KR100913175B1 - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 - Google Patents

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것으로, 플라즈마 표시 장치 구동 시 어드레스 기간의 제1 기간과 제2 기간 사이에 위치하는 벽전하 보상 기간에서, 적어도 일부의 기간 동안, 제1 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 제2 전극에 제1 전압보다 높은 제2 전압을 인가한다. 이때, 제1 전압과 제2 전압의 차이는 유지 기간에서 제1 전극과 제2 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작다. 또한, 플라즈마 표시 장치의 온도가 기준 온도 보다 높은 경우에만 벽전하 보상 기간을 추가함으로써 고온에 의한 벽전하 소실 문제를 개선하여 안정적인 어드레스 동작을 수행할 수 있다.
PDP, 벽전하, 고온

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법{PLASMA DISPLAY DEVICE AND DRIVING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 어드레스 기간에서 벽전하 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 7은 도 6에 도시된 제어부의 동작을 나타낸 순서도이다.
본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
플라즈마 표시 장치는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 플라즈마 표시 패널을 이용한 표시 장치이다. 이러한 플라즈마 표시 패널에는 복수의 방전 셀이 매트릭스 형태로 배열되어 있다.
이러한 플라즈마 표시 장치에서는 한 프레임이 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되며, 각 서브필드는 리셋 기간(reset period), 어드레스 기간(address period) 및 유지 기간 (sustain period)으로 이루어진다. 리셋 기간은 어드레스 방전을 안정적으로 수행하기 위해 방전 셀의 상태를 초기화하는 기간이며, 어드레스 기간은 복수의 방전 셀 중 켜질 셀과 켜지지 않을 셀을 선택하는 기간이다. 그리고 유지 기간은 실제로 화상을 표시하기 위해서 켜질 셀에 대해서 유지방전을 수행하는 기간이다.
일반적으로 리셋 기간 후의 벽전하 상태는 어드레스 방전이 안정적으로 수행되도록 설정된다. 그리고 어드레스 기간에서는 모든 주사 전극에 순차적으로 스캔 펄스를 인가하고 발광 셀에 대응하는 어드레스 전극에 어드레스 전압을 인가하여 발광 셀이 선택된다. 그러나 시간적으로 늦게 스캔 펄스가 인가되는 주사 전극에 대응하는 셀의 경우는 리셋 기간 후의 벽전하 상태가 소실되는 경우가 발생한다. 즉, 리셋 기간에서 설정된 벽전하 상태가 시간이 지남에 따라 소실이 발생하고, 시간적으로 늦게 선택되는 방전 셀의 경우는 벽전하 소실이 더욱 심해진다. 이러한 벽전하의 소실로 인해 시간적으로 늦게 선택되는 셀의 경우 어드레스 저방전이 발 생할 수 있다. 한편 이러한 벽전하의 소실은 고온 또는 프라이밍 입자(priming particle)가 많은 경우 더욱 심해진다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 안정적인 어드레스 방전을 수행하는플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 한 특징에 따르면, 플라즈마 표시 장치의 구동 방법이 제공된다. 이 구동 방법은, 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극 및 상기 복수의 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서, 어드레스 기간에서, 제1 기간에서, 상기 복수의 제1 전극 중 일부의 제1 전극에 스캔 펄스를 인가하여, 상기 일부의 제1 전극에 형성되어 있는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하는 단계; 제2 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 인가하는 단계;제3 기간에서, 상기 복수의 제1 전극 중 상기 일부의 제1 전극을 제외한 나머지 제1 전극에 스캔 펄스를 인가하여, 상기 나머지 제1 전극에 형성되어 있는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하는 단계를 포함하며, 상기 제1 전압과 제2 전압의 차이는 유지 기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 플라즈마 표시 장치가 제공 된다. 이 구 동 장치는, 복수의 주사 전극과 복수의 유지 전극 및 상기 복수의 주사 전극과 유지 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 어드레스 전극을 포함하며, 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 복수의 셀이 형성되는 플라즈마 표시 패널;
어드레스 기간의 제1 기간에서 상기 복수의 주사 전극 중 일부의 제1 주사 전극에 형성되어 있는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하며, 상기 어드레스 기간의 제2 기간에서 상기 복수의 주사 전극 중 일부의 제2 주사 전극에 형성되어 잇는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하는 구동부를 포함하며, 상기 구동부는, 상기 제1 기간과 상기 제2 기간 사이에 위치하는 제3 기간에서, 상기 복수의 유지 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 주사 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 인가하며, 상기 제1 전압과 상기 제2 전압의 차이는 유지 기간에서 상기 복수의 주사유지 전극과 상기 복수의 유지 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
그리고 명세서 전체에서 언급하는 "벽 전하"란 셀의 벽(예를 들어, 유전체 층) 상에서 각 전극에 가깝게 형성되는 전하를 말한다. 그리고 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임" 과 같이 설명한다. 벽 전하에 의해서 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
그리고 명세서 전체에서 전압을 유지한다는 표현은 특정 2점간의 전위차가 시간 경과에 따라 변화하여도 그 변화가 설계상 허용될 수 있는 범위 내이거나 변화의 원인이 당업자의 설계 관행에서는 무시되고 있는 기생 성분에 의한 경우를 포함한다. 또한, 방전 전압에 비해 반도체 소자(트랜지스터, 다이오드 등)의 문턱 전압이 매우 낮으므로 문턱 전압을 0V로 간주하고 근사 처리한다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(A1-Am), 행 방향으로 뻗어 있는 복수의 유지 전극(X1-Xn) 및 주사 전극(Y1-Yn)을 포함한다. 복수의 주사 전극(Y1-Yn) 및 유지 전극(X1-Xn)은 서로 쌍을 이루며 배열되어 있으며, 인접하는 주사 전극(Y1-Yn)과 유지 전극(X1~Xn) 및 이를 교차하는 어드레스 전극(A1~Am)에 의해 방전 셀이 형성된다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 파형이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.
제어부(200)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 어드레스 전극 구동 제어 신호, 유지 전극 구동 제어 신호 및 주사 전극 구동 제어 신호를 출력한다. 그리고 제어부(200)는 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하며, 각 서브필드는 시간적인 동작 변화로 표현하면 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다.
어드레스 전극 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스 전극 구동 제어 신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극(A1~Am)에 인가한다.
주사 전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 주사 전극 구동 제어 신호를 수신하여 주사 전극(Y1-Yn)에 구동 전압을 인가한다.
유지 전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 유지 전극 구동 제어 신호를 수신하여 유지 전극(X1~Xn)에 구동 전압을 인가한다.
아래에서는 도 2 및 도 3a 내지 도 3c를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형에 대해서 상세하게 설명한다.
도 2은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다. 도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 어드레스 기간에서 벽전하의 상태를 나타낸 도면이다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어 지며, 어드레스 기간은 제1 기간, 벽전하 보상 기간 및 제2 기간으로 이루어진다.
먼저, 리셋 기간의 상승 기간에서는 A1~Am 전극 및 X1~Xn 전극을 기준 전압(도 2에서는 0V)로 유지한 상태에서 Y1~Yn 전극의 전압을 Vrp 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 증가시킨다. 도 2에서는 Y1~Yn 전극의 전압이 램프 형태로 증가하는 것으로 도시하였으나 점진적으로 증가하는 다른 형태의 파형이 인가될 수도 있다. 그러면 Y1~Yn 전극의 전압이 증가하는 중에 Y1~Yn 전극과 X1~Xn 전극 사이 및 Y1~Yn 전극과 A1~Am 전극 사이에서 미약한 방전(이하, "약 방전" 이라함)이 일어나면서 Y1~Yn 전극에는 (-) 벽 전하가 형성되고 X1~Xn 및 A1~Am 전극에는 (+) 벽 전하가 형성된다. 이때, Y1~Yn 전극의 전압이 점진적으로 상승하는 경우에 셀에 약 방전이 일어나면서 외부에서 인가된 전압과 셀의 벽 전압의 합이 방전 개시 전압(Vf) 상태를 유지하도록 벽 전하가 형성된다. 또한, 리셋 기간에서는 모든 셀의 상태를 초기화하여야 하므로 Vset 전압은 모든 조건의 셀에서 방전이 일어날 수 있을 정도의 높은 전압이다.
리셋 기간의 하강 기간에서는 X1~Xn 전극을 Ve 전압으로 유지하고 A1~Am 전극을 기준 전압(0V)으로 유지한 상태에서 Y1~Yn 전극의 전압을 0V 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다. 도 2에서는 Y1~Yn 전극의 전압이 램프 형태로 감소하는 것으로 도시하였으나, 점진적으로 감소하는 다른 형태의 파형이 인가될 수 있다. 그러면 Y1~Yn 전극의 전압이 감소하는 중에 Y1~Yn 전극과 X1~Xn 전극 사이 및 Y1~Yn 전극과 A1~Am 전극 사이에서 약 방전이 일어나면서 상승 기간 동안 Y1~Yn 전극에 형성되었던 (-) 벽 전하와 X1~Xn 및 A1~Am 전극에 형성되었던 (+) 벽 전하가 소거된다. 그 결과, Y1~Yn 전극의 (-) 벽 전하가 감소하고 X1~Xn 전극의 (+) 벽 전하가 감소한다. 또한, A1~Am 전극의 (+) 벽 전하는 어드레스 동작에 적당하도록 감소된다. 따라서, 리셋 기간 후의 벽전하는 도 3a와 같은 벽전하 상태를 갖게 되며, 이러한 벽전하 상태는 어드레스 방전이 안정적으로 수행되도록 설정된다.
다음, 어드레스 기간은 제1 기간과 벽전하 보상 기간 및 제2 기간으로 이루어진다. 일반적인 플라즈마 표시 장치의 어드레스 기간에서는, 모든 주사 전극에 순차적으로 스캔 펄스를 인가하고 발광 셀에 대응하는 어드레스 전극에 어드레스 전압을 인가하여 발광 셀이 선택된다. 그러나 시간적으로 늦게 스캔 펄스가 인가되는 주사 전극에 대응하는 셀의 경우는 리셋 기간 후의 벽전하가 소실되는 경우가 발생한다. 즉, 리셋 기간에서 설정된 벽전하 상태(도 3a)가 시간이 지남에 따라 소실되어 벽전하 상태가 도 3b와 같이 변한다. 이러한 벽전하의 소실로 인해 어드레스 저방전이 발생할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예에서는 어드레스 기간의 중간에 소실된 벽전하를 보상하는 기간을 추가한다.
제1 기간에서는 발광할 방전 셀을 선택하기 위해 X1~Xn 전극에 Ve 전압을 인가한 상태에서 Y1-Yk 전극에 순차적으로 VscL 전압을 가지는 스캔펄스를 인가한다. 이때, VscL 전압이 인가된 Y1-Yk 전극과 X1~Xn 전극에 의해 형성되는 복수의 방전 셀 중 발광할 방전 셀에 해당하는 A1~Am 전극에 Va 전압을 인가하면, Va 전압이 인가된 A1~Am 전극과 VscL 전압이 인가된 Y1-Yk 전극 사이 및 VscL 전압이 인가된 Y1-Yk 전극과 Ve 전압이 인가된 X1~Xn 전극 사이에서 어드레스 방전이 일어나 Y1-Yk 전극에 (+) 벽전하가 형성되고 A1~Am 및 X1~Xn 전극에 각각 (-) 벽전하가 형성 된다. 여기서, VscL 전압은 Vnf 전압과 같거나 낮은 레벨로 설정될 수 있다. 그리고 VscL 전압이 인가되지 않는 Y1-Yk 전극에는 VscL 전압보다 높은 VscH 전압이 인가되고, 선택되지 않는 방전 셀의 A1~Am 전극에는 기준 전압(도 2에서는 0V)이 인가된다.
벽전하 보상 기간에서는 A1~Am 전극은 기준 전압(도 2에서는 0V)을 유지한 상태에서, X1~Xn 전극에 Vrx 전압을 인가하고, Y1-Yn 전극에 Vry 전압을 인가한다. 이때, Vry 전압은 Vrx 전압보다 높은 전압이며, Vrx 전압과 Vry 전압의 전압 차이는, 유지 기간에 X1~Xn 전극과 Y1-Yn 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작다.
유지 기간에 X1~Xn 전극과 Y1-Yn 전극에 인가되는 전압의 차이는 어드레싱 된 셀이 방전을 일으키도록 할 만큼의 전압이다. 벽전하 보상 기간 동안에 X1~Xn 전극과 Y1-Yn 전극에 인가되는 전압의 차이가 유지 기간에 X1~Xn 전극과 Y1-Yn 전극에 인가되는 전압 보다 크거나 같은 경우에는, 제1 기간에 어드레싱 된 셀이 방전을 일으키게 된다. 따라서, Vrx 전압과 Vry 전압의 전압 차이는 유지 기간에 X1~Xn 전극과 Y1-Yn 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작아야 한다. 또한, Vry 전압은 일반적인 리셋 기간의 Vset 전압보다 낮은 전압이다. 이는 이미 어드레싱된 셀의 상태를 유지하기 위해, 모든 셀에서 방전을 일으켜 모든 셀의 상태를 초기화 시키는 전압인 Vset 전압보다 낮아야 한다.
리셋 기간이 끝난 후, 벽전하 상태는 도 3a와 같다. A1~ Am 전극에는 (+) 벽전하가 쌓여있고, X1~Xn 전극과 Y1~Yn 전극에는 (-) 벽전하가 쌓여있다. 이후 제1 기간을 거치며 도 3a 의 벽전하 상태는 벽전하 간의 방전에 의해 소실이 발생하고, 제1 기간에 스캔 펄스를 인가하지 않은 방전셀의 벽전하 상태는 도 3b 와 같이 변화한다. 도 3b는 A1~ Am 전극과 Y1~Yn 전극의 벽전하가 소실된 모습을 보여준다. 이와 같은 상태는 어드레스 저방전의 우려가 있다. 따라서, 도 3b 와 같이 벽전하가 소실된 상태에서 X1~Xn 전극에 Vrx 전압을 인가하고 Y1~Yn 전극에 Vry 전압을 인가한다. 그러면, Vrx 전압과 Vry 전압의 차이는 어드레싱된 방전 셀이 방전을 일으킬 정도는 아니므로, Y1~Yk 전극은 어드레싱 된 벽전하 상태를 유지하며, 제1 기간에 어드레싱 되지 않은 Yk+1~Yn 전극에는 (-) 벽전하가 쌓이고, A1~Am 전극에(+) 벽전하가 쌓인다. 따라서, 벽전하 보상 기간에서 X1~Xn 전극과 Yk+1~Yn 전극에는 (-) 벽전하를 쌓아주고, A1~Am 전극에는 (+) 벽전하를 쌓아주어, 소실된 벽전하를 보상한다. 벽전하 보상 기간이 끝난 후의 벽전하 상태는 도 3c와 같으며, 벽전하 보상 기간이 끝난 후의 벽전하 상태는 리셋 기간이 끝난 후의 벽전하 상태와 같이, 벽전하가 보상 되었음을 알 수 있다.
이후, 제2 기간은 제1 기간에 스캔 펄스를 인가하지 않은 나머지 Yk+1~Yn 전극에 스캔 펄스를 인가하며, 발광할 방전 셀을 선택한다. 즉, X1~Xn 전극에 Ve 전압을 인가한 상태에서, 제1 기간에서 VscL 전압을 인가한 k 개의 Y1-Yk 전극을 제외한 나머지 Yk+1~Yn 전극에 순차적으로 VscL 전압을 가지는 주사펄스를 인가한다. 이때, VscL 전압이 인가된 Yk+1~Yn 전극과 X1~Xn 전극에 의해 형성되는 복수의 방전 셀 중 발광할 방전 셀을 통과하는 A1~Am 전극에 Va 전압을 인가하면, Va 전압이 인가된 A1~Am 전극과 VscL 전압이 인가된 Yk+1~Yn 전극 사이 및 VscL 전압이 인가된 Yk+1~Yn 전극과 Ve 전압이 인가된 X1~Xn 전극 사이에서 어드레스 방전이 일어나 Yk+1~Yn 전극에 (+) 벽전하가 형성되고 A1~Am 및 X1~Xn 전극에 각각 (-) 벽전하가 형성된다. 그리고 VscL 전압이 인가되지 않는 Yk+1~Yn 전극에는 VscL 전압보다 높은 VscH 전압이 인가되고, 선택되지 않는 방전 셀의 A1~Am 전극에는 기준 전압(도 2에서는 0V)이 인가된다. 그러므로, 벽전하 보상 기간 이후에 제1 기간에서 VscL 전압을 인가하지 않은 나머지 Yk+1~Yn 전극에 VscL 전압을 인가함으로써, 시간적으로 늦게 선택되는 방전 셀의 경우도 어드레스 저방전의 우려 없이 안정적으로 발광할 발광 셀을 선택할 수 있다.
이어서, 유지 기간에서는 Y1-Yn 전극과 X1~Xn 전극에 하이 레벨 전압(도 2에서는 Vs 전압)과 로우 레벨 전압(도 2에서는 0V 전압)을 교대로 가지는 유지방전 펄스를 반대 위상으로 인가한다. 즉, Y1-Yn 전극에 Vs 전압이 인가될 때 X1~Xn 전극에 0V 전압이 인가되고 X1~Xn 전극에 Vs 전압이 인가될 때 Y1-Yn 전극에 0V 전압이 인가된다. 그러면 어드레스 방전에 의해 Y1-Yn 전극과 X1~Xn 전극 간에 형성된 벽 전압과 Vs 전압에 의해 Y1-Yn 전극과 X1~Xn 전극에서 방전이 일어난다. 이후, Y1-Yn 전극과 X1~Xn 전극에 유지 방전 펄스를 인가하는 과정이 해당 서브필드가 표시하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 반복된다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내는 도면이다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 구동 파형을 벽전하 보상 기간에서 인가되는 구동 파형이 다른 점을 제외하고는 제1 실시예와 동일하므로 이하 중복되는 설명은 생략한다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 본발명의 제2 실시예의 벽전하 보상 기간에서는 일부의 기간 동안, A1~Am 전극이 0V 전압을 유지한 상태에서 X1~Xn 전극에 Vrx 전압을 인가하고 Y1-Yn 전극에 Vry 전압을 인가한다. 이후 일부의 기간을 제외한 나머지 기간에서, A1~Am 전극은 0V 전압을 유지하고 X1~Xn 전극은 Ve 전압을 인가한 상태에서, Y1-Yn 전극을 0V 전압으로부터 Vnf 전압까지 점진적으로 하강시킨다. 이처럼 리셋 기간의 하강 파형과 유사한 파형으로 벽 전하 보상 파형을 인가하면, Y1-Yn 전극에 0V 전압에서 Vnf 전압으로 점진적으로 전압을 감소시키는 동안, 벽 전하가 많이 쌓였으면 지워주는 역할을 하며 벽 전하를 좀더 정확히 조절할 수 있다. 즉, 벽전하 보상 기간에서, 리셋 기간의 하강 기간과 같이 Y1~Yn 전극의 전압을 0V 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시켜 리셋 기간과 거의 유사한 벽전하 상태가 설정된다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다. 제3 실시예는 벽전하 보상 기간의 일부의 기간 동안 Y1-Yn 전극에 Vry 전압을 인가하는 단계는, Y1-Yn 전극의 전압을 0V 전압으로부터 Vry 전압까지 점진적으로 증가시킨후 Vry 전압을 인가하여 유지한다.
구체적으로, 벽전하 보상 기간의 일부의 기간에서는 A1~Am 전극이 0V 전압을 유지하고 X1~Xn 전극에 Vrx 전압을 유지한 상태에서, Y1-Yn 전극의 전압을 0V 전압으로부터 Vry 전압까지 점진적으로 증가시킨 후 Vry 전압을 유지한다. 이후 A1~Am 전극은 0V 전압을 유지한 상태를 유지하고 X1~Xn 전극의 전압은 Ve 전압을 인가한 상태에서, Y1-Yn 전극을 0V 전압으로부터 Vnf 전압까지 점진적으로 하강시킨다. 벽전하 보상 기간에서, 갑자기 Y1-Yn 전극에 Vry 전압을 인가하면, Y1~Yn 전극에 제1 기간에 인가된 전압과의 차이가 많이 발생하여, 강방전의 우려가 있다. 따라서 점진적으로 0V 전압부터 Vry 전압까지 증가시켜 보다 안정적인 방전이 가능하다.
이상에서는 구동 파형을 설명함에 있어서, 상기 어드레스 기간의 제1 기간 동안 일부의 주사 전극에 주사 펄스를 인가하고, 어드레스 기간의 제2 기간 동안 주사 전극 중 제1 기간 동안 주사 펄스를 인가하지 않은 나머지 주사 전극에 주사 펄스를 인가하는 것으로 설명하였다. 그러나, 본 발명은 벽전하 보상 기간을 어드레스 기간의 중간에 한번만 추가하는 경우 뿐 만 아니라, 여러 번 추가하여도 무방하다.
플라즈마 표시 장치는 방전 특성이 온도에 따라 달라지며, 온도가 높은 경우에 벽전하 사이의 방전이 쉬워 벽전하 소실이 심해진다. 따라서, 아래에서는 고온에서 안정적인 어드레스 방전을 위하여, 온도가 높은 경우에만 벽전하 보상 파형을 추가하는 실시예에 대해서 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400), 유지 전극 구동부(500), 온도 감지부(600)를 포함한다.
도 6은 도 1의 플라즈마 표시 장치에 온도 감지부(600)가 추가되는 점을 제외하고는 도 1과 동일하므로 이하 중복되는 설명은 생략한다.
온도 감지부(600)는 플라즈마 표시 패널(100)의 온도를 감지하여 제어부(200)로 전달한다. 본발명의 제4 실시예는 고온의 경우에 플라즈마 표시 패널의 온도를 파악하여, 벽전하 보상 기간의 추가 여부를 결정한다. 따라서 제1 내지 제3 실시예와 달리 플라즈마 표시 장치에 온도 감지부(600)를 추가할 필요가 있다.
도 7는 도 6에 도시된 제어부의 동작을 나타낸 순서도이다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 제어부(200)는 온도 감지부(600)로부터 감지된 플라즈마 표시 패널(100)의 온도를 전달 받아(S610) 기준 온도와 비교한다(S620).
여기서, 기준 온도는 플라즈마 표시 장치에서 벽전하 상태의 소실이 우려되는 온도로 실험적으로 측정가능하며, 일반적으로 25℃ 정도로 설정될 수 있으며 다른 온도로도 설정이 가능하다.
이때, 제어부(200)는 플라즈마 표시 패널(100)의 온도가 기준 온도보다 낮은 경우에는 일반적인 제어신호를 전달한다(S630). 반면, 플라즈마 표시 패널(100)의 온도가 기준 온도보다 높은 경우에는 어드레스 기간에 벽전하 보상 기간을 더 수행하도록 설정하는 제어 신호를 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)로 전달한다(S640).
이와 같은 제어부의 동작을 통하여, 벽전하 소실에 의한 어드레스 저방전이 우려되는 경우에만 벽전하 보상 파형을 추가하여 보다 효율적인 구동이 가능하다.
이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 벽전하 보상 기간을 통해 안정적인 어드레스 방전을 수행하는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공할 수 있다.

Claims (15)

  1. 서로 쌍을 이루며 배열되어 있는 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극 및 상기 복수의 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,
    어드레스 기간에서,
    제1 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제4 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극 중 일부의 제1 전극에 스캔 펄스를 인가하여, 상기 일부의 제1 전극에 형성되어 있는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하는 단계;
    제2 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 인가하는 단계;
    제3 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 상기 제4 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극 중 상기 일부의 제1 전극을 제외한 나머지 제1 전극에 스캔 펄스를 인가하여, 상기 나머지 제1 전극에 형성되어 있는 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 전압과 제2 전압의 차이는 유지 기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작은 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 전압은 상기 복수의 제3 전극에 인가되는 제3 전압보다 높은 전압 이며, 상기 일부의 제1 전극에 인가되는 상기 스캔 펄스와 반대 극성을 가지는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제2 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제2 전압이 인가된 후, 상기 복수의 제2 전극에 상기 제4 전압을 인가한 상태에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제5 전압에서 제6 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계를 더 포함하며,
    상기 제6 전압은 리셋 기간에서 상기 복수의 제1 전극에 인가되는 최종 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제4 전압은 상기 제1 전압보다 낮은 전압이며, 상기 제5 전압은 상기 제2 전압보다 낮은 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제2 전압이 인가되기 전에, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제7 전압에서 상기 제2 전압까지 점진적으로 상승시키는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제7 전압은 상기 제2 전압보다 낮은 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제5 전압과 상기 제7 전압은 접지 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 장치의 온도가 제1 온도인 경우 상기 어드레스 기간은 상기 제1 내지 제3 기간을 포함하고, 상기 플라즈마 표시 장치의 온도가 제1 온도보다 낮은 제2 온도인 경우 상기 어드레스 기간은 상기 제1 및 제2 기간만을 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  9. 서로 쌍을 이루며 배열되어 있는 복수의 주사 전극과 복수의 유지 전극 및 상기 복수의 주사 전극과 유지 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 어드레스 전극을 포함하며, 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 복수의 셀이 형성되는 플라즈마 표시 패널;
    어드레스 기간의 제1 기간에서 상기 복수의 유지 전극에 제3 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 주사 전극 중 일부의 주사 전극에 순차적으로 주사 펄스를 인가한 후, 상기 어드레스 기간의 제2 기간에서 상기 복수의 유지 전극에 상기 제3 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 주사 전극 중 나머지 일부의 주사 전극에 순차적으로 상기 주사 펄스를 인가하는 구동부를 포함하며,
    상기 구동부는,
    상기 제1 기간과 상기 제2 기간 사이에 위치하는 제3 기간에서,
    상기 복수의 유지 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 주사 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 인가하며,
    상기 제1 전압과 상기 제2 전압의 차이는 유지 기간에서 상기 복수의 주사유지 전극과 상기 복수의 유지 전극에 인가되는 전압의 차이보다 작은 플라즈마 표시 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 구동부는,
    상기 제2 기간과 상기 제3 기간 사이에 위치하는 제4 기간에서, 상기 복수의 유지 전극에 상기 제3 전압을 인가한 상태에서, 상기 복수의 주사 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 감소시키며,
    상기 제5 전압은 리셋 기간에서 상기 복수의 주사 전극에 인가되는 최종 전압인 플라즈마 표시 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제3 전압은 상기 제1 전압보다 낮은 전압이며, 상기 제4 전압은 상기 제2 전압보다 낮은 전압인 플라즈마 표시 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 기간과 상기 제3 기간 사이에 위치하는 제5 기간에서, 상기 복수의 주사 전극의 전압을 제6 전압에서 상기 제2 전압까지 점진적으로 상승시키는 플라즈마 표시 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제6 전압은 상기 제2 전압보다 낮은 전압이며, 상기 제4 전압과 상기 제6 전압은 접지 전압인 플라즈마 표시 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 장치의 온도가 제1 온도인 경우 상기 어드레스 기간은 상기 제3, 제4 및 제5 기간을 포함하며, 상기 플라즈마 표시 장치의 온도가 상기 제1 온도보다 낮은 제2 온도인 경우 상기 어드레스 기간은 제3 및 제4 기간만을 포함하는 플라즈마 표시 장치.
  15. 삭제
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