이 가능하다.
앞선 설명에서는 중앙 영역(22C) 내에 세 개의 서브 영역들(22C1,22C2,22C3)이 있는 경우에 대해 예시적으로 설명하였으나, 그 이상의 서브 영역들이 존재하는 경우에도 동일한 설계 원리가 적용될 수 있다. 즉, 최내측 서브 영역을 중심으로 좌우로 동일한 위치에 있는 서브 영역들이 서로 점대칭 관계에 있으며 동일한 폭을 가질 수 있다. 또한, 상기 중앙 영역 내의 서브 영역들은 서로 인접한 서브 영역들과 위상이 상이한 회절 패턴들을 가질 수 있다. 예컨대, 상기 중앙 영역의 서브 영역들의 회절 패턴들은 상기 좌우 영역의 회절 패턴들과 -180도 내지 +180도 사이의 위상차를 가질 수 있다.
한편, 중앙 영역의 서브 영역들의 개수가 짝수 개인 경우에도 역시 동일하게 적용될 수 있다. 이 경우에는 예컨대, 중앙 영역 내의 중심선을 기준으로 좌우로 동일한 위치에 있는 서브 영역들이 서로 점대칭 관계에 있으며 동일한 폭을 가질 수 있다.
지금까지, 본원 발명의 이해를 돕기 위하여 모범적인 실시예가 설명되고 첨부된 도면에 도시되었다. 그러나, 이러한 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이고 이를 제한하지 않는다는 점이 이해되어야 할 것이다. 그리고 본 발명은 도시되고 설명된 설명에 국한되지 않는다는 점이 이해되어야 할 것이다. 이는 다양한 다른 변형이 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일어날 수 있기 때문이다.
도 1 내지 도 3은 종래의 인라인 회절 격자의 한 예를 개략적으로 도시하고 있다.
도 4는 본 발명에 따른 광픽업 장치의 개략적인 구성을 도시하고 있다.
도 5는 본 발명에 따른 다분할 인라인 회절 격자의 예시적인 구성을 개략적으로 도시하고 있다.
도 6 내지 도 8은 본 발명에 따른 다분할 인라인 회절 격자를 사용한 경우에 대물렌즈 시프트에 따른 트래킹 에러 신호 레벨의 변화를 나타내는 그래프이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
20.....광픽업 장치 21.....광원
22.....인라인 회절 격자 23.....빔스플리터
24.....콜리메이팅 렌즈 25.....미러
26.....대물렌즈

Claims (14)

  1. 입사광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔을 형성하기 위한 것으로,
    중앙 영역 및 상기 중앙 영역을 중심으로 점대칭인 관계에 있는 좌우 영역으로 각각 분할되어 있으며,
    상기 중앙 영역의 폭은 입사광의 빔경의 1/4 크기이며,
    상기 좌우 영역의 폭은 서로 동일하며,
    상기 중앙 영역이 3개의 서브 영역으로 분할되어 있고,
    상기 좌우 영역의 회절 패턴들 사이의 위상차는 180도이며,
    상기 3개의 서브 영역 중, 최내측 서브 영역에는 회절 패턴이 형성되어 있지 않거나 또는 상기 좌우 영역의 회절 패턴에 대해 각각 +90도와 -90도의 위상차를 갖는 회절 패턴이 형성되고,
    상기 3개의 서브 영역 중에서 최내측 서브 영역을 중심으로 좌우로 동일한 위치에 있는 대응하는 두 서브 영역들은 폭이 동일하며, 그들의 회절 패턴들의 위상차의 절대값이 같고 부호가 서로 반대인 것을 특징으로 하는 회절 격자.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 중앙 영역의 3개의 서브 영역들은 서로 인접한 서브 영역들과 위상이 상이한 회절 패턴들을 갖는 것을 특징으로 하는 회절 격자.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 중앙 영역의 서브 영역들의 회절 패턴들은 상기 좌우 영역의 회절 패턴 들과 -180도 내지 +180도 사이의 위상차를 갖는 것을 특징으로 하는 회절 격자.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 광을 방출하는 광원;
    상기 광원에서 방출된 광을 회절시켜 메인 빔과 서브 빔을 형성하는 회절 격자;
    상기 메인 빔과 서브 빔을 광디스크 위로 포커싱하는 대물렌즈;
    상기 광디스크에서 반사된 메인 빔과 서브 빔을 검출하는 광검출기; 및
    상기 회절 격자와 대물렌즈 사이에 배치되며, 상기 광원으로부터 방출된 광을 광디스크로 진행시키고, 광디스크에서 반사된 광을 광검출기로 진행시키는 빔스플리터;를 포함하고,
    상기 회절 격자는:
    중앙 영역 및 상기 중앙 영역을 중심으로 점대칭인 관계에 있는 좌우 영역으로 각각 분할되어 있으며,
    상기 중앙 영역의 폭은 입사광의 빔경의 1/4 크기이며,
    상기 좌우 영역의 폭은 서로 동일하며,
    상기 중앙 영역이 3개의 서브 영역으로 분할되어 있고,
    상기 좌우 영역의 회절 패턴들 사이의 위상차는 180도이며,
    상기 3개의 서브 영역 중, 최내측 서브 영역에는 회절 패턴이 형성되어 있지 않거나 또는 상기 좌우 영역의 회절 패턴에 대해 각각 +90도와 -90도의 위상차를 갖는 회절 패턴이 형성되고,
    상기 3개의 서브 영역 중에서 최내측 서브 영역을 중심으로 좌우로 동일한 위치에 있는 대응하는 두 서브 영역들은 폭이 동일하며, 그들의 회절 패턴들의 위상차의 절대값이 같고 부호가 서로 반대인 것을 특징으로 하는 광픽업 장치.
  9. 삭제
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 중앙 영역의 3개의 서브 영역들은 서로 인접한 서브 영역들과 위상이 상이한 회절 패턴들을 갖는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 중앙 영역의 서브 영역들의 회절 패턴들은 상기 좌우 영역의 회절 패턴들과 -180도 내지 +180도 사이의 위상차를 갖는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000099985A (ja) 1998-09-28 2000-04-07 Sharp Corp 複数ビーム生成用回折格子及びマルチビーム光ピックアップ
JP2005353187A (ja) * 2004-06-11 2005-12-22 Nec Corp 光ヘッド装置及び光学式情報記録再生装置
KR20060066941A (ko) * 2004-12-14 2006-06-19 엘지전자 주식회사 광 픽업 장치

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